KR100582798B1 - Film capacitor and lead wire - Google Patents

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KR100582798B1
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마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 전자 부품은, 외부 인출용 리드선으로서 평균 두께가 10Å 내지 1000Å의 균일한 이형(mold release)성(離型性)의 수지 피막이 형성된 리드선을 사용하고 있다. 상기 수지 피막은 액상 수지 또는 수지를 용제로 희석한 용액에 리드선을 직접 침지한 후, 용제를 제거하고, 그 후 리드선을 가열하여 형성한다. 본 발명의 리드선의 다른 제조 방법에서는, 리드선의 제조 공정의 도중에 연속적으로 이형성의 수지 피막이 형성된다. 본 발명의 리드선을 사용하면, 전자 부품의 접속 신뢰성이 향상된다. 특히 필름 콘덴서에 있어서, 내(耐)전압 향상과 리드선의 전자 기기 단자로의 접속 신뢰성이 높아진다고 하는 효과를 갖는다. The electronic component of this invention uses the lead wire in which the resin film of uniform mold release property of average thickness of 10 micrometers-1000 micrometers was formed as a lead wire for external drawing. The said resin film is formed by directly immersing a lead wire in the liquid resin or the solution which diluted the resin with the solvent, removing a solvent, and heating a lead wire after that. In another manufacturing method of the lead wire of this invention, the resin film of a releasability is formed continuously in the middle of the manufacturing process of a lead wire. Using the lead wire of this invention improves the connection reliability of an electronic component. In particular, the film capacitor has the effect of improving the withstand voltage and increasing the connection reliability of the lead wire to the electronic device terminal.

Description

전자 부품, 그에 사용되는 리드선 및 리드선의 제조 방법, 및 전자 부품의 제조 방법{FILM CAPACITOR AND LEAD WIRE} Electronic component, lead wire and lead wire manufacturing method, and manufacturing method of electronic component {FILM CAPACITOR AND LEAD WIRE}             

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 전극 인출용 리드선의 단면도,1 is a cross-sectional view of the lead wire for electrode extraction according to an embodiment of the present invention,

도 2는 종래의 리드선 표면과 본 발명의 일 실시예에 따른 리드선 표면에 부착된 액상 에폭시 수지의 습윤 상태의 비교를 도시한 도면,2 is a view showing a comparison between the conventional lead wire surface and the wet state of the liquid epoxy resin attached to the lead wire surface according to an embodiment of the present invention,

도 3은 실리콘 피막 두께와 리드선의 발(撥)에폭시 수지성 및, 납땜성과의 관계를 도시한 도면,3 is a diagram showing the relationship between the thickness of the silicon film and the epoxy resin of the lead wire and the solderability;

도 4a는 본 발명의 실시예에 사용되는 폴리실록산의 구조를 도시한 도면,Figure 4a is a view showing the structure of a polysiloxane used in the embodiment of the present invention,

도 4b는 본 발명의 실시예에 사용되는 다른 폴리실록산의 구조를 도시한 도면,Figure 4b is a view showing the structure of another polysiloxane used in the embodiment of the present invention,

도 5는 본 발명의 일실시예에 사용되는 실리콘 수지의 구조를 도시한 도면,5 is a view showing the structure of a silicone resin used in one embodiment of the present invention,

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 리드선의 제조 방법을 도시한 도면,6 is a view showing a method of manufacturing a lead wire according to an embodiment of the present invention;

도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 리드선의 제조 방법을 도시한 도면,7 is a view showing a method of manufacturing a lead wire according to an embodiment of the present invention;

도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 콘덴서의 구성을 도시한 도면,8 is a view showing the configuration of a capacitor according to an embodiment of the present invention;

도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 콘덴서의 제조 방법을 도시한 도면,9 is a view showing a manufacturing method of a capacitor according to an embodiment of the present invention;

도 10은 종래의 고압용 필름 콘덴서의 구성을 도시한 도면,10 is a view showing the configuration of a conventional high pressure film capacitor,

도 11은 종래의 고압용 필름 콘덴서의 권취후의 외관도,11 is an external view after winding of a conventional high pressure film capacitor;

도 12는 종래의 고압용 필름 콘덴서의 등가 회로를 도시한 도면,12 is a view showing an equivalent circuit of a conventional high pressure film capacitor,

도 13은 종래의 고압용 필름 콘덴서의 함침 수지로의 침지를 도시한 도면.Fig. 13 is a view showing immersion in impregnating resin of a conventional high pressure film capacitor.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings

1a, 1b; 유전체 필름 2a, 2b, 2c, 2d; 전극1a, 1b; Dielectric films 2a, 2b, 2c, 2d; electrode

3a, 3b; 리드선 4a, 4b; 용접부3a, 3b; Lead wires 4a and 4b; Weld

본 발명은 리드선이 부착되어 있는 전자 부품, 특히 리드선이 부착되어 있는 콘덴서 및 그 콘덴서에 사용되는 리드선과 그 제조 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic component having a lead wire, in particular a capacitor having a lead wire, a lead wire used for the capacitor, and a manufacturing method thereof.

종래부터 리드선이 부착되어 있는 전자 부품이 많이 사용되고 있다. 이들 전자 부품은 일반적으로 절연이나 소자 보호를 목적으로, 에폭시 수지 등의 절연 수지로 덮여 있는 것이 많다. 2. Description of the Related Art Conventionally, many electronic components to which lead wires are attached have been used. These electronic components are generally covered with insulating resins such as epoxy resins for the purpose of insulation or device protection.

