KR100563765B1 - Processing chamber for the insulator installation in the electrode - Google Patents

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Abstract

본 발명은 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 식각공정이 수행되는 공정챔버 내부에 화학적인 반응과 고전압으로부터 전극을 보호하는 절연체의 열팽창계수나 기타 특성값이 상이함에 따라 절연체에 크랙(Crack)의 발생되는 것을 방지할 수 있게 한 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버에 관한 것이다.The present invention relates to a process chamber of an etching apparatus equipped with an insulator, and more particularly, to a thermal expansion coefficient or other characteristic value of an insulator protecting the electrode from chemical reaction and high voltage in a process chamber in which a plasma etching process is performed. The present invention relates to a process chamber of an etching apparatus provided with an electrode, which makes it possible to prevent the occurrence of cracks in the insulator.

본 발명은 전극이 내부에 설치되는 식각장비의 공정챔버에 있어서, 상기 전극 양측면에 각각 접하며 상기 전극과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖는 제 1절연판과, 상기 제 1절연판의 외측면에 각각 접하며 상기 제 1절연판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖되 다수개의 작은 나사로 제 1절연판을 체결한 금속박판과, 상기 금속박판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖으며, 상기 금속박판의 외측면에 각각 접하고 볼트로 제 1절연판과 금속박판을 전극에 체결시키는 제 2절연측판과, 상기 제 1절연판과 금속박판과 제 2측판이 전극의 양측면에 체결된 상면에 전극과 동일한 높이로 각각 부착되는 제 3절연상판을 포함한 구성을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버를 제공한다.The present invention provides a process chamber of an etching apparatus having an electrode installed therein, the first insulating plate having a predetermined thickness in contact with both sides of the electrode and having the same side shape as the electrode, and the outer surface of the first insulating plate, respectively. A metal thin plate having a predetermined thickness in the same side shape as the first insulating plate but fastening the first insulating plate with a plurality of small screws, and a predetermined thickness in the same side shape as the metal thin plate, in contact with the outer surface of the metal thin plate, respectively A second insulating side plate for fastening the first insulating plate and the metal thin plate to the electrode, and a third insulating top plate having the same height as the electrode on the upper surface where the first insulating plate, the metal thin plate and the second side plate are fastened to both sides of the electrode, respectively. It provides an insulator characterized in that the configuration including a process chamber of the etching equipment provided in the electrode.

식각장비, 공정챔버, 전극, 절연체, 열팽창계수Etching Equipment, Process Chamber, Electrode, Insulator, Thermal Expansion Coefficient

Description

절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버{Processing chamber for the insulator installation in the electrode}Processing chamber for the insulator installation in the electrode

도 1은 종래의 식각장비의 공정챔버 내부에 설치된 전극에 절연체를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating an insulator in an electrode installed in a process chamber of a conventional etching apparatus.

도 2는 도 1의 A 부분을 발췌한 부분 확대도이다.FIG. 2 is an enlarged view illustrating a portion A of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 제 1실시예에 따른 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버에 구비된 전극에 절연체가 설치된 상태를 도시한 확대 단면도이다.3 is an enlarged cross-sectional view illustrating a state in which an insulator is installed in an electrode provided in a process chamber of an etching apparatus having an insulator according to a first embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 제 2실시예에 따른 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버에 구비된 전극에 절연체가 설치된 상태를 도시한 확대 단면도이다.4 is an enlarged cross-sectional view illustrating a state in which an insulator is installed in an electrode provided in a process chamber of an etching apparatus having an insulator according to a second embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 제 3실시예에 따른 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버에 구비된 전극에 절연체가 설치된 상태를 도시한 확대 단면도이다.FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view illustrating a state in which an insulator is installed in an electrode provided in a process chamber of an etching apparatus having an insulator according to a third embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

120, 220, 320 : 전극 122, 222, 322 : 제 1절연판120, 220, 320: electrodes 122, 222, 322: first insulating plate

124 : 금속박판 126, 226, 326 : 제 2절연측판124: metal foil 126, 226, 326: second insulating side plate

128, 228, 328 : 제 3절연상판 224 : 금속중판128, 228, 328: third insulated plate 224: metal plate

323 : 단차구멍 324 : 단차봉323: stepped hole 324: stepped rod

327 : 틈 B : 볼트327: gap B: bolt

P : 작은나사P: Small screw

본 발명은 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 식각공정이 수행되는 공정챔버 내부에 화학적인 반응과 고전압으로부터 전극을 보호하는 절연체의 열팽창계수나 기타 특성값이 상이함에 따라 절연체에 크랙(Crack)의 발생되는 것을 방지할 수 있게 한 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버에 관한 것이다.The present invention relates to a process chamber of an etching apparatus equipped with an insulator, and more particularly, to a thermal expansion coefficient or other characteristic value of an insulator protecting the electrode from chemical reaction and high voltage in a process chamber in which a plasma etching process is performed. The present invention relates to a process chamber of an etching apparatus provided with an electrode, which makes it possible to prevent the occurrence of cracks in the insulator.

일반적으로, 전극은 공정챔버의 내부 상, 하면에 각각 장착되며, 식각공정이 수행되는 대상물인 기판이 적재되는 전극의 양측에, 전극간에 가해지는 고전압에 따라 전극으로 유입된 가스의 방전으로 형성되는 플라즈마의 화학적인 반응과 고전압으로부터 보호하는 절연체가 설치되며, 전극은 통상적으로 알루미늄이 사용되며, 반도체를 처리하는데 비교적 저렴한 재료이고, 가장 폭넓게 사용된다.In general, the electrodes are mounted on the upper and lower surfaces of the process chamber, respectively, and are formed by discharge of gas introduced into the electrodes according to high voltage applied between the electrodes on both sides of the electrode on which the substrate, which is an object to be etched, is loaded. Insulators are provided that protect against chemical reactions and high voltages in the plasma. The electrodes are typically aluminum, a relatively inexpensive material for processing semiconductors, and the most widely used.

또한, 식각공정은 알루미늄에 대해 부식을 초래할 수 있으므로 알루미늄재질인 전극을 표면을 보호하기 위한 산화 알루미늄(Al₂O₃)피막과 같은 비교적 불활성의 세라믹 재료가 사용된다.In addition, since the etching process may cause corrosion to aluminum, a relatively inert ceramic material such as an aluminum oxide (Al₂O₃) coating is used to protect the surface of the aluminum electrode.

