KR100570744B1 - MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND THE MANUFACTURING METHOD THEREOF - Google Patents

MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND THE MANUFACTURING METHOD THEREOF Download PDF

Info

Publication number
KR100570744B1
KR100570744B1 KR1020030073529A KR20030073529A KR100570744B1 KR 100570744 B1 KR100570744 B1 KR 100570744B1 KR 1020030073529 A KR1020030073529 A KR 1020030073529A KR 20030073529 A KR20030073529 A KR 20030073529A KR 100570744 B1 KR100570744 B1 KR 100570744B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mgo
protective film
display panel
plasma display
pellets
Prior art date
Application number
KR1020030073529A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20050038276A (en
Inventor
김기동
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020030073529A priority Critical patent/KR100570744B1/en
Publication of KR20050038276A publication Critical patent/KR20050038276A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100570744B1 publication Critical patent/KR100570744B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/20Constructional details
    • H01J11/34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J11/40Layers for protecting or enhancing the electron emission, e.g. MgO layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J17/00Gas-filled discharge tubes with solid cathode
    • H01J17/38Cold-cathode tubes
    • H01J17/48Cold-cathode tubes with more than one cathode or anode, e.g. sequence-discharge tube, counting tube, dekatron
    • H01J17/49Display panels, e.g. with crossed electrodes, e.g. making use of direct current

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 MgO 보호막의 특성을 개선한 플라즈마 디스플레이 패널 보호막에 사용하는 MgO 펠렛 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널 보호막에 사용하는 MgO 펠렛으로서, 직육면체 형상을 가지는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 MgO 펠렛은 제조가 간단하고 공정 비용이 적게 들며, MgO 증착막의 형성 속도를 보다 빠르게 하고 고속 증착시 스플래쉬 현상을 억제시킴으로써 MgO 보호막 형성시 생산성을 증가시킬 수 있는 이점이 있다.The present invention relates to an MgO pellet for a plasma display panel protective film and a method for manufacturing the same, and more particularly, to an MgO pellet used for a plasma display panel protective film with improved characteristics of an MgO protective film and a method for producing the same. To this end, the present invention is characterized in that the MgO pellets used in the plasma display panel protective film, having a rectangular parallelepiped shape. The MgO pellets of the present invention have advantages in that the production of MgO protective film can be increased by simple manufacturing and low processing cost, and by increasing the formation speed of the MgO deposited film and suppressing the splash phenomenon during the high-speed deposition.

MgO, 펠렛, 보호막, 직육면체MgO, Pellets, Shield, Cuboid

Description

플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛 및 그 제조 방법{MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND THE MANUFACTURING METHOD THEREOF}MGO Pellets for Plasma Display Panel Protective Film and Manufacturing Method Thereof {MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND THE MANUFACTURING METHOD THEREOF}

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 MgO 펠렛의 형상을 개략적으로 확대하여 나타낸 도면이다.1 is a schematic enlarged view of a shape of an MgO pellet according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실험예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서 MgO 보호막을 성막하는 공정을 개략적으로 나타낸 도면이다.2 is a view schematically illustrating a process of forming an MgO protective film in a plasma display panel according to an experimental example of the present invention.

도 3은 본 발명의 실험예에서 MgO 펠렛 부피에 따른 방전개시전압을 나타낸 그래프이다.3 is a graph showing the discharge start voltage according to the MgO pellet volume in the experimental example of the present invention.

도 4는 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀의 분해 사시도이다.4 is an exploded perspective view of a discharge cell of a general plasma display panel.

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 MgO 보호막의 특성을 개선한 플라즈마 디스플레이 패널 보호막에 사용하는 MgO 펠렛 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an MgO pellet for a plasma display panel protective film and a method for manufacturing the same, and more particularly, to an MgO pellet used for a plasma display panel protective film with improved characteristics of an MgO protective film and a method for producing the same.

플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP)은 플라즈마 방전에 의한 하부기판 또는 방전에 의해 여기된 형광체에 의해 화상을 형성하는 장치로서, 플라즈마 디스플레이 패널의 방전공간에 설치된 두 전극에 소정의 전압을 인가하여 이들 사이에서 플라즈마 방전이 일어나도록 하고, 이 플라즈마 방전시 발생되는 자외선에 의해 소정의 패턴으로 형성된 형광체층을 여기시켜 화상을 형성한다.A plasma display panel (PDP) is an apparatus for forming an image by a lower substrate by plasma discharge or a phosphor excited by discharge, and applies a predetermined voltage to two electrodes provided in a discharge space of the plasma display panel. Plasma discharge is caused to occur between them, and the phosphor layer formed in a predetermined pattern is excited by ultraviolet rays generated during the plasma discharge to form an image.