종래의 전자 부품의 일례로서, 리드선이 부착되어 있는 고전압용 콘덴서의 구성을 도 10에 도시하고 있다. 종래의 콘덴서는 유전체 필름(1a)의 양면에 금속박, 혹은 증착에 의해 형성한 금속층으로 이루어지는 전극(2a, 2b)을 소정의 간격을 유지하면서 배치되어 있다. 이들 금속층으로 이루어지는 전극(2a, 2b)은 각각 절연된 전극으로서 배치되며, 또한 전극(2b)은 유전체 필름(1a)의 다른 한 쪽의 면의 서로 인접하는 2개의 금속층으로 이루어지는 전극(2c, 2d)과 대향하도록 배치되어 있다. 외부로의 단자의 인출은, 권취 개시부 및 권취 종료부에서, 전극 표면에 리드선(3a, 3b)을 용접하여 행해진다. 전극과 리드선과의 전기적 접속은 용접부(4a, 4b)에서 행해진다. 종래의 콘덴서는 이상과 같이 구성한 유전체 필름(1a)과 다른 한 쪽의 유전체 필름(1b)을 겹쳐서 감아 놓은 것으로, 도 11에 도시하는 바와 같이 제품의 양단부 또는 한 쪽의 단부로부터 리드선을 외부로 도출하는 구조를 갖고 있다. As an example of the conventional electronic component, the structure of the high voltage capacitor with a lead wire is shown in FIG. Conventional capacitors are disposed on both surfaces of the dielectric film 1a, with electrodes 2a and 2b made of metal foil or metal layers formed by evaporation at predetermined intervals. The electrodes 2a and 2b made of these metal layers are arranged as insulated electrodes, respectively, and the electrodes 2b are made of two metal layers adjacent to each other on the other side of the dielectric film 1a. It is arranged to face). The extraction of the terminal to the outside is performed by welding the lead wires 3a and 3b to the electrode surface at the winding start section and the winding end section. Electrical connection between the electrode and the lead wire is performed at the weld portions 4a and 4b. In the conventional capacitor, the dielectric film 1a constructed as described above and the other dielectric film 1b are stacked and wound, and as shown in FIG. 11, the lead wire is drawn out from both ends or one end of the product. Has a structure to

이러한 종류의 콘덴서에 사용되는 리드선은 동선 또는 강선을 원선(原線) 소재로서, 표면에 석단체(주석단체) 또는 석연(주석-납) 땜납 등이 수 ㎛ ∼ 수 십 ㎛의 두께로 형성된 전자 부품용 범용 리드선이며, 콘덴서의 용도에 따라 원선 소재, 표면 금속이 선택된다. Lead wire used in this type of capacitor is a copper wire or steel wire as a raw material, and the electrons formed with a thickness of several micrometers to several tens of micrometers or tin (lead-lead) solder on the surface This is a general-purpose lead wire for components, and raw material and surface metal are selected according to the use of the capacitor.

상기한 바와 같이 구성된 콘덴서는, 등가적으로 도 12에 도시한 바와 같이, 콘덴서(C1, C2, C3, …, C8)가 직렬로 접속된 것으로 이루어진다. 각 콘덴서(C1, C2, C3, …, C8)에는, 리드선(3a, 3b)의 사이에 인가되는 전압(Vs)이 분할된 V1, V2, V3, …, V8이 걸리기 때문에, 그 내전압이 높아져, 콘덴서로의 고전압 인가가 가능해진다. In the condenser configured as described above, as shown in Fig. 12, the condensers C1, C2, C3, ..., C8 are connected in series. In each capacitor C1, C2, C3, ..., C8, V1, V2, V3, ..., in which the voltage Vs applied between the lead wires 3a, 3b is divided. Since V8 is applied, the withstand voltage becomes high and high voltage can be applied to the capacitor.

또, 이러한 종류의 콘덴서는 소자 권취후에 에폭시 수지 등의 액상 열경화성 수지내에서 진공 함침(含浸)이 행해진다. 도 13은 에폭시 수지에 함침중에 있는 콘덴서 소자를 도시하고 있다. 콘덴서 소자는 리드선(3a, 3b)에 의해 지지되고, 권취 종료측 리드선 또는 권취 개시측 리드선을 도출하는 단면을 상향시키도록 함침된다. In addition, this type of capacitor is vacuum impregnated in a liquid thermosetting resin such as an epoxy resin after winding up the device. Fig. 13 shows a condenser element being impregnated with an epoxy resin. The capacitor element is supported by the lead wires 3a and 3b, and impregnated so as to raise a cross section for leading the winding end side lead wire or the winding start side lead wire.

에폭시 수지에 함침된 콘덴서 소자는 소정의 함침 시간 후, 끌어 올려져 수지가 경화된다. 함침 조작에 의해, 유전체 필름(1a)와 (1b)의 사이에 존재하는 공기층(이하, 에어 보이드(air void)로 표현됨)은 에폭시 수지로 치환되고, 또한 유전체 필름 자신이 가지고 있는 핀홀 등의 결함부도 에폭시 수지에 의해 보상 충진된다. 이 함침 조작에 의해, 유전체의 일정 두께당 내(耐)전압이 향상되고, 또한 리드선 강도의 향상과 제품 흡습(吸濕)의 방지를 동시에 도모할 수 있다. The capacitor element impregnated with the epoxy resin is pulled up after the predetermined impregnation time to cure the resin. By the impregnation operation, the air layer (hereinafter referred to as air void) existing between the dielectric films 1a and 1b is replaced with an epoxy resin, and defects such as pinholes that the dielectric film itself has The part is also compensated and filled by the epoxy resin. By this impregnation operation, the withstand voltage per predetermined thickness of the dielectric can be improved, and the lead wire strength can be improved and the product moisture absorption can be prevented at the same time.

이렇게 하여 정격 전압 10∼30 KV, 정전 용량 1000∼6000㎊의 소형이면서 용기를 필요로 하지 않는 고압 콘덴서를 얻을 수 있다. 본 사양의 콘덴서는 통상, 리드선을 전자 기기의 핀 단자 등에 납땜되지만, 용접, 도전 고무에 의한 전기적 접속으로 사용되는 경우도 드물게 있다. 전기적으로 접속된 콘덴서는 에폭시 수지 등의 고내압 수지로 매설하여 사용된다. In this way, a small high voltage capacitor having a rated voltage of 10 to 30 KV and an electrostatic capacity of 1000 to 6000 kV and a container is not required. Although the capacitor | condenser of this specification is normally soldered a lead wire to the pin terminal of an electronic device, etc., it is rarely used for the electrical connection by welding and electrically conductive rubber. The electrically connected capacitor is used by embedding it in high pressure resistance resin, such as an epoxy resin.

