KR100623729B1 - Evaporating source and evaporating source assembly containing the same - Google Patents

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안재홍
이성호
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Abstract

증발원 및 이를 구비한 증발원 어셈블리에 관한 것으로서, 상기 증발원 및 증발원 어셈블리를 구성하는 부품간의 연결 및 지지하는 지지 수단이 부품간의 일정 부분만을 접촉하여, 즉, 상기 부품과의 접촉면을 작게 하여 연결부에 열손실 차이를 배제하여 상기 부품의 온도가 불균해 지는 것을 방지하며, 또한, 상기 장치의 중앙부에 위치하는 지지수단은 구속되어 있으며, 그 양측에 위치하는 지지수단은 슬립이 가능한 구조로 형성하여, 상기 부품들이 열팽창에 의해 뒤틀어지거나, 파손되는 것을 방지할 수 있다. An evaporation source and an evaporation source assembly having the same, wherein the evaporation source and the supporting means for connecting and supporting the components constituting the evaporation source assembly contact only a portion of the components, that is, the contact surface with the components is reduced, so that the heat loss at the connection portion Excluding the difference prevents the temperature of the part from becoming uneven, and the support means located at the center of the device is constrained, and the support means located at both sides is formed in a structure that can be slipped, These can be prevented from being warped or damaged by thermal expansion.

지지수단, 증발원, 증발원 어셈블리, 증착 장치 Supporting means, evaporation source, evaporation source assembly, deposition apparatus

Description

증발원과 이를 구비한 증발원 어셈블리{evaporating source and evaporating source assembly containing the same}Evaporating source and evaporating source assembly containing the same

도 1a 내지 도 1c는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 증발원을 설명하기 위한 도면들로서, 상기 증발원을 구성하는 저장부 및 상기 저장부와 연결되어 있는 노즐부와 가열부의 지지구조를 설명하기 위한 도면들이다.1A to 1C are diagrams for describing an evaporation source according to a first embodiment of the present invention, which illustrates a storage unit constituting the evaporation source and a support structure of a nozzle unit and a heating unit connected to the storage unit. admit.

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 증발원을 설명하기 위한 도면들로서, 가열부와 하우징의 연결 및 지지하는 지지구조를 설명하기 위한 도면들이다.2A to 2E are diagrams for describing an evaporation source according to a first embodiment of the present invention, which illustrate a support structure for connecting and supporting a heating unit and a housing.

도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 제 2 실시예인 증발원 어셈블리를 설명하기 위한 사시도 또는 단면도이다.3A to 3C are perspective views or cross-sectional views for describing an evaporation source assembly as a second embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 증착 장치를 설명하기 위한 도면이다. 4 is a view for explaining a deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.

(도면의 주요 부위에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for main parts of drawing)

1 : 증착 장치 2 : 챔버1 vapor deposition apparatus 2 chamber

3 : 증발원 어셈블리 4 : 이송수단3: evaporation source assembly 4: transfer means

10 : 저장부 20 : 노즐부10: storage unit 20: nozzle unit

30, 110 : 가열부 40 : 제 1지지수단30, 110: heating part 40: first supporting means

100 : 하우징 120 : 제 2지지수단100 housing 120 second support means

210 : 증발원 220 : 외부하우징 210: evaporation source 220: external housing

240 : 제 3지지수단 240: third support means

본 발명은 증발원 및 이를 구비한 증발원 어셈블리에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 상기 증발원 및 증발원 어셈블리를 구성하는 부품간의 열손실 차이을 적게 하며, 상기 부품이 뒤틀어지거나 파손되는 것을 방지할 수 있는 구조를 지닌 지지수단을 구비하는 증발원 및 증발원 어셈블리와 이를 구비하는 유기물 증착 장치를 제공한다. The present invention relates to an evaporation source and an evaporation source assembly having the same, and more particularly, a support having a structure capable of reducing the difference in heat loss between the evaporation source and the components constituting the evaporation source assembly and preventing the parts from being warped or damaged. An evaporation source and an evaporation source assembly having a means and an organic vapor deposition apparatus having the same are provided.

오늘날 고도의 정보화 시대가 도래함에 따라 신속, 정확한 정보를 손안에서 얻고자 하는 소비자의 요구가 많아지면서, 가볍고 얇아서 휴대하기가 편하고 정보 처리 속도가 빠른 디스플레이 장치에 대한 개발이 급속하게 이루어지고 있다. 그 중에 유기 전계 발광 소자는 유기 발광층을 포함한 유기막에 전압를 인가하여 줌으로써 전자와 정공이 유기 발광층내에서 재결합하여 빛을 발생하는 자체발광형으로서 LCD와 같은 백라이트가 필요하지 않아 경량 박형이 가능할 뿐만 아니라 공정을 단순화 시킬수 있으며, 응답속도 또한 CRT와 같은 수준이며, 저전압 구동, 높은 발광 효율, 넓은 시야각으로 인하여 차세대 디스플레이로서 급상승하고 있다. With the advent of the high information age today, there is an increasing demand for consumers to obtain fast and accurate information in their hands, and the development of display devices that are light, thin, easy to carry, and fast in processing of information has been rapidly developed. Among them, the organic electroluminescent device is a self-luminous type in which electrons and holes are recombined in the organic light emitting layer to generate light by applying a voltage to the organic film including the organic light emitting layer. The process can be simplified, and the response speed is the same as the CRT, and it is rapidly rising as a next generation display due to low voltage driving, high luminous efficiency, and wide viewing angle.

여기서, 상기 유기막, 특히 유기 발광층의 재료에 따라 저분자형 유기전계발광소자와 고분자형 유기전계발광소자로 분류되어진다. Here, according to the material of the organic film, in particular the organic light emitting layer, it is classified into low molecular type organic light emitting device and high molecular type organic light emitting device.

상기 고분자형 유기전계발광소자는 양극과 음극사이에 유기발광층으로 이루어진 단층 구조이거나 정공수송층을 포함하는 이중구조로 이루어질 수 있어 두께가 얇은 층의 유기전계발광소자를 제조할 수 있으며, 또한 상기 유기막은 습식 코팅에 의해 형성되어지므로 상압하에서도 제작할 수 있어 생산 공정의 비용을 절감할 수 있으나, 유기 용매에 의한 유기막이 손상되어 소자의 수명이 저하될 수 있다.The polymer type organic electroluminescent device may have a single layer structure consisting of an organic light emitting layer between an anode and a cathode or a double structure including a hole transport layer, thereby manufacturing an organic light emitting device having a thin layer, and the organic film Since it is formed by the wet coating can be produced even under normal pressure can reduce the cost of the production process, but the organic film is damaged by the organic solvent may reduce the life of the device.

이와 달리, 상기 저분자형 유기 전계 발광 소자는 양극과 음극사이에 기능이 각각 다른 다층의 저분자형 유기막으로 형성되어 있어 전하들의 축적이 일어나지 않도록 도핑을 하거나 적절한 에너지 준위를 갖는 물질로 대체하여 줌으로써 조절이 가능하여 소자의 안정이 뛰어나다. 또한, 상기 저분자형 유기막은 주로 증착에 의해 형성되므로 유기 용매에 의한 유기막이 손상되는 것을 방지할 수 있어, 소자의 수명이 저하되는 것을 방지할 수 있다.In contrast, the low molecular organic EL device is formed of a multi-layer low molecular organic film having a different function between the anode and the cathode, and is controlled by doping or replacing with a material having an appropriate energy level so as not to accumulate charges. This makes the device excellent in stability. In addition, since the low molecular organic film is mainly formed by vapor deposition, it is possible to prevent the organic film from being damaged by the organic solvent, thereby preventing the life of the device from being lowered.

상기 증착은 증착 장치를 통하여 저분자 유기물질을 가열 수단에 의해 증발하여, 상기 증발된 증착물질을 형성하고자 하는 형상의 개구부를 가지는 쉐도우 마스크 패턴(shadow mask pattern)을 통과시켜 기판에 증착물질을 증착함으로써 기판상에 원하는 형상의 박막을 형성할 수 있다.The deposition may be performed by evaporating a low molecular organic material through a deposition apparatus by a heating means, and depositing a deposition material on a substrate by passing a shadow mask pattern having an opening having a shape to form the evaporated deposition material. A thin film of a desired shape can be formed on the substrate.

상기 증착 장치는 증착물질을 저장하는 저장부와, 상기 증착물질을 증발하기 위한 가열부와, 상기 증발된 증착물질을 분사하는 노즐부로 이루어진 증발원과, 상기 증발원을 수납하는 외부하우징을 포함하는 증발원 어셈블리와, 상기 증발원 어셈블리를 이동하기 위한 이송 수단과, 상기 각각의 구성 요소의 몸체를 이루고 있는 챔버로 구성될 수 있다. 이때, 증착 공정을 실행하기 위해 상기 증착 장치를 가 열시에 상기 증착 장치를 구성하고 있는 부품간의 열 팽창률이 상이하여, 그 구조가 뒤틀어지거나 그 위치가 변하게 되어 편심이 발생할 수 있다.The deposition apparatus includes an evaporation source including a storage unit for storing a deposition material, a heating unit for evaporating the deposition material, a nozzle unit for injecting the evaporated deposition material, and an external housing accommodating the evaporation source. And a conveying means for moving the evaporation source assembly and a chamber constituting the body of each component. In this case, when the deposition apparatus is heated to execute the deposition process, thermal expansion coefficients between the components constituting the deposition apparatus are different, so that the structure may be distorted or its position may be changed, resulting in eccentricity.

이로 인해, 상기 증착 장치의 이루는 부품이 파손되거나 또는 손상이 되어 부품을 지속적으로 교체해주어야 하므로, 생산 원가가 증대될 수밖에 없다.As a result, parts of the deposition apparatus are damaged or damaged, and parts must be continuously replaced, thereby increasing production costs.

본 발명의 목적은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명은 증발원 및 증발원 어셈블리를 구성하는 각 부품간의 연결부의 접촉을 최소화하며, 상기 부품간의 고정 및 지지는 꾀하며, 어느 정도의 슬립성을 가짐으로써 열팽창에 의한 장치의 손상을 방지할 수 있는 증발원 및 증발원 어셈블리 를 제공한다. 더 나아가, 상기 증발원 및 증발원 어셈블리를 구비하는 증착 장치를 제공한다.An object of the present invention has been made to solve the above problems of the prior art, the present invention minimizes the contact between the evaporation source and the connection between each component constituting the evaporation source assembly, and the fixing and support between the parts, to some extent It provides an evaporation source and an evaporation source assembly capable of preventing the damage of the device by thermal expansion by having a slip property of. Furthermore, it provides a deposition apparatus having the evaporation source and the evaporation source assembly.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은 증발원을 제공한다. 상기 증발원은 적어도 일부분이 개구된 저장부와, 상기 저장부와 연결되어 있는 노즐부와, 상기 노즐부를 감싸는 형태로 위치하는 가열부와, 상기 저장부, 상기 노즐부, 상기 가열부를 수납하는 하우징을 포함하며,In order to achieve the above technical problem, an aspect of the present invention provides an evaporation source. The evaporation source may include a storage unit at least partially opened, a nozzle unit connected to the storage unit, a heating unit positioned to surround the nozzle unit, and a housing accommodating the storage unit, the nozzle unit, and the heating unit. Include,

상기 가열부의 일측에 위치하며, 상기 저장부와 상기 하우징사이에 위치하는 다수의 제 1 지지수단을 구비하며,Located on one side of the heating unit, provided with a plurality of first supporting means located between the storage unit and the housing,

상기 다수의 제 1 지지수단은 상기 저장부와 상기 하우징의 각각의 소정부분과 접촉하는 것을 특징으로 한다.The plurality of first supporting means is in contact with each of the predetermined portion of the reservoir and the housing.

이때, 상기 다수의 제 1 지지수단은 선형 형태, 점형 형태 또는 이들의 결합 형태로 이루어지는 것이 바람직하다. 이로써, 상기 제 1지지수단은 상기 저장부, 그리고 상기 하우징과의 접촉 면적을 줄일수 있어, 상기 제 1지지수단에 의한 열손실을 최소화할 수 있다.At this time, the plurality of first supporting means is preferably made of a linear form, a point form or a combination thereof. Thus, the first supporting means can reduce the contact area with the storage and the housing, thereby minimizing the heat loss by the first supporting means.

또한, 상기 다수의 제 1지지수단은 상기 저장부의 일측면의 중앙부에 구속되어 고정되는 적어도 하나의 고정-제 1지지수단을 포함하는 것이 바람직하다. 이로써, 상기 저장부의 일측면의 중앙부는 고정-제 1지지수단에 의해 고정되며, 그 양측에 있는 제 1지지수단은 유동성을 가짐으로써, 상기 저장부가 열에 의해 팽창하여 뒤틀어지는 현상을 방지할 수 있다.In addition, the plurality of first supporting means preferably includes at least one fixed-first supporting means that is constrained and fixed to a central portion of one side of the reservoir. Thus, the central portion of one side of the reservoir is fixed by the fixed-first support means, and the first support means on both sides thereof has fluidity, thereby preventing the reservoir from expanding and warping by heat. .

이때, 상기 저장부의 길이방향에 대한 중앙부에 요철부(凹凸)가 형성되어 있는 것이 바람직하다. 이로써, 상기 저장부에 형성된 요철부에 상기 고정-제 1지지수단이 삽입되어 고정될 수 있다.At this time, it is preferable that the uneven part is formed in the center part with respect to the longitudinal direction of the said storage part. Thus, the fixed-first support means may be inserted into and fixed to the uneven portion formed in the reservoir.

또한, 상기 고정-제 1지지수단은 상기 하우징의 소정부분에 구속되어 고정되는 것이 바람직하다. 이로써, 상기 가열부는 그 중앙부는 고정-제 1지지수단에 의해 고정되며, 그 양측에 있는 제 1지지수단은 유동성을 가짐으로써, 상기 가열부가 열에 의해 팽창시 뒤틀어지는 현상을 방지할 수 있다.In addition, the fixing-first supporting means is preferably fixed to the predetermined portion of the housing. Thus, the heating portion is fixed by the fixed-first supporting means, and the first supporting means on both sides thereof has fluidity, thereby preventing the heating portion from twisting when inflated by heat.

또한, 상기 하우징은 상기 다수의 제 1 지지수단과 각각 연결되는 제 2지지수단을 더 구비할 수 있다. 이때, 상기 다수의 제 1 지지수단 중 그 중앙부에 위치하는 제 1지지수단은 상기 제 2지지수단과 서로 구속되어 고정되는 것이 바람직하다. In addition, the housing may further include second supporting means connected to the plurality of first supporting means, respectively. At this time, it is preferable that the first supporting means located at the center of the plurality of first supporting means is constrained and fixed to the second supporting means.

또한, 상기 제 2지지수단은 그 양측면부에 트렌치가 형성되고, 상기 트렌치를 통해 삽입되어 조립되는 내부 열반사판을 더 포함할 수 있다.In addition, the second supporting means may further include an internal heat reflecting plate, the trench is formed in both side portions thereof, is inserted through the trench and assembled.

또한, 상기 다수의 제 1지지수단은 상기 노즐부를 지지하는 지지수단을 더 구비할 수 있다. 이로써, 상기 저장부와 연결된 상기 노즐부가 한쪽으로 방향이 치우치는 것을 방지할 수 있다.In addition, the plurality of first supporting means may further include supporting means for supporting the nozzle unit. As a result, the nozzle part connected to the storage part can be prevented from biasing toward one side.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 다른 일 측면은 상기 증발원을 구비하는 증발원 어셈블리를 제공한다. 상기 증발원 어셈블리는 상기의 증발원을 적어도 하나 또는 둘 이상을 수납하는 외부하우징을 구비한다.Another aspect of the present invention to achieve the above technical problem provides an evaporation source assembly having the evaporation source. The evaporation source assembly has an external housing for receiving at least one or two or more of the evaporation sources.