이와 같은 플라즈마 디스플레이는 크게 교류형(AC type), 직류형(DC type) 및 혼합형(Hybrid type)으로 나누어진다. 도 4는 일반적인 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀의 분해 사시도이다. 도 4를 참조하면, 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 하부기판(111), 하부기판(111) 위에 형성된 다수의 어드레스 전극(115), 이 어드레스 전극(115)이 형성된 하부기판(111) 위에 형성된 유전체층(119), 이 유전체층(119) 상부에 형성되어 방전거리를 유지시키고 셀간의 크로스 토크(cross talk)를 방지하는 다수의 격벽(123)과 격벽(123) 표면에 형성된 형광체층(125)을 포함한다.Such plasma displays are largely divided into AC type, DC type, and hybrid type. 4 is an exploded perspective view of a discharge cell of a typical AC plasma display panel. Referring to FIG. 4, a general plasma display panel 100 is formed on a lower substrate 111, a plurality of address electrodes 115 formed on the lower substrate 111, and a lower substrate 111 on which the address electrodes 115 are formed. A plurality of barrier ribs 123 and phosphor layers 125 formed on the surface of the barrier ribs 123 are formed on the dielectric layer 119 and on the dielectric layer 119 to maintain a discharge distance and prevent cross talk between cells. Include.

다수의 방전유지전극(117)은 하부기판(111) 상에 형성된 다수의 어드레스 전극(115)과 소정 간격으로 이격되어 직교하도록 상부기판(113) 하부에 형성된다. 그리고 유전체층(121) 및 보호막(127)이 순차적으로 방전유지전극(117)을 덮고 있다. 특히, 보호막(127)으로는 가시광선이 잘 투과될 수 있도록 투명할 뿐만 아니라 유전층 보호 및 2차 전자 방출 성능이 우수한 MgO를 주로 사용하고 있으며, 최근에는 다른 재료로 이루어진 보호막의 연구도 이루어지고 있다.The plurality of discharge sustaining electrodes 117 are formed below the upper substrate 113 to be orthogonal to the plurality of address electrodes 115 formed on the lower substrate 111 at regular intervals. The dielectric layer 121 and the passivation layer 127 sequentially cover the discharge sustaining electrode 117. In particular, as the protective film 127, MgO, which is not only transparent to allow visible light to be transmitted well but also has excellent dielectric layer protection and secondary electron emission performance, is mainly used. Recently, research on a protective film made of different materials has been made. .

여기서의 MgO 보호막은 플라즈마 디스플레이 패널 동작중의 방전시 방전가스의 이온충격으로 인한 영향을 완화시켜 이온 충돌로부터 유전층을 보호하고 2차 전 자의 방출을 통하여 방전 전압을 낮추는 역할을 하는 투명 보호 박막으로서, 3000~7000Å 두께로 유전체층을 덮어서 형성한다. MgO 보호막은 스퍼터링법, 전자빔 증착법, IBAD(ion beam assisted deposition, 이온빔지원퇴적법), CVD(chemical vapor deposition, 화학기상증착법) 및 솔-겔(sol-gel)법 등을 사용하여 형성하고 있으며, 최근에는 이온 플레이팅(ion plating) 방식이 개발되어 사용되고 있다.Here, the MgO protective film is a transparent protective thin film that serves to mitigate the effects of the ion bombardment of the discharge gas during the operation of the plasma display panel to protect the dielectric layer from ion collision and to lower the discharge voltage through the emission of secondary electrons. It is formed by covering the dielectric layer with a thickness of 3000 ~ 7000Å. MgO protective film is formed using sputtering method, electron beam deposition method, ion beam assisted deposition (IBAD), chemical vapor deposition (CVD), sol-gel method, etc. Recently, ion plating has been developed and used.

여기서, 전자빔 증착법은 전기장과 자기장으로 가속되어지는 전자빔을 MgO 증착 재료에 충돌시켜 증착 재료를 가열 및 증발시킴으로써 MgO 보호막을 형성하는 방법이다. 스퍼터링법의 경우, 전자빔 증착법에 비하여 보호막이 치밀하며 결정배향에 유리한 특성을 지닌다는 이점이 있지만, 제조 공정시의 단가가 높은 문제점이 있다. 솔-겔법의 경우, 액상으로 MgO 보호막을 제조한다.Here, the electron beam deposition method is a method of forming an MgO protective film by heating and evaporating the deposition material by colliding the electron beam accelerated by the electric and magnetic fields with the MgO deposition material. The sputtering method has advantages in that the protective film is more dense and advantageous in crystal orientation than the electron beam evaporation method. However, the sputtering method has a high cost in the manufacturing process. In the case of the sol-gel method, a MgO protective film is manufactured in a liquid phase.

상기한 다양한 MgO 보호막의 형성 방식에 대한 대안으로 이온 플레이팅법이 최근 시도되고 있는데, 이온 플레이팅법에서는 증발되는 입자를 이온화하여 성막시킨다. 이온 플레이팅법은 MgO 보호막의 밀착성과 결정성에 대해서 스퍼터링법과 비슷한 특성을 가지지만, 증착을 8nm/s의 고속으로 행할 수 있다는 이점이 있다.The ion plating method has recently been attempted as an alternative to the various methods of forming the MgO protective film. In the ion plating method, the evaporated particles are ionized to form a film. The ion plating method has properties similar to the sputtering method with respect to the adhesion and crystallinity of the MgO protective film, but there is an advantage that deposition can be performed at a high speed of 8 nm / s.