그러나, 에폭시 수지 등의 열경화성 수지는 함침후의 열경화에 의해, 리드선 표면에 두께 수 ㎛의 강고한 수지 피막을 형성한다. 상기 수지 피막은 납땜부의 도통 불량의 원인으로 된다. 또한, 용접, 도전 고무를 이용한 접촉에 의해 전기적 접속을 얻는 경우에 있어서도 수지 피막이 도통 불량의 원인으로 된다. However, thermosetting resins, such as an epoxy resin, form the rigid resin film of several micrometers in thickness on the lead wire surface by the thermosetting after impregnation. The said resin film is a cause of the poor conduction of a soldering part. In addition, even in the case where an electrical connection is obtained by welding or contact using a conductive rubber, the resin film is a cause of poor conduction.

그래서, 그 대책으로서, 땜납욕조에 리드선을 침지하여, 수지 피막을 분해해서 다시 땜납층을 형성하는 방법이 있다. 그러나, 상기 대책에 있어서는 강고한 에폭시 피막의 제거와 땜납층의 형성을 동시에 행하는 것으로 되어, 시간이 걸리고, 생산성이 낮아지는 문제가 있었다. Therefore, as a countermeasure, there is a method in which a lead wire is immersed in a solder bath to decompose a resin film and form a solder layer again. However, in the above countermeasures, it is necessary to simultaneously remove the firm epoxy film and form the solder layer, which takes time and lowers the productivity.

상기 도통 불량의 근본적 해결을 위해서는, 리드선상의 에폭시 피막을 완전히 제거하던가 혹은, 부착시키지 않을 필요가 있다. 수지의 제거에는, 연마제 등에 의해 강제적으로 수지를 제거하는 방법이 있지만, 완전한 제거가 곤란할 뿐만 아니라, 리드선 표면의 땜납층이 파괴되어, 납땜성이 저하되는 경우가 있다. 또, 제거시에 있어서 리드선이 절단되는 경우가 있다. In order to fundamentally solve the conduction defect, it is necessary to completely remove or not adhere the epoxy film on the lead wire. Although there is a method of forcibly removing the resin by an abrasive or the like for removing the resin, not only complete removal is difficult, but also the solder layer on the surface of the lead wire is broken, and the solderability may decrease. Moreover, the lead wire may be cut | disconnected at the time of removal.

그래서, 리드선 표면에 이형(mold release)성 수지를 도포함으로써, 수지의 부착을 방지 또는 적게 하는 방법도 고안되어 있다. 그러나, 이형제(mold release aget)(離型劑)가 콘덴서 소자의 단면이나 주회(周回) 방향으로 부착된 경우, 수지 함침이 불량하게 되어 콘덴서의 내압 특성이 저하된다. Therefore, a method of preventing or reducing adhesion of the resin is also devised by applying a mold release resin to the surface of the lead wire. However, when a mold release agent is attached in the cross section or the circumferential direction of the capacitor element, the impregnation of the resin becomes poor and the breakdown voltage characteristics of the capacitor decrease.

즉, 종래의 필름 콘덴서, 특히 고압 콘덴서에 있어서는, 콘덴서의 내전압 향상 및, 소형화의 추구와 리드선의 도통성의 양립을 어떻게 저비용으로 실현하는가가 과제로 된다. 본 발명의 목적은, 필름 콘덴서, 특히 고압용 필름 콘덴서로 대표되는, 수지 함침을 필요로 하는 전자 부품에 있어서, 리드선으로의 수지의 부착량의 저감을 도모하고, 수지 피막의 제거를 용이하게 함으로써, 전자 부품의 신뢰성 확보와 납땜성 향상을 도모하는 것이다. That is, in a conventional film capacitor, especially a high voltage capacitor, how to realize both the improvement of the breakdown voltage of the capacitor, the miniaturization, and the conductivity of the lead wire at low cost is a problem. An object of the present invention is to reduce the amount of resin deposited on a lead wire in an electronic component that requires resin impregnation, which is represented by a film capacitor, particularly a film capacitor for high pressure, and to facilitate removal of the resin film, It aims to secure the reliability of electronic components and improve solderability.

본 발명의 전자 부품은 리드선의 표면에 평균 두께가 10Å이상 1000Å이하인 이형성 수지 피막을 형성한 것이다. 상기 수지 피막으로서는 반응성 폴리실록산의 경화물을 포함하는 수지나 적어도 구조의 일부에 플루오르 카본을 포함하는 수지가 적합하다. 또한 본 발명의 리드선의 제조 방법은 액상 절연 수지 또는 액상 절연 수지를 희석한 용액에 리드선을 직접 침지하거나, 또는 연속한 리드선에 액상 절연 수지 또는, 액상 절연 수지를 희석한 용액을 도포한 후, 리드선을 가열하여 제조한다. 상기 리드선을 전자 부품의 단자로서 사용함으로써, 전자 부품의 전자 기기로의 전기적 접속이 확보된다. The electronic component of this invention forms the mold release resin film which has an average thickness of 10 micrometers or more and 1000 micrometers or less on the surface of a lead wire. As said resin film, resin containing the hardened | cured material of reactive polysiloxane, and resin containing fluorocarbon in at least one part of a structure are suitable. In the method for producing a lead wire according to the present invention, the lead wire is directly immersed in a liquid insulation resin or a solution in which the liquid insulation resin is diluted, or the lead wire is applied to a continuous lead wire after applying the liquid insulation resin or a solution in which the liquid insulation resin is diluted. It is prepared by heating. By using this lead wire as a terminal of an electronic component, electrical connection to an electronic device of an electronic component is ensured.