종래의 식각장비의 공정챔버는 도 1에서 도시한 바와 같이 내부가 중공인 공정챔버(10)의 내부 상면에 상부전극(16)이 설치되고, 상기 상부전극(16)과 대향된 공정챔버(10) 내부 하면에 기판(미도시)이 적재되는 적재대(18)가 설치된 하부전극 (20)이 장착되며, 일측면에 기판이 공정챔버(10) 내부로 반입 또는 반출될 수 있도록 개구된 출입구(12)를 개폐하는 게이트(14)가 설치된다.In the process chamber of the conventional etching equipment, as shown in FIG. 1, an upper electrode 16 is installed on an inner upper surface of a process chamber 10 having a hollow inside, and a process chamber 10 facing the upper electrode 16. A lower electrode 20 having a mounting table 18 on which a substrate (not shown) is mounted is mounted on an inner lower surface thereof, and an opening or exit opening on one side thereof to allow the substrate to be carried in or out of the process chamber 10. The gate 14 which opens and closes 12 is provided.

상술한 하부전극(20)은 도 1의 A 부분을 발췌한 도 2에서 도시한 바와 같이 양측면에 테프론절연판(22)과 상기 테프론절연판(22)의 외면에 세라믹절연측판(24)을 접촉되게 위치시킨 다음 다수개의 볼트(B)로 체결시키며, 상기 테프론절연판(22)과 세라믹절연측판(24)의 상면에 세라믹절연상판(26)을 부착시켜 하부전극(20)의 표면을 화학적, 고전압으로부터 전극(16, 20)을 보호하였다.The lower electrode 20 is positioned in such a manner that the Teflon insulating plate 22 and the ceramic insulating side plate 24 are in contact with the outer surface of the Teflon insulating plate 22 on both sides, as shown in FIG. And then fastening with a plurality of bolts (B), and attaching a ceramic insulating upper plate 26 to the upper surfaces of the Teflon insulating plate 22 and the ceramic insulating side plate 24 so that the surface of the lower electrode 20 is formed from chemical and high voltage electrodes. (16, 20) was protected.

그러나, 식각공정의 수행에 따라 공정챔버(10) 내부에 발생되는 고온의 열로 인해 각각의 절연체가 변형되며, 이때, 하부전극(20)의 양측면에 부착된 테프론절연판(22)이 상기 테프론절연판(22)의 외면에 부착된 세라믹절연측판(24)보다 열팽창계수가 높으므로 열에 의한 테프론절연판(22)의 신장률이 높아짐에 따라 팽창에 의해 세라믹절연측판(24)에 크랙이 발생되어 파손되는 문제점이 있었다.However, as the etching process is performed, each of the insulators is deformed due to the high temperature heat generated inside the process chamber 10. In this case, the Teflon insulating plates 22 attached to both sides of the lower electrode 20 are the Teflon insulating plates ( Since the coefficient of thermal expansion is higher than that of the ceramic insulating side plate 24 attached to the outer surface of 22), as the elongation rate of the Teflon insulating plate 22 increases due to heat, cracking occurs in the ceramic insulating side plate 24 due to expansion. there was.

본 발명은 상기 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 그 목적은 열팽창계수와 기타 특성값이 각각 다른 상태로 전극에 장착된 절연판이 식각공정이 수행되는 과정에서 공정챔버 내부의 열에 의해 절연판에 크랙이 발생되는 것을 방지하기 위한 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is to insulate the insulating plate by the heat inside the process chamber in the process of performing the etching process the insulating plate mounted on the electrode with different thermal expansion coefficient and other characteristic value respectively. An insulator for preventing cracks is provided to provide a process chamber of an etching apparatus provided in an electrode.

상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제 1실시예는 전극이 내부에 설치되는 식각장비의 공정챔버에 있어서, 상기 전극 양측면에 각각 접하며 상기 전극과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖는 제 1절연판; 상기 제 1절연판의 외측면에 각각 접하며 상기 제 1절연판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖되 다수개의 작은 나사로 제 1절연판을 체결한 금속박판; 상기 금속박판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖으며, 상기 금속박판의 외측면에 각각 접하고 볼트로 제 1절연판과 금속박판을 전극에 체결시키는 제 2절연측판; 상기 제 1절연판과 금속박판과 제 2측판이 전극의 양측면에 체결된 상면에 전극과 동일한 높이로 각각 부착되는 제 3절연상판;을 포함한 구성을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버를 제공한다.In order to achieve the above object, a first embodiment of the present invention provides a process chamber of an etching apparatus in which an electrode is installed therein, the first insulating plate having a predetermined thickness in contact with both sides of the electrode and having the same side shape as the electrode; A metal sheet contacting the outer surface of the first insulating plate and having a predetermined thickness in the same side shape as the first insulating plate, and fastening the first insulating plate with a plurality of small screws; A second insulating side plate having a predetermined thickness in the same side shape as that of the metal thin plate, the second insulating side plate being in contact with the outer surface of the metal thin plate and fastening the first insulating plate and the metal thin plate to the electrodes with bolts; The first insulating plate, the metal thin plate and the second side plate is attached to the upper surface fastened to both sides of the electrode, the third insulating upper plate is attached to the same height as the electrode, respectively; process comprising an insulator equipped with an electrode Provide a chamber.

그러므로, 열팽창계수가 개중에서 가장 큰 제 1절연판의 팽창력이, 열팽창계수가 중간인 금속박판에 의해 팽창력이 흡수, 차단되므로 제 2절연측판으로 전달되는 팽창력을 최소화시키므로 팽창력에 의해 제 2절연측판이 파손되는 것을 방지한다.Therefore, since the expansion force of the first insulating plate having the largest thermal expansion coefficient is absorbed and blocked by the metal thin plate having the intermediate thermal expansion coefficient, the expansion force transmitted to the second insulating side plate is minimized. To prevent breakage.