이와 같은 MgO 재료는 단결정 또는 소결체 형태의 것을 사용한다. MgO 단결정 재료의 경우, 증착을 위한 용융시 냉각 속도에 의한 고용 한계의 차이로 인하여 특정 도펀트(dopant)의 정량제어가 어려운 문제점이 있어서, 제조시에 특정 도펀트를 정량적으로 첨가한 MgO 소결체 재료를 사용하여 이온 플레이팅 방식으로 MgO 보호막을 제조하고 있다. MgO 보호막 증착재는 펠렛 형태의 것이 사용되고 있으며, MgO 펠렛의 크기 및 형태에 따라 MgO 펠렛의 분해 속도가 달라서 MgO 보호막 증착 속도 등 여러면에서 큰 차이점이 있으므로, MgO 펠렛의 크기 및 형태를 최적화하고자 하는 여러가지 방법이 시도되고 있다.Such MgO materials are used in the form of single crystals or sintered bodies. In the case of MgO single crystal material, there is a problem that quantitative control of a specific dopant is difficult due to the difference in solid solution limit due to the cooling rate during melting for deposition. To manufacture an MgO protective film by ion plating. MgO protective film evaporation materials are used in the form of pellets, and since the decomposition rate of MgO pellets varies according to the size and shape of the MgO pellets, there are significant differences in many aspects such as the deposition rate of MgO protective films. The method is being tried.

본 발명은 상기한 방법 중의 하나로서, MgO 원료로부터 MgO 펠렛의 물성을 최적화한 MgO 펠렛 제조 방법을 제공하는 동시에, 크기 및 형태를 최적화한 MgO 펠렛을 제공하여 MgO 보호막의 증착 속도를 높이는 동시에 스플래쉬 현상을 방지하여 생산성을 향상시키고자 한다.The present invention provides a method for producing MgO pellets that optimizes the physical properties of MgO pellets from MgO raw materials, and at the same time provides MgO pellets with optimized size and shape, thereby increasing the deposition rate of the MgO protective film and splashing phenomenon. To improve productivity.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛으로서, 직육면체 형상을 가지는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is characterized in that the plasma display panel protective film MgO pellets, having a rectangular parallelepiped shape.

또한, 상기 MgO 펠렛은 그 부피가 3.5mm3 이상 20.25mm3 미만 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 7.0mm3 이상 14.0mm3 미만인 것이 바람직하다.In addition, the MgO pellets and its volume is preferably more than 3.5mm 3 20.25mm less than 3, preferably less than 7.0mm and more preferably 3 or more 14.0mm 3.

또한, MgO 펠렛은 정육면체 형상을 가지는 것이 바람직하다. In addition, the MgO pellets preferably have a cube shape.

그리고 본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛을 제조하는 방법으로서, MgO 원료에 도핑 재료를 첨가하여 Mg(OH)2 를 제조하는 단계, Mg(OH)2 를 건조하여 흡착수를 제거하는 단계, Mg(OH)2 를 하소하여 MgO 분말을 제조하는 단계, MgO 분말에 용제 및 첨가제를 혼합하여 MgO 슬러리를 제조하는 단계, MgO 슬러리를 스프레이 건조하여 MgO 과립으로 만드는 단계, MgO 과립을 압착 성형하는 단 계, 그리고 압착 성형된 MgO 과립을 소성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.And the steps of the present invention is a process for producing MgO pellets for a plasma display panel, a protective film, adding a doping material to the MgO raw material to prepare a Mg (OH) 2, and dried to a Mg (OH) 2 to remove the adsorbed water, Calcining Mg (OH) 2 to prepare MgO powder, mixing MgO powder with solvent and additives to prepare MgO slurry, spray drying MgO slurry to MgO granules, and compressing MgO granules And calcining the press-molded MgO granules.

본 발명에서는 또한 소성된 MgO 과립을 직육면체 형태로 절단하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.The present invention also preferably further comprises the step of cutting the calcined MgO granules into a cuboid form.

한편, MgO 과립을 소성하는 단계는, MgO 과립을 1700℃ 정도의 온도에서 소성하는 것이 바람직하다.On the other hand, in the step of firing the MgO granules, it is preferable to fire the MgO granules at a temperature of about 1700 ℃.

이하에서는 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 자세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings an embodiment of the present invention will be described in detail.

본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 보호막에 사용하는 MgO 펠렛은 다음과 같은 방법으로 제조한다.The MgO pellets used for the protective film for plasma display panels of this invention are manufactured by the following method.

먼저 90.0~92.0% 순도를 가진 분말 형태의 MgO 원료 분말을 준비한 다음, 도핑 재료를 첨가하여 Mg(OH)2 를 제조함으로써 순도를 99.0% 정도까지 끌어올린다. 이와 같이 MgO의 순도를 높이기 위하여 Mg(OH)2로 만든다. First, MgO raw material powder in powder form having 90.0 to 92.0% purity is prepared, and then Mg (OH) 2 is prepared by adding a doping material to increase the purity to about 99.0%. Thus, to increase the purity of MgO it is made of Mg (OH) 2 .

이와 같이 제조한 Mg(OH)2는 수분을 50.0% 정도 함유하고 있으므로 건조가 필요하다. 따라서 건조 오븐에서 열풍 건조하여 흡착수를 제거한다. 이와 같이 건조한 다음, 2800℃에서 60시간 정도 벨타입(bell type) 대차방식 저온 소결로에서 전기용융하여 하소(calcination)함으로써 결정수를 제거하여 Mg(OH)2를 MgO 분말로 제조한다. 이와 같이 전기용융한 MgO 분말을 냉각시킨 후 다시 고화시킨다.Mg (OH) 2 thus prepared contains about 50.0% of moisture, and thus drying is required. Therefore, hot air is dried in a drying oven to remove the adsorbed water. After drying as described above, Mg (OH) 2 was prepared as MgO powder by removing the crystal water by electrolysis and calcining in a bell type low temperature sintering furnace at a temperature of 2800 ° C. for about 60 hours. The molten MgO powder is cooled and then solidified again.

