KR100601780B1 - Dry cleaner of tweezer - Google Patents

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Abstract

본 발명은 건식 트위저 세정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 트위저의 오염 및 상기 오염물질에 따른 웨이퍼의 파티클 오염 및 이에 의한 불량발생을 줄일 수 있고, 트위저의 세정을 현장에서 바로 단시간내에 실시할 수 있으며, 장비의 소형화로 운반이 용이하고 간편하며 저가의 비용으로 생산이 가능한 트위저 세정장치로서 배기구(40) 및 트위저 인입구(50)를 가지고 나머지는 밀폐되어 일정체적을 가지는 하우징(60), 상기 하우징(60) 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구(50)에 인입된 트위저의 상면(10)에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐(70), 상기 노즐(70)에 상기 가스를 공급 또는 차단하는 밸브(80) 및 상기 하우징(60)의 배기구(40)에 설치된 배기팬(100) 또는 부압소스를 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a dry tweezer cleaning apparatus, and more particularly, it is possible to reduce the contamination of the tweezers and particle contamination of the wafer due to the contaminants and defects thereof, and to clean the tweezers in a short time on site. In addition, the tweezers cleaning device which is easy to transport, simple and can be produced at low cost due to the miniaturization of the equipment has an exhaust port 40 and a tweezer inlet 50 and the rest is sealed to have a constant volume housing 60, the housing (60) nozzles 70 which are positioned inside and fixed to inject a gas at a predetermined angle to the upper surface 10 of the tweezers introduced into the tweezer inlet 50, supply or shut off the gas to the nozzle 70 In the dry tweezer cleaning device, characterized in that it comprises a valve 80 and an exhaust fan 100 or a negative pressure source installed in the exhaust port 40 of the housing 60 One will.

건식, 트위저, 세정장치Dry, Tweezers, Washer

Description

건식 트위저 세정장치 {DRY CLEANER OF TWEEZER}Dry Tweezer Cleaner {DRY CLEANER OF TWEEZER}

도 1은 본 발명의 건식 트위저 세정장치의 세정대상이 되는 트위저의 일실시예에 대한 사시도이다.1 is a perspective view of an embodiment of a tweezer to be cleaned of the dry tweezer cleaning device of the present invention.

도 2는 본 발명의 건식 트위저 세정장치의 일실시예에 대한 시스템 개략도이다.2 is a system schematic of one embodiment of a dry tweezer cleaning apparatus of the present invention.

도 3은 본 발명의 건식 트위저 세정장치에 사용되는 노즐의 일실시예에 대한 사시도이다.Figure 3 is a perspective view of one embodiment of a nozzle used in the dry tweezer cleaning apparatus of the present invention.

도 4는 본 발명의 건식 트위저 세정장치에 적용되는 거치대의 일실시예에 대한 사시도이다.Figure 4 is a perspective view of one embodiment of the cradle applied to the dry tweezer cleaning apparatus of the present invention.

도 5는 본 발명의 건식 트위저 세정장치의 트위저와 노즐의 위치관계의 일실시예에 대한 분해 사시도이다.5 is an exploded perspective view of an embodiment of the positional relationship between the tweezer and the nozzle of the dry tweezer cleaning device of the present invention.

도 6은 본 발명의 건식 트위저 세정장치의 일실시예에 대한 사시도이다.Figure 6 is a perspective view of one embodiment of a dry tweezer cleaning apparatus of the present invention.

* 도면의 주요 부호에 대한 설명 *Description of the main symbols in the drawings

5 : 트위저 10 : 트위저 상면5: Tweezer 10: Tweezer Top

20 : 흡입공 30 : 홀더20: suction hole 30: holder

40 : 배기구 50 : 트위저 인입구40: exhaust port 50: tweezer inlet

60 : 하우징 70 : 노즐60 housing 70 nozzle

80 : 밸브 90 : 압력조절기80: valve 90: pressure regulator

100 : 배기팬 110 : 지지대100: exhaust fan 110: support

120 : 거치대 130 : 요홈120: holder 130: groove

140 : 세정관140: cleaning tube

본 발명은 건식 트위저 세정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 트위저의 오염 및 상기 오염물질에 따른 웨이퍼의 파티클 오염 및 이에 의한 불량발생을 제거할 수 있고, 트위저의 세정을 현장에서 바로 단시간내에 실시할 수 있으며, 장비의 소형화로 운반이 용이하고 간편하며 저가의 비용으로 생산이 가능한 건식 트위저 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a dry tweezer cleaning apparatus, and more particularly, it is possible to eliminate the contamination of the tweezers and particle contamination of the wafer due to the contaminants and the occurrence of defects thereof, and to clean the tweezers in a short time on site. The present invention relates to a dry tweezer cleaning apparatus which can be easily transported due to the miniaturization of equipment, and can be produced at low cost.

일반적인 반도체 제조공정에서 작업자가 웨이퍼를 한 장씩 취급하는 경우에는 트위저를 사용하게 되는데 일반적으로는 사용하는 트위저의 형식으로는 진공 트위저가 사용되고 있다. 도 1에는 상기 진공 트위저의 일실시예를 나타내고 있고, 트위저를 사용하는 경우에는 웨이퍼와 트위저 상면의 접촉에 의하여 웨이퍼의 후면의 오염물질이 트위저 상면을 오염시킬 수 있고, 웨이퍼 후면과 트위저 상면과의 충격이나 마찰 등에 의하여 파티클(particle)이 발생하여 이러한 파티클이 트위저 상면을 오염시킬 수도 있다. 또한 작업자의 실수에 의하여 트위저를 오염원에 접촉시키거나 캐리어 박스내의 웨이퍼들의 좁은 간격사이로 트위저를 넣다가 웨이퍼 상면에 접촉시키는 것과 같은 다양한 형태로 트위저를 오염 시킬 수 있다.In a general semiconductor manufacturing process, when a worker handles wafers one by one, a tweezer is used. In general, a vacuum tweezer is used as a type of tweezer. Figure 1 shows an embodiment of the vacuum tweezers, in the case of using a tweezer, by the contact between the wafer and the top of the tweezers contaminants on the back of the wafer may contaminate the top of the tweezers, and the back of the wafer and the top of the tweezers Particles may be generated due to impact or friction, which may contaminate the top surface of the tweezers. In addition, the tweezers can be contaminated in various forms, such as by contacting the tweezers with a source of contamination or by inserting the tweezers between narrow gaps of wafers in the carrier box and touching the top surface of the wafer.

이러한 트위저의 오염은 제조된 반도체 칩의 불량발생의 원인이 되어 제조된 웨이퍼의 수율을 떨어뜨리고 제조된 반도체 칩의 신뢰성을 떨어뜨리게 되는 사고가 자주 발생하고 있는 실정이다.Such contamination of the tweezers is a cause of defects in the manufactured semiconductor chip, which causes a lot of accidents that lower the yield of the manufactured wafer and lower the reliability of the manufactured semiconductor chip.

따라서 오염된 트위저의 세정을 통하여 이러한 문제를 해결하고 있으며 상기 세정에 사용되는 세정방식은 주로 습식세정이 적용되고 있다. 그러나 습식세정의 경우에는 세정에 이용되는 장비가 대규모의 장비이고, 세정 및 건조 단계를 거치기 때문에 전체 세정에 필요로 하는 시간이 많이 걸리는 단점이 있고, 이에 따라 작업라인내의 세정스케줄에 따라 정기적으로 일정 범위의 트위저를 한꺼번에 수거하여 세정이 이루어지고 있다.Therefore, this problem is solved by cleaning the contaminated tweezers, and the cleaning method used for the cleaning is mainly wet cleaning. However, in the case of wet cleaning, the equipment used for cleaning is a large-scale equipment, and since the cleaning and drying steps are required, it takes a lot of time required for the entire cleaning, and accordingly, it is regularly scheduled according to the cleaning schedule in the work line. The tweezers of the range are collected at once and cleaning is performed.

따라서 작업자가 인지할 수 있는 트위저의 오염이 일어난 직후에 또는 작업자가 세정을 원하는 시기에 즉각적으로 세정을 할 수 없으므로 실질적으로 오염이 발생한 트위저를 바로 세정하지 못하고 그대로 사용하여 이후에 진행한 웨이퍼에 대하여 계속적으로 불량을 유발시키는 문제점이 있다.Therefore, it is not possible to immediately clean the tweezers immediately after the worker's perception of the contamination of the tweezers or when the worker wants to clean. Therefore, the wafer that has been processed by using the tweezers that have been contaminated can not be cleaned immediately. There is a problem that continues to cause defects.

상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하고자, 본 발명은 트위저의 사용현장에 바로 배치할 수 있으며, 운반이 용이하도록 소형으로 제작이 가능하며, 단시간내에 세정이 완료되어 현장에서 세정후 즉시 사용이 가능한 트위저 세정장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the problems of the prior art as described above, the present invention can be immediately placed on the site of the use of the tweezers, can be manufactured in a small size for easy transport, and can be used immediately after cleaning in the field is completed in a short time An object of the present invention is to provide a tweezer cleaning device.

또한 본 발명은 작업자가 사용이 간편하고, 저가로 제조가 가능하여 작업현 장에 다수 배치할 수 있는 트위저 세정장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a tweezer cleaning device that can be easily used by the operator, can be manufactured at a low cost and can be arranged in a large number of workplaces.

또한 본 발명은 트위저의 세정시, 다양한 세정방식을 복합하여 보다 효율적으로 세정이 가능하며 웨이퍼의 오염을 방지하고, 수율을 향상시킬 수 있는 트위저 세정장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a tweezer cleaning apparatus capable of cleaning more efficiently by combining various cleaning methods in the cleaning of the tweezers, preventing contamination of the wafer, and improving the yield.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 배기구(40) 및 트위저 인입구(50)를 가지고 나머지는 밀폐되어 일정체적을 가지는 하우징(60), 상기 하우징(60) 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구(50)에 인입된 트위저의 상면(10)에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐(70), 상기 노즐(70)에 상기 가스를 공급 또는 차단하는 밸브(80) 및 상기 하우징(60)의 배기구(40)에 설치된 배기팬(100) 또는 부압소스를 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention has an exhaust port 40 and a tweezer inlet 50 and the rest of the housing 60 has a predetermined volume and is located in the housing 60, and in the tweezer inlet 50. A nozzle 70 fixed to inject gas at a predetermined angle to the upper surface 10 of the drawn tweezers, a valve 80 for supplying or blocking the gas to the nozzle 70 and an exhaust port of the housing 60 It provides a dry tweezer cleaning device characterized in that it comprises an exhaust fan 100 or a negative pressure source installed in 40.

이하 도면을 참고하여 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 건식 트위저 세정장치는 배기구(40) 및 트위저 인입구(50)를 가지고 나머지는 밀폐되어 일정체적을 가지는 하우징(60), 상기 하우징(60) 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구(50)에 인입된 트위저의 상면(10)에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐(70), 상기 노즐(70)에 상기 가스를 공급 또는 차단하는 밸브(80) 및 상기 하우징(60)의 배기구(40)에 설치된 배기팬(100) 또는 부압소스를 포함한다.Dry tweezer cleaning device of the present invention has an exhaust port 40 and the tweezer inlet 50 and the rest is sealed in the housing 60 having a certain volume, the inside of the housing 60, the inlet to the tweezer inlet 50 A nozzle 70 fixed to inject gas at a predetermined angle on the upper surface 10 of the tweezers, a valve 80 for supplying or blocking the gas to the nozzle 70, and an exhaust port 40 of the housing 60. It includes an exhaust fan 100 or a negative pressure source installed in).

본 발명의 세정대상이 되는 트위저는 반도체 제조공정에 적용되는 다양한 형태의 트위저를 포함하고, 특히, 도 1에 일실시예로 나타낸 진공 트위저(5)가 그 대 상이 된다.The tweezers to be cleaned of the present invention include various types of tweezers applied to a semiconductor manufacturing process, and in particular, the vacuum tweezers 5 shown in FIG.

상기 하우징(60)은 도 2에 일실시예에 대한 개략도로 나타낸 바와 같이 배기구(40)와 트위저 인입구(50)를 제외하고는 기밀을 유지할 수 있도록 한다. 이는 트위저(5)의 세정중에 가스의 분사에 의해 트위저(5)로부터 분리되는 오염물질이 공정라인내로 비산되지 않도록 하여, 세정에 따라 야기될 수 있는 2차 오염을 방지할 수 있다. 따라서 오염물질을 바로 오염물질 제거 장치 등이 위치한 곳으로 배출할 수 있는 배기구(40)와 트위저의 세정을 위하여 트위저(5)를 인입하도록 하는 트위저 인입구(50)를 제외하고는 나머지는 밀폐되도록 한다.The housing 60 allows for airtightness, with the exception of the vent 40 and the tweezer inlet 50, as shown in the schematic diagram of one embodiment in FIG. This ensures that contaminants separated from the tweezers 5 by the injection of gas during the cleaning of the tweezers 5 do not scatter into the process line, thereby preventing secondary contamination that may be caused by the cleaning. Therefore, except for the tweezer inlet 50 which allows the tweezers 5 to be introduced for the cleaning of the tweezers and the exhaust port 40 capable of immediately discharging the pollutants to the place where the pollutant removal device is located, the rest is to be sealed. .

상기 하우징(60)에는 사용의 편의 및 가스분사시 분사 가스가 정확하게 트위저 상면(10)의 필요한 부분에 분사되도록 하여 세정을 더욱 효과적으로 하기 위해서는 도 2와 도 4에 나타낸 바와 같이 상기 하우징(60)의 트위저 인입구(50)는 하부에 트위저의 거취를 위한 거취대(120)를 가지도록 구성할 수 있고, 상기 거취대(120)는 그 상부에 트위저 거취를 위한 요홈(130)을 가지고, 상기 하우징(60)의 내부 하면에 트위저 하면을 지지하는 지지대(110)를 더 포함하도록 구성할 수 있다. 상기 요홈(130)과 지지대(110)를 통하여 세정중의 트위저(5)는 안전하게 고정되고, 정확한 위치에 가스가 분사되어 세정이 효율적으로 이루어지도록 한다.In the housing 60, in order to facilitate the use and to ensure that the injection gas is accurately injected to the necessary portion of the upper surface of the tweezer 10 during gas injection, the cleaning of the housing 60 may be performed as shown in FIGS. 2 and 4. The tweezer inlet 50 may be configured to have a catch 120 for the removal of the tweezers at the bottom, the catch 120 has a groove 130 for the tweezer removal, the housing 60 It may be configured to further include a support 110 for supporting the bottom surface of the tweezers. The tweezers 5 being cleaned through the groove 130 and the support 110 are securely fixed, and the gas is injected at the correct position so that the cleaning can be efficiently performed.

이 경우에 상기 지지대(110) 및 거치대(120)는 테프론으로 제작하여 세정중에 트위저(50)의 하면과 지지대(110) 및 거치대(120)의 접촉시 형성될 수 있는 파티클(particle) 형성을 최소화하도록 하는 것이 바람직하다. 또한 상기 지지대(110)는 본 발명의 건식 트위저 세정장치를 통하여 트위저(5) 하면의 세정도 원하는 경우에는 세정중인 트위저(5)가 전체적으로 지지되지 않고 트위저(5) 하면의 상/하단 또는 좌/우측단과 같이 일부만 접촉하여 트위저(5)를 지지하고, 나머지는 개방되도록 구성할 수 있다.In this case, the support 110 and the holder 120 are made of Teflon to minimize the formation of particles (particles) that can be formed when the bottom of the tweezers 50 and the support 110 and the holder 120 during cleaning It is desirable to. In addition, when the support 110 is also desired to clean the bottom surface of the tweezers 5 through the dry tweezer cleaning apparatus of the present invention, the tweezers 5 being cleaned are not supported entirely, and the top / bottom or the left / right side of the bottom of the tweezers 5 is not supported. The tweezers 5 may be supported by contacting only a part of the right end, and the rest may be opened.

상기 트위저(5)의 세정에 사용되는 가스는 일정한 압력으로 대기압 이상으로 압축된 기체로서 상기 가스는 다양한 종류의 가스가 사용될 수 있고, 바람직하게는 공기, 질소가스 또는 불활성 가스를 사용할 수 있다. 압축공기의 경우는 공정라인내에서 용이하게 직접이용이 가능하므로 저가의 비용으로 이용할 수 있는 장점이 있고, 불활성 가스의 경우는 반도체 제조공정내의 오염물질은 반응성이 강한 물질로 이루어질 가능성이 높으므로 2차적인 반응을 억제하기 위하여 불활성 가스를 사용하는 것이 좋다. 더욱 바람직하게는 저가에 이용이 용이하고, 반응성이 낮아 일정정도 이상의 불활성 기능을 할 수 있는 질소가스를 사용하는 것이 좋다.The gas used for cleaning the tweezers 5 is a gas compressed to a pressure higher than atmospheric pressure at a constant pressure, and various gases may be used. Preferably, air, nitrogen gas, or inert gas may be used. In the case of compressed air, it can be used directly in the process line, so it can be used at low cost. In the case of inert gas, contaminants in the semiconductor manufacturing process are likely to be made of highly reactive materials. It is preferable to use an inert gas to suppress the secondary reaction. More preferably, it is preferable to use nitrogen gas which is easy to use at low cost and has low reactivity, which can function to a certain degree of inert function.

상기 압축된 가스를 분사하는 노즐(70)은 상기 하우징(60) 내부에 위치하여 압축 가스를 상기 하우징(60) 내부에 인입된 트위저의 상면(10)에 분사하여 트위저 상면(10)의 오염물질을 비산시켜 트위저(5)를 세정하도록 한다. 상기 노즐(70)의 형태는 구멍이 하나인 노즐, 방사형 노즐 등의 다양한 형태의 노즐을 사용할 수 있고 바람직하게는 트위저 상면(10)의 형상을 고려할 때 넓은 면적에 고르게 분사되는 것이 필요하므로 도 3에 나타낸 바와 같은 다수의 노즐구멍이 일직선 형태로 배열된 형태가 좋고, 상기 일렬로 배치된 다수의 노즐구멍은 상기 트위저 인입구(50)에 인입된 트위저 상면(10)에 평행하고 트위저 홀더(30)방향에 수직한 직선상에 놓 이는 것이 좋다.The nozzle 70 for injecting the compressed gas is positioned inside the housing 60 to spray the compressed gas onto the upper surface 10 of the tweezer introduced into the housing 60 to contaminate the upper surface of the tweezer 10. To clean the tweezers 5. The shape of the nozzle 70 may be a nozzle of a variety of shapes, such as a one-hole nozzle, a radial nozzle and the like, and preferably in consideration of the shape of the tweezer top surface 10 it is required to be evenly sprayed over a large area Figure 3 It is preferable that a plurality of nozzle holes are arranged in a straight line as shown in the drawing, and the plurality of nozzle holes arranged in a line is parallel to the tweezer upper surface 10 introduced into the tweezer inlet 50 and the tweezer holder 30 It is better to lie on a straight line perpendicular to the direction.

또한 상기 노즐(70)과 트위저의 상면(10)은 일정한 각을 이루어 상기 노즐(70)에서 분사된 가스가 트위저 상면(10)의 오염물질을 잘 떨어뜨릴 수 있도록 하는 것이 좋다. 바람직하게는 도 5에 나타낸 바와 같이 트위저 상면(10)과 노즐(70)이 예각을 이루어 트위저 상면(10)의 오염물질을 사방으로 비산시키지 않고 일정한 방향으로 불어낼 수 있도록 하고, 더욱 바람직하게는 상기 노즐(70)의 분사방향에 배기구(40)가 위치하도록 하여 불어내어진 오염물질이 2차 오염을 발생시키지 않고 곧 바로 배기구(40)로 배출될 수 있도록 하는 것이 좋다.In addition, the nozzle 70 and the upper surface 10 of the tweezers may be formed at a predetermined angle so that the gas injected from the nozzle 70 may drop contaminants on the upper surface of the tweezer 10 well. Preferably, as shown in FIG. 5, the tweezer top surface 10 and the nozzle 70 are acute to allow the contaminants on the tweezer top surface 10 to be blown in a predetermined direction without scattering in all directions, more preferably. Exhaust port 40 is positioned in the spraying direction of the nozzle 70 so that the blown pollutants can be immediately discharged to the exhaust port 40 without generating secondary pollution.

또한 일반적으로는 웨이퍼와 접촉이 많은 트위저 상면(10)에 오염물질이 집중되므로 상면의 세정만으로 충분하나, 필요에 따라 트위저 상면(10)의 오염물질뿐만 아니라 트위저 하면의 오염물질도 함께 제거하고자 하는 경우에는 상기 하우징(60) 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구(50)에 인입된 트위저(5)의 하면에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐(70)을 더 포함하도록 구성할 수 있다. 이 경우에 사용되는 지지대(110)는 상기 기술한 부분적으로만 트위저(5)와 접촉되는 형상의 지지대(110)를 사용한다.In addition, since contaminants are concentrated on the top surface of the tweezers 10 having a lot of contact with the wafer, cleaning of the top surface is sufficient, but if necessary, the contaminants on the top surface of the tweezers 10 as well as the contaminants on the bottom of the tweezers In this case, it may be configured to further include a nozzle 70 located inside the housing 60 and fixed to inject a gas at a predetermined angle on the lower surface of the tweezers 5 introduced into the tweezer inlet 50. The support 110 used in this case uses the support 110 of the shape in contact with the tweezers 5 only partially described above.

또한 트위저(5) 내부 및 트위저 흡입공(20)내의 세정도 함께 진행하고자 하는 경우에는 도 2에 나타낸 바와 같이 상기 밸브(80)와 노즐(70)사이의 연결관에서 분기되어 끝단에는 상기 트위저의 홀더(30) 끝단과 연결할 수 있는 결합구를 구비한 세정관(140)을 더 포함하도록 구성할 수 있다. 상기 세정관(140)을 이용하여 트위저(5)의 세정시에 트위저의 홀더(30) 끝단을 상기 결합구를 이용하여 상기 세 정관(140)과 연결하고 세정을 시작하면 트위저(5) 내부에도 상기 가스가 분사되어 트위저(5) 내부의 오염물질도 함께 배출되어 내부세정도 가능하다.In addition, when the cleaning of the inside of the tweezers 5 and the tweezer suction hole 20 is to be carried out together, as shown in FIG. 2, the branch of the tweezer is branched from the connection pipe between the valve 80 and the nozzle 70. It may be configured to further include a cleaning tube 140 having a coupler that can be connected to the end of the holder (30). When the tweezers 5 are cleaned using the cleaning tube 140, the ends of the tweezers holder 30 are connected to the tubular tube 140 using the coupler, and the cleaning is started. The gas is injected and the pollutants inside the tweezers 5 are also discharged to allow internal cleaning.

본 발명의 건식 트위저 세정장치는 밸브(80)를 포함한다. 상기 밸브(80)는 상기 압축가스가 상기 기술한 노즐(70)에 의하여 분사되는 시간을 조절하기 위하여 상기 가스의 공급 또는 차단하는 역할을 한다. 상기 밸브(80)는 공지의 다양한 형태의 밸브가 사용될 수 있고, 특히 제어부에 의하여 전자적으로 제어되기 위해서는 솔레노이드 밸브를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 상기 압축가스의 공급라인에는 일정한 압력으로 세정이 이루어질 수 있도록 하기 위하여 도 2에 나타낸 바와 같이 상기 밸브(80)의 입력전단에는 압력조절기가 연결되어지는 것이 바람직하다.Dry tweezer cleaning device of the present invention includes a valve (80). The valve 80 serves to supply or shut off the gas in order to adjust the time for which the compressed gas is injected by the nozzle 70 described above. The valve 80 may be a valve of various known forms, and in particular, it is preferable to use a solenoid valve in order to be electronically controlled by the controller. In addition, it is preferable that a pressure regulator is connected to the input front end of the valve 80 as shown in FIG. 2 so that the compressed gas can be cleaned at a constant pressure.

상기 하우징(60)의 배기구(40)는 세정장치내에서 세정에 의하여 발생한 오염물질을 배출하는 역할을 하는데 이의 원활한 배출을 위하여 상기 배기구(40)에는 배기팬(100) 또는 부압소스가 연결된다. 이를 통하여 오염물질의 원활한 배출이 가능하고 특히 부압소스의 경우는 공정라인에서 쉽게 이용이 가능하고, 일반적인 부압소스는 가스정화장치와 연결되므로 오염물질의 배출뿐만 아니라 이의 처리까지 함께 할 수 있다. 또한, 이러한 가스정화장치가 없는 경우에는 상기 배기구(40)의 후단에 가스정화장치를 더 포함하도록 구성할 수 있다.The exhaust port 40 of the housing 60 serves to discharge contaminants generated by cleaning in the cleaning device. In order to smoothly discharge the exhaust port 40, an exhaust fan 100 or a negative pressure source is connected to the exhaust port 40. Through this, it is possible to discharge the pollutants smoothly, and especially in the case of the negative pressure source can be easily used in the process line, the general negative pressure source is connected to the gas purifier, so that not only the discharge of pollutants but also the treatment thereof. In addition, when there is no such gas purifying device, it may be configured to further include a gas purifying device at the rear end of the exhaust port (40).

또한, 상기의 건식 트위저 세정장치에 복합적인 세정방식을 추가하여 세정 효율을 높이고자하는 경우에는 도 2에 나타낸 바와 같이 상기 하우징(60)의 내부에 상기 트위저 인입구(50)에 인입된 트위저 상면(10)을 조사하는 자외선 램프(UV Lamp)를 더 포함하도록 구성할 수 있고, 이에 부가하여 자외선 램프에 의한 트위저 하면의 세정도 함께 원할 경우에는 트위저 하면을 조사하는 자외선 램프를 추가할 수도 있다.In addition, in order to increase the cleaning efficiency by adding a complex cleaning method to the dry tweezer cleaning device, as shown in FIG. 2, the upper surface of the tweezer drawn into the tweezer inlet 50 inside the housing 60 ( 10) may be configured to further include a UV lamp for irradiating, and in addition to this, if you want to clean the bottom of the tweezer by the ultraviolet lamp may also be added to the ultraviolet lamp for irradiating the bottom of the tweezers.

또한 일정한 시간동안 세정이 가능하도록 하거나, 자동적으로 세정을 진행하고자 하는 경우에는 상기 건식 트위저 세정장치에서, 상기 밸브는 솔레노이드 밸브로 구성하고, 상기 솔레노이드 밸브와 자외선 램프를 온/오프 제어하여 세정시간을 조절하는 제어부를 더 포함하도록 상기 건식 트위저 세정장치를 구성할 수 있다. 이를 통하여 제어부의 조작에 따라 트위저의 세정이 자동 제어될 수 있고, 도 6에 표시한 조작 패널을 이용하여 세정장치를 제어할 수 있을 뿐만 아니라, 세정장치의 동작상태를 작업자가 인지할 수 있다.In addition, in the dry tweezer cleaning apparatus, the valve is configured as a solenoid valve, and the cleaning time is controlled by turning on / off the solenoid valve and the ultraviolet lamp in the dry tweezer cleaning apparatus. The dry tweezer cleaning apparatus may be configured to further include a control unit for adjusting. Through this, the cleaning of the tweezers can be automatically controlled according to the operation of the control unit, the cleaning device can be controlled using the operation panel shown in FIG. 6, and the operator can recognize the operation state of the cleaning device.

이와 같이 구성된 본 발명의 건식 트위저 세정장치의 일실시예는 도 6에 나타낸 바와 같이 구성할 수 있고, 상기 일실시예에 따라 본 발명의 작동을 설명하면 아래와 같다.One embodiment of the dry tweezer cleaning device of the present invention configured as described above can be configured as shown in Figure 6, when explaining the operation of the present invention according to the embodiment as follows.

먼저, 작업자는 트위저(5)의 세정을 원하는 경우에 트위저 인입구(50)에 트위저(5)의 상면(10)이 위로 향하도록 트위저(5)를 인입하여 상기 지지대(110) 상에 트위저의 하면이 접촉하여 지지되도록 하고, 트위저의 홀더(30) 부분이 거치대(120)의 요홈(130)에 안착되도록 한다. 또한, 상기 노즐(70)이 하나만 있는 경우에서, 트위저(5)의 하면을 세정하고자 하는 경우에는 트위저(5)의 하면을 위로 향하게 하여 트위저(5)를 인입할 수도 있다. 또한, 필요에 따라서는 트위저 홀더(30)의 끝단에 세정관(140)을 상기 결합구를 이용하여 결합하도록 한다. 이후에 제어부의 스위치를 키거나, 상기 요홈(130) 등에 스위치를 설치하여 트위저(5) 를 거치하면 자동으로 트위저(5) 인입을 인식하여 스위치가 켜지도록 한다. 스위치가 켜지면 배기팬(100)과 자외선 램프가 먼저 켜지고 이후에 상기 솔레노이드 밸브가 열리면서 질소가스가 상기 노즐(70)(필요에 따라서는 세정관(140)을 포함)을 통하여 분사되고, 상기 분사는 일정시간 계속해서 분사될 수도 있고, 단속적으로 여러 회에 걸쳐서 분사될 수도 있다. 상기 분사가 완료되면 제어 패널에 작업완료 표시가 표시되고, 작업자는 상기 트위저(5)를 상기 인입구(50)로부터 꺼내게 된다. 상기 자외선 램프와 배기팬(100)은 는 질소가스 분사종료와 함께, 또는 분사종료후 일정시간 더 켜져 있다가 꺼지도록 프로그램 할 수도 있고, 거치대(120)의 요홈(130) 등에 스위치를 비치한 경우에는 세정장치로부터 트위저(5)가 제거될 때에 상기 자외선 램프와 배기팬(100)이 꺼지도록 프로그램 할 수도 있다.First, when the operator wants to clean the tweezers 5, the operator inserts the tweezers 5 into the tweezer inlet 50 so that the top surface 10 of the tweezers 5 faces upward, and the bottom of the tweezers on the support 110. This contact is supported, and the holder 30 of the tweezers is to be seated in the groove 130 of the holder (120). In addition, when there is only one nozzle 70, when the bottom surface of the tweezers 5 is to be cleaned, the tweezers 5 may be introduced with the bottom surface of the tweezers 5 facing upward. In addition, if necessary, the cleaning tube 140 is coupled to the end of the tweezer holder 30 by using the coupler. Thereafter, when the switch of the control unit is turned on or the switch 130 is installed in the groove 130 to pass through the tweezer 5, the switch automatically recognizes the inlet of the tweezer 5 so that the switch is turned on. When the switch is turned on, the exhaust fan 100 and the ultraviolet lamp are turned on first, after which the solenoid valve is opened, and nitrogen gas is injected through the nozzle 70 (including the cleaning tube 140 as necessary). May be sprayed continuously for a period of time, or may be sprayed several times intermittently. When the injection is completed, a work completion indication is displayed on the control panel, and the operator takes out the tweezers 5 from the inlet 50. The ultraviolet lamp and the exhaust fan 100 may be programmed to be turned on and off for a predetermined time after the end of the injection of nitrogen gas, or after the end of the injection, or the switch is provided with the groove 130 of the holder 120. The ultraviolet lamp and the exhaust fan 100 can be programmed to turn off when the tweezers 5 are removed from the cleaning device.

본 발명의 건식 트위저 세정장치는 소형으로 제작이 가능하여 설치에 필요한 공간이 적으므로 설치가 용이하고 이에 따라 트위저의 사용현장에 직접 설치할 수 있으며, 필요에 따라 운반이 용이하므로 적재적소에서 사용이 가능하다.The dry tweezer cleaning device of the present invention can be manufactured in a small size, so there is little space required for installation, so it is easy to install and can be installed directly at the site of use of the tweezers. Do.

또한 본 발명은 건식 세정장치로서 건조단계가 필요하지 않고, 단시간내에 세정이 완료되어 현장에서 세정후 즉시 사용이 가능한 장점이 있다.In addition, the present invention does not require a drying step as a dry cleaning device, the cleaning is completed in a short time has the advantage that can be used immediately after cleaning in the field.

또한 본 발명은 위험물질의 사용 없이, 자동제어를 통하여 세정이 이루어지므로 작업자가 사용이 간편하고, 저가로 제조가 가능하여 작업현장에 다수 배치할 수 있어 트위저의 오염을 필요시 즉각적으로 처리할 수 있고 이를 통하여 공정라인내의 웨이퍼 오염을 최소화할 수 있다. In addition, the present invention is easy to use and can be manufactured at low cost because the cleaning is done through automatic control without the use of dangerous substances can be disposed on the work site a large number can be immediately processed when the contamination of the tweezers This can minimize wafer contamination in the process line.                     

또한 본 발명은 트위저의 세정시, 반응성이 없는 압축가스 분사와 자외선 램프를 복합하여 적용함으로써 보다 효율적으로 세정이 가능하며 이를 통하여 웨이퍼 및 공정라인의 오염을 방지하고, 불량률을 최소화하여 수율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, the present invention can be cleaned more efficiently by applying a combination of inert compressed gas injection and ultraviolet lamp when cleaning the tweezers, thereby preventing contamination of the wafer and the process line, to minimize the defective rate to improve the yield There are advantages to it.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 한정되는 것은 아니고, 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 해당 기술분야의 당업자가 다양하게 수정 및 변경시킨 것 또한 본 발명의 범위 내에 포함됨은 물론이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and various modifications and changes made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. Changes are also included within the scope of the invention.

Claims (10)

삭제delete 배기구 및 트위저 인입구를 가지고 나머지는 밀폐되어 일정체적을 가지는 하우징;A housing having an exhaust port and a tweezer inlet, the remainder being closed and having a constant volume; 상기 하우징 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구에 인입된 트위저의 상면에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐;A nozzle positioned inside the housing and fixed to inject a gas at a predetermined angle on an upper surface of the tweezer introduced into the tweezer inlet; 상기 노즐에 상기 가스를 공급 또는 차단하는 밸브; 및 A valve for supplying or blocking the gas to the nozzle; And 상기 하우징의 배기구에 설치된 부압소스를 포함하고,A negative pressure source installed at an exhaust port of the housing, 상기 하우징의 트위저 인입구는 트위저 거취를 위한 요홈을 가지고, 상기 하우징의 내부 하면에 트위저 하면을 지지하는 지지대를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치.The tweezer inlet of the housing has a groove for tweezer taking, and further comprises a support for supporting the bottom of the tweezer on the inner bottom of the housing. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 지지대는 테프론으로 이루어진 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치.Drying tweezers cleaning device characterized in that the support is made of Teflon. 배기구 및 트위저 인입구를 가지고 나머지는 밀폐되어 일정체적을 가지는 하우징;A housing having an exhaust port and a tweezer inlet, the remainder being closed and having a constant volume; 상기 하우징 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구에 인입된 트위저의 상면에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐;A nozzle positioned inside the housing and fixed to inject a gas at a predetermined angle on an upper surface of the tweezer introduced into the tweezer inlet; 상기 노즐에 상기 가스를 공급 또는 차단하는 밸브; 및 A valve for supplying or blocking the gas to the nozzle; And 상기 하우징의 배기구에 설치된 부압소스를 포함하고,A negative pressure source installed at an exhaust port of the housing, 상기 가스는 대기압 이상의 질소가스인 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치.Dry gas tweezers cleaning apparatus, characterized in that the gas is at least atmospheric pressure nitrogen gas. 배기구 및 트위저 인입구를 가지고 나머지는 밀폐되어 일정체적을 가지는 하우징;A housing having an exhaust port and a tweezer inlet, the remainder being closed and having a constant volume; 상기 하우징 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구에 인입된 트위저의 상면에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐;A nozzle positioned inside the housing and fixed to inject a gas at a predetermined angle on an upper surface of the tweezer introduced into the tweezer inlet; 상기 노즐에 상기 가스를 공급 또는 차단하는 밸브; 및 A valve for supplying or blocking the gas to the nozzle; And 상기 하우징의 배기구에 설치된 부압소스를 포함하고,A negative pressure source installed at an exhaust port of the housing, 상기 노즐은 직선상에 일렬로 배치된 다수의 노즐구멍을 가지는 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치.And said nozzle has a plurality of nozzle holes arranged in a line on a straight line. 배기구 및 트위저 인입구를 가지고 나머지는 밀폐되어 일정체적을 가지는 하우징;A housing having an exhaust port and a tweezer inlet, the remainder being closed and having a constant volume; 상기 하우징 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구에 인입된 트위저의 상면에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐;A nozzle positioned inside the housing and fixed to inject a gas at a predetermined angle on an upper surface of the tweezer introduced into the tweezer inlet; 상기 노즐에 상기 가스를 공급 또는 차단하는 밸브; 및 A valve for supplying or blocking the gas to the nozzle; And 상기 하우징의 배기구에 설치된 부압소스를 포함하고,A negative pressure source installed at an exhaust port of the housing, 상기 하우징 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구에 인입된 트위저의 하면에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치.Drying tweezers cleaning device characterized in that it further comprises a nozzle which is located inside the housing, and fixed to inject a gas at a predetermined angle on the lower surface of the tweezer introduced into the tweezer inlet. 배기구 및 트위저 인입구를 가지고 나머지는 밀폐되어 일정체적을 가지는 하우징;A housing having an exhaust port and a tweezer inlet, the remainder being closed and having a constant volume; 상기 하우징 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구에 인입된 트위저의 상면에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐;A nozzle positioned inside the housing and fixed to inject a gas at a predetermined angle on an upper surface of the tweezer introduced into the tweezer inlet; 상기 노즐에 상기 가스를 공급 또는 차단하는 밸브; 및 A valve for supplying or blocking the gas to the nozzle; And 상기 하우징의 배기구에 설치된 부압소스를 포함하고,A negative pressure source installed at an exhaust port of the housing, 상기 밸브와 노즐사이의 연결관에서 분기되어 끝단에는 상기 트위저의 홀더 끝단과 연결할 수 있는 결합구를 구비한 세정관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치.Drying tweezers cleaning device, characterized in that further comprising a cleaning pipe branched from the connecting pipe between the valve and the nozzle having a coupling hole that can be connected to the holder end of the tweezers. 배기구 및 트위저 인입구를 가지고 나머지는 밀폐되어 일정체적을 가지는 하우징;A housing having an exhaust port and a tweezer inlet, the remainder being closed and having a constant volume; 상기 하우징 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구에 인입된 트위저의 상면에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐;A nozzle positioned inside the housing and fixed to inject a gas at a predetermined angle on an upper surface of the tweezer introduced into the tweezer inlet; 상기 노즐에 상기 가스를 공급 또는 차단하는 밸브; 및 A valve for supplying or blocking the gas to the nozzle; And 상기 하우징의 배기구에 설치된 부압소스를 포함하고,A negative pressure source installed at an exhaust port of the housing, 상기 배기구의 후단 출구에 가스정화장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치.And a gas purifier at a rear outlet of the exhaust port. 배기구 및 트위저 인입구를 가지고 나머지는 밀폐되어 일정체적을 가지는 하우징;A housing having an exhaust port and a tweezer inlet, the remainder being closed and having a constant volume; 상기 하우징 내부에 위치하고, 상기 트위저 인입구에 인입된 트위저의 상면에 일정한 각을 이루며 가스를 분사하도록 고정된 노즐;A nozzle positioned inside the housing and fixed to inject a gas at a predetermined angle on an upper surface of the tweezer introduced into the tweezer inlet; 상기 노즐에 상기 가스를 공급 또는 차단하는 밸브; 및 A valve for supplying or blocking the gas to the nozzle; And 상기 하우징의 배기구에 설치된 부압소스를 포함하고,A negative pressure source installed at an exhaust port of the housing, 상기 하우징의 내부에 상기 트위저 인입구에 인입된 트위저 상면을 조사하는 자외선 램프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치.And a UV lamp for irradiating the upper surface of the tweezer inserted into the tweezer inlet into the housing. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 밸브는 솔레노이드 밸브이고, 상기 솔레노이드 밸브와 자외선 램프를 온/오프 제어하여 세정시간을 조절하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 트위저 세정장치.The valve is a solenoid valve, dry tweezer cleaning device, characterized in that further comprising a control unit for controlling the cleaning time on / off the solenoid valve and the ultraviolet lamp.
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