또한, 본 발명의 제 1실시예에서는 상기 금속박판의 열팽창계수가 테프론 보다는 작고 세라믹 보다는 큰 재질로 형성되므로 공정챔버 내부에 열이 가해졌을 때 열팽창계수가 제 1절연판보다는 작고 제 2절연측판보다는 큰 금속박판이 제 1절연판과 제 2절연측판 사이에 개입됨으로써 제 1절연판의 변형력이 제 2절연측판에 전위되지 않고 금속박판에 흡수되거나 감소시키므로 바람직하다.In addition, in the first embodiment of the present invention, since the thermal expansion coefficient of the metal sheet is smaller than that of Teflon and larger than that of ceramic, the thermal expansion coefficient is smaller than that of the first insulating plate and larger than the second insulating side plate when heat is applied to the inside of the process chamber. Since the metal thin plate is interposed between the first insulating plate and the second insulating side plate, the deformation force of the first insulating plate is absorbed or reduced in the metal thin plate without dislocation to the second insulating side plate.

또한, 본 발명의 제 1실시예에서의 상기 금속박판은 알루미늄판으로 형성되 어 식각장비에 폭넓게 사용되는 반면 가격이 저렴하므로 바람직하다.In addition, the metal sheet in the first embodiment of the present invention is preferably formed of an aluminum plate because it is widely used in etching equipment and low price.

상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제 2실시예는 전극이 내부에 설치되는 식각장비의 공정챔버에 있어서, 상기 전극 양측면에 각각 접하며 전극과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖는 제 1절연판; 상기 제 1절연판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖고, 상기 제 1절연판의 외측면에 각각 접하며 다수개의 작은나사로 제 1절연판과 금속중판이 전극의 양측면에 체결된 금속중판; 상기 금속중판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖으며, 볼트에 의해 금속중판을 전극의 양측면에 체결시키는 제 2절연측판; 상기 제 1절연판과 금속중판과 제 2절연측판이 전극의 양측면에 체결된 상면에 전극과 동일한 높이로 각각 부착되는 제 3절연상판;을 포함한 구성을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버를 제공한다.In order to achieve the above object, a second embodiment of the present invention provides a process chamber of an etching apparatus in which an electrode is installed therein, the first insulating plate having a predetermined thickness in contact with both sides of the electrode and having the same side shape as the electrode; A metal intermediate plate having a predetermined thickness in the same side shape as that of the first insulating plate, wherein the first insulating plate and the metal intermediate plate are fastened to both sides of the electrode by a plurality of small screws, respectively contacting the outer surface of the first insulating plate; A second insulating side plate having a predetermined thickness in the same side shape as that of the metal plate and fastening the metal plate to both sides of the electrode by bolts; The first insulating plate, the metal intermediate plate, and the second insulating side plate attached to both sides of the electrode on the upper surface of the third insulating upper plate respectively attached to the same height as the electrode; Provide a process chamber.

그러므로, 열팽창계수가 개중에서 가장 큰 제 1절연판의 팽창력이 열팽창계수가 보통인 금속중판에 의해 팽창력이 흡수, 차단되며, 볼트에 의해 제 2절연측판을 팽창율이 작은 금속중판에 체결시키므로 제 2절연측판에 전달되는 제 1절연판의 팽창력이 최소화되므로 바람직하다.Therefore, the expansion force of the first insulating plate having the largest thermal expansion coefficient is absorbed and blocked by the metal intermediate plate having the normal thermal expansion coefficient, and the second insulating side plate is fastened to the metal medium plate having a small expansion rate by bolts. It is preferable because the expansion force of the first insulating plate transmitted to the side plate is minimized.

또한, 본 발명의 제 2실시예에서의, 상기 금속중판은 열팽창계수는 테프론 보다는 작고 세라믹 보다는 큰 재질로 형성되므로 열이 가해졌을 때 열팽창계수가 제 1절연판보다는 작고 제 2절연측판보다는 큰 금속중판이 제 1절연판과 제 2절연측판 사이에 개입됨으로써 제 1절연판의 변형력이 제 2절연측판에 전위되지 않고 금속중판에 흡수되거나 감소시키므로 바람직하다.In addition, in the second embodiment of the present invention, the coefficient of thermal expansion of the metal plate is smaller than Teflon and formed of a material larger than ceramic, so that when the heat is applied, the coefficient of thermal expansion is smaller than that of the first insulating plate and larger than the second insulating side plate. It is preferable because the deformation force of the first insulating plate is absorbed or reduced by the metal intermediate plate without dislocation to the second insulating side plate by intervening between the first insulating plate and the second insulating side plate.

또한, 본 발명의 제 2실시예에서의 상기 금속중판은 알루미늄판으로 형성되어 식각장비에 폭넓게 사용되는 반면 가격이 저렴하므로 바람직하다.In addition, the metal plate in the second embodiment of the present invention is preferably formed of an aluminum plate because it is widely used in etching equipment, while the price is low.

상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제 3실시예는 전극이 내부에 설치되는 식각장비의 공정챔버에 있어서, 상기 전극의 양측면에 각각 접하며 상기 전극과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖고, 외측면에 다수개의 단차구멍이 형성된 제 1절연판; 상기 제 1절연판에 형성된 단차구멍에 결합되되 관통구멍이 중앙부에 형성된 단차봉; 상기 제 1절연판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖으며, 상기 제 1절연판에 형성된 단차구멍에 관통구멍이 형성된 단차봉이 삽입되되 상기 단차봉의 관통구멍을 통해 볼트로 전극의 양측면에 체결시키는 제 2절연측판; 상기 제 1절연판과 제 2절연측판이 전극의 양측면에 체결된 상면에 전극과 동일한 높이로 각각 부착되는 제 3절연상판;을 포함한 구성을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버를 제공한다.In order to achieve the above object, a third embodiment of the present invention is a process chamber of an etching apparatus in which an electrode is installed therein, each of which is in contact with both sides of the electrode and has a predetermined thickness in the same side shape as the electrode, A first insulating plate having a plurality of stepped holes formed therein; A stepped bar coupled to a stepped hole formed in the first insulating plate, wherein a stepped hole is formed in the center portion thereof; Second insulation having a predetermined thickness in the same side shape as that of the first insulating plate and having a through hole formed in the stepped hole formed in the first insulating plate, and fastened to both sides of the electrode with bolts through the through hole of the stepped rod. shroud; And a third insulating upper plate attached to the upper surface of which the first insulating plate and the second insulating side plate are fastened to both sides of the electrode, respectively, at the same height as the electrode. to provide.

그러므로, 제 1절연판에 형성된 단차구멍에 상기 단차구멍의 직경보다 작은 직경을 갖는 단차봉이 삽입되어 열에 의해 단차봉이 변형되어도 단차구멍과 단차봉에 형성된 틈에 의해 제 2절연측판에 팽창력이 전위되지 않으므로 바람직하다.Therefore, even when the stepped rod having a diameter smaller than the diameter of the stepped hole is inserted into the stepped hole formed in the first insulating plate and the stepped rod is deformed by heat, the expansion force is not displaced in the second insulating side plate due to the gap formed in the stepped hole and the stepped rod. desirable.

또한, 본 발명의 제 3실시예에서의 상기 제 1절연판은 고강도 폴리카보네이 트(Poly-Carbonate)로 대체 형성되어 내충격성이 가장 우수하고 내열성 등이 우수하므로 바람직하다.In addition, the first insulating plate in the third embodiment of the present invention is preferable because it is formed of high-strength polycarbonate (Poly-Carbonate) is excellent in impact resistance and excellent heat resistance.

또한, 본 발명의 제 3실시예에서의 상기 단차봉은 테프론봉으로 형성되어 내열성과 전기절연성 및 내마모성이 우수하므로 절연체로 사용이 바람직하다.In addition, since the stepped rod in the third embodiment of the present invention is formed of a Teflon rod and is excellent in heat resistance, electrical insulation and abrasion resistance, it is preferably used as an insulator.

또한, 본 발명의 제 3실시예에서의 상기 제 1절연판에 형성된 다수개의 단차구멍 내주면과 상기 단차구멍에 삽입되는 단차봉의 외주면에 틈이 형성되므로 단차봉이 열에 의해 변형되더라도 형성된 틈에 의해 제 2절연측판으로 변형력이 전위되는 것이 차단된다.In addition, since a gap is formed in the inner peripheral surface of the plurality of stepped holes formed in the first insulating plate and the outer peripheral surface of the stepped rod inserted into the stepped hole in the third embodiment of the present invention, the second insulating is formed by the gap formed even if the stepped rod is deformed by heat. Dislocation of the strain force to the side plate is blocked.

이하, 본 발명의 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버를 첨부도면을 참조하여 실시예들을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings, a process chamber of an etching apparatus provided in an electrode.

< 제 1 실시예 ><First Embodiment>

본 발명의 제 1실시예의 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버를 설명하면 도 3에 도시한 바와 같이, 전극(120)의 양측면에 접한 상태로 위치시키는 제 1절연판(122)과, 이러한 제 1절연판(122)의 외측면에 접하는 금속박판(124)과, 전술한 금속박판(124)의 외측면에서 삽입되여 제 1절연판(122)에 체결시키는 다수개의 작은나사(P)와, 상술한 금속박판(124)의 외측면에 접촉되는 제 2절연측판 (126)과, 상술한 제 2절연판(126)의 외측에서 삽입되며 제 1절연판(122)에 체결된 금속박판(124)을 전극(120)에 체결시키는 볼트(B)와, 상술한 제 1절연판(122)과 금속박판(124)과 제 2절연측판(126)이 각각 접촉된 상부면에 부착되는 제 3절연상판(128)을 포함한다.When the insulator of the first embodiment of the present invention describes the process chamber of the etching equipment provided in the electrode, as shown in Figure 3, the first insulating plate 122 to be placed in contact with both sides of the electrode 120 A metal thin plate 124 in contact with the outer surface of the first insulating plate 122, a plurality of small screws P inserted into the outer surface of the metal thin plate 124 and fastened to the first insulating plate 122, and The second insulating side plate 126 in contact with the outer surface of the metal thin plate 124 and the metal thin plate 124 inserted from the outside of the second insulating plate 126 described above and fastened to the first insulating plate 122 are electrodes. The third insulating upper plate 128 attached to the upper surface of the bolt B fastened to the 120 and the above-described first insulating plate 122, the metal thin plate 124, and the second insulating side plate 126 are in contact with each other. It includes.

여기서, 상술한 제 1절연판(122)은 테프론(Teflon)으로 형성되고, 제 2절연측판(126)과 제 3절연상판(128)은 세라믹(Ceramic)으로 형성되는 것은 공지된 사항이다.Here, it is well known that the first insulating plate 122 is formed of Teflon, and the second insulating side plate 126 and the third insulating upper plate 128 are formed of ceramic.

상술한 제 1절연판(122)은 전극(120)의 양측면에 접한 상태로 위치되며 상술한 전극(120)과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖으며, 상술한 제 2절연측판(126)은 금속박판(124)과 동일한 측면 형상으로 소정의 두께를 갖는다.The first insulating plate 122 described above is positioned in contact with both sides of the electrode 120 and has a predetermined thickness in the same side shape as the electrode 120 described above, and the second insulating side plate 126 is formed of a metal thin plate. It has a predetermined thickness in the same side shape as 124.

상술한 금속박판(124)은 제 1절연판(122)과 동일한 측면 형상으로 두께가 얇은 박판이다.The metal thin plate 124 described above is a thin plate having the same side shape as the first insulating plate 122.

한편, 상술한 금속박판(124)은 테프론으로 형성된 제 1절연판(122)의 열팽창계수와 세라믹으로 형성된 제 2절연측판(126)의 열팽창계수 사이 값인 알루미늄이 사용되며, 상술한 알루미늄재에 한정되지 않고 상술한 절연체 개중에 열팽창계수가 가장 큰 테프론과 열팽창계수가 가장 작은 세라믹의 범위 안의 열팽창계수를 갖는 재질로 변경이 가능하다.On the other hand, the above-described metal thin plate 124 is used aluminum which is a value between the thermal expansion coefficient of the first insulating plate 122 formed of Teflon and the thermal expansion coefficient of the second insulating side plate 126 formed of ceramic, and is not limited to the above-described aluminum material. Instead, the above-described insulator can be changed to a material having a thermal expansion coefficient within the range of Teflon having the largest thermal expansion coefficient and a ceramic having the smallest thermal expansion coefficient.

그러므로, 도 3에 도시한 바와 같이, 식각공정이 수행되는 과정에서 공정챔버 내부에 열이 발생되며 이때, 각각 접촉된 상태로 전극(120)의 양측에 설치된 절연체는 개중 가장 열팽창계수가 큰 제 1절연판(122)과 제일 작은 제 2절연측판 (126)의 사이에 열팽창계수가 제 1절연판(122)과 제 2절연측판(126)의 사이 값인 금속박판(124)을 개입시켜 열팽창계수가 가장 큰 제 1절연판(122)의 팽창력이 개입된 금속박판(124)에 의해 흡수됨에 따라 제 2절연측판(126)에 미치는 팽창력이 최소화되므로 제 2절연측판(126)의 크랙에 의한 파손을 방지한다. Therefore, as illustrated in FIG. 3, heat is generated inside the process chamber during the etching process, and in this case, the insulators installed on both sides of the electrode 120 in contact with each other are the first having the largest coefficient of thermal expansion. The coefficient of thermal expansion between the insulating plate 122 and the smallest second insulating side plate 126 is increased through the metal thin plate 124 which is a value between the first insulating plate 122 and the second insulating side plate 126. As the expansion force of the first insulating plate 122 is absorbed by the metal thin plate 124 intervened, the expansion force on the second insulating side plate 126 is minimized, thereby preventing damage due to cracking of the second insulating side plate 126.

즉, 일체로 형성된 제 2절연측판(126)과, 작은나사(P)로 체결시켜 일체로 구성된 제 1절연판(122)과 금속박판(124)을 제 2절연측판(126)의 외측에서 볼트(B)에 의해 전극(120)에 각각 체결시켜 열팽창계수가 개중에서 가장 큰 제 1절연판(122)의 팽창력이 열팽창계수가 작은 금속박판(124)에 의해 흡수, 차단되므로 제 2절연측판(126)과 금속박판(124) 및 제 1절연판(122)을 볼트(B)에 의해 제 2절연측판(126)의 외측에서 전극(120)의 양측에 체결하여도 상술한 제 2절연측판(126)에 미치는 팽창력을 최소화시키는 것이다. 그러므로, 볼트(B)가 체결되는 제 1절연판(122)의 체결구멍은 외측면에 체결되는 금속박판(124)에 의해 변형이 최소화된다.That is, the first insulating plate 122 and the metal thin plate 124 integrally formed by fastening with the second insulating side plate 126 formed integrally with the small screw P are integrally formed with bolts outside the second insulating side plate 126. And the expansion force of the first insulating plate 122 having the largest thermal expansion coefficient among them is absorbed and blocked by the metal thin plate 124 having the smallest thermal expansion coefficient. And the thin metal plate 124 and the first insulating plate 122 are fastened to both sides of the electrode 120 from the outside of the second insulating side plate 126 by the bolt B to the second insulating side plate 126 described above. The impact is to minimize the expansion force. Therefore, the fastening hole of the first insulating plate 122 to which the bolt B is fastened is minimized by the metal thin plate 124 fastened to the outer surface.

한편, 제 1절연판(122)이나 금속박판(124) 및 제 2절연측판(126)이 파손됨에 따른 보수 작업을 실시할 경우, 제 1절연판(122)과 금속박판(124)과 제 2절연측판(126)에 일체로 체결된 볼트(B)를 분리한 다음, 금속박판(124)과 제 1절연판(122)을 각각 분리시켜 각각의 절연체를 보수 또는 교환한 다음 다시 체결한다.On the other hand, when performing repair work due to damage of the first insulating plate 122, the metal thin plate 124 and the second insulating side plate 126, the first insulating plate 122, the metal thin plate 124 and the second insulating side plate. After removing the bolt (B) integrally fastened to (126), and then separate the metal thin plate 124 and the first insulating plate 122 to repair or replace each insulator and then fasten again.

< 제 2 실시예 >Second Embodiment

본 발명의 제 2실시예의 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버를 설명하면, 도 4에서 도시한 바와 같이 전극(220)의 양측면에 각각 접촉된 상태로 위 치되는 제 1절연판(222)과, 이러한 제 1절연판(222)의 외측면에 각각 접하는 금속중판(224)과, 이 금속중판(224)의 외측에서 삽입되어 제 1절연판(222)에 접촉된 금속중판(224)을 전극(220)의 양측면에 각각 체결시키는 작은나사(P)와, 상술한 금속중판(224)의 외측면에 접촉되는 제 2절연측판(226)과, 상술한 제 2절연판(226)의 외측에서 삽입되어 금속중판(224)에 체결시키는 다수개의 볼트(B)와, 상술한 제 1절연판(222)과 금속중판(224)과 제 2절연측판(226)이 각각 결합된 상면에 전극(220)과 동일한 높이로 부착되는 제 3절연상판(228)을 포함한다.Referring to the process chamber of the etching apparatus provided in the electrode of the second embodiment of the present invention, as shown in Figure 4, the first insulating plate 222 is positioned in contact with both sides of the electrode 220, respectively The metal intermediate plate 224, which is in contact with the outer surface of the first insulating plate 222, and the metal intermediate plate 224, which is inserted from the outside of the metal intermediate plate 224 and is in contact with the first insulating plate 222, are attached to the electrode ( Small screws P fastened to both side surfaces of the 220, a second insulating side plate 226 contacting the outer surface of the metal intermediate plate 224, and the outside of the second insulating plate 226 described above are inserted. A plurality of bolts B fastened to the metal intermediate plate 224, and the first insulating plate 222, the metal intermediate plate 224, and the second insulating side plate 226, respectively, are coupled to the upper surface of the electrode 220. And a third insulating top plate 228 attached at a height.

상술한 제 1절연판(222)은 전극(220)과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖으며, 상술한 금속중판(224)은 상술한 제 1절연판(222)과 동일한 측면 형상으로 두께가 중간인 중판이고, 상술한 제 2절연측판(226)은 금속중판(224)과 동일한 측면 형상으로 소정의 두께를 갖는다.The first insulating plate 222 described above has a predetermined thickness in the same side shape as that of the electrode 220, and the above-described metal intermediate plate 224 is a middle plate having a middle thickness in the same side shape as the first insulating plate 222 described above. The second insulating side plate 226 has the same side surface shape as that of the metal intermediate plate 224 and has a predetermined thickness.

한편, 상술한 금속중판(224)은 테프론으로 형성된 제 1절연판(222)의 열팽창계수와 세라믹으로 형성된 제 2절연측판(224)의 열팽창계수 사이 값인 알루미늄재가 사용되며, 상술한 알루미늄재에 한정하지 않고 각각의 절연체 개중에 열팽창계수가 가장 큰 테프론과 열팽창계수가 가장 작은 세라믹의 범위 안인 열팽창계수를 갖는 재질로 변경이 가능하다.On the other hand, the above-described metal intermediate plate 224 is an aluminum material that is a value between the coefficient of thermal expansion of the first insulating plate 222 formed of Teflon and the coefficient of thermal expansion of the second insulating side plate 224 formed of ceramic, not limited to the above-described aluminum material It is possible to change the material to a material having a coefficient of thermal expansion within the range of Teflon having the largest coefficient of thermal expansion and the ceramic having the smallest coefficient of thermal expansion.

그러므로, 도 4에 도시한 바와 같이, 식각공정이 수행되는 과정에서 공정챔버 내부의 온도가 상승하면, 각각 접촉된 상태로 전극(220)의 양측에 설치된 절연체는 개중 가장 열팽창계수가 큰 제 1절연판(222)과 제일 작은 제 2절연측판(226)의 사이에 열팽창계수가 제 1절연판(222)과 제 2절연측판(226)의 사이 값인 금속중 판(224)을 개입시켜 열팽창계수가 가장 큰 제 1절연판(222)의 팽창력이 개입된 금속중판(224)에 의해 흡수됨에 따라 제 2절연측판(226)에 미치는 팽창력이 최소화되므로 제 2절연측판(226)에 크랙이 발생되는 것을 방지한다.Therefore, as shown in FIG. 4, when the temperature inside the process chamber rises during the etching process, the insulators disposed on both sides of the electrode 220 in contact with each other are the first insulating plates having the largest thermal expansion coefficient. The coefficient of thermal expansion between the 222 and the smallest second insulating side plate 226 is interposed between the first insulating plate 222 and the second insulating side plate 226 through the metal plate 224. As the expansion force of the first insulating plate 222 is absorbed by the intermetallic plate 224 intervening, the expansion force on the second insulating side plate 226 is minimized, thereby preventing cracks in the second insulating side plate 226.

즉, 제 2절연측판(226)과, 작은나사(P)로 전극(220)의 양측면에 제 1절연판(222)과 금속중판(224)을 체결시켜 열팽창계수가 개중에서 가장 큰 제 1절연판(222)의 팽창력이 열팽창계수가 작은 금속중판(224)에 의해 팽창력이 흡수, 차단되며, 볼트(B)에 의해 제 2절연측판(226)을 팽창율이 작은 금속중판(224)에 체결시키므로 제 2절연측판(226)에 전달되는 제 1절연판(222)의 팽창력이 최소화되므로 제 2절연측판(226)이 팽창력에 의해 파손되는 것을 방지한다. That is, the first insulating plate 226 and the metal intermediate plate 224 are fastened to both sides of the electrode 220 by the second insulating side plate 226 and the small screw P, so that the first insulating plate having the largest thermal expansion coefficient ( The expansion force of the 222 is absorbed and blocked by the metal plate 224 having a low coefficient of thermal expansion, and the second insulating side plate 226 is fastened to the metal plate 224 having a low expansion rate by a bolt (B). Since the expansion force of the first insulation plate 222 transmitted to the insulation side plate 226 is minimized, the second insulation side plate 226 is prevented from being damaged by the expansion force.

한편, 제 1절연판(222)이나 금속중판(224) 및 제 2절연측판(226)이 파손됨에 따른 보수 작업을 실시할 경우, 금속중판(224)에 체결된 제 2절연측판(226)에서 볼트(B)를 분리한 다음, 전극(220)의 양측면에 체결된 작은나사(P)를 분리시켜 금속중판(224)과 제 1절연판(222)을 보수 또는 교환한 다음 역순위로 다시 체결한다.On the other hand, when performing repair work due to damage of the first insulating plate 222 or the metal intermediate plate 224 and the second insulating side plate 226, the bolt in the second insulating side plate 226 fastened to the metal intermediate plate 224 After (B) is removed, the small screws (P) fastened to both sides of the electrode 220 are removed to repair or replace the metal plate 224 and the first insulating plate 222, and then refasten them in reverse order.

< 제 3 실시예 >Third Embodiment

본 발명의 제 3실시예의 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버를 설명하면, 상술한 전극(320)은 도 5에서 도시한 바와 같이 전극(320)의 양측면에 각각 접하며 양측면 가장자리 부근에 다수개의 단차구멍(323)이 형성된 제 1절연판(322)과, 이러한 제 1절연판(322)에 형성된 단차구멍(323)에 삽입되되 중앙에 관통구멍(325)이 형성된 단차봉(324)과, 상술한 제 1절연판(322)의 외측면에 각각 접촉 되는 제 2절연측판(326)과, 상술한 제 2절연판(326)의 외측에서 각각 삽입되며 이러한 제 2연결측판(326)이 제 1절연판(322)에 형성된 단차구멍(323)에 삽입되는 단차봉(324)의 관통구멍(325)으로 전극(320)의 양측면에 체결시키는 볼트(B)와, 상술한 제 1절연판(322)과 제 2절연측판(326)이 접촉된 상부면에 각각 부착되는 제 3절연상판(328)을 포함한다.When the insulator of the third embodiment of the present invention describes the process chamber of the etching equipment provided in the electrode, the above-described electrode 320 is in contact with both sides of the electrode 320, as shown in FIG. A first insulating plate 322 having two stepped holes 323, a stepped rod 324 inserted into a stepped hole 323 formed in the first insulating plate 322, and having a through hole 325 formed in the center thereof; The second insulating side plate 326 and the second insulating side plate 326 which are respectively in contact with the outer surface of the first insulating plate 322 and the second insulating plate 326 are respectively inserted in the second connecting side plate 326 is the first insulating plate ( A bolt B fastened to both sides of the electrode 320 by the through hole 325 of the stepped rod 324 inserted into the stepped hole 323 formed in the 322, the first insulating plate 322 and the second described above. And a third insulating upper plate 328 attached to the upper surface to which the insulating side plate 326 is in contact.

상술한 제 1절연판(322)은 전극(320)의 양측면에 접촉된 상태로 위치되고 상술한 전극(320)과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖으며 내측에 단차구멍(323)이 형성된다.The first insulating plate 322 described above is positioned in contact with both sides of the electrode 320, has a predetermined thickness in the same side shape as the electrode 320, and a stepped hole 323 is formed inside.

한편, 상술한 제 1절연판(322)은 고강도 폴리카보네이트(Poly-Carbonate)로 대체 형성 가능하다.On the other hand, the first insulating plate 322 described above may be formed of a high-strength polycarbonate (Poly-Carbonate).

상술한 단차봉(324)은 테프론재로 형성되고 상술한 제 1절연판(322)에 형성된 단차구멍(323)에 삽입될 수 있게 상응된 형상으로 단차가 형성되며 중앙부에 볼트(B)가 관통되는 관통구멍(325)이 형성된다.The stepped bar 324 is formed of a Teflon material and a step is formed in a corresponding shape so as to be inserted into the stepped hole 323 formed in the first insulating plate 322 described above, and the bolt B penetrates the center part. The through hole 325 is formed.

상술한 제 2절연측판(326)은 제 1절연판(322)과 동일한 측면 형상으로 소정의 두께를 갖는다.The second insulating side plate 326 described above has the same side shape as the first insulating plate 322 and has a predetermined thickness.

상술한 제 1절연판(322)에 형성된 단차구멍(323)의 내주면과 상술한 단차구멍(323)에 삽입되는 단차봉(324)의 외주면에 틈(327)이 형성된다.A gap 327 is formed in the inner circumferential surface of the stepped hole 323 formed in the first insulating plate 322 and the outer circumferential surface of the stepped rod 324 inserted into the stepped hole 323 described above.

아울러, 도 5에 도시한 바와 같이, 식각공정이 수행되는 과정에서 공정챔버 내부에 열이 발생되며 이때, 전극(320)의 양측면에 접촉된 제 1절연판(322)에 형성된 단차구멍(323)의 내주면과 상술한 단차구멍(323)에 삽입된 단차봉(324)의 외주 면 사이에 틈(327)이 형성되므로 제 1절연판(322)과 단차봉(324)이 팽창되더라도 틈(327)의 범위 내에서 팽창량이 수용되므로 팽창되여 제 2절연측판(326)으로 팽창력이 제 2절연측판(326)에 미치지 않는다.In addition, as shown in FIG. 5, heat is generated in the process chamber during the etching process, and at this time, the stepped holes 323 formed in the first insulating plate 322 in contact with both sides of the electrode 320 are formed. Since the gap 327 is formed between the inner circumferential surface and the outer circumferential surface of the stepped rod 324 inserted into the stepped hole 323 described above, even if the first insulating plate 322 and the stepped rod 324 are expanded, the range of the gap 327 is provided. Since the amount of expansion is accommodated therein, the expansion amount is expanded so that the expansion force does not reach the second insulating side plate 326.

즉, 전극(320) 양측에 설치된 제 1절연판(322)과, 이러한 제 1절연판(322)의 외측면에 접촉되는 제 2절연측판(326)의 외측에서 볼트(B)에 의해 제 2절연측판(326)과 제 1절연판(322)의 내부에 삽입된 단차봉(324)을 전극(320)의 양측면에 체결시키므로 제 1절연판(322)과 단차봉(324)이 팽창되더라도 제 1절연판의 단차구멍(323)에 삽입된 단차봉(324) 사이에 형성된 틈(327)의 범위 안에서 팽창되므로 그 팽창력이 제 2절연측판(326)에 전달되지 않으므로 파손을 방지한다.That is, the second insulating side plate by the bolt B on the outside of the first insulating plate 322 provided on both sides of the electrode 320 and the second insulating side plate 326 in contact with the outer surface of the first insulating plate 322. 326 and the stepped rod 324 inserted into the first insulating plate 322 are fastened to both sides of the electrode 320, so that the step of the first insulating plate 322 and the stepped rod 324 is expanded even when the stepped rod 324 is expanded. Since the expansion force is expanded within the range of the gap 327 formed between the stepped bars 324 inserted into the hole 323, the expansion force is not transmitted to the second insulating side plate 326, thereby preventing damage.

한편, 제 1절연판(322)이나 단차봉(324) 및 제 2절연측판(326)이 파손됨에 따른 보수 작업을 실시할 경우, 전극(320)의 양측면에 접촉되며 단차구멍(323)에 게재된 단차봉(324)의 관통구멍(325)을 통해 제 2절연측판(326)에 체결된 볼트(B)를 분리한 다음, 제 2절연측판(326)과 단차봉(324) 및 제 1절연판(322)을 각각 분리시켜 각각의 절연체를 보수 또는 교환한 다음 역순위로 체결한다.On the other hand, when the repair work is performed as the first insulating plate 322 or the stepped rod 324 and the second insulating side plate 326 are damaged, the two side surfaces of the electrode 320 are contacted and placed in the stepped hole 323. After the bolt B fastened to the second insulating side plate 326 through the through hole 325 of the stepped bar 324, the second insulating side plate 326 and the stepped bar 324 and the first insulating plate ( 322) are separated separately and each insulator is repaired or replaced, and fastened in reverse order.

이와 같은 본 발명의 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버는 열팽창계수와 기타 특성값이 각각 다른 상태로 전극에 장착된 절연체에 식각공정이 수행되는 과정에서 열팽창계수가 금속판을 절연체 사이에 개입시켜 변형력을 흡수 또는 차단하거나, 열에 의한 변형량이 수용되는 틈을 형성시켜 공정챔버 내부의 온도 상승시 하부챔버에 설치된 절연판에 크랙이 발생되는 것을 방지하는 효과가 있다.In the process chamber of the etching apparatus equipped with the insulator of the present invention as described above, the coefficient of thermal expansion intervenes the metal plate between the insulators during the etching process performed on the insulator mounted on the electrode with different thermal expansion coefficients and other characteristic values. By forming a gap that absorbs or blocks the deformation force or accommodates the deformation amount due to heat, there is an effect of preventing cracks in the insulation plate installed in the lower chamber when the temperature inside the process chamber rises.

Claims (10)

전극이 내부에 설치되는 식각장비의 공정챔버에 있어서,In the process chamber of the etching equipment, the electrode is installed inside, 상기 전극 양측면에 각각 접하며 상기 전극과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖는 제 1절연판;A first insulating plate in contact with both sides of the electrode and having a predetermined thickness in the same side shape as the electrode; 상기 제 1절연판의 외측면에 각각 접하며 상기 제 1절연판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖되 다수개의 작은 나사로 제 1절연판을 체결한 금속박판;A metal sheet contacting the outer surface of the first insulating plate and having a predetermined thickness in the same side shape as the first insulating plate, and fastening the first insulating plate with a plurality of small screws; 상기 금속박판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖으며, 상기 금속박판의 외측면에 각각 접하고 볼트로 제 1절연판과 금속박판을 전극에 체결시키는 제 2절연측판;A second insulating side plate having a predetermined thickness in the same side shape as that of the metal thin plate, the second insulating side plate being in contact with the outer surface of the metal thin plate and fastening the first insulating plate and the metal thin plate to the electrodes with bolts; 상기 제 1절연판과 금속박판과 제 2측판이 전극의 양측면에 체결된 상면에 전극과 동일한 높이로 각각 부착되는 제 3절연상판;을 포함한 구성을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버.The first insulating plate, the metal thin plate and the second side plate is attached to the upper surface fastened to both sides of the electrode, the third insulating upper plate is attached to the same height as the electrode, respectively; process comprising an insulator equipped with an electrode chamber. 제 1항에 있어서, 상기 금속박판의 열팽창계수는,According to claim 1, wherein the thermal expansion coefficient of the metal sheet, 테프론 보다는 작고 세라믹 보다는 큰 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버.Process chamber of the etching equipment provided with an electrode, characterized in that formed of a material smaller than Teflon and larger than ceramic. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 금속박판은,The method of claim 1 or 2, wherein the metal thin plate, 알루미늄판으로 형성된 것을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장 비의 공정챔버.Process chamber of an etching apparatus provided with an electrode, characterized in that formed of an aluminum plate. 전극이 내부에 설치되는 식각장비의 공정챔버에 있어서,In the process chamber of the etching equipment, the electrode is installed inside, 상기 전극 양측면에 각각 접하며 전극과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖는 제 1절연판;A first insulating plate in contact with both sides of the electrode and having a predetermined thickness in the same side shape as the electrode; 상기 제 1절연판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖고, 상기 제 1절연판의 외측면에 각각 접하며 다수개의 작은나사로 제 1절연판과 금속중판이 전극의 양측면에 체결된 금속중판;A metal intermediate plate having a predetermined thickness in the same side shape as that of the first insulating plate, wherein the first insulating plate and the metal intermediate plate are fastened to both sides of the electrode by a plurality of small screws, respectively contacting the outer surface of the first insulating plate; 상기 금속중판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖으며, 볼트에 의해 금속중판을 전극의 양측면에 체결시키는 제 2절연측판;A second insulating side plate having a predetermined thickness in the same side shape as that of the metal plate and fastening the metal plate to both sides of the electrode by bolts; 상기 제 1절연판과 금속중판과 제 2절연측판이 전극의 양측면에 체결된 상면에 전극과 동일한 높이로 각각 부착되는 제 3절연상판;을 포함한 구성을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버.The first insulating plate, the metal intermediate plate, and the second insulating side plate attached to both sides of the electrode on the upper surface of the third insulating upper plate respectively attached to the same height as the electrode; Process chamber. 제 4항에 있어서, 상기 금속중판의 열팽창계수는, The thermal expansion coefficient of claim 4, wherein 테프론 보다는 작고 세라믹 보다는 큰 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버.Process chamber of the etching equipment provided with an electrode, characterized in that formed of a material smaller than Teflon and larger than ceramic. 제 4항 또는 제 5항에 있어서, 상기 금속중판은,The method of claim 4 or 5, wherein the metal plate, 알루미늄판으로 형성된 것을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장 비의 공정챔버.Process chamber of an etching apparatus provided with an electrode, characterized in that formed of an aluminum plate. 전극이 내부에 설치되는 식각장비의 공정챔버에 있어서,In the process chamber of the etching equipment, the electrode is installed inside, 상기 전극의 양측면에 각각 접하며 상기 전극과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖고, 외측면에 다수개의 단차구멍이 형성된 제 1절연판;A first insulating plate in contact with both side surfaces of the electrode, the first insulating plate having a predetermined thickness in the same side shape as the electrode, and having a plurality of stepped holes formed in an outer side thereof; 상기 제 1절연판에 형성된 단차구멍에 결합되되 관통구멍이 중앙부에 형성된 단차봉;A stepped bar coupled to a stepped hole formed in the first insulating plate, wherein a stepped hole is formed in the center portion thereof; 상기 제 1절연판과 동일한 측면 형상으로 소정 두께를 갖으며, 상기 제 1절연판에 형성된 단차구멍에 관통구멍이 형성된 단차봉이 삽입되되 상기 단차봉의 관통구멍을 통해 볼트로 전극의 양측면에 체결시키는 제 2절연측판;Second insulation having a predetermined thickness in the same side shape as that of the first insulating plate and having a through hole formed in the stepped hole formed in the first insulating plate, and fastened to both sides of the electrode with bolts through the through hole of the stepped rod. shroud; 상기 제 1절연판과 제 2절연측판이 전극의 양측면에 체결된 상면에 전극전극 높이로 각각 부착되는 제 3절연상판;을 포함한 구성을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버.And a third insulating upper plate attached to upper surfaces of the first insulating plate and the second insulating side plate fastened to both sides of the electrode, respectively, at an electrode electrode height. The process chamber of an etching apparatus having an insulator provided therein. 제 7항에 있어서, 상기 제 1절연판은,The method of claim 7, wherein the first insulating plate, 고강도 폴리카보네이트(Poly-Carbonate)로 대체 형성된 것을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버.Process chamber of the etching equipment provided with an electrode, characterized in that formed by replacing the high-strength polycarbonate (Poly-Carbonate). 제 7항에 있어서, 상기 단차봉은,The method of claim 7, wherein the stepped bar, 테프론봉으로 형성된 것을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비 의 공정챔버.Process chamber of the etching equipment having an insulator, characterized in that formed by Teflon rods. 제 7항에 있어서, 상기 제 1절연판에 형성된 다수개의 단차구멍 내주면과 상기 단차구멍에 삽입되는 단차봉의 외주면에,8. A plurality of stepped hole inner circumferential surfaces formed in the first insulating plate and an outer circumferential surface of the stepped rod inserted into the stepped holes, 틈이 형성된 것을 특징으로 하는 절연체가 전극에 구비된 식각장비의 공정챔버.Process chamber of the etching equipment is provided with an insulator, characterized in that the gap formed in the electrode.
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JPH10340777A (en) 1997-06-06 1998-12-22 Toshiba Ceramics Co Ltd Planar heater
KR20010085739A (en) * 2000-02-29 2001-09-07 조셉 제이. 스위니 Coil and coil support for generating a plasma
KR20030066118A (en) * 2002-02-04 2003-08-09 주성엔지니어링(주) Showerhead type gas supplier which minimizes thermal expansion-induced deformation

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