고화된 MgO 분말을 파쇄기(breaker)를 이용하여 파쇄한 다음, 용제 및 첨가제로 된 부원료를 혼합하여 슬러리화한다. 혼합은 습식볼밀(wet mill)법을 통하여 행하며, 부원료로는 99.5% 이상의 시약급인 무수(無水)물 용제와 Aldrich 시약의 첨가제를 사용한다. 습식볼밀(wet mill)시에는 지로코니아 볼(zirconia ball)과 우레탄 포트를 사용한다.The solidified MgO powder is crushed using a breaker, and then a slurry is mixed by mixing a subsidiary material of a solvent and an additive. Mixing is carried out through a wet mill method, and as an auxiliary material, an anhydrous solvent having a reagent grade of 99.5% or more and an additive of Aldrich reagent are used. In wet mills, zirconia balls and urethane pots are used.

방폭형 분무 건조기를 이용한 분무 건조법(spray drying)으로 혼합한 MgO 슬러리를 건조시켜 MgO 과립을 제조한다. 과립화 공정에서는 평균입자 3~5㎛ 크기의 MgO 분말을 80㎛ 정도로 과립화 및 구형화한다.MgO granules are prepared by drying the mixed MgO slurry by spray drying using an explosion-proof spray dryer. In the granulation process, MgO powder having an average particle size of 3 to 5 μm is granulated and spherically formed at about 80 μm.

다음으로 로터리 프레스(rotary press)를 이용하여 MgO 과립을 압착 성형한다. 이와 같이 압착 성형된 MgO 과립을 대차방식 고온 소결로에서 1700℃ 정도의 온도에서 소결하여 결정화한다. 이러한 온도로 소결하는 경우, MgO 과립 표면이 녹아서 다른 MgO 과립 표면에 부착됨으로써 MgO 과립이 상호접착될 수 있으므로, MgO 과립 자체의 밀도가 높아져서 기공이 적어지므로 치밀한 조직을 가진 MgO 보호막을 형성할 수 있는 이점이 있다.Next, MgO granules are press-molded using a rotary press. The compression-molded MgO granules are crystallized by sintering at a temperature of about 1700 ° C. in a high-temperature sintering furnace. When sintered at such a temperature, the surface of the MgO granules melts and adheres to the surface of other MgO granules, so that the MgO granules can be mutually bonded to each other. Thus, the density of the MgO granules itself increases, so that the pores are reduced, thereby forming an MgO protective film having a dense structure. There is an advantage.

다음으로는 소결한 MgO 과립을 직육면체 형태로 절단하여 MgO 보호막 증착 공정시에 사용한다. 추후에 자세하게 설명하겠지만, 본 발명에서는 MgO 과립을 직육면체 형태로 절단하여 사용하고, 그 크기를 일정하게 함으로써 MgO 막의 증착속도를 개선한다.Next, the sintered MgO granules are cut into a rectangular parallelepiped shape and used during the MgO protective film deposition process. As will be described in detail later, the present invention improves the deposition rate of the MgO film by cutting the MgO granules into a rectangular parallelepiped form and making the size constant.

도 1은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 보호막에 사용하는 MgO 펠렛의 형상을 확대하여 나타낸 개략적인 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic diagram showing an enlarged shape of an MgO pellet used in a plasma display panel protective film of the present invention.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 보호막에 사용하는 MgO 펠렛은 그 형상이 직육면체에 가깝다. 도 1의 (A)에는 형상이 직육면 체에 가까운 MgO 펠렛을 도시하고 있고, 도 1의 (B)에는 형상이 정육면체에 가까운 MgO 펠렛을 그 예로 도시하고 있다. 이와 같이, 직육면체 형태로 가공하는 것은 가공이 상당히 용이하므로 공정비가 적게 들고, 취급이 간편하는 등 여러 면에 있어서 상당히 유리하며, 열충격 저항성을 향상시켜서 MgO 보호막의 고속 증착시 스플래쉬 현상을 억제할 수 있는 이점이 있다.As shown in Fig. 1, the MgO pellets used in the plasma display panel protective film of the present invention have a shape close to a rectangular parallelepiped. Fig. 1A shows MgO pellets whose shape is close to a cuboid, and Fig. 1B shows MgO pellets whose shape is close to a cube. As such, processing in the form of a rectangular parallelepiped is quite easy in many aspects, such as low processing cost and easy handling, because it is easy to process, and it is possible to suppress the splash phenomenon during high-speed deposition of MgO protective film by improving thermal shock resistance. There is an advantage.

도 2는 본 발명의 직육면체 형상의 MgO 펠렛에 대한 실험 공정을 개략적으로 나타내는 도면으로서, 전극과 유전체층을 차례로 형성한 기판상에 MgO 보호막을 형성하는 공정을 개략적으로 나타낸 전자빔 증착법을 그 일례로 나타내고 있다.FIG. 2 is a diagram schematically illustrating an experimental process for a cuboid-shaped MgO pellet of the present invention, and illustrates an electron beam deposition method schematically showing a process of forming an MgO protective film on a substrate on which electrodes and dielectric layers are sequentially formed. .