이때, 상기 증발원 어셈블리는 증발원과 상기 외부하우징 사이에 위치하며, 상기 외부하우징에 상기 증발원을 연결하며 지지하는 다수의 제 3지지수단을 구비할 수 있다.In this case, the evaporation source assembly may be located between the evaporation source and the external housing, and may include a plurality of third supporting means for connecting and supporting the evaporation source to the external housing.

상기 다수의 제 3지지수단은 상기 증발원의 소정부분과 접촉하는 것이 바람직하다. 이로써, 상기 외부하우징에 상기 증발원을 지지하는 제 3지지수단이 상기 증발원의 소정부분만을 접하므로 열손실을 최소화할 수 있다.Preferably, the plurality of third supporting means is in contact with a predetermined portion of the evaporation source. As a result, since the third support means for supporting the evaporation source in the outer housing contacts only a predetermined portion of the evaporation source, heat loss can be minimized.

또한, 상기 다수의 제 3지지수단은 상기 증발원의 길이방향에 대한 중앙부에 고정되는 고정-제 3지지수단을 포함하는 것이 바람직하다. 이로써, 상기 증발원이 열에 의해 팽창시 상기 증발원의 중앙부는 고정되며, 상기 증발원의 양측은 유동이 가능하므로, 상기 증발원의 변형을 방지할 수 있다.In addition, the plurality of third supporting means preferably comprises fixed-third supporting means fixed to a central portion in the longitudinal direction of the evaporation source. Thus, when the evaporation source is expanded by heat, the center portion of the evaporation source is fixed, and both sides of the evaporation source can flow, thereby preventing deformation of the evaporation source.

이하, 본 발명에 의한 증발원 및 이를 구비한 증발원 어셈블리의 도면을 참고하여 상기 증발원 및 이를 구비하는 증발원 어셈블리의 지지구조를 더욱 상세하 게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다. Hereinafter, the supporting structure of the evaporation source and the evaporation source assembly having the same will be described in detail with reference to the drawings of the evaporation source and the evaporation source assembly having the same according to the present invention. The following embodiments are provided as examples to sufficiently convey the spirit of the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the invention is not limited to the embodiments described below and may be embodied in other forms. In the drawings, the size and thickness of the device may be exaggerated for convenience. Like numbers refer to like elements throughout.

도 1a 내지 도 1c는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 상기 증발원을 설명하기 위한 도면으로서, 상기 증발원을 구성하는 저장부 및 상기 저장부와 연결되어 있는 노즐부와 가열부의 지지구조를 설명하기 위한 도면들이다.1A to 1C are diagrams for explaining the evaporation source according to the first embodiment of the present invention, and for explaining a storage unit constituting the evaporation source and a support structure of a nozzle unit and a heating unit connected to the storage unit. The drawings.

도 1a는 상기 증발원을 구성하는 저장부(10) 및 상기 저장부(10)와 연결되는 노즐(20)부와 가열부(30)가 지지수단에 의해 지지되어 있는 구조를 한정하여 도시한 사시도로서, 상,하부를 반전하여 도시한 도면이다.FIG. 1A is a perspective view of a storage unit 10 constituting the evaporation source and a structure in which the nozzle unit 20 connected to the storage unit 10 and the heating unit 30 are supported by supporting means. , The upper and lower parts are inverted.

도 1a를 참조하면, 본 발명의 증발원은 증착물질을 저장하며, 일부분이 개구된 저장부(10)와, 상기 저장부(10)와 연결되어 있는 노즐부(20)와, 상기 노즐부를 감싸는 터널 형태를 가지는 가열부(30)를 포함한다. 여기서, 상기 가열부(30)는 상기 노즐부(20) 전체와 상기 저장부의 소정 부분까지 둘러싸여 있을 수 있다. 여기서, 상기 가열부는 그 일측면에 위치하며, 상기 노즐부 및 상기 저장부를 지지하는 제 1지지수단을 구비한다. 이때, 상기 제 1지지수단은 상기 저장부의 소정부분과 접촉하는 것이 바람직하다. 도면에서는 상기 제 1지지수단은 선형 형태의 지지대와 점형 형태의 지지핀의 겹합형태로 도시하였으나, 상기 제 1 지지수단은 선형형태의 지지대이거나 점형 형태의 지지핀으로 이루어질 수 있다.Referring to FIG. 1A, an evaporation source of the present invention stores a deposition material, and has a storage part 10 having a portion opened, a nozzle part 20 connected to the storage part 10, and a tunnel surrounding the nozzle part. It includes a heating unit 30 having a form. Here, the heating unit 30 may be surrounded by the entire nozzle unit 20 and a predetermined portion of the storage unit. Here, the heating part is located on one side thereof, and has a first supporting means for supporting the nozzle part and the storage part. In this case, it is preferable that the first supporting means is in contact with a predetermined portion of the storage part. In the drawings, the first support means is illustrated as a combination of a linear support and a pointed support pin, but the first support means may be a linear support or a pointed support pin.

이로써, 상기 제 1지지수단에 의해 상기 저장부의 소정부분을 지지하여줌으로써, 상기 제 1지지수단에 의한 열 손실을 최소화할 수 있으므로, 상기 저장부의 전체 면의 온도 균일성을 유지할 수 있다.As a result, by supporting the predetermined portion of the storage portion by the first supporting means, heat loss by the first supporting means can be minimized, so that temperature uniformity of the entire surface of the storage portion can be maintained.

여기서, 도면에서는 상기 저장부(10)는 상기 가열부의 3개의 제 1지지수단(40)에 의해 연결되어 지지하는 것을 도시하였으나, 이에 한정하지 아니하고 3개 이상의 다수의 제 1지지수단을 구비할 수 있다. 이때, 상기 저장부(10)는 소정 부분에 요철부(凹凸)(50)가 형성되어 있다. 여기서, 상기 요철부(50)는 상기 저장부의 길이방향에 대한 중앙부에 위치하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 다수의 제 1지지수단 중 어느 하나의 제 1지지수단은 상기 저장부(10)의 요철부 (50)에 삽입되어 연결 및 고정되는 고정-제 1지지수단일 수 있다.Here, in the drawings, the storage unit 10 is connected to and supported by the three first supporting means 40 of the heating unit, but is not limited thereto and may include three or more first supporting means. have. At this time, the storage portion 10 is formed with an uneven portion (부) 50 in a predetermined portion. Here, the uneven portion 50 is preferably located at the center portion in the longitudinal direction of the storage portion. At this time, the first support means of any one of the plurality of first support means may be a fixed-first support means that is inserted into the concave-convex portion 50 of the storage unit 10 is connected and fixed.

상기 저장부(10)는 상기 피증착 기판의 일면에 증착하고자 하는 박막을 형성하는 증착재료를 저장하는 부분으로 일반적으로 도가니로 이루어진다. 또한, 상기 저장부(10)는 열전도도가 우수한 흑연(graphite) 또는 그의 등가물로 이루어질 수 있으나, 본 발명에서 그 재질을 한정하는 것은 아니다.The storage unit 10 is a portion for storing a deposition material for forming a thin film to be deposited on one surface of the substrate to be deposited is generally made of a crucible. In addition, the storage unit 10 may be made of graphite (graphite) or an equivalent thereof having excellent thermal conductivity, but the material is not limited thereto.

상기 노즐부(20)는 상기 저장부(10)에서 증발되는 증착물질 입자를 대략 수직으로 세워진 기판(S)상으로 분사하며, 상기 증착물질 입자가 상기 기판(S) 상에 증착, 분포되는 분사 노즐과, 상기 저장부에서 증착물질 입자로 증발되지 않고, 클러스터(cluster)형태의 유기물이 튀는 것을 방지하는 튐 방지막이 일체화된 형태로 이루어진다. The nozzle unit 20 sprays the deposition material particles evaporated from the storage unit 10 onto the substrate S that is substantially vertical, and the deposition material particles are deposited and distributed on the substrate S. A nozzle and a splash prevention film which do not evaporate into the deposition material particles in the storage unit and prevent splashing of a cluster-shaped organic material are formed in an integrated form.

상기 가열부(30)는 상기 저장부의 증착물질이 증발할 수 있도록 가열하는 역 할을 한다. 또한, 상기 가열부(30)는 적어도 3개 이상의 제 1지지수단(40)을 구비하여 상기 저장부(10)와 상기 노즐부(20)를 지지하여 고정하는 역할을 한다.The heating unit 30 serves to heat the vapor deposition material of the storage unit to evaporate. In addition, the heating unit 30 is provided with at least three or more first supporting means 40 serves to support and secure the storage unit 10 and the nozzle unit 20.

도 1b는 도 1a의 가열부와 상기 가열부의 일측에 위치하는 제 1지지수단을 더욱 상세하게 나타낸 사시도이다.FIG. 1B is a perspective view illustrating the heating unit of FIG. 1A and the first supporting unit positioned at one side of the heating unit in more detail.

도 1b를 참조하면, 상기 가열부(30)는 상기 증착물질의 증발이 가능하도록 하는 열원인 열선(31)과, 일종의 리브(rib)와 같은 형태로 이루어지며, 상기 열선의 처짐을 방지하고 수용하는 열선 지지체(32)와, 상기 열선 지지체와 연결되며, 상기 저장부를 지지하기 위한 3개의 제 1지지수단(40)으로 이루어진다. 도면에는 3개의 제 1지지수단으로 도시하였으나, 이에 한정되지 않으며, 3개 이상의 다수의 제 1지지수단으로 이루어질 수 있다.Referring to FIG. 1B, the heating part 30 is formed in the form of a hot wire 31, which is a heat source for allowing evaporation of the deposition material, and a kind of rib, and prevents the deflection of the hot wire. It is connected to the hot wire support 32 and the hot wire support, and consists of three first supporting means 40 for supporting the storage. Although illustrated in the drawings as three first supporting means, the present invention is not limited thereto and may include three or more first supporting means.

상기 가열부(30)는 열선(31)이 상기 증착물질의 증발에 효율적으로 열을 전달하기 위하여 지그재그 또는 S자 곡선이 지속적으로 반복하여 상기 열선 지지체(32)에 의해 수용되어 있으며, 그 형상은 일종의 터널 형태를 가지며, 그 터널 내부에 상기 노즐부(도 1a의 20), 더 나아가 상기 저장부(도 1a의 10)의 소정부분이 위치한다.The heating unit 30 is accommodated by the hot wire support 32 by the zigzag or S-shaped curve continuously repeated in order for the hot wire 31 to efficiently transfer heat to the evaporation of the deposition material. It has a kind of tunnel shape, and inside the tunnel, a predetermined portion of the nozzle part 20 (FIG. 1A) and further the storage part 10 (FIG. 1A) is located.

상기 제 1지지수단(40)은 각각 상기 열선 지지체(32)의 일측에 연결되어 있으며, 상기 저장부(도 1a의 10)와의 접촉 면적이 최소화할 수 있는 선형 형태의 지지대(41a, 41b, 41c))와 상기 지지대(41a, 41b, 41c)에 고정되어 있으며, 2개의 점형 형태의 지지핀(42a, 42b, 42c, 43a, 43b, 43c)으로 이루어진다. 이때, 본 실시예에서는 2개의 지지핀으로 설명하였으나 이에 한정하지 않는다. 여기서, 상기 지 지핀(42a, 42b, 42c, 43a, 43b, 43c)은 일단의 원기둥, 직사면체, 원뿔, 삼각뿔 및 사각뿔 형태로 이루어진 군에서 하나의 형태를 가질 수 있다. The first support means 40 is connected to one side of the hot wire support 32, respectively, and linear supports 41a, 41b, 41c which can minimize the contact area with the storage unit 10 of FIG. )) And two support pins 42a, 42b, 42c, 43a, 43b, and 43c in the form of two points. In this case, the present invention has been described with two support pins, but is not limited thereto. Here, the support pins 42a, 42b, 42c, 43a, 43b, and 43c may have one form in a group consisting of one end of a cylinder, a rectangular parallelepiped, a cone, a triangular pyramid, and a square pyramid.

한편, 상기 제 1지지수단(40) 중 어느 하나의 제 1지지수단은, 즉 상기 저장부의 길이 방향에 있어서 중앙인 중앙부를 지지하는 제 1지지수단(40c)은 상기 저장부를 지지하는 지지핀(42c)과 별도로 상기 가열부의 열선(31)내에 위치하여 상기 노즐부를 지지하는 적어도 하나의 지지핀(43c)을 더 구비하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 지지핀(43c)이 아닌 별도의 지지수단에 의해 상기 노즐부를 지지할 수 있다. 이로써, 상기 제 1지지수단(40)에 의해 지지되는 상기 가열부 및 상기 노즐부가 한 방향으로 기울어지는 것을 방지할 수 있다. On the other hand, any one of the first support means of the first support means 40, that is, the first support means (40c) for supporting the central portion which is the center in the longitudinal direction of the storage portion is a support pin for supporting the storage portion ( Apart from 42c), it is preferable to further include at least one support pin 43c positioned in the heating wire 31 of the heating unit to support the nozzle unit. In this case, the nozzle unit may be supported by a separate support means rather than the support pin 43c. As a result, the heating unit and the nozzle unit supported by the first supporting unit 40 can be prevented from inclining in one direction.

또한, 고정-제 1 지지수단의 지지핀(42b, 43c)은 좌, 우에 위치하는 제 1지지수단(40a, 40b)의 지지핀과 달리 상기 지지핀상에 요철부(凹凸)(42c)를 가지는 것이 바람직하다. In addition, the support pins 42b and 43c of the fixed-first support means have an uneven portion 42c on the support pins, unlike the support pins of the first support means 40a and 40b located at the left and right sides. It is preferable.

다시 도 2a를 살펴보면, 상기 저장부(10)의 중앙부에 위치하는 요철부(50)에 상기 지지핀상에 형성된 요철부(42c)가 삽입되어 고정될 수 있다. 또는 도면과 달리, 상기 지지핀상에 형성된 요철부(42c)가 상기 저장부(10)의 중앙부에 위치하는 요철부(50)가 삽입되어 고정될 수 있다.Referring again to FIG. 2A, an uneven portion 42c formed on the support pin may be inserted into and fixed to the uneven portion 50 positioned at the center of the storage unit 10. Alternatively, unlike the drawing, the uneven part 42c formed on the support pin may be fixed by inserting the uneven part 50 positioned at the center of the storage part 10.

또한, 상기 제 1지지수단은 연결부의 열손실 차이에 의한 온도의 불균일을 방지하기 위해 열전도율이 낮은 물질로 이루어진다. 이를 테면, 상기 제 1지지수단은 지르코니아(Zirconia) 또는 쿼츠(Quartz)로 이루어지는 것이 바람직하다.  In addition, the first support means is made of a material having a low thermal conductivity in order to prevent the temperature unevenness due to the difference in heat loss of the connecting portion. For example, the first support means is preferably made of zirconia (Zirconia) or quartz (Quartz).

도 1c는 도 1a의 후면에서 관찰되는 상기 가열부와 상기 저장부 및 상기 노 즐부의 지지하는 형태를 나타낸 개략도이다.FIG. 1C is a schematic view illustrating a supporting form of the heating unit, the storage unit, and the nozzle unit observed from the rear side of FIG. 1A.

도 1c를 참조하면, 상기 저장부(10)의 중앙부에 형성된 요철부(50)에 고정-제 1지지수단(40c)의 상기 지지핀(42c) 상에 위치하는 요철부(44c)가 서로 삽입되어 고정되며, 좌, 우에 위치하는 제 1지지수단(40a, 40b)은 상기 저장부(10)의 일면에 접촉되어 있는 구조를 가진다. 즉, 상기 고정-제 1지지수단(40c)는 상기 요철부에 삽입되어 구속되어 있으며, 좌우에 위치하는 제 1지지수단(40a, 40b)는 상기 저장부(10)의 하중을 지지하며 슬립이 가능한 구조로 이루어진다. 이로써, 상기 저장부가 열에 의해 팽창이 일어나더라도 상기 저장부가 뒤틀리거나 파손이 일어나는 것을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 1C, the uneven parts 44c positioned on the support pins 42c of the fixed-first support means 40c are inserted into the uneven parts 50 formed in the central portion of the storage part 10. And the first support means 40a and 40b positioned at the left and right sides are in contact with one surface of the storage unit 10. That is, the fixed-first support means 40c is inserted into and constrained to the uneven portion, and the first support means 40a and 40b positioned at the left and right support the load of the storage part 10 and have slip. Possible structure is made. Thus, even if the reservoir is expanded by heat, it is possible to prevent the reservoir from being warped or broken.

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 증발원을 도시한 것으로서, 가열부와 상기 하우징의 연결 및 지지하는 지지구조를 설명하기 위한 도면들이다.2A to 2E illustrate an evaporation source according to a first embodiment of the present invention, and are views for explaining a support structure for connecting and supporting a heating unit and the housing.

도 2a는 상기 하우징의 내부에 상기 가열부가 제 1지지수단에 의해 고정되어 연결되어 있는 것을 개략적으로 도시한 사시도이다.2A is a perspective view schematically showing that the heating part is fixedly connected to the inside of the housing by a first support means.

도 2a를 참조하면, 일부분이 개구된 하우징(100)내에 가열부(110)가 수납되어 있다. 이때, 상기 하우징(100)은 제 2지지수단(120)을 더 구비하여, 상기 제 1지지수단과 접촉 또는 연결되어 상기 가열부를 지지 및 연결한다. 이때, 상기 하우징의 중앙부에 위치하는 제 2지지수단(120c)은 요철부(凹凸)가 형성되어 있다. 이로써, 상기 가열부와 연결되어 있는 상기 고정-제 1지지수단이 삽입되어 고정되어 있다. 또한, 좌우에 위치하는 제 2지지수단(120a, 120b)은 상기 제 1지지수단과 접 촉하여 그 하중을 지지하는 구조를 가진다. 결국, 상기 가열부(110)의 중앙부는 상기 하우징(100)의 소정부분에 구속되어 있으며, 좌우측은 단지 상기 가열부의 하중을 지지하며 슬립이 가능하도록 구성되어 있다. 이로써, 상기 가열부(110)가 열에 의해 팽창시 뒤틀어지거나 파손되는 것을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 2A, the heating part 110 is accommodated in the housing 100 having a portion opened. In this case, the housing 100 further includes a second support means 120 to contact or connect with the first support means to support and connect the heating part. At this time, the second supporting means (120c) located in the central portion of the housing is formed with an uneven portion (凹凸). Thereby, the fixed-first supporting means connected with the heating portion is inserted and fixed. In addition, the second support means (120a, 120b) located on the left and right has a structure in contact with the first support means to support the load. As a result, the central portion of the heating unit 110 is constrained to a predetermined portion of the housing 100, and the left and right sides are configured to support the load of the heating unit and to be slippery. As a result, the heating part 110 may be prevented from being warped or damaged when inflated by heat.

도면에는 도시되지 않았으나, 상기 가열부의 내부에 노즐부 및 그 노즐부가 연결되어 있는 저장부가 삽입되어 있을 수 있으며, 필요에 따라 언제든지 분리 및 교환할 수 있다.Although not shown in the drawings, a nozzle unit and a storage unit to which the nozzle unit is connected may be inserted into the heating unit, and may be separated and exchanged at any time as needed.

도 2b는 도 2a의 하우징을 한정하여 도시한 것이다.FIG. 2B defines a housing of FIG. 2A.

도 2b에서와 같이, 상기 하우징(100)은 상기 가열부(110)를 지지하기 위한 제 2지지수단(120)을 구비한다.As shown in FIG. 2B, the housing 100 includes second supporting means 120 for supporting the heating part 110.

여기서, 상기 제 2지지수단(120)은 상기 가열부와의 접촉 면적이 작은 것이 바람직하다. 이에 따라, 상기 제 2지지수단(120)은 선형 형태의 지지대(121a) 및/ 또는 상기 지지대에 고정되어 있으며, 점형 형태의 지지핀(122a)으로 이루어져 있을 수 있다. 또한, 상기 제 2지지수단은 연결부의 열손실 차이에 의한 온도의 불균일을 방지하기 위해 열전도율이 낮은 물질로 이루어진다. 이를 테면, 상기 제 2지지수단은 지르코니아(Zirconia) 또는 쿼츠(Quartz)로 이루어지는 것이 바람직하다. Here, the second support means 120 preferably has a small contact area with the heating part. Accordingly, the second support means 120 is fixed to the support (121a) and / or the support of the linear form, it may be composed of a support pin (122a) of the point shape. In addition, the second supporting means is made of a material having a low thermal conductivity in order to prevent temperature non-uniformity due to the difference in heat loss of the connecting portion. For example, the second support means is preferably made of zirconia (Zirconia) or quartz (Quartz).

이때, 상기 하우징의 중앙에 위치하는 제 2지지수단(120c)은 상기 지지대(121a) 또는 상기 지지핀(122a)은 요철부를 가지고 있는 것이 바람직하다. 이때, 상기 하우징 내부에 고정되는 가열부는 돌출부를 가지고 있어, 상기 돌출부는 상기 지지핀의 요철부에 삽입되어 고정된다. 이로써, 상기 가열부는 그 중앙부분은 구속 되어 고정되며, 좌우는 하중만을 지지하며 슬립이 가능한 구조를 가짐으로써 열 팽창에 의한 뒤틀림 현상을 방지할 수 있다.In this case, the second support means 120c positioned in the center of the housing preferably has the support 121a or the support pin 122a having an uneven portion. In this case, the heating part fixed inside the housing has a protrusion, and the protrusion is inserted into and fixed to the uneven portion of the support pin. As a result, the central portion of the heating part is restrained and fixed, and the left and right sides thereof support only a load and have a structure in which slippage is possible, thereby preventing warpage due to thermal expansion.

도 2c는 본 발명의 제 1실시예에 따른 증발원에 관한 것으로서, 상기 하우징 내부에 고정된 가열부를 더욱 상세하게 도시한 도면이다.Figure 2c relates to an evaporation source according to a first embodiment of the present invention, a view showing in more detail the heating unit fixed inside the housing.

도 2c를 참조하면, 상기 가열부(110)는 증착물질의 증발에 효율적으로 열을 전달하기 위하여 지그재그 또는 S자 곡선이 지속적으로 반복하여 형성되는 열선(111)과 상기 열선을 지지하며 수용하는 열선 지지체(112)로 이루어져 있다. Referring to FIG. 2C, the heating unit 110 supports and receives the heating wire 111 and the heating wire which are continuously formed in a zigzag or S-shaped curve in order to transfer heat efficiently to the evaporation of the deposition material. It consists of a support 112.

상기 가열부(110)의 형상은 일종의 터널 형태를 가지며, 도면에는 도시되지 않았으나, 그 터널 내부에 노즐부 또는 저장부의 소정부분이 위치할 수 있다. The heating unit 110 has a kind of tunnel shape, and although not shown in the drawing, a predetermined portion of the nozzle unit or the storage unit may be located in the tunnel.

여기서, 상기 노즐부 및 상기 노즐부와 연결되어 있는 저장부는 상기 가열부내에 수납되어지며, 필요에 따라 분리 및 교환이 가능한 구조로 형성되어 있다. 즉, 상기 노즐부 및 상기 저장부는 상기 열선 지지체(112)에 연결되어 있는 제 1지지수단(130)에 의해 고정 및 연결되어 있다. Here, the nozzle unit and the storage unit connected to the nozzle unit are accommodated in the heating unit, and are formed in a structure that can be separated and exchanged as necessary. That is, the nozzle unit and the storage unit are fixed and connected by the first support means 130 connected to the hot wire support 112.

상기 각각의 제 1지지수단(130)은 상기 하우징의 내부에 위치하는 각각의 제 2지지수단(120)과 접촉되어 상기 하우징(100)에 상기 가열부(110)를 고정 및 지지한다.Each of the first supporting means 130 is in contact with each of the second supporting means 120 located inside the housing to fix and support the heating part 110 in the housing 100.

이때, 상기 가열부의 중앙부와 연결되어지는 고정-제 1지지수단(130c)은 그 하부에 요철부를 가지고 있는 것이 바람직하다. 이로써, 상기 하우징의 중앙부에 위치하는 제 2지지수단(120c)에 삽입되어 고정할 수 있다.At this time, it is preferable that the fixed-first supporting means 130c connected to the central portion of the heating portion has an uneven portion at the bottom thereof. Thus, it can be inserted into and fixed to the second support means 120c located at the center of the housing.

또한, 상기 하우징의 내벽에 내부 열반사판(140)이 더 구비되어 있을 수 있 다. 상기 내부 열반사판(140)은 상기 제 2지지수단의 양측에 형성된 트렌치에 삽입되어 조립될수 있다. 여기서 상기 내부 열반사판(140)은 상기 가열부에서 발생되는 열을 반사하여, 상기 가열부의 열효율을 증가시키는 역할을 한다.In addition, the inner heat reflection plate 140 may be further provided on the inner wall of the housing. The internal heat reflection plate 140 may be inserted into and formed in trenches formed at both sides of the second support means. Here, the internal heat reflection plate 140 reflects the heat generated by the heating unit, and serves to increase the thermal efficiency of the heating unit.

도 2d는 도 2c의 P영역을 확대한 사시도로써, 상기 하우징과 상기 가열부의 중앙 지점의 지지구조를 설명하기 위한 사시도이다.FIG. 2D is an enlarged perspective view of a region P of FIG. 2C and is a perspective view for explaining a supporting structure of a center point of the housing and the heating unit.

도 2d를 참조하면, 상기 하우징의 중앙부에 위치하는 제 2지지수단(120c)은 선형의 지지대(121c)와 그 상부에 요철부가 형성된 지지핀(122c)으로 이루어져 있다. 또한, 상기 가열부의 일측의 중앙부에 위치하는 고정-제 1지지수단(130c)은 그 하부에 요철부(135c)가 형성되어 있다. 이로써, 상기 제 2지지수단(120c)과 고정-제 1지지수단(130c)은 서로 삽입되어 고정되어 있다.Referring to FIG. 2D, the second support means 120c positioned at the center portion of the housing includes a linear support 121c and a support pin 122c having an uneven portion formed thereon. In addition, the fixed-first supporting means 130c positioned at the central portion of one side of the heating portion has an uneven portion 135c formed at a lower portion thereof. Thus, the second support means 120c and the fixed-first support means 130c are inserted into and fixed to each other.

또한, 상기 제 2지지수단(120c) 측면에 내부 열반사판을 조립하기 위한 트렌치(123)가 형성되어 있다.In addition, a trench 123 for assembling an internal heat reflection plate is formed at a side of the second support means 120c.

도 2e는 도 2c의 Q영역을 확대한 사시도로써, 상기 하우징과 상기 가열부의 좌, 우 지점의 지지구조를 설명하기 위한 사시도이다.FIG. 2E is an enlarged perspective view of the Q region of FIG. 2C and is a perspective view for explaining a support structure of left and right points of the housing and the heating unit.

도 2e를 참조하며, 상기 하우징의 좌측 또는 우측에 위치하는 제 2지지수단(120a)은 선형의 지지대(121a)와 그 상부에 형성된 지지핀(122a)으로 이루어져 있다. 또한, 상기 가열부의 일측의 중앙부에 위치하는 고정-제 1지지수단(130c)의 하부에 상기 제 2지지수단(120a)이 위치하여, 상기 가열부의 하중을 지지한다. Referring to FIG. 2E, the second support means 120a positioned on the left or right side of the housing includes a linear support 121a and a support pin 122a formed thereon. In addition, the second support means 120a is positioned below the fixed-first support means 130c positioned at the center of one side of the heating part to support the load of the heating part.

또한, 상기 제 2지지수단(120a) 측면에 내부 열반사판을 조립하기 위한 트렌치(123)가 형성되어 있다.In addition, a trench 123 for assembling an internal heat reflection plate is formed at a side of the second support means 120a.

이로써, 상기 가열부는 그 중앙 부분은 상기 하우징의 제 2지지수단(120c)과 고정-제 1 지지수단 (130c)에 의해 구속되어 있으며, 그 양측은 상기 하우징의 제 2지지수단(120a, 120b)과 제 1지지수단(130a, 130b)에 접촉하여, 상기 가열부의 하중만을 지지하여 슬립이 가능한 구조로 되어 있다. 이로써, 상기 가열부의 열 팽창에 의해 뒤틀리는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 가열부와 상기 하우징의 접촉 면적을 최소화시킴으로써, 접촉부에 의한 열손실에 의해 상기 가열부의 온도가 불균일해지는 것을 방지할 수 있다.Thus, the central portion of the heating portion is constrained by the second support means 120c and the fixed-first support means 130c of the housing, both sides of the second support means 120a and 120b of the housing. In contact with the first supporting means 130a, 130b to support only the load of the heating portion and to allow slipping. Thereby, it can prevent that it is twisted by the thermal expansion of the said heating part. In addition, by minimizing the contact area between the heating part and the housing, it is possible to prevent the temperature of the heating part from being uneven due to heat loss caused by the contact part.

도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 제 2 실시예인 증발원 어셈블리를 설명하기 위한 도면들이다.3A to 3C are views for explaining an evaporation source assembly according to a second embodiment of the present invention.

도 3a를 참고하면, 상기 증발원 어셈블리(200)는 증발원(210)과 상기 증발원을 수납하는 외부 하우징(220)과, 상기 외부하우징은 상기 증발원을 지지하며 연결하는 제 3지지수단을 구비한다.Referring to FIG. 3A, the evaporation source assembly 200 includes an evaporation source 210 and an outer housing 220 accommodating the evaporation source, and the external housing includes third support means for supporting and connecting the evaporation source.

상기 증발원(210)은 도면에는 도시하지 않았으나, 저장하는 저장부와, 상기 저장부와 연결되어 있는 노즐부와, 상기 노즐부 및 상기 저장부의 소정부분을 감싸는 가열부 및 이들을 수납하는 하우징으로 이루어져 있으며, 상기 구성 요소들을 연결하며, 지지하는 다수의 지지수단을 구비한다. Although not shown in the drawing, the evaporation source 210 includes a storage unit for storing, a nozzle unit connected to the storage unit, a heating unit surrounding the nozzle unit and a predetermined portion of the storage unit, and a housing for storing them. And a plurality of support means for connecting and supporting the components.

상기 외부하우징(220)은 제 3 지지수단(230)이 형성되어 있다. 여기서, 상기 3지지수단(230)은 상기 증발원(210)의 열 손실을 방지하기 위한 최소한의 형태로써, 선형, 점형의 형태 또는 그 둘의 결합형태로 이루어질 수 있다.The outer housing 220 has a third support means 230 is formed. Here, the three support means 230 is a minimal form for preventing heat loss of the evaporation source 210, it may be made in the form of a linear, pointed form or a combination of the two.

또한, 상기 증발원(210)과의 연결부의 열손실 차이에 의한 온도의 불균일을 방지하기 위해 열전도율이 낮은 물질로 이루어진다. 이를 테면, 상기 제 3지지수단은 지르코니아(Zirconia) 또는 쿼츠(Quartz)로 이루어지는 것이 바람직하다. In addition, the thermal conductivity is made of a material having a low thermal conductivity in order to prevent temperature non-uniformity due to the difference in heat loss of the connection portion with the evaporation source 210. For example, the third support means is preferably made of zirconia (Zirconia) or quartz (Quartz).