본 발명의 상기 및 그 밖의 목적, 특징, 국면 및 이익 등은 첨부 도면을 참조로 하여 설명하는 이하의 상세한 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다.The above and other objects, features, aspects, advantages, and the like of the present invention will become more apparent from the following detailed embodiments described with reference to the accompanying drawings.

(실시예 1)(Example 1)

본 발명의 실시예 1을 도 1을 이용하여 설명한다. Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIG.

도 1은 본 발명의 실시예 1의 리드선의 단면을 도시하고 있다. 원선 소재는 연강선(軟鋼線)으로, 강선의 지름은 0.5㎜이다. 연강선(2A)의 외주에는 두께 30㎛의 동(銅)도금층(2B)과, 그 외측에 두께 10㎛의 땜납 도금층(2C)이 형성되어 있다. 동도금층(2B) 및 땜납 도금층(2C)은 리드선의 신장 공정 후에 전기 도금법에 의해, 소정의 두께로 형성된다. 부호(2D)는 실리콘 수지 피막으로, 후술하는 제법에 의해 형성되며, 평균 두께는 100Å이다. Fig. 1 shows a cross section of the lead wire of the first embodiment of the present invention. The raw material is a mild steel wire, and the diameter of the steel wire is 0.5 mm. A copper plating layer 2B having a thickness of 30 μm and a solder plating layer 2C having a thickness of 10 μm are formed on the outer circumference of the mild steel wire 2A. The copper plating layer 2B and the solder plating layer 2C are formed to a predetermined thickness by the electroplating method after the extension process of the lead wire. Code | symbol 2D is a silicone resin film, It is formed by the manufacturing method mentioned later, and average thickness is 100 microseconds.

다음에, 실리콘 피막이 형성되어 있지 않은 리드선과 실리콘 피막이 형성된 리드선 표면에 부착한 액상 에폭시의 습윤 상태를 도 2에 도시한다. 도 2에 있어서, rs1은 리드선과 에폭시 사이의 표면 장력, rs는 리드선의 표면 장력, r1은 액상 에폭시 수지의 표면 장력이고, θ는 접촉각이다. 실리콘 피막이 형성된 리드선 표면은 에폭시 수지와의 접촉각이 증대한다. 즉, 본 실시예에 사용되는 리드선은 표면에 실리콘 피막이 형성되어 있기 때문에, 에폭시 수지를 배척하기 쉬운 상태로 된다. Next, FIG. 2 shows the wet state of the lead epoxy wire on which the silicon film is not formed and the liquid epoxy adhering to the lead wire surface on which the silicon film is formed. In Fig. 2, rs1 is the surface tension between the lead wire and the epoxy, rs is the surface tension of the lead wire, r1 is the surface tension of the liquid epoxy resin, and θ is the contact angle. The contact angle with an epoxy resin increases in the lead wire surface in which the silicon film was formed. That is, in the lead wire used in the present embodiment, since the silicon film is formed on the surface, it is in a state where the epoxy resin is easily rejected.

다음에, 도 3에 실리콘 수지 피막의 두께를 1Å∼10000Å의 사이에서 변화시켜 리드선의 발(撥) 에폭시 수지성(에폭시 수지의 배척 용이성) 및, JIS-C-5102에 의한 납땜성을 평가한 결과를 나타낸다. 도 3으로부터 명백한 바와 같이, 실리콘 수지의 도포막 두께가 10Å∼1000Å인 경우에 있어서 발 에폭시 수지성과, 납땜성의 양쪽의 특성을 만족하는 결과를 얻을 수 있었다. Next, the thickness of the silicone resin film was changed between 1 kPa and 10000 kPa in FIG. 3 to evaluate the lead epoxy resin property (easiness of discharging epoxy resin) and the solderability of JIS-C-5102. Results are shown. As apparent from FIG. 3, when the coating film thickness of the silicone resin was 10 kPa to 1000 kPa, the results satisfying both the foot epoxy resin properties and the solderability were obtained.

실리콘 수지 피막이 1000Å 이하인 대단히 얇은 범위에서는, 리드선-용융 땜납 사이의 표면 장력이 리드선 표면의 실리콘 피막의 표면 장력을 상회하기 때문에, 납땜성을 만족할 수 있다. 10Å 이하의 두께에 있어서는, 실리콘 피막의 형성이 불충분하여 발에폭시성이 발휘될 수 없다. In a very thin range in which the silicone resin film is 1000 kPa or less, since the surface tension between the lead wire and the molten solder exceeds the surface tension of the silicon film on the lead wire surface, solderability can be satisfied. In the thickness of 10 GPa or less, the formation of the silicone film is insufficient, and foot epoxy properties cannot be exhibited.

한편, 실리콘 수지의 두께가 300Å을 초과하면, 땜납 습윤성 시험(메네스코 그래프법)에 있어서의 땜납 습윤성이 저하하는 경향이 있기(땜납의 습윤에 시간을 요하게 됨) 때문에, 짧은 시간에 납땜을 실행하는 경우에는 실리콘 수지의 피막 두께 범위를 50∼300Å 정도로 하는 것이 바람직하다. On the other hand, when the thickness of the silicone resin exceeds 300 kPa, the solder wettability in the solder wettability test (Menesco graph method) tends to decrease (it takes time to wet the solder), and therefore soldering is performed in a short time. When it does, it is preferable to make the film thickness range of a silicone resin into about 50-300 GPa.

이렇게 하여, 이형성의 수지 피막을 리드선상에 형성하면서, 짧은 시간의 납땜으로 전기적인 접속을 확보할 수 있는 것이 본 실시예의 특징이다. In this way, it is a feature of this embodiment that an electrical connection can be secured by soldering for a short time while forming a releasable resin film on the lead wire.