전자빔 증착법에서는 전기장과 자기장으로 가속되어지는 전자빔을 증착 재료에 충돌시켜 증착 재료를 가열 및 증발시킴으로써 보호막을 형성한다. 이 경우, 전자빔의 에너지를 재료 표면에 집중시켜 고속증착 및 고순도증착을 실행할 수 있다. 도 2는 이러한 보호막의 형성 공정의 일례를 예시한 것에 지나지 않으며, 보호막의 형성 공정이 전자빔 증착법에 한정되는 것은 아니다.In the electron beam deposition method, a protective film is formed by colliding an electron beam accelerated by an electric field and a magnetic field with the deposition material to heat and evaporate the deposition material. In this case, high-speed deposition and high-purity deposition can be performed by concentrating the energy of the electron beam on the material surface. 2 is only an example of such a protective film forming step, and the protective film forming step is not limited to the electron beam evaporation method.

도 2에 나타낸 MgO 보호막(17)의 성막 공정에 있어서는 먼저 기판(13)을 좌측으로부터 우측으로 롤러(21)로 이동시켜 증착실 입구(23)에 로드(load)하면서 MgO 보호막(17)을 증착한 후 증착실 출구(25)측으로 배출한다. 기판(13)에 이상이 있는 경우에는 증착실 입구(23)로부터 기판(13)을 언로드(unload)할 수 있다. 증착실(20)의 내부는 진공으로 형성되어야 하므로 진공 펌프(미도시)가 부착되어 배기를 지속적으로 행하며, 셔터(33)를 이용하여 내외부를 이중 차단하면서 개폐시킨다. 전자총(31)을 작동시켜 자기장 및 전기장을 형성하며, 전자총(31)에서 배출되 는 이온을 하부에 위치한 증착재인 MgO 펠렛(27)에 충돌시켜 MgO 펠렛(27)을 상부에 위치한 기판(13) 상에 증착시킨다. MgO 펠렛(27)은 본 발명에서 직육면체 형태로 제조한 것을 사용한다. 또한, 본 발명의 MgO 펠렛(27)의 경우, 이온 충돌로 인하여 과열될 우려가 있어서 냉각 장치(29)를 통하여 냉각시키면서 MgO 보호막을 증착한다.In the film forming process of the MgO protective film 17 shown in FIG. 2, the MgO protective film 17 is deposited while first moving the substrate 13 from the left side to the right side with the roller 21 and loading the vapor deposition chamber inlet 23. After that, it is discharged to the deposition chamber outlet 25 side. When there is an abnormality in the substrate 13, the substrate 13 can be unloaded from the vapor deposition chamber inlet 23. Since the inside of the deposition chamber 20 should be formed in a vacuum, a vacuum pump (not shown) is attached to continuously exhaust the gas, and the opening and closing is performed while double blocking the inside and the outside using the shutter 33. The electron gun 31 is operated to form a magnetic field and an electric field, and the ions discharged from the electron gun 31 are collided with the MgO pellet 27, which is a deposition material located below, to cause the MgO pellet 27 to be placed on the substrate 13. It is deposited on. MgO pellets 27 are used in the present invention prepared in the form of a cuboid. In the case of the MgO pellets 27 of the present invention, the MgO protective film is deposited while being cooled through the cooling device 29 because of the possibility of overheating due to ion collision.

본 발명에서는 기체중에서 방전시의 방전개시전압(Vf)과, 기체압력(P) 및 전극간의 거리(d)와의 적(積)(Pd) 사이에 있어서, 전극간의 거리(d)를 어느 정도 이하로 하면 오히려 방전하기 어려워진다는 파센의 법칙(Paschen's Law)에 따른 실험을 통하여 MgO 보호막 형성에 적합한 MgO 펠렛의 부피를 구하고자 하였다.In the present invention, the distance d between the electrodes is set to a certain degree between the discharge start voltage V f at the time of discharge in the gas and the product pressure Pd between the gas pressure P and the distance d between the electrodes. The volume of MgO pellets suitable for MgO protective film formation was determined through experiments according to Paschen's Law that it would be difficult to discharge the following.

즉, 다음의 수학식 1의 파센의 법칙에 따르면 방전개시전압(Vf)과 Pd는 다음과 같은 관계를 가진다.That is, according to Passen's law of Equation 1, the discharge start voltage V f and Pd have the following relationship.

Vf = BPd/(K+lnPd)V f = BPd / (K + lnPd)

여기서, B 및 K는 상수이다.Where B and K are constants.

방전가스의 압력을 조정하면서, 본 발명의 실험예에 따른 MgO의 부피에 따라 방전개시전압(Vf)을 구함으로써 최적의 MgO 부피를 구하고자 한다.While adjusting the pressure of the discharge gas, to obtain the optimum MgO volume by obtaining the discharge start voltage (V f ) according to the volume of MgO according to the experimental example of the present invention.

상기한 MgO 보호막의 증착실(20)에서 다음의 실험예와 같이 실험하였다. 이러한 실험예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.In the deposition chamber 20 of the MgO protective film described above was tested as in the following experimental example. These experimental examples are only for illustrating the present invention, and the present invention is not limited thereto.