상기 증발원(210)의 개구부가 형성된 하단면의 소정 부분에 돌기부(230)가 형성된다. 이때, 상기 증발원의 길이 방향에 대하여 상기 돌기부(230)의 중앙부에 요철부가 형성된다. 여기서, 상기 제 3지지수단(240) 중 어느 하나의 제 3지지수단은 상기 요철부에 삽입되어 고정되는 고정-제 3지지수단 (240c)일 수 있다. The protrusion 230 is formed at a predetermined portion of the bottom surface of which the opening of the evaporation source 210 is formed. At this time, the uneven portion is formed in the central portion of the protrusion 230 with respect to the longitudinal direction of the evaporation source. Here, the third support means of any one of the third support means 240 may be a fixed-third support means 240c inserted into and fixed to the uneven portion.

이로써, 상기 증발원(210)의 중앙부는 고정-제 3지지수단(240c)에 의해 고정되며, 그 양측은 다른 제 3지지수단에 상기 증발원의 하중을 지지하되, 슬립이 가능한 구조이다. 이로써, 상기 증발원(210)이 열에 의해 팽창시 뒤틀어지거나 파손되는 것을 방지할 수 있다.  Thus, the central portion of the evaporation source 210 is fixed by the fixed-third support means 240c, both sides of which support the load of the evaporation source to the other third support means, the structure is capable of slipping. As a result, the evaporation source 210 may be prevented from being warped or damaged when inflated by heat.

또한, 상기 외부하우징(220)은 냉매를 이용하여 그 내부에 위치하는 증발원으로부터 방출하는 열이 외부로 방출하는 것을 방지하기 위한 냉각판으로 이루어질 수 있다.In addition, the external housing 220 may be formed of a cooling plate for preventing the heat emitted from the evaporation source located inside the refrigerant to be discharged to the outside using a refrigerant.

또한, 상기 외부 하우징은 다수의 셀로 나누어져 있으며, 상기 다수의 셀 각각에 증발원을 구비할 수 있다. 이로써, 상기 각각의 증발원은 동일한 증착물질을 내포하여, 수직으로 이동함으로써, 균일한 박막을 기판상에 증착할 수 있으며, 특히, 대형 기판에 적용시에 유리하다. 또는 상기 각각의 증발원은 각각 상이한 증착물질을 내포하고 있어, 증착공정동안 두 증착 물질을 혼합하여 상기 기판에 증착할 수 있다.In addition, the outer housing is divided into a plurality of cells, each of the plurality of cells may be provided with an evaporation source. Thus, each of the evaporation sources contains the same deposition material and moves vertically, thereby depositing a uniform thin film on the substrate, which is particularly advantageous when applied to large substrates. Alternatively, each of the evaporation sources may contain different deposition materials, so that two deposition materials may be mixed and deposited on the substrate during the deposition process.

도 3b는 도 3a의 증발원 어셈블리를 I-I'로 취한 단면도로써, 즉, 상기 증발 원의 길이방향에 대해서 중앙부의 단면도이다.FIG. 3B is a cross-sectional view of the evaporation source assembly of FIG. 3A taken along the line II ′, ie, in the longitudinal direction of the evaporation source, in a central section.

도 3b를 참조하면, 상기 증발원(210)은 고정-제 3지지수단(240c)에 의해 상기 외부 하우징(220)에 지지 및 고정되어 있다.Referring to FIG. 3B, the evaporation source 210 is supported and fixed to the outer housing 220 by a fixed third support means 240c.

이때, 상기 증발원(210)은 개구된 전면의 하단의 소정부분에 돌기부(230)가 형성되어 있으며, 상기 요철부에 상기 외부 하우징의 제 3지지수단의 요철부(241c)가 삽입되어 고정되어 있다. 여기서, 상기 증발원의 후면에 위치하는 제 3지지수단(240c')의 높이 또는 전면에 위치하는 제 3지지수단(240c)의 높이를 조정함에 따라, 상기 증발원의 기울기를 조절할 수 있다. 이에 따라, 상기 증발원으로부터 방출되는 증착물질의 증착 방향을 조절할 수 있다.At this time, the evaporation source 210 is formed with a projection 230 at a predetermined portion of the lower end of the front opening, the uneven portion 241c of the third supporting means of the outer housing is fixed to the uneven portion. . Here, the inclination of the evaporation source can be adjusted by adjusting the height of the third support means 240c 'located at the rear of the evaporation source or the height of the third support means 240c located at the front. Accordingly, the deposition direction of the deposition material emitted from the evaporation source can be adjusted.

도 3c는 도 3a의 증발원 어셈블리를 Ⅱ- Ⅱ'로 취한 단면도로써, 상기 증발원의 좌측부 또는 우측부의 단면도이다.3C is a cross-sectional view of the evaporation source assembly of FIG. 3A taken along II-II ', and is a cross-sectional view of the left side or the right side of the evaporation source.

도 3c를 참조하면, 상기 증발원(210)은 제 3지지수단(240b)에 의해 상기 외부 하우징(220)에 지지 및 고정되어 있다. 이때, 상기 증발원은 제 3지지수단(240b)에 의해 접촉되어 그 하중을 지지받을 수 있다.Referring to FIG. 3C, the evaporation source 210 is supported and fixed to the outer housing 220 by a third support means 240b. At this time, the evaporation source may be contacted by the third support means 240b to receive the load.

상술한 바와 같이, 상기 증발원의 중앙부에 위치하는 센터-3지지수단과 같이, 후면에 위치하는 제 3지지수단(240b')의 높이 또는 전면에 위치하는 제 3지지수단(240b)의 높이를 조정함에 따라, 상기 증발원(210)의 기울기를 조절할 수 있다. 이에 따라, 상기 증발원(210)으로부터 방출되는 증착물질의 증착 방향을 조절할 수 있다.As described above, the height of the third support means 240b 'located at the rear side or the height of the third support means 240b located at the front side is adjusted, such as the center-3 support means located at the center of the evaporation source. As such, the inclination of the evaporation source 210 may be adjusted. Accordingly, the deposition direction of the deposition material emitted from the evaporation source 210 can be adjusted.

이로써, 상기 증발원의 길이방향에 대한 중앙부는 상기 외부 하우징의 고정- 제 3지지수단(240c)에 의해 구속되어 있으며, 그 양측부는 상기 외부 하우징의 제 3지지수단(240a, 240b)에 의해 상기 증발원의 하중만을 지지하여 슬립이 가능한 구조로 되어 있다. 이로써, 상기 증발원이 열 팽창에 의해 뒤틀리는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 증발원과 상기 외부 하우징의 접촉 면적을 최소화시킴으로써, 접촉부에 의한 열손실에 의해 상기 가열부의 온도가 불균일해지는 것을 방지할 수 있다.Thus, the central portion in the longitudinal direction of the evaporation source is constrained by the fixed-third support means 240c of the outer housing, both sides of which are evaporated by the third support means 240a and 240b of the outer housing. It is designed to be able to slip by supporting only the load. Thereby, the said evaporation source can be prevented from being twisted by thermal expansion. In addition, by minimizing the contact area between the evaporation source and the outer housing, it is possible to prevent the temperature of the heating portion from being uneven due to heat loss caused by the contact portion.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 증발원 및 증발원 어셈블리를 구비하는 증착 장치를 설명하기 위한 도면이다. 4 is a view for explaining a deposition apparatus having an evaporation source and an evaporation source assembly according to an embodiment of the present invention.

도 4을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 증착 장치(1)는 상기 증착 장치(1)의 몸체를 이루는 챔버(2)와, 기판(S)의 일면으로 증착물질 입자를 분사시키기 위한 적어도 하나 이상의 증발원을 가지는 증발원 어셈블리(3)와, 상기 증발원 어셈블리(3)를 수직 방향으로 이동시킬수 있는 증발원 어셈블리 이송 수단(4)을 구비하는 구조로 이루어진다. Referring to FIG. 4, a deposition apparatus 1 according to an embodiment of the present invention includes at least a chamber 2 constituting the body of the deposition apparatus 1 and at least one surface for spraying deposition material particles onto one surface of the substrate S. Referring to FIG. An evaporation source assembly (3) having at least one evaporation source and an evaporation source assembly conveying means (4) capable of moving the evaporation source assembly (3) in the vertical direction.

챔버(2)는 도시되지 않은 진공펌프에 의하여 내부가 진공상태를 유지하도록 되어 있다. 그리고 챔버(2) 내부에는 증발원 어셈블리(3)를 수직 방향으로 이동시킬 수 있는 증발원 어셈블리 이송 수단(4)이 설치되어 증발원 어셈블리(3)를 증착 방향으로 이동시키도록 되어 있다. The chamber 2 is configured to maintain a vacuum inside the vacuum pump (not shown). In addition, an evaporation source assembly transfer means 4 capable of moving the evaporation source assembly 3 in the vertical direction is installed in the chamber 2 to move the evaporation source assembly 3 in the deposition direction.

상기 증발원 어셈블리 이송 수단(4)은 진공으로 유지되는 챔버(2)내에서 사용이 적합한 수직 이송 장치로써, 공정 조건에 따라 증발원 어셈블리(3)의 이동 속도를 조절할 수 있도록 되어 있다. The evaporation source assembly conveying means 4 is a vertical conveying device suitable for use in the chamber 2 maintained in a vacuum, and is capable of controlling the moving speed of the evaporation source assembly 3 according to the process conditions.

한편, 챔버(2) 내부에 위치하는 기판(S)은 증착물질의 증착을 위하여 대략 수직방향으로 위치한다. On the other hand, the substrate (S) located in the chamber 2 is located in a substantially vertical direction for the deposition of the deposition material.

그리고 기판(S)의 전면, 즉 증착원 어셈블리(30)와 기판(S) 사이에는 증착되는 증착물질의 형상을 결정하는 마스크 패턴(M)이 설치된다. 따라서 상기 증발원 어셈블리(3)에서 증발된 증착물질은 마스크 패턴(M)을 거치면서 기판(S) 상에 증착되어 소정 형상의 박막이 기판(S) 상에 형성되도록 한다.In addition, a mask pattern M that determines the shape of the deposition material to be deposited is disposed on the entire surface of the substrate S, that is, between the deposition source assembly 30 and the substrate S. Therefore, the deposition material evaporated from the evaporation source assembly 3 is deposited on the substrate S while passing through the mask pattern M so that a thin film having a predetermined shape is formed on the substrate S.

상기한 바와 같이 본 발명에 따르면, 본 발명의 증발원 및 그를 구비한 증발원 어셈블리는 부품간의 접촉면을 최소화하기 위한 선형 지지대 및/또는 점형 지지핀으로 구성된 지지수단을 통하여 부품간의 연결 및 지지를 꾀하여 열 손실이 발생하는 것을 최소화할 수 있어, 부품의 온도가 불균일하게 일어나는 것을 방지할 수 있다.As described above, according to the present invention, the evaporation source of the present invention and the evaporation source assembly having the same are designed to connect and support the parts through a support means composed of linear supports and / or pointed support pins for minimizing the contact surface between the parts. This can be minimized, and the temperature of the part can be prevented from occurring unevenly.

또한, 본 발명의 증발원 및 그를 구비한 증발원 어셈블리는 상기 다수의 지지수단 중 그 중앙에 위치하는 지지수단은 서로 고정되어 있으며, 그 양측에 위치하는 지지수단은 슬립이 가능한 구조로 각 부품간을 연결 및 지지함으로써 상기 각 부품이 열에 의해 팽창시 그 구조가 뒤틀리거나 파손되는 것을 방지할 수 있다. In addition, the evaporation source and the evaporation source assembly having the same of the present invention, the support means located in the center of the plurality of support means is fixed to each other, the support means located on both sides are connected to each component in a structure that can be slipped And by supporting, the respective components can be prevented from being warped or broken when the components are inflated by heat.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art can variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. I can understand that.

Claims (13)

적어도 일부분이 개구된 저장부와;A storage portion at least partially opened; 상기 저장부와 연결되어 있는 노즐부와;A nozzle unit connected to the storage unit; 상기 노즐부를 감싸는 형태로 위치하는 가열부와;A heating unit positioned to surround the nozzle unit; 상기 저장부, 상기 노즐부, 상기 가열부를 수납하는 하우징을 포함하며,A housing accommodating the storage part, the nozzle part, and the heating part, 상기 가열부의 일측에 위치하며, 상기 저장부와 상기 하우징 사이에 위치하는 다수의 제 1 지지수단을 구비하며,Located on one side of the heating unit, and provided with a plurality of first supporting means located between the storage unit and the housing, 상기 다수의 제 1 지지수단은 상기 저장부와 상기 하우징에 각각의 소정 부분과 접촉하는 것을 특징으로 하는 증발원.And said plurality of first supporting means is in contact with said predetermined portion in said reservoir and said housing. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 다수의 제 1 지지수단은 선형 형태, 점형 형태 또는 이들의 결합 형태로 이루어지는 것을 특징으로 하는 증발원.The plurality of first support means is evaporation source, characterized in that consisting of a linear form, a point form or a combination thereof. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 다수의 제 1지지수단 중 적어도 하나의 제 1지지수단은 상기 저장부의 일측면의 중앙부에 고정되는 고정-제 1지지수단인 것을 특징으로 하는 증발원.At least one first supporting means of said plurality of first supporting means is a fixed-first supporting means fixed to a central portion of one side of said reservoir. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 저장부의 길이방향에 대한 중앙부에 요철부(凹凸)가 구비되는 것을 특징으로 하는 증발원.Evaporation source characterized in that the concave-convex portion (凹凸) is provided in the central portion in the longitudinal direction of the storage. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 고정-제 1지지수단은 상기 하우징의 소정부분에 구속되어 고정되는 것을 특징으로 하는 증발원.The fixed-first support means being constrained and fixed to a predetermined portion of the housing. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 하우징은 상기 다수의 제 1 지지수단과 각각 연결되는 제 2지지수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증발원.The housing further comprises a second support means each connected to the plurality of first support means. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 다수의 제 1 지지수단 중 그 중앙에 배치되는 제 1지지수단은 상기 제 2지지수단와 서로 구속되어 고정되는 것을 특징으로 하는 증발원.An evaporation source, characterized in that the first support means disposed in the center of the plurality of first support means is constrained and fixed to the second support means. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제 2지지수단은 그 양측면부에 트렌치가 형성되고, 상기 트렌치를 통해 삽입되어 조립되는 내부 열반사판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증발원.The second support means is an evaporation source, characterized in that the trench is formed on both sides of the inner heat reflection plate is inserted through the trench further assembled. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 다수의 제 1지지수단은 상기 노즐부를 지지하는 지지수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증발원.The plurality of first support means further comprises a support means for supporting the nozzle portion. 제 1항의 증발원을 적어도 하나 또는 둘 이상을 수납하는 외부하우징을 구비하는 것을 특징으로 하는 증발원 어셈블리. An evaporation source assembly comprising an external housing accommodating at least one or two or more evaporation sources of claim 1. 제 10항에 있어서, The method of claim 10, 상기 증발원 어셈블리는 증발원과 상기 외부하우징 사이에 위치하며, 상기 외부하우징에 상기 증발원을 연결하며 지지하는 다수의 제 3지지수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 증발원 어셈블리. The evaporation source assembly is located between the evaporation source and the outer housing, the evaporation source assembly comprising a plurality of third support means for connecting and supporting the evaporation source in the outer housing. 제 11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 다수의 제 3지지수단은 상기 증발원의 소정부분에 접촉하는 것을 특징으로 하는 증발원 어셈블리.And said third supporting means is in contact with a predetermined portion of said evaporation source. 제 11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 다수의 제 3지지수단은 상기 증발원의 길이방향에 대한 중앙부에 고정되는 고정-제 3지지수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 증발원 어셈블리.And said plurality of third supporting means comprises fixed-third supporting means fixed to a central portion in the longitudinal direction of said evaporation source.
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