다음에 본 실시예에 사용되는 재료에 대하여 도 4a 및 도 4b에 도시한 화학식을 이용하여 설명한다. 도 4에 도시한 2개의 화학식은 본 실시예에 사용되는 실리콘 수지의 주성분인 반응성 폴리실록산을 나타내고 있다. 도 4에 도시한 2개의 반응성 폴리실록산에 백금착체를 주성분으로 하는 촉매를 첨가하여 교반시킨 후, 리드선에 도포함으로써 리드선 표면에 메틸기(基)를 갖는 실리콘 수지층이 형성된다. Next, the materials used in this embodiment will be described using the chemical formulas shown in Figs. 4A and 4B. The two chemical formulas shown in FIG. 4 represent reactive polysiloxanes which are main components of the silicone resin used in this embodiment. After adding and stirring the catalyst which has a platinum complex as a main component to the two reactive polysiloxanes shown in FIG. 4, apply | coating to a lead wire forms the silicone resin layer which has a methyl group on the lead wire surface.

실리콘 수지 피막의 발 에폭시 수지 기구의 추정도를 도 5에 도시하고 있다. 도 5에 도시한 바와 같이, 실리콘 수지 중의 메틸기가 표면측을 향하는 것에 의해, 에폭시 수지를 배척하는 것으로 추정된다. The estimated figure of the foot epoxy resin mechanism of a silicone resin film is shown in FIG. As shown in FIG. 5, it is estimated that the methyl group in the silicone resin is directed to the surface side, thereby excluding the epoxy resin.

또한, 본 실시예에서는 리드선의 표면 처리에 실리콘 수지를 이용하였지만, 본 발명에 사용되는 리드선의 표면 처리재는 실리콘 수지에 한정되는 것은 아니다. 다른 표면 처리재로서, 플루오르 알킬기를 구조 내에 갖는 불소계 수지, 고급 지방산 등을 주성분으로 하는 왁스 또는 이들을 함유하는 혼합물 등을 이용하더라도, 본 실시예와 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다. In addition, although the silicone resin was used for the surface treatment of a lead wire in this Example, the surface treatment material of the lead wire used for this invention is not limited to a silicone resin. As another surface treatment material, even when using a fluorine-based resin having a fluoroalkyl group in its structure, a wax mainly containing a higher fatty acid or the like, or a mixture containing them, the same effects as in the present embodiment can be obtained.

(실시예 2)(Example 2)

다음에, 본 발명의 리드선의 제조 방법을 도 6을 이용하여 설명한다. Next, the manufacturing method of the lead wire of this invention is demonstrated using FIG.

도 6에 있어서, A는 리드선을 수납하는 용기, B는 수납된 리드선이다. C는 도 4에 도시한 두개의 반응성 폴리실록산의 3중량% 톨루엔 용액에, 백금착체를 주성분으로 하는 촉매를 톨루엔으로 100배 희석한 용액을 6중량% 첨가한 처리액이다. 상기 처리액을 용기 A에 넣어 리드선을 30분 침지시킨다. 다음에, 전술의 처리액을 배출하는데, 이 때 리드선 표면에 처리액이 부착된다. 또한, 처리액 배출 후 약 60분간 상온에서 건조한 후, 용기채로 항온조(恒溫槽)에 넣어, 온도 100℃에서 약 100분간 열경화를 행한다. 이것에 의해, 반응성 폴리실록산과 촉매와의 반응이 진행하여, 평균 두께 100Å의 실리콘 수지막이 균일하게 형성된다. In FIG. 6, A is a container which accommodates a lead wire, and B is a stored lead wire. C is a treatment liquid obtained by adding 6 wt% of a solution obtained by diluting a catalyst containing a platinum complex as a main component 100 times with toluene to a 3 wt% toluene solution of two reactive polysiloxanes shown in FIG. 4. The processing liquid is put in the container A, and the lead wire is immersed for 30 minutes. Next, the above treatment liquid is discharged, at which time the treatment liquid adheres to the lead wire surface. After the treatment liquid is discharged, it is dried at room temperature for about 60 minutes, then placed in a thermostatic bath with a container and thermosetted at a temperature of 100 ° C. for about 100 minutes. Thereby, reaction of a reactive polysiloxane and a catalyst advances and the silicone resin film of average thickness of 100 GPa is formed uniformly.

처리액 중의 반응성 폴리실록산의 농도를 높이면, 형성되는 실리콘 수지 피막은 두껍게 되고, 농도를 낮추면, 피막은 얇게 된다. 우리들의 실험에 의하면, 반응성 폴리실록산의 농도가 1.5∼5중량%일 때에 실시예 1에 기재한 바람직한 결과를 얻을 수 있었다. When the concentration of the reactive polysiloxane in the treatment liquid is increased, the formed silicone resin film becomes thick, and when the concentration is decreased, the film becomes thin. According to our experiments, the preferred results described in Example 1 were obtained when the concentration of the reactive polysiloxane was 1.5 to 5% by weight.

(실시예 3)(Example 3)

다음에, 본 발명의 리드선의 제조 방법의 다른 실시예를 도 7을 이용하여 설명한다. Next, another Example of the manufacturing method of the lead wire of this invention is demonstrated using FIG.

도 7에 있어서, a는 도 4에 도시한 두개의 반응성 폴리실록산 100부(部)에 백금착체를 주성분으로 하는 촉매 2부(部)를 첨가한 실리콘 용액으로 이루어지는 처리욕조이다. b는 펠트(부직포)로 이루어지는 도포 매체로 처리욕조(a)를 빨아 올려 리드선에 도포한다. c는 표면에 땜납 도금층이 형성된 리드선이다. 리드선(c)이 실리콘 용액이 스며들어 있는 펠트를 통과할 때에 리드선 표면에 실리콘 용액이 부착된다. d는 다이아몬드제의 리드선 표면의 윤기있는 다이스이고, 다이스 지름은 리드선 직경과 거의 같은 원형이다. 이 다이스를 실리콘 용액이 부 착된 리드선이 통과함으로써, 과잉으로 부착된 실리콘 용액이 떨어져 없어지고, 100Å의 지극히 얇고 균일한 실리콘 수지 피막이 연속적으로 형성된다. 본 실시예에 있어서는 리드선이 다이스를 통과하는 속도를 조절함으로써, 수지 피막의 두께를 조절할 수 있다. In Fig. 7, a is a treatment bath composed of a silicon solution in which two parts of the reactive polysiloxane shown in Fig. 4 are added with two parts of a catalyst containing platinum as a main component. b sucks a process bath a with the coating medium which consists of a felt (nonwoven fabric), and apply | coats to a lead wire. c is a lead wire in which the solder plating layer was formed in the surface. As the lead wire c passes through the felt in which the silicon solution is soaked, the silicon solution adheres to the lead wire surface. d is a glossy die on the surface of the diamond lead wire, and the die diameter is almost the same as the lead wire diameter. By passing the die through the lead wire with the silicon solution, the excessively attached silicon solution falls off, and an extremely thin and uniform silicone resin film of 100 Å is continuously formed. In this embodiment, the thickness of the resin film can be adjusted by adjusting the speed at which the lead wire passes through the dice.

본 실시예의 제조 방법에 의해 실리콘 수지 피막이 형성된 리드선의 발 에폭시 수지성 및, JIS-C-5102에 의한 납땜성은 실시예 2의 경우와 마찬가지로 양호했다. The foot epoxy resin property of the lead wire in which the silicone resin film was formed by the manufacturing method of this Example, and the solderability by JIS-C-5102 were favorable similarly to the case of Example 2.

(실시예 4)(Example 4)

다음에, 본 발명의 실시예 3의 고압 콘덴서의 제조 방법을 도 8 내지 도 9를 이용하여 설명한다. 도 8은 본 발명품의 고압 콘덴서의 일실시예를 도시하고 있다. 도 8에 있어서, 유전체 필름(1a)의 양면에 금속박, 혹은 증착에 의해 형성된 금속층으로 이루어지는 전극(2a, 2b)이 길이 방향으로, 소정의 간격을 유지하여 배치되어 있다. 이들 금속층으로 이루어지는 전극(2a, 2b)은 각각에 절연된 전극으로서 섬(島) 형상으로 배치되고, 또한 전극(2b)은 유전체 필름(1a)의 다른 쪽 면의 서로 인접하는 2개의 금속층으로 이루어지는 전극(2c, 2d)과 대향하도록 배치되어 있다. Next, the manufacturing method of the high pressure capacitor of Example 3 of this invention is demonstrated using FIGS. Fig. 8 shows one embodiment of the high pressure capacitor of the present invention. In FIG. 8, the electrodes 2a and 2b which consist of metal foil or the metal layer formed by vapor deposition are arrange | positioned at the both sides of the dielectric film 1a, maintaining the predetermined space | interval in the longitudinal direction. The electrodes 2a and 2b made of these metal layers are arranged in island shapes as insulated electrodes, respectively, and the electrodes 2b are made of two metal layers adjacent to each other on the other side of the dielectric film 1a. It is arrange | positioned so that the electrode 2c, 2d may be opposed.

외부로의 전극의 인출은, 권취 개시부, 및 권취 종료부의 적어도 한쪽에, 전극의 표면에 실리콘 수지 피막을 갖는 리드선을 용접하여 행해진다. 도 8에 도시한 예에서는, 권취 개시부 측에 리드선(6a)이, 권취 종료부 측에 리드선(6b)이 용 접되어 있다. 전극과 리드선과의 전기적 접속은 용접부(4a, 4b)에서 행해진다. The extraction of the electrode to the outside is performed by welding a lead wire having a silicone resin film on the surface of the electrode to at least one of the winding start section and the winding end section. In the example shown in FIG. 8, the lead wire 6a is welded to the winding start part side, and the lead wire 6b is welded to the winding end part side. Electrical connection between the electrode and the lead wire is performed at the weld portions 4a and 4b.

본 실시예의 고압 콘덴서는 양면에 금속층으로 이루어지는 전극(2a, 2b, 2c, 2d) 등을 형성한 유전체 필름(1a)과 다른 유전체 필름(1b)을 적층하여 감아 놓은(권취한) 것으로, 권취 과정에서, 제품의 양단부 또는 한 쪽의 단부로부터 리드선을 외부로 도출하는 구조이다. 도 9는 발명품의 고압 콘덴서의 수지를 함침 경화한 후의 상태를 도시하고 있다. 수지 함침시에 있어서는, 콘덴서 소자의 리드선을 함침용 지그(治具)에 점착 테이프로 부착하고, 리드선을 포함하는 소자 전체를 에폭시 수지 내에 침지한 후, 소자를 끌어 올려, 함침된 에폭시 수지를 소정의 온도에서 경화시켜 수지물성을 확보한다. 이 때, 실리콘 수지가 형성된 리드선은 에폭시 수지를 배척하기 때문에, 리드선으로의 에폭시 수지의 부착량은 지극히 적다. The high voltage capacitor according to the present embodiment is obtained by laminating (winding) a dielectric film 1a on which both surfaces of the electrodes 2a, 2b, 2c, 2d and the like formed of metal layers and other dielectric films 1b are stacked and wound. In the structure, the lead wire is drawn outward from both ends or one end of the product. Fig. 9 shows a state after the impregnation curing of the resin of the high pressure capacitor of the invention. At the time of resin impregnation, the lead wire of the capacitor element is attached to the jig for impregnation with an adhesive tape, the whole element including the lead wire is immersed in an epoxy resin, and then the element is pulled up to impregnate the impregnated epoxy resin. It is cured at the temperature of to secure the resin properties. At this time, since the lead wire in which the silicone resin was formed rejects the epoxy resin, the amount of adhesion of the epoxy resin to the lead wire is extremely small.