실험예Experimental Example

MgO 펠렛을 직육면체 형태로 가공한 후, MgO 증착실에 넣고 유전체가 형성된 플라즈마 디스플레이 패널에 MgO를 증착시, MgO 보호막이 약 7000Å 정도로 형성되도록 하였다. 증착실 내부의 경우, 기본 압력을 1×10-4Pa로, 증착 형성시의 압력을 5.3×10-2Pa로 하였으며, 산소를 100sccm(유량부피단위)로 공급하면서 기판을 200±5℃로 유지하였다. 전류를 390mA, 전압을 -15kV DC로 조절한 전자총을 통하여 전자빔을 조사하여 MgO 보호막을 증착시켰다. 이러한 방법으로 제조한 플라즈마 디스플레이 패널에 대하여 Pd 값을 변화시키면서 이에 따른 방전개시전압(Vf)을 측정하였다.After processing the MgO pellets in the form of a rectangular parallelepiped, the MgO protective film was formed in the MgO deposition chamber when MgO was deposited on the plasma display panel in which the dielectric was formed. In the deposition chamber, the basic pressure was 1 × 10 -4 Pa, the deposition formation pressure was 5.3 × 10 -2 Pa, and the substrate was brought to 200 ± 5 ° C. while supplying oxygen at 100 sccm (flow volume unit). Maintained. An MgO protective film was deposited by irradiating an electron beam through an electron gun adjusted to a current of 390 mA and a voltage of -15 kV DC. The discharge start voltage V f was measured while changing the Pd value of the plasma display panel manufactured in this manner.

실험예 1Experimental Example 1

부피가 1.5mm3 이상 3.5mm3 미만인 MgO 펠렛을 증착재로 사용하여 MgO 보호막을 형성하였다. 이에 따른 방전개시전압(Vf)을 Pd값에 따라 변화시킨 그래프를 도 3에 나타낸다.MgO protective films were formed using MgO pellets having a volume of 1.5 mm 3 or more and less than 3.5 mm 3 as a deposition material. 3 shows a graph in which the discharge start voltage V f is changed according to the Pd value.

실험예 2Experimental Example 2

부피가 3.5mm3 이상 4.5mm3 미만인 MgO 펠렛을 증착재로 사용하는 것을 제외하고는 실험예 1과 동일하다.Except for using MgO pellets having a volume of 3.5mm 3 or more and less than 4.5mm 3 as the deposition material is the same as Experimental Example 1.

실험예 3Experimental Example 3

부피가 4.5mm3 이상 7.0mm3 미만 MgO 펠렛을 증착재로 사용하는 것을 제외하고는 실험예 1과 동일하다.Except that the volume is using the 4.5mm 7.0mm 3 or more than 3 MgO pellets as the evaporation material is the same as in Experimental Example 1.

실험예 4Experimental Example 4

부피가 7.0 이상 14.0mm3 미만인 MgO 펠렛을 증착재로 사용하는 것을 제외하고는 실험예 1과 동일하다.It is the same as Experimental Example 1 except using MgO pellet whose volume is 7.0 or more and less than 14.0 mm <3> as a vapor deposition material.

실험예 5Experimental Example 5

부피가 14.0mm3 이상 20.25mm3 미만인 MgO 펠렛을 증착재로 사용하는 것을 제외하고는 실험예 1과 동일하다.Except for using MgO pellets having a volume of 14.0mm 3 or more and less than 20.25mm 3 as the deposition material is the same as Experimental Example 1.

실험예 6Experimental Example 6

부피가 20.25mm3 이상 27.25mm3 미만인 MgO 펠렛을 증착재로 사용하는 것을 제외하고는 실험예 1과 동일하다.It is the same as Experimental Example 1 except using MgO pellet whose volume is 20.25mm <3> or less than 27.25mm <3> as a vapor deposition material.

상기한 실험예 1 내지 실험예 6의 MgO 펠렛의 부피를 정리하여 나타내면 다음의 표 1과 같다.Table 1 summarizes the volume of the MgO pellets of Experimental Examples 1 to 6 described above.

Figure 112003039241196-pat00001
Figure 112003039241196-pat00001

도 3은 상기와 같은 실험예 1 내지 실험예 6을 통하여 제조한 플라즈마 디스플레이 패널 MgO 보호막에 사용하는 MgO 펠렛의 부피에 있어서 Pd 값에 따른 방전개시전압(Vf)을 나타내는 도면이다.3 is a view showing the discharge start voltage (V f ) according to the Pd value in the volume of the MgO pellets used in the plasma display panel MgO protective film prepared through Experimental Example 1 to Example 6 as described above.

도 3에 나타낸 각 실험예를 비교해 보면, 실험예 1 및 실험예 6에서 Pd값이 2 이상인 경우, Pd 값이 커짐에 따라 방전개시전압(Vf)도 점차 증가하는 것을 알 수 있다. 따라서 방전이 일어나는 데 어려움이 있다. 반면에, 실험예 2 내지 실험예 5의 경우, 방전개시전압(Vf)이 비교적 작아서 방전이 비교적 쉽게 일어나므로 플라즈마 디스플레이 패널의 MgO 보호막의 동작 상태가 양호하다는 것을 알 수 있다. 이러한 점을 감안할 때, MgO 펠렛은 실험예 2 내지 실험예 5에 해당하는 3.5mm3 이상 20.25mm3 미만 정도의 부피가 적당하다.Comparing each of the experimental examples shown in Figure 3, when the Pd value is 2 or more in Experimental Example 1 and Experimental Example 6, it can be seen that the discharge start voltage (V f ) gradually increases as the Pd value increases. Therefore, there is a difficulty in discharging. On the other hand, in the case of Experimental Examples 2 to 5, the discharge start voltage (V f ) is relatively small, the discharge occurs relatively easily, it can be seen that the operating state of the MgO protective film of the plasma display panel is good. Considering these points, MgO pellets is suitable 20.25mm 3.5mm 3 or more by volume of less than about three for the Experimental Example 2 to Experimental Example 5.

또한, 도 3에 나타낸 그래프로부터 MgO 펠렛의 부피가 실험예 4에 해당하는 7.0mm3 이상 14.0mm3 미만인 경우, 방전개시전압(Vf)이 가장 작다는 것을 알 수 있다. 따라서, MgO 펠렛의 부피가 7.0mm3 이상 14.0mm3 미만인 경우, 방전 특성이 가장 좋은 플라즈마 디스플레이 패널을 제조할 수 있다.In addition, it can be seen that also the bulk of the MgO pellets from the graph shown in FIG. 3 Experiment 4 the 7.0mm 3 or more is less than 14.0mm 3, the discharge start voltage (V f) is the smallest to the. Therefore, when the volume of the MgO pellets is 7.0 mm 3 or more and less than 14.0 mm 3 , the plasma display panel having the best discharge characteristics can be manufactured.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따라 플라즈마 디스플레이 패널의 MgO 보호막에 사용하는 MgO 펠렛을 직육면체 형상으로 하면, 제조가 간단하므로 공정 비용이 적게 들고, 열충격 저항성을 향상시켜서 MgO 보호막의 고속 증착시 스플래쉬 현상을 억제할 수 있어서 생산성이 향상되는 이점이 있다.As described above, when the MgO pellets used for the MgO protective film of the plasma display panel have a rectangular parallelepiped shape, the manufacturing process is simple, so the process cost is low, and the thermal shock resistance is improved to improve the splash phenomenon during the high-speed deposition of the MgO protective film. It can suppress, and there exists an advantage that productivity improves.

또한, MgO 펠렛의 부피를 3.5mm3 이상 20.25mm3 미만으로 함으로써, 품질이 양호한 MgO 보호막을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널을 제조할 수 있다.Further, by the volume of the MgO pellets with 3.5mm 3 or more and less than 20.25mm 3, it is possible to obtain a quality of the plasma display panel having a good MgO layer.

특히, MgO 펠렛의 부피를 7.0mm3 이상 14.0mm3 미만으로 하면 좀더 품질이 양호한 MgO 보호막을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널을 제조할 수 있다.In particular, when the volume of the MgO pellets is made 7.0 mm 3 or more and less than 14.0 mm 3 , a plasma display panel having a more favorable MgO protective film can be manufactured.

MgO 펠렛을 정육면체 형태로 제조하여 형태를 좀더 다양하게 제조할 수 있다.MgO pellets can be prepared in the form of cubes to produce more diverse forms.

본 발명에서는 MgO 분말 원료를 Mg(OH)2를 거쳐서 제조하므로, MgO 분말의 순도를 더욱 높일 수 있는 이점이 있다.In the present invention, since the MgO powder raw material is manufactured via Mg (OH) 2 , there is an advantage of further increasing the purity of the MgO powder.

한편, 소성된 MgO 과립은 직육면체 형태로 절단하여 사용하므로 공정상 제조가 용이한 이점이 있다. On the other hand, the calcined MgO granules are used by cutting in the form of a cuboid, there is an advantage of easy manufacturing in the process.                     

또한, 본 발명의 MgO 펠렛 제조시 MgO 과립은 1700℃ 정도의 온도에서 소성하므로, MgO 과립 표면이 녹아서 다른 MgO 과립 표면에 부착됨으로써 MgO 과립이 상호 접착될 수 있어서, MgO 과립 자체의 밀도가 높아져서 기공이 적어지므로 치밀한 조직을 가진 MgO 보호막을 형성할 수 있는 이점이 있다.In addition, since the MgO granules are calcined at a temperature of about 1700 ° C. when manufacturing the MgO pellets of the present invention, the MgO granules melt and adhere to other MgO granules so that the MgO granules can be bonded to each other. Since there is less, there is an advantage in that an MgO protective film having a dense structure can be formed.

본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 설명하였지만, 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.Although the present invention has been described above, it will be readily understood by those skilled in the art that various modifications and variations are possible without departing from the spirit and scope of the claims set out below.