또한, 일부 부착하여 경화한 에폭시 수지(5a)는 구형상이고, 리드선과의 부착 강도는 지극히 작다. 이 때문에, 나일론, 쥬라콘 또는 부직포 등에 의해 리드선을 끼워 넣고, 리드선의 길이 방향으로 수회 문지르는 것에 의해, 부착한 에폭시 수지를 용이하게 제거할 수 있다. In addition, the partially bonded and cured epoxy resin 5a has a spherical shape, and the adhesion strength with the lead wire is extremely small. For this reason, the attached epoxy resin can be easily removed by inserting a lead wire with nylon, a juracon, a nonwoven fabric, etc., and rubbing several times in the longitudinal direction of a lead wire.

표 1에, 실리콘 수지 피막이 있는 리드선과 실리콘 수지 피막이 없는 리드선에 부착한 에폭시 수지구(樹脂球)의 제거에 필요한 힘을 나타내고 있다(단위: ㎏). In Table 1, the force required for the removal of the epoxy resin sphere attached to the lead wire with a silicone resin film and the lead wire without a silicone resin film is shown (unit: kg).

샘플 번호Sample number 1One 22 33 평균값medium 실리콘 수지 피막이 있는 경우If there is silicone resin film 0.100.10 0.150.15 0.120.12 0.140.14 실리콘 수지 피막이 없는 경우Without silicone resin film 1.51.5 3.53.5 2.82.8 2.62.6

표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 실리콘 수지 피막이 형성된 리드선의 부착 수지의 제거에 필요한 힘은 미(未)도포품의 10% 이하로서, 손가락 끝으로 용이하게 제거가능한 정도의 강도이다. 이 결과, 본 실시예에 있어서는, 리드선에 아무런 상해를 입히지 않고서도 상기 수지구를 제거할 수 있었다. 이에 반해, 상기 실리콘 수지 피막을 갖지 않은 리드선을 사용한 콘덴서에서는 부착 수지를 기계적으로 제거하면 리드선 표면에 현저한 흠집이 생겼다. As can be seen from Table 1, the force required for the removal of the adhesive resin of the lead wire on which the silicone resin film was formed is 10% or less of the uncoated article, and the strength is such that the fingertip can be easily removed. As a result, in this embodiment, the resin sphere could be removed without causing any injury to the lead wires. On the other hand, in the capacitor | condenser which used the lead wire which does not have the said silicone resin film, when the adhesive resin was mechanically removed, a remarkable damage | wound appeared on the lead wire surface.

본 실시예에 의해 제조된 콘덴서의 리드선의 납땜성은 실시예 2의 경우와 마찬가지로 양호한 결과를 나타내었다. The solderability of the lead wire of the capacitor manufactured by this example showed good results as in the case of Example 2.

본 실시예의 설명에 있어서는, 특히 고압 콘덴서의 실시예에 대하여 설명하였지만, 리드선이 부착된 일반적인 필름 콘덴서에 있어서도, 미리 이형성의 유기 절연 수지 피막을 형성한 리드선을 이용하는 것에 의해, 마찬가지로 콘덴서 제조시에 부착하는 함침 수지 및 외장 수지의 리드선으로의 여분의 수지를 용이하게 제거할 수 있는 효과가 있고, 본 발명을 고압 콘덴서에 한정하는 것은 아니다. In the description of the present embodiment, the embodiment of the high-pressure capacitor has been described in particular, but in the case of a general film capacitor with a lead wire, it is similarly attached at the time of capacitor manufacture by using a lead wire in which an organic insulating resin film of a releasability is formed in advance. There is an effect that the excess resin to the lead wire of the impregnated resin and the exterior resin can be easily removed, and the present invention is not limited to the high pressure capacitor.

이상과 같이 본 발명에 의하면, 콘덴서의 리드선을 수용 용기 단위로, 또는 리드선의 제조 공정에서 연속적으로 처리하여 수지 피막을 형성함으로써, 수지 함 침시의 리드선으로의 수지 피막의 부착량이 적어진다. 또한, 부착한 수지의 제거가 용이하게 되기 때문에, 충분한 콘덴서 특성과 외부 전극으로의 전기적 도통성을 높인 필름 콘덴서를 얻을 수 있다. As described above, according to the present invention, the lead wire of the capacitor is continuously processed in the container unit or in the manufacturing process of the lead wire to form a resin film, whereby the amount of adhesion of the resin film on the lead wire during resin impregnation is reduced. In addition, since the attached resin can be easily removed, a film capacitor having sufficient capacitor characteristics and electrical conductivity to an external electrode can be obtained.

또한, 상기 설명에서는 주로 필름 콘덴서에 대하여 설명하였지만, 본 발명의 리드선은 필름 콘덴서에 한정되는 것이 아니라, 세라믹 콘덴서, 고체 전해 콘덴서, 산화 금속 피막 저항기 등 수지 함침이나 수지 피복에 의해 신뢰성을 확보하는 것을 필요로 하는, 리드선이 부착된 전자 부품 전반에 효율적으로 응용할 수 있는 것은 물론이다.In the above description, the film capacitor is mainly described. However, the lead wire of the present invention is not limited to the film capacitor, and it is to ensure reliability by resin impregnation or resin coating such as a ceramic capacitor, a solid electrolytic capacitor, and a metal oxide film resistor. It goes without saying that the present invention can be efficiently applied to an entire electronic component with a lead wire.

이상 본 발명자에 의해서 이루어진 발명을 상기 실시예에 따라 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것이 아니고, 그 요지를 이탈하지 않는 범위에서 여러 가지로 변경 가능한 것은 물론이다.As mentioned above, although the invention made by this inventor was demonstrated concretely according to the said Example, this invention is not limited to the said Example and can be variously changed in the range which does not deviate from the summary.

Claims (17)

평균 두께가 10Å 이상 1000Å 이하인 이형(mold release)성의 수지 피막을 형성한 리드선을 적어도 한 쪽의 단자에 사용한 것을 특징으로 하는 전자 부품. An electronic component comprising at least one lead wire having a lead-release resin film having an average thickness of 10 mW to 1000 mW. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자 부품이 콘덴서 또는 저항기인 전자 부품. The electronic component is a capacitor or a resistor. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 콘덴서가 필름 콘덴서인 전자 부품. The electronic component whose said capacitor is a film capacitor. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수지 피막이 반응성 폴리실록산의 경화물을 포함하는 수지, 적어도 구조의 일부에 플루오르 알킬기를 포함하는 수지, 왁스 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인 전자 부품. And the resin film comprises at least one selected from a resin comprising a cured product of a reactive polysiloxane, a resin containing a fluoroalkyl group in at least part of the structure, a wax, or a mixture thereof. 표면에 평균 두께가 10Å 이상 1000Å 이하인 이형성의 수지 피막을 형성한 리드선. Lead wire in which the resin film of the releasability of 10 micrometers or more and 1000 micrometers or less of average thickness was formed in the surface. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 수지 피막이 반응성 폴리실록산의 경화물을 포함하는 수지, 적어도 구조의 일부에 플루오르 알킬기를 포함하는 수지, 왁스 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인 리드선. And wherein said resin coating comprises at least one selected from a resin comprising a cured product of a reactive polysiloxane, a resin containing a fluoroalkyl group in at least part of the structure, a wax, or a mixture thereof. 도전성 코어 재료와, 상기 코어 재료 표면에 형성된 납땜 가능층과 상기 납땜 가능층의 표면에 형성된 평균 두께가 10Å 이상 1000Å 이하인 이형성의 수지 피막으로 이루어지는 리드선. A lead wire comprising a conductive core material, a solderable layer formed on the surface of the core material, and a resin film of a releasability having an average thickness of 10 kPa or more and 1000 kPa or less formed on the surface of the solderable layer. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 납땜 가능층이 주석 또는 그 합금으로 이루어지는 리드선.A lead wire in which the solderable layer is made of tin or an alloy thereof. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 수지 피막이 반응성 폴리실록산의 경화물을 포함하는 수지, 적어도 구조의 일부에 플루오르 알킬기를 포함하는 수지, 왁스 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인 리드선. And wherein said resin coating comprises at least one selected from a resin comprising a cured product of a reactive polysiloxane, a resin containing a fluoroalkyl group in at least part of the structure, a wax, or a mixture thereof. 용기 중에서 액상 수지 또는, 이형성의 수지를 용제로 희석한 용액에 리드선을 침지하는 공정과, A step of immersing the lead wire in a solution obtained by diluting a liquid resin or a releasable resin with a solvent in a container; 상기 용기로부터 상기 용제를 제거하는 공정과, Removing the solvent from the container; 상기 리드선을 가열하여 표면에 평균 두께가 10Å 이상 1000Å 이하인 이형성의 수지 피막을 형성하는 공정Heating the lead wire to form a resin film of a releasability having an average thickness of 10 kPa or more and 1000 kPa or less on the surface; 을 포함하는 리드선의 제조 방법. Method for producing a lead wire comprising a. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 수지 피막이 반응성 폴리실록산의 경화물을 포함하는 수지, 적어도 구조의 일부에 플루오르 알킬기를 포함하는 수지, 왁스 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인 리드선의 제조 방법. And the resin film comprises at least one selected from a resin comprising a cured product of a reactive polysiloxane, a resin containing a fluoroalkyl group in at least part of the structure, a wax, or a mixture thereof. 이형성의 수지 또는 그 수지 전구체를 용제에 희석한 용액을 리드선에 도포하는 공정과,Applying a lead-diluted solution of a releasable resin or a resin precursor thereof to a solvent; 상기 리드선과 거의 동일한 내경을 갖는 다이스에 상기 리드선을 통과시키는 공정과,Passing the lead wire through a die having an inner diameter substantially equal to that of the lead wire; 상기 리드선으로부터 상기 용제를 제거하는 공정과,Removing the solvent from the lead wire; 상기 리드선을 가열하는 공정Heating the lead wire 으로 이루어져, Consist of, 상기 리드선 최외주의 금속층 표면에 평균 두께가 10Å 이상 1000Å 이하인 이형성의 수지 피막을 연속해서 형성하는 리드선의 제조 방법. The manufacturing method of the lead wire which continuously forms the resin film of the releasability whose average thickness is 10 GPa-1000 GPa on the surface of the said lead wire outermost circumference metal layer. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 수지 피막이 반응성 폴리실록산의 경화물을 포함하는 수지, 적어도 구조의 일부에 플루오르 알킬기를 포함하는 수지, 왁스 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인 리드선의 제조 방법. And the resin film comprises at least one selected from a resin comprising a cured product of a reactive polysiloxane, a resin containing a fluoroalkyl group in at least part of the structure, a wax, or a mixture thereof. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 수지 피막의 두께가 공정중에 마련된 다이스와 리드선의 반송 속도에 의해 조절되는 리드선의 제조 방법. The thickness of the said resin film is a manufacturing method of the lead wire adjusted by the conveyance speed of the dice | dies and lead wire provided in the process. 평균 두께가 10Å 이상 1000Å 이하인 이형성의 수지 피막을 갖는 리드선을 전자 부품의 전극에 전극에 접속하는 공정과, A step of connecting a lead wire having a resin film of a releasability having an average thickness of 10 GPa to 1000 GPa to an electrode of the electronic component, and 상기 전자 부품을 수지 함침하는 공정과,Resin impregnating the electronic component; 상기 함침된 수지를 경화하는 공정과, Curing the impregnated resin, 상기 수지 침지에 의해 리드선에 부착한 수지를 함침 수지의 경화 후에 기계적으로 제거하는 공정A step of mechanically removing the resin attached to the lead wire by the resin immersion after curing of the impregnated resin. 을 포함하는 전자 부품의 제조 방법. Method of manufacturing an electronic component comprising a. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 전자 부품이 콘덴서인 전자 부품의 제조 방법.The manufacturing method of an electronic component whose said electronic component is a capacitor | condenser. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 용액의 농도로 상기 평균 두께를 제어하는 것을 특징으로 하는 리드선의 제조 방법.The average thickness is controlled by the concentration of the solution.
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