Claims (7)

플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP) 보호막에 사용하는 MgO 펠렛(pellet)으로서,MgO pellets used for plasma display panel (PDP) protective film, 직육면체 형상을 가지는 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛.MgO pellets for a plasma display panel protective film having a rectangular parallelepiped shape. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 MgO 펠렛은 그 부피가 3.5mm3 이상 20.25mm3 미만인 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛.The MgO pellets MgO pellets for plasma display panel protective film having a volume of 3.5mm 3 or more and less than 20.25mm 3 . 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 MgO 펠렛은 그 부피가 7.0mm3 이상 14.0mm3 미만인 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛.The MgO pellets MgO pellets for plasma display panel protective film whose volume is more than 7.0mm 3 but less than 14.0mm 3 . 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 MgO 펠렛은 정육면체 형상을 가지는 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛.The MgO pellets MgO pellets for a plasma display panel protective film having a cube shape. 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛을 제조하는 방법으로서,As a method of manufacturing MgO pellets for plasma display panel protective film, MgO 원료에 도핑 재료를 첨가하여 Mg(OH)2 를 제조하는 단계;Adding MgO material to the MgO raw material to prepare Mg (OH) 2 ; 상기 Mg(OH)2 를 건조하여 흡착수를 제거하는 단계;Drying the Mg (OH) 2 to remove adsorbed water; 상기 Mg(OH)2 를 하소(calcination)하여 MgO 분말을 제조하는 단계;Calcining the Mg (OH) 2 to prepare an MgO powder; 상기 MgO 분말에 용제 및 첨가제를 혼합하여 MgO 슬러리를 제조하는 단계;Preparing a MgO slurry by mixing a solvent and an additive with the MgO powder; 상기 MgO 슬러리를 스프레이 건조하여 MgO 과립으로 만드는 단계;Spray drying the MgO slurry to form MgO granules; 상기 MgO 과립을 압착 성형하는 단계; 및Compression molding the MgO granules; And 상기 압착 성형된 MgO 과립을 소성하는 단계;Calcining the press-molded MgO granules; 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛의 제조 방법.Method for producing a plasma display panel protective film MgO comprising a. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 소성된 MgO 과립을 직육면체 형태로 절단하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛의 제조 방법.The method for manufacturing a plasma display panel protective film MgO pellets further comprising the step of cutting the calcined MgO granules in a cuboid form. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 MgO 과립을 소성하는 단계는, 상기 MgO 과립을 1700℃ 정도의 온도에서 소성하는 플라즈마 디스플레이 패널 보호막용 MgO 펠렛의 제조 방법.The firing of the MgO granules, the method of producing MgO pellets for a plasma display panel protective film for firing the MgO granules at a temperature of about 1700 ℃.
KR1020030073529A 2003-10-21 2003-10-21 MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND THE MANUFACTURING METHOD THEREOF KR100570744B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030073529A KR100570744B1 (en) 2003-10-21 2003-10-21 MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND THE MANUFACTURING METHOD THEREOF

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030073529A KR100570744B1 (en) 2003-10-21 2003-10-21 MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND THE MANUFACTURING METHOD THEREOF

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050038276A KR20050038276A (en) 2005-04-27
KR100570744B1 true KR100570744B1 (en) 2006-04-12

Family

ID=37240734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030073529A KR100570744B1 (en) 2003-10-21 2003-10-21 MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND THE MANUFACTURING METHOD THEREOF

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100570744B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108569712A (en) * 2018-04-04 2018-09-25 内江师范学院 Preparation method of tetragonal body shape magnesium oxide material and products thereof and application
KR102396756B1 (en) * 2020-09-08 2022-05-12 주식회사 서연이화 Method for manufacturing natural fiber composite resin and method for manufacturing molded article using the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050038276A (en) 2005-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100570675B1 (en) MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME
US8197781B2 (en) Sputtering target of Li3PO4 and method for producing same
KR101942961B1 (en) Pinhole-free dielectric thin film fabrication
TWI645059B (en) Indium oxide-zinc oxide (IZO) sputtered palladium and manufacturing method thereof
US20080265774A1 (en) Plasma display panel and its production process
TW201538769A (en) Solid state electrolyte and barrier on lithium metal and its methods
US20050045065A1 (en) Mgo vapor deposition material and method for preparation thereof
JP2011132556A (en) Oxide evaporation material and high-refractive-index transparent film
JP5418752B2 (en) ZnO vapor deposition material, method for producing the same, and method for forming the ZnO film
JP2009097088A (en) ZnO VAPOR DEPOSITION MATERIAL, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND ZnO FILM OR THE LIKE
KR100570744B1 (en) MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND THE MANUFACTURING METHOD THEREOF
JP5499453B2 (en) ZnO vapor deposition material, method for producing the same, and method for forming the ZnO film
JP5418749B2 (en) ZnO vapor deposition material, method for producing the same, and method for forming the ZnO film
JP2005264272A (en) Material of magnesium oxide thin film
JPH10297956A (en) Material having evaporated polycrystalline magnesium oxide layer and its production
JPH10297955A (en) Material having evaporated magnesium oxide layer and its production
KR100570602B1 (en) MgO PELLET FOR A PROTECTION LAYER OF PLASMA DISPLAY PANEL AND THE PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME
JP5418750B2 (en) ZnO vapor deposition material, method for producing the same, and method for forming the ZnO film
JP2013533378A (en) Transparent conductive film, target for transparent conductive film, and method for producing target for transparent conductive film
JPH1129355A (en) Polycrystalline magnesium oxide vacuum-deposition material and its production
US9926236B2 (en) Oxide sintered body, process for manufacturing same, and oxide film
JP4147988B2 (en) Deposition material for protective film of FPD and method for producing the same
JP2004043955A (en) MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND ITS MANUFACTURING PROCESS, MANUFACTURING PROCESS OF MgO DEPOSITION FILM
JPH10130828A (en) Mgo target and its production
KR101080439B1 (en) Method for preparing MgO based nano-sized powders for protective layer of PDP application

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090326

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee