KR100560634B1 - Non-volatile semiconductor memory - Google Patents

Non-volatile semiconductor memory Download PDF

Info

Publication number
KR100560634B1
KR100560634B1 KR1019990000655A KR19990000655A KR100560634B1 KR 100560634 B1 KR100560634 B1 KR 100560634B1 KR 1019990000655 A KR1019990000655 A KR 1019990000655A KR 19990000655 A KR19990000655 A KR 19990000655A KR 100560634 B1 KR100560634 B1 KR 100560634B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
bank
read
signal
enable signal
sense amplifier
Prior art date
Application number
KR1019990000655A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20000050639A (en
Inventor
김명재
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1019990000655A priority Critical patent/KR100560634B1/en
Publication of KR20000050639A publication Critical patent/KR20000050639A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100560634B1 publication Critical patent/KR100560634B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C2207/00Indexing scheme relating to arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C2207/06Sense amplifier related aspects
    • G11C2207/065Sense amplifier drivers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/06Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
    • G11C7/08Control thereof
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1051Data output circuits, e.g. read-out amplifiers, data output buffers, data output registers, data output level conversion circuits

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

본 발명에 따른 불휘발성 반도체 메모리 장치는, 각각이 복수 개의 메모리 셀들로 구성된 두 개의 뱅크들과, 상기 뱅크들에 각각 대응하는 감지 증폭기들 그리고 상기 감지 증폭기들을 구동시키기 위한 감지 증폭기 인에이블 신호들을 출력하는 제어 회로를 포함하여, 하나의 뱅크가 기입 동작을 수행하고 있을 때 동시에 다른 뱅크로부터 셀 데이터를 독출할 수 있다.A nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention outputs two banks each consisting of a plurality of memory cells, sense amplifiers corresponding to the banks, and sense amplifier enable signals for driving the sense amplifiers. Including a control circuit, when one bank is performing a write operation, cell data can be read from another bank at the same time.

Description

불휘발성 반도체 메모리 장치{NON-VOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY}Nonvolatile Semiconductor Memory Device {NON-VOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY}

도 1은 일반적인 플래시 메모리 셀의 단면도;1 is a cross-sectional view of a typical flash memory cell;

도 2는 종래의 플래시 EEPROM 장치를 보여주는 블록도;2 is a block diagram showing a conventional flash EEPROM device;

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플래시 EEPROM 장치를 보여주는 블록도;3 is a block diagram showing a flash EEPROM device according to a preferred embodiment of the present invention;

도 4는 도 3에 도시된 제 1 래치 및 제어 회로, 제 2 래치 및 제어 회로 그리고 입/출력 인터페이스를 상세히 보여주는 블록도;4 is a block diagram illustrating in detail the first latch and control circuit, the second latch and control circuit and the input / output interface shown in FIG. 3;

도 5는 도 4에 도시된 제 1 래치 및 제어 회로 내의 제어 회로를 보다 상세히 보여주는 회로도;5 is a circuit diagram showing in more detail the control circuitry in the first latch and control circuit shown in FIG. 4;

도 6은 도 4에 도시된 제 2 래치 및 제어 회로 내의 제어 회로를 보다 상세히 보여주는 회로도;6 is a circuit diagram showing in more detail the control circuitry in the second latch and control circuit shown in FIG. 4;

도 7은 도 4에 도시된 데이터 출력 선택 회로를 상세히 보여주는 회로도;7 is a circuit diagram showing in detail the data output selection circuit shown in FIG.

도 8은 도 3에 도시된 EEPROM 장치의 뱅크 1로부터 데이터를 독출할 때의 타이밍도; 그리고FIG. 8 is a timing diagram when reading data from bank 1 of the EEPROM device shown in FIG. 3; FIG. And

도 9는 도 3에 도시된 EEPROM 장치의 뱅크 2에서 기입 동작을 수행하고 있는 중에 뱅크 1로부터 데이터를 독출할 때의 타이밍도이다. FIG. 9 is a timing diagram when data is read from bank 1 while a write operation is performed in bank 2 of the EEPROM device shown in FIG. 3.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1 : 실리콘 기판 2 : 소스1: silicon substrate 2: source

3 : 드레인 4 : 플로팅 게이트3: drain 4: floating gate

5 : 제어 게이트 10 : 셀 어레이5: control gate 10: cell array

12, 112, 122 : 행 디코더 14, 114, 124 : 열 디코더12, 112, 122: row decoder 14, 114, 124: column decoder

20, 100 : 입/출력 인터페이스 30 : 섹터 정보 저장 회로20, 100: input / output interface 30: sector information storage circuit

32, 132 : 소거 제어 회로 34, 134 : 프로그램 제어 회로32, 132: erase control circuit 34, 134: program control circuit

36, 136, 138 : 래치 및 제어 회로
38, 140 : 고전압 발생 회로
36, 136, 138: latch and control circuit
38, 140: high voltage generating circuit

110 : 뱅크 1 셀 어레이 120 : 뱅크 2 셀 어레이110: bank 1 cell array 120: bank 2 cell array

210, 230 : 제어 회로 220, 240 :감지 증폭기210, 230: control circuit 220, 240: sense amplifier

250 : 데이터 출력 선택 회로 260 : 데이터 출력 버퍼250: data output selection circuit 260: data output buffer

본 발명은 불휘발성 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 플래시 EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory) 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly to a flash electrically erasable programmable read-only memory (EEPROM) device.

도 1은 일반적인 플래시 메모리 셀의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a typical flash memory cell.

도 1을 참조하면, 상기 플래시(flash) EEPROM 셀 트랜지스터는 일반적으로 절연막에 의해 완전히 둘러싸여 있고, 실리콘 기판(1) 상에 형성된 소스(source)(2)와 드레인(drain)(3) 사이에 배열된 전기적 플로팅 게이트(electrically floating gate)(4)와 워드 라인(word line)과 연결되는 제어 게이트(control gate)(5)를 갖는다. 셀 내에서 챠지 캐리어들(즉, 전자들)은 셀이 프로그램되었을 때 상기 절연막을 통해 상기 플로팅 게이트로 주입된다. 플래시 EEPROM 소자의 동작은 일반적으로 프로그램(program), 소거(erase), 독출(read)등의 3 가지 모드(mode)로 구분된다. Referring to FIG. 1, the flash EEPROM cell transistor is generally completely surrounded by an insulating film and is arranged between a source 2 and a drain 3 formed on the silicon substrate 1. An electrically floating gate 4 and a control gate 5 connected to a word line. Charge carriers (ie electrons) in the cell are injected into the floating gate through the insulating film when the cell is programmed. The operation of a flash EEPROM device is generally divided into three modes: program, erase, read.

플래시 셀은 기판으로부터 플로팅 게이트로 주입된 핫 일렉트론(hot electron)에 의해 프로그램된다. 그러한 효과를 유도하기 위해, 소스(2)와 벌크(bulk)(1)가 접지될 때 상기 제어 게이트(5)에는 높은 전압(예를 들어, +10V)을 인가하고, 상기 드레인(3)에는 핫 일렉트론을 발생시키기 위해 적절한 양의 전압(예를 들어, 5 ~ 6V)을 인가한다. The flash cell is programmed by hot electrons injected from the substrate into the floating gate. To induce such an effect, a high voltage (e.g., + 10V) is applied to the control gate 5 when the source 2 and the bulk 1 are grounded, and to the drain 3 Appropriate amount of voltage (e.g. 5-6V) is applied to generate hot electrons.

프로그램 모드에서 상기 플로팅 게이트는 핫 전자들을 축적하고 축적된 전자들의 흐름을 차단한다. 플로팅 게이트 상에 많은 양의 차단된 전자들의 축적은 셀 트랜지스터의 유효 드레솔드 전압(threshold voltage)(예를 들어, 약 6 ~ 7V)을 증가시키는 원인이 된다. 만일 이 증가가 충분히 크다면, 상기 셀 트랜지스터는 독출(read) 동작 동안 상기 제어 게이트(5)와 드레인(3)에 독출 전압이 인가될 때 비도전 상태로 남게 될 것이다. 이렇게 프로그램된 상태에서 상기 셀은 논리 '0'(OFF cell)으로 저장될 것이다. 그러한 셀들의 프로그램된 상태는 전원 공급이 중단되더라도 유지된다. In the program mode, the floating gate accumulates hot electrons and blocks the flow of accumulated electrons. Accumulation of a large amount of blocked electrons on the floating gate causes an increase in the effective threshold voltage (eg, about 6-7V) of the cell transistor. If this increase is large enough, the cell transistor will remain in a non-conductive state when a read voltage is applied to the control gate 5 and the drain 3 during a read operation. In this programmed state the cell will be stored as a logic '0' (OFF cell). The programmed state of such cells is maintained even if the power supply is interrupted.

플래시 셀 트랜지스터 소거는 셀의 플로팅 게이트에 축적된 전하를 제거하는 것이다. 플래시 셀의 상기 소거는 예를 들어, 셀의 소스(2)와 드레인(3)을 플로팅 시키면서 제어 게이트(5)로 음의 고전압(negative high voltage)(예로서, -10V)을 그리고 벌크로 양의 전압(positive voltage)(예로서, 5 ~ 6V)을 인가함으로써 수행될 수 있다. 이는, 상기 플로팅 게이트와 상기 벌크 사이의 얇은 절연막을 통해 상기 셀 트랜지스터의 드레솔드 전압(예를 들어, 1 ~ 3V)의 감소를 유도하는 콜드 전자 터널링(즉, Fowler-Nordheim 터널링)을 야기한다. 상기 소거 전압은 수용할 수 있는 최대 드레솔드 전압 이하에서 소거 전압이 소거될 때까지 상기 셀에 인가될 것이다. 만일 플래시 셀이 소거되면 이는 대량으로 수행될 것이다. 이 경우, 상기 셀은 논리 '1'(ON cell)을 저장할 것이다. 따라서, 상기 비트 라인 전류의 모니터링에 의해 상기 셀의 프로그램/소거 상태(즉, 1 또는 0)가 결정될 수 있다.Flash cell transistor erase removes the charge accumulated in the floating gate of the cell. The erasure of the flash cell can be achieved by drawing a negative high voltage (e.g. -10V) and bulk to the control gate 5, for example, while floating the source 2 and drain 3 of the cell. It can be performed by applying a positive voltage (e.g., 5-6V). This causes cold electron tunneling (ie, Fowler-Nordheim tunneling), which leads to a reduction in the threshold voltage (eg, 1 to 3 V) of the cell transistor through the thin insulating film between the floating gate and the bulk. The erase voltage will be applied to the cell until the erase voltage is erased below the maximum acceptable threshold voltage. If the flash cell is erased this will be done in bulk. In this case, the cell will store a logic '1' (ON cell). Thus, the program / erase state (ie, 1 or 0) of the cell can be determined by monitoring the bit line current.

일련의 독출 동작이 발생하는 동안, 상기 소거 동작에 의해 드레솔드 전압이 낮아진 메모리 셀은 제어 게이트(5)에 일정 전압 또는 전원 전압(예로서, 4 ~ 5V)을 인가하면, 드레인(3)으로부터 소스(2)로 전류 경로가 형성되는데, 이 때 메모리 셀이 온(ON)되었다고 한다.During a series of read operations, a memory cell whose threshold voltage is lowered by the erase operation is applied from the drain 3 when a constant voltage or a power supply voltage (for example, 4 to 5 V) is applied to the control gate 5. A current path is formed to the source 2, where the memory cell is said to be ON.

도 2는 종래의 플래시 EEPROM 장치를 보여주는 블록도이다. 도 2를 참조하면, 상기 플래시 메모리 장치는 불휘발성 EEPROM 셀 어레이(10), 행 디코더(row decoder)(12), 열 디코더(column decoder)(14), 입출력 인터페이스(Input/Output interface)(20), 섹터 정보 저장 회로(30), 소거 제어 회로(32), 프로그램 제어 회로(34), 래치 및 제어 회로(36) 그리고 고전압 발생 회로(38)를 포함한다.2 is a block diagram showing a conventional flash EEPROM device. Referring to FIG. 2, the flash memory device includes a nonvolatile EEPROM cell array 10, a row decoder 12, a column decoder 14, and an input / output interface 20. ), A sector information storage circuit 30, an erase control circuit 32, a program control circuit 34, a latch and control circuit 36, and a high voltage generation circuit 38.

상기 입/출력 인터페이스(20)는 외부 입력 신호들(nCE, nOE, nWE, nBYTE, nRESET, nRY/BY, A0~A19, DQ0~DQ15)을 받아들여 각 제어 블록들로 제어 신호와 어 드레스 등을 제공하고, 상기 래치 및 제어 회로(36)와 외부와의 데이터 입/출력을 인터페이스한다. 상기 고전압 발생부(38)는 전원 전압(예를 들어, 2.7 ~ 3.6V)을 이용하여 고전압(예를 들어, 5 ~6V, 10V 등)을 발생한다. 상기 소거 제어 회로(32)는 외부 소거 명령 신호를 받아들여 상기 고전압 발생부(38)가 소거 동작에 적합한 전압을 발생하도록 제어 신호를 출력하고, 소거 동작을 알리는 신호를 상기 행 디코더(12)로 출력한다. 또한, 상기 메모리 장치가 소거 동작을 수행하고 있을 때에는 상기 장치가 동작(BUSY) 상태임을 알리고, 완료시에는 자동적으로 준비(READY) 상태를 알려 다음 동작을 위한 명령어 입력을 준비한다. 상기 섹터 정보 저장 회로(30)는 상기 메모리 장치의 소거 동작시 소거되는 섹터에 대한 정보 즉, 소거 여부에 대한 정보를 가지며 소거 섹터에 대한 정보를 상기 소거 제어 회로(32)와 프로그램 제어 회로(34)로 제공한다.The input / output interface 20 receives external input signals nCE, nOE, nWE, nBYTE, nRESET, nRY / BY, A0 to A19, DQ0 to DQ15, and controls signals and addresses to the respective control blocks. And interface data input / output with the latch and control circuit 36 and the outside. The high voltage generator 38 generates a high voltage (for example, 5 to 6 V, 10 V, etc.) using a power supply voltage (for example, 2.7 to 3.6 V). The erase control circuit 32 receives an external erase command signal, outputs a control signal so that the high voltage generator 38 generates a voltage suitable for the erase operation, and sends a signal indicating the erase operation to the row decoder 12. Output In addition, when the memory device is performing an erase operation, the device notifies that the device is in a BUSY state. Upon completion, the device automatically notifies the READY state to prepare for input of a command for the next operation. The sector information storage circuit 30 has information on a sector to be erased during an erase operation of the memory device, that is, information on whether or not to erase the memory device. The sector information storage circuit 30 stores information about an erase sector on the erase control circuit 32 and the program control circuit 34. To provide.

상기 프로그램 제어 회로(34)는 일련의 프로그램 동작을 제어한다. 외부 프로그램 명령 신호를 받아들여 상기 고전압 발생부(38)가 프로그램 동작에 적합한 전압을 발생하도록 제어 신호를 출력한다. 또한, 상기 메모리 장치가 프로그램 동작을 수행하고 있을 때에는 상기 장치가 동작(BUSY) 상태임을 알리고, 완료시에는 자동적으로 준비(READY) 상태를 알려 다음 동작을 위한 명령어 입력을 준비한다. 상기 래치 및 제어 회로(36)는 독출 모드에서 셀 어레이(10)의 데이터를 감지 증폭기(미 도시됨)를 통해 감지하여 입/출력 인터페이스(20)로 출력하고, 프로그램 모드에서 상기 입/출력 인터페이스(20)로부터 입력된 데이터를 상기 셀 어레이(10)로 제공한다.The program control circuit 34 controls a series of program operations. In response to an external program command signal, the high voltage generator 38 outputs a control signal to generate a voltage suitable for a program operation. In addition, when the memory device is performing a program operation, the device notifies that the device is in a BUSY state, and upon completion, the device automatically informs the READY state to prepare for input of a command for the next operation. The latch and control circuit 36 senses data of the cell array 10 through a sense amplifier (not shown) in a read mode and outputs the data to the input / output interface 20, and in the program mode, the input / output interface. Data input from 20 is provided to the cell array 10.

대부분의 최신 고밀도 기술을 사용한 플래시 메모리 장치들은 칩 크기를 줄이기 위해 세그먼트 셀 어레이 구조를 채용한다. 즉, 벌크와 셀들은 다수의 섹터들로 나누어져 있고, 섹터 내 셀들의 소스들은 공통적으로 대응하는 벌크와 연결되어 있다. 이러한 구조는 섹터(예를 들어, 16k 또는 64k 바이트 용량)내 모든 셀들이 동시에 소거되도록 한다.Most flash memory devices using the latest high density technologies employ segmented cell array structures to reduce chip size. That is, the bulk and the cells are divided into a number of sectors, and the sources of cells in the sector are commonly connected to the corresponding bulk. This structure allows all cells in a sector (eg 16k or 64k byte capacity) to be erased simultaneously.

상기 소거 동작은 섹터 단위로 수행되는데, 이 때 소요되는 시간은 섹터당 수백 마이크로초(μsec) 내지 수 초(sec) 이상 소요되기 때문에 소거 동작이 수행되는 동안 다른 동작(예컨대, 독출 동작)을 전혀 할 수 없었다. 근래에는 소거-서스펜드 앤 리쥼(erase-suspend & resume) 동작을 통해 소정 섹터에 대한 소거 동작이 수행되고 있는 동안 다른 섹터에 대한 다른 동작(예컨대, 독출 동작)이 요청되면, 소거 동작을 잠시 멈추고 원하는 다른 동작(예컨대, 독출 동작)을 수행하고 나서 다시 소거 동작을 수행할 수 있다. 그러나, 이것은 매우 번거러운 동작이고, 불휘발성 반도체 메모리 장치의 동작 속도가 향상되지는 않는다.The erase operation is performed sector by sector, and the time required is several hundred microseconds (μsec) to several seconds (sec) or more per sector, so that no other operation (for example, a read operation) is performed while the erase operation is performed. I could not. Recently, when an erase operation for a sector is requested through an erase-suspend & resume operation, if another operation is requested for another sector (for example, a read operation), the erase operation is temporarily stopped. After performing another operation (eg, a read operation), the erase operation may be performed again. However, this is a very cumbersome operation, and the operation speed of the nonvolatile semiconductor memory device is not improved.

따라서, 본 발명의 목적은 메모리 셀 어레이를 다수 개의 섹터들을 포함하는 복수 개의 뱅크(bank)들로 구분하고, 각각의 뱅크에 대해 독출, 프로그램 및 소거 제어를 개별적으로 수행하는 불휘발성 반도체 메모리 장치를 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to divide a memory cell array into a plurality of banks including a plurality of sectors, and to perform a read, program, and erase control for each bank separately. To provide.

본 발명의 또다른 목적은 하나의 뱅크에 대한 제 1 동작이 수행중일 때, 다른 뱅크에 대한 제 2 동작을 병렬로 동시에 수행할 수 있는 불휘발성 반도체 메모리 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a nonvolatile semiconductor memory device capable of simultaneously performing a second operation for another bank in parallel when a first operation for one bank is being performed.

상술한 바와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 불휘발성 반도체 메모리 장치는: 각각이 복수 개의 메모리 셀들로 구성된 적어도 두 개의 뱅크들과; 상기 뱅크들에 각각 대응하며, 대응하는 제어 신호에 응답하여 대응하는 뱅크로부터의 데이터를 각각 감지 증폭하는 감지 증폭기들과; 상기 뱅크들에 대응하는 독출 인에이블 신호 및 기입 인에이블 신호에 응답하여, 상기 감지 증폭기들 중 상기 독출 인에이블 신호 및 기입 인에이블 신호에 대응하는 감지 증폭기를 구동시키기 위한 상기 제어 신호를 출력하는 제어 회로 및; 상기 감지 증폭기들 중 상기 독출 인에이블 신호에 대응하는 감지 증폭기로부터의 데이터를 선택적으로 출력하는 출력 선택 회로를 포함하되, 상기 제어 회로는, 상기 뱅크들 중 하나가 기입 인에이블되어 있을 때, 다른 뱅크에 대응하는 독출 인에이블 신호가 인가되면 상기 독출 인에이블 신호에 대응하는 감지 증폭기를 인에이블하기 위한 상기 제어 신호를 출력한다.According to a feature of the present invention for achieving the object of the present invention as described above, the nonvolatile semiconductor memory device comprises: at least two banks each consisting of a plurality of memory cells; Sense amplifiers each corresponding to the banks, each sensing amplifier amplifying data from the corresponding bank in response to a corresponding control signal; A control for outputting the control signal for driving a sense amplifier corresponding to the read enable signal and the write enable signal among the sense amplifiers in response to the read enable signal and the write enable signal corresponding to the banks; Circuit and; An output selector circuit for selectively outputting data from the sense amplifier corresponding to the read enable signal of the sense amplifiers, wherein the control circuitry comprises a second bank when one of the banks is write enabled. When the read enable signal corresponding to the signal is applied, the control signal for enabling the sense amplifier corresponding to the read enable signal is output.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제어 회로는, 상기 뱅크들 중 하나의 뱅크에 대응하는 상기 독출 인에이블 신호 및 기입 인에이블 신호에 응답하여, 상기 뱅크에 대응하는 상기 감지 증폭기를 구동시키기 위한 상기 제어 신호를 출력하는 제 1 제어 회로 및; 상기 뱅크들 중 다른 하나의 뱅크에 대응하는 상기 독출 인에이블 신호 및 기입 인에이블 신호에 응답하여, 상기 뱅크에 대응하는 상기 감지 증폭기를 구동시키기 위한 상기 제어 신호를 출력하는 제 2 제어 회로를 포함한다.In a preferred embodiment, the control circuit is adapted to drive the sense amplifier corresponding to the bank in response to the read enable signal and the write enable signal corresponding to one of the banks. A first control circuit for outputting; And a second control circuit outputting the control signal for driving the sense amplifier corresponding to the bank in response to the read enable signal and the write enable signal corresponding to one of the other banks. .

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 제어 회로는, 상기 독출 인에 이블 신호가 활성화되었는 지를 검출하는 제 1 검출 회로와; 상기 기입 인에이블 신호가 활성화되었는 지를 검출하는 제 2 검출 회로 및; 상기 제 1 및 제 2 검출 회로로부터 적어도 하나의 검출 신호가 입력될 때 상기 제어 신호를 출력하는 로직 회로를 포함한다.In a preferred embodiment, the first and second control circuits comprise: a first detection circuit for detecting whether the read enable signal is activated; A second detection circuit for detecting whether the write enable signal is activated; And a logic circuit for outputting the control signal when at least one detection signal is input from the first and second detection circuits.

이와 같은 장치에 의해서, 적어도 두 개의 뱅크를 포함하는 불휘발성 메모리 장치에서 각각의 뱅크에 대해 독출, 프로그램 및 소거 동작이 개별적으로 수행된다. 따라서, 하나의 뱅크가 기입 동작을 수행하고 있을 때 동시에 다른 뱅크로부터 메모리 셀 데이터를 독출할 수 있는 불휘발성 메모리 장치를 구현할 수 있다. 그 결과, 불휘발성 반도체 메모리 장치의 동작 속도가 향상된다.By such a device, read, program and erase operations are performed separately for each bank in a nonvolatile memory device including at least two banks. Therefore, a nonvolatile memory device capable of simultaneously reading memory cell data from another bank when one bank is performing a write operation may be implemented. As a result, the operation speed of the nonvolatile semiconductor memory device is improved.

(실시예)(Example)

이하 본 발명에 따른 실시예를 첨부된 도면 도 3 내지 도 9를 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 9.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플래시 EEPROM 장치를 보여주는 블록도이다. 상기 플래시 메모리 장치는 입출력 인터페이스(Input/Output interface)(100)와 각각이 복수 개의 불휘발성 EEPROM 셀들로 구성된 다수 개의 섹터들을 포함하는 제 1 뱅크(110) 및 제 2 뱅크(120), 상기 제 1 뱅크(100)에 대한 행 디코더(112), 열 디코더(124), 래치 및 제어 회로(136)와, 상기 제 2 뱅크에 대한 행 디코더(122), 열 디코더(124), 래치 및 제어 회로(138)와, 섹터 정보 저장 회로(130), 소거 제어 회로(132), 프로그램 제어 회로(134) 그리고 고전압 발생 회로(140)를 포함한다.3 is a block diagram illustrating a flash EEPROM device according to a preferred embodiment of the present invention. The flash memory device includes an input / output interface 100 and a first bank 110 and a second bank 120 each including a plurality of sectors each consisting of a plurality of nonvolatile EEPROM cells. Row decoder 112, column decoder 124, latch and control circuit 136 for the bank 100, and row decoder 122, column decoder 124, latch and control circuit for the second bank ( 138, a sector information storage circuit 130, an erase control circuit 132, a program control circuit 134, and a high voltage generation circuit 140.

상기 입/출력 인터페이스(100)는 외부 입력 신호들(nCE, nOE, nWE, nBYTE, nRESET, nRY/BY, A0~A19, DQ0~DQ15)을 받아들여 각 제어 블록들로 제어 신호와 어드레스 등을 제공하고, 상기 래치 및 제어 회로들(136, 138)과 외부와의 데이터 입/출력을 인터페이스한다. 상기 고전압 발생회로(140)는 전원 전압(예를 들어, 2.7 ~ 3.6V)을 이용하여 고전압들(예를 들어, 5 ~6V, 10V 등)을 발생한다. 상기 소거 제어 회로(132)는 외부 소거 명령을 받아들여 상기 고전압 발생회로(140)가 소거 동작에 적합한 전압을 발생하도록 제어 신호를 출력하고, 소거 동작을 알리는 신호를 상기 행 디코더들(112, 122)로 출력한다. 또한, 상기 메모리 장치가 소거 동작을 수행하고 있을 때에는 상기 장치가 동작(BUSY) 상태임을 알리고, 완료시에는 자동적으로 준비(READY) 상태를 알려 다음 동작을 위한 명령어 입력을 준비한다. 상기 소거 제어 회로(132)는 상기 메모리 장치의 소거 동작시 소거되는 섹터에 대한 정보 즉, 소거 여부에 대한 정보를 가지며 소거 섹터에 대한 정보를 상기 섹터 정보 저장 회로(130)와 프로그램 제어 회로(134)로 제공한다.The input / output interface 100 receives external input signals nCE, nOE, nWE, nBYTE, nRESET, nRY / BY, A0 ~ A19, DQ0 ~ DQ15, and supplies control signals and addresses to the respective control blocks. And interface data input / output with the latch and control circuits 136 and 138. The high voltage generation circuit 140 generates high voltages (eg, 5 to 6V, 10V, etc.) using a power supply voltage (eg, 2.7 to 3.6V). The erase control circuit 132 receives an external erase command and outputs a control signal such that the high voltage generation circuit 140 generates a voltage suitable for an erase operation, and outputs a signal informing of the erase operation to the row decoders 112 and 122. ) In addition, when the memory device is performing an erase operation, the device notifies that the device is in a BUSY state. Upon completion, the device automatically notifies the READY state to prepare for input of a command for the next operation. The erase control circuit 132 has information on a sector to be erased during an erase operation of the memory device, that is, information on whether or not to erase the memory device. To provide.

상기 프로그램 제어 회로(134)는 일련의 프로그램 동작을 제어한다. 외부 프로그램 명령 신호를 받아들여 상기 고전압 발생부(38)가 프로그램 동작에 적합한 전압을 발생하도록 제어 신호를 출력한다. 또한, 상기 메모리 장치가 프로그램 동작을 수행하고 있을 때에는 상기 장치가 동작(BUSY) 상태임을 알리고, 완료시에는 자동적으로 준비(READY) 상태를 알려 다음 동작을 위한 명령어 입력을 준비한다. 상기 래치 및 제어 회로(136)는 독출 모드에서 뱅크 1(110)의 데이터를 감지 증폭기(미 도시됨)를 통해 감지하여 입/출력 인터페이스(100)로 출력하고, 프로그램 모 드에서 상기 입/출력 인터페이스(100)로부터 입력된 데이터를 상기 뱅크 1(110)로 제공한다. 상기 래치 및 제어 회로(138)는 독출 모드에서 뱅크 2(120)의 데이터를 감지 증폭기(미 도시됨)를 통해 감지하여 입/출력 인터페이스(100)로 출력하고, 프로그램 모드에서 상기 입/출력 인터페이스(100)로부터 입력된 데이터를 상기 뱅크 2(120)로 제공한다.The program control circuit 134 controls a series of program operations. In response to an external program command signal, the high voltage generator 38 outputs a control signal to generate a voltage suitable for a program operation. In addition, when the memory device is performing a program operation, the device notifies that the device is in a BUSY state, and upon completion, the device automatically informs the READY state to prepare for input of a command for the next operation. The latch and control circuit 136 senses data of the bank 1 110 through a sense amplifier (not shown) in the read mode and outputs the data to the input / output interface 100, and in the program mode, the input / output. The data input from the interface 100 is provided to the bank 1 110. The latch and control circuit 138 senses data of the bank 2 120 through a sense amplifier (not shown) in a read mode and outputs the data to the input / output interface 100, and in the program mode, the input / output interface. Data input from 100 is provided to the bank 2 120.

도 4는 도 3에 도시된 제 1 래치 및 제어 회로, 제 2 래치 및 제어 회로 그리고 입/출력 인터페이스를 상세히 보여주는 블록도이다. 4 is a block diagram illustrating in detail a first latch and control circuit, a second latch and control circuit, and an input / output interface shown in FIG. 3.

도 4를 참조하면, 상기 제 1 래치 및 제어 회로(136)는 감지 증폭기(220)와 상기 감지 증폭기(220)를 제어하기 위한 제어 회로(210)를 포함한다. 상기 제 2 래치 및 제어 회로(138)는 감지 증폭기(240)와 상기 감지 증폭기(240)를 제어하기 위한 제어 회로(230)를 포함한다. 그리고 상기 입/출력 인터페이스(100)는 데이터 선택 출력 회로(250) 및 데이터 출력 버퍼(260)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the first latch and control circuit 136 includes a sense amplifier 220 and a control circuit 210 for controlling the sense amplifier 220. The second latch and control circuit 138 includes a sense amplifier 240 and a control circuit 230 for controlling the sense amplifier 240. The input / output interface 100 includes a data select output circuit 250 and a data output buffer 260.

상기 감지 증폭기들(220, 240)은 독출 모드에서 선택된 셀 트랜지스터의 드레솔드 전압에 따라 프리챠지 레벨로 유지되거나 그라운드 전압 레벨로 발전(develop)되는 비트 라인의 전위와 레퍼런스 비트 라인의 전위 사이의 차이를 감지하여 증폭한다.The sense amplifiers 220 and 240 have a difference between a potential of a bit line and a potential of a reference bit line, which are maintained at a precharge level or developed at a ground voltage level according to the threshold voltage of a selected cell transistor in a read mode. Detect and amplify.

제어 회로(210)는 독출 모드에서 어드레스 천이(address transition)시 또는 칩 인에이블(chip enable)시 활성화되는 독출 인에이블 신호(ATD_READ), 기입 모드에서 어드레스 천이시 또는 칩 인에이블시 활성화되는 기입 인에이블 신호(ATD_WRITE), 뱅크 1(110)이 기입 모드(프로그램 모드 또는 소거 모드)일 때 활성화되는 뱅크 1 동작 신호(BANKBUSY1), 독출 모드에서 뱅크 1이 선택되었음을 나타내는 신호(RDBASEL1), 기입 모드에서 뱅크 1이 선택되었음을 나타내는 신호(WTBASEL1)를 받아들여, 상기 감지 증폭기(220)를 인에이블하기 위한 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE1)를 발생한다.The control circuit 210 read-in signal ATD_READ that is activated at an address transition or chip enable in a read mode, and write-in enabled at an address transition or a chip enable in a write mode. Able signal ATD_WRITE, bank 1 operation signal BANKBUSY1 that is activated when bank 1 110 is in write mode (program mode or erase mode), signal RDBASEL1 indicating that bank 1 is selected in read mode, in write mode It accepts a signal WTBASEL1 indicating that bank 1 is selected, and generates a sense amplifier enable signal SAE1 for enabling the sense amplifier 220.

제어 회로(230)는 상기 독출 인에이블 신호(ATD_READ), 상기 기입 인에이블 신호(ATD_WRITE), 뱅크 2(120)가 기입 모드(프로그램 모드 또는 소거 모드)일 때 활성화되는 뱅크 2 동작 신호(BANKBUSY2), 독출 모드에서 뱅크 2가 선택되었음을 나타내는 신호(RDBASEL2), 기입 모드에서 뱅크 2가 선택되었음을 나타내는 신호(WTBASEL2)를 받아들여, 상기 감지 증폭기(240)를 인에이블하기 위한 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE2)를 발생한다.The control circuit 230 is a bank 2 operation signal BANKBUSY2 that is activated when the read enable signal ADT_READ, the write enable signal ADT_WRITE, and the bank 2 120 are in a write mode (program mode or erase mode). And a sense amplifier enable signal SAE2 for receiving the signal RDBASEL2 indicating that bank 2 is selected in a read mode and the signal WTBASEL2 indicating bank 2 being selected in a write mode and enabling the sense amplifier 240. Will occur).

상기 독출 모드 뱅크 1 선택 신호(RDBASEL1)와 독출 모드 뱅크 2 선택 신호(RDBASEL2)가 동시에 활성화되는 경우는 없으며, 또한 상기 기입 모드 뱅크 1 선택 신호(WTBASEL1)와 기입 모드 뱅크 2 선택 신호(WTBASEL2)가 동시에 활성화되는 경우는 없다. 상기 뱅크 동작 신호들(BANKBUSY1, BANKBUSY2)이 동시에 활성화되더라도, 상기 기입 모드 뱅크 선택 신호들(WTBASEL1, WTBASEL2) 가운데 기입 모드가 수행되고 있는 뱅크에 대응하는 기입 모드 뱅크 선택 신호만 활성화된다.The read mode bank 1 select signal RDBASEL1 and the read mode bank 2 select signal RDBASEL2 are not activated at the same time, and the write mode bank 1 select signal WTBASEL1 and the write mode bank 2 select signal WTBASEL2 are not simultaneously activated. It is not activated at the same time. Even when the bank operation signals BANKBUSY1 and BANKBUSY2 are simultaneously activated, only the write mode bank selection signal corresponding to the bank in which the write mode is performed among the write mode bank selection signals WTBASEL1 and WTBASEL2 is activated.

상기 감지 증폭기(220)는 상기 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE1)의 라이징 에지(rising edge)에서 대응하는 뱅크의 셀 데이터를 감지하고, 폴링 에지(falling edge)에서는 감지된 셀 데이터 신호(DOUT1)를 입/출력 인터페이스(100)의 데이터 출력 선택 회로(250)로 전송한다. 상기 감지 증폭기(240)는 상기 감지 증폭기 인 에이블 신호(SAE2)의 라이징 에지에서 대응하는 뱅크의 셀 데이터를 감지하고, 폴링 에지에서는 감지된 셀 데이터 신호(DOUT2)를 입/출력 인터페이스(100)의 데이터 출력 선택 회로(250)로 전송한다.The sense amplifier 220 senses cell data of a corresponding bank at a rising edge of the sense amplifier enable signal SAE1, and detects the sensed cell data signal DOUT1 at a falling edge. The data output selection circuit 250 of the input / output interface 100 transmits the data. The sense amplifier 240 senses cell data of a corresponding bank at the rising edge of the sense amplifier enable signal SAE2, and detects the sensed cell data signal DOUT2 at the falling edge of the input / output interface 100. The data output selection circuit 250 transmits the data.

상기 데이터 출력 선택 회로(250)는 독출 모드 뱅크 2 선택 신호(RDBASEL2)에 응답하여 상기 감지 증폭기들(220, 240)로부터 입력되는 신호들(DOUT1, DOUT2) 가운데 하나를 선택적으로 출력한다. 즉, 상기 선택 신호(RDBASEL2)가 로우 레벨일 때, 상기 감지 증폭기(220)로부터 입력되는 신호를 출력하고, 상기 선택 신호(RDBASEL2)가 하이 레벨일 때, 상기 감지 증폭기(240)로부터 입력되는 신호를 출력한다.The data output selection circuit 250 selectively outputs one of the signals DOUT1 and DOUT2 input from the sense amplifiers 220 and 240 in response to the read mode bank 2 selection signal RDBASEL2. That is, a signal input from the sense amplifier 220 is output when the selection signal RDBASEL2 is at a low level, and a signal input from the sense amplifier 240 when the selection signal RDBASEL2 is at a high level. Outputs

도 5는 도 4에 도시된 제 1 래치 및 제어 회로 내의 제어 회로를 보다 상세히 보여주는 회로도이다.FIG. 5 is a circuit diagram illustrating the control circuit in the first latch and control circuit shown in FIG. 4 in more detail.

도 5를 참조하면, 제어 회로(210)는 네 개의 인버터(312, 314, 322, 328), 두 개의 낸드 게이트(316, 320) 그리고 세 개의 노어 게이트(318, 324, 326)를 포함한다. 상기 인버터(312)는 상기 독출 인에이블 신호(ATD_READ)를 받아들여 반전된 신호를 출력하고, 상기 인버터(314)는 상기 뱅크 1 동작 신호(BANKBUSY1)를 받아들여 반전된 신호를 출력하고, 상기 인버터(322)는 상기 독출 인에이블 신호(ATD_WRITE)를 받아들여 반전된 신호를 출력한다.Referring to FIG. 5, the control circuit 210 includes four inverters 312, 314, 322, 328, two NAND gates 316, 320, and three NOR gates 318, 324, 326. The inverter 312 receives the read enable signal ADT_READ and outputs the inverted signal, and the inverter 314 receives the bank 1 operation signal BANKBUSY1 and outputs the inverted signal, and the inverter 322 receives the read enable signal ADT_WRITE and outputs the inverted signal.

상기 낸드 게이트(316)는 상기 독출 모드 뱅크 1 선택 신호와 상기 인버터(314)의 출력을 받아들여 낸드 연산하고, 상기 낸드 게이트(320)는 상기 뱅크 1 동작 신호(BANKBUSY1) 및 상기 기입 모드 뱅크 1 선택 신호(WTBASEL1)를 받아 들여 낸드 연산한다.The NAND gate 316 receives an NAND operation of the read mode bank 1 selection signal and the output of the inverter 314, and the NAND gate 320 performs the bank 1 operation signal BANKBUSY1 and the write mode bank 1. The selection signal WTBASEL1 is received and calculated.

상기 노어 게이트(318)는 상기 인버터(312) 및 상기 낸드 게이트(316)의 출력을 각각 받아들여 노어 연산하고, 상기 노어 게이트(324)는 상기 낸드 게이트(320) 및 상기 인버터(322)의 출력을 각각 받아들여 노어 연산한다.The NOR gate 318 receives the output of the inverter 312 and the NAND gate 316, respectively, and performs a NOR operation, and the NOR gate 324 outputs the NAND gate 320 and the inverter 322. Accept each and perform a NOR operation.

상기 노어 게이트(326)는 상기 노어 게이트들(318, 324)의 출력을 각각 받아들여 노어 연산하고, 인버터(328)는 상기 노어 게이트(326)의 출력을 받아들여 반전된 신호 즉, 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE1)를 출력한다.The NOR gate 326 receives NOR outputs of the NOR gates 318 and 324, respectively, and the inverter 328 receives an output of the NOR gate 326, thereby inverting a signal, that is, a sense amplifier. Outputs the enable signal SAE1.

상기 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE1)는 상기 독출 인에이블 신호(ATD_READ) 및 상기 독출 모드 뱅크 1 선택 신호(RDBASEL1)가 하이 레벨이고, 뱅크 1 동작 신호(BANKBUSY1), 기입 모드 뱅크 1 선택 신호(WTBASEL1) 및 기입 인에이블 신호(ATD_WRITE)가 모두 로우 레벨일 때 하이 레벨로 활성화된다. 또한, 상기 독출 인에이블 신호(ATD_READ) 및 상기 독출 모드 뱅크 1 선택 신호(RDBASEL1)가 로우 레벨이고, 뱅크 1 동작 신호(BANKBUSY1), 기입 모드 뱅크 1 선택 신호(WTBASEL1) 및 기입 인에이블 신호(ATD_WRITE)가 모두 하이 레벨일 때 하이 레벨로 활성화된다.The sense amplifier enable signal SAE1 has the read enable signal ATD_READ and the read mode bank 1 select signal RDBASEL1 at a high level, a bank 1 operation signal BANKBUSY1, and a write mode bank 1 select signal WTBASEL1. ) And the write enable signal ADT_WRITE are activated to a high level when both of them are at a low level. In addition, the read enable signal ADT_READ and the read mode bank 1 select signal RDBASEL1 are at a low level, and the bank 1 operation signal BANKBUSY1, the write mode bank 1 select signal WTBASEL1, and the write enable signal ATD_WRITE ) Are all activated at a high level.

도 6은 도 4에 도시된 제 2 래치 및 제어 회로 내의 제어 회로를 보다 상세히 보여주는 회로도이다.FIG. 6 is a circuit diagram illustrating the control circuit in the second latch and control circuit shown in FIG. 4 in more detail.

도 6을 참조하면, 제어 회로(230)는 네 개의 인버터(332, 334, 342, 348), 두 개의 낸드 게이트(336, 340) 그리고 세 개의 노어 게이트(338, 344, 346)를 포함한다. 상기 인버터(332)는 상기 독출 인에이블 신호(ATD_READ)를 받아들여 반전 된 신호를 출력하고, 상기 인버터(334)는 상기 뱅크 2 동작 신호(BANKBUSY2)를 받아들여 반전된 신호를 출력하고, 상기 인버터(342)는 상기 독출 인에이블 신호(ATD_WRITE)를 받아들여 반전된 신호를 출력한다.Referring to FIG. 6, the control circuit 230 includes four inverters 332, 334, 342, 348, two NAND gates 336, 340, and three NOR gates 338, 344, 346. The inverter 332 receives the read enable signal ADT_READ and outputs an inverted signal. The inverter 334 receives the bank 2 operation signal BANKBUSY2 and outputs the inverted signal. 342 receives the read enable signal ADT_WRITE and outputs the inverted signal.

상기 낸드 게이트(336)는 상기 독출 모드 뱅크 2 선택 신호와 상기 인버터(334)의 출력을 받아들여 낸드 연산하고, 상기 낸드 게이트(340)는 상기 뱅크 2 동작 신호(BANKBUSY2) 및 상기 기입 모드 뱅크 2 선택 신호(WTBASEL2)를 받아들여 낸드 연산한다.The NAND gate 336 accepts the read mode bank 2 selection signal and the output of the inverter 334, and the NAND gate 340 performs the bank 2 operation signal BANKBUSY2 and the write mode bank 2. Receives a selection signal WTBASEL2 and performs a NAND operation.

상기 노어 게이트(338)는 상기 인버터(332) 및 상기 낸드 게이트(336)의 출력을 각각 받아들여 노어 연산하고, 상기 노어 게이트(344)는 상기 낸드 게이트(340) 및 상기 인버터(342)의 출력을 각각 받아들여 노어 연산한다.The NOR gate 338 receives the output of the inverter 332 and the NAND gate 336, respectively, and performs a NOR operation, and the NOR gate 344 outputs the NAND gate 340 and the inverter 342. Accept each and perform a NOR operation.

상기 노어 게이트(346)는 상기 노어 게이트들(338, 344)의 출력을 각각 받아들여 노어 연산하고, 인버터(348)는 상기 노어 게이트(346)의 출력을 받아들여 반전된 신호 즉, 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE2)를 출력한다.The NOR gate 346 receives the outputs of the NOR gates 338 and 344, respectively, and performs a NOR operation, and the inverter 348 receives the output of the NOR gate 346 and inverts the signal, that is, a sense amplifier. Outputs the enable signal SAE2.

상기 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE2)는 상기 독출 인에이블 신호(ATD_READ) 및 상기 독출 모드 뱅크 2 선택 신호(RDBASEL2)가 하이 레벨이고, 뱅크 2 동작 신호(BANKBUSY2), 기입 모드 뱅크 2 선택 신호(WTBASEL2) 및 기입 인에이블 신호(ATD_WRITE)가 모두 로우 레벨일 때 하이 레벨로 활성화된다. 또한, 상기 독출 인에이블 신호(ATD_READ) 및 상기 독출 모드 뱅크 2 선택 신호(RDBASEL2)가 로우 레벨이고, 뱅크 2 동작 신호(BANKBUSY2), 기입 모드 뱅크 2 선택 신호(WTBASEL2) 및 기입 인에이블 신호(ATD_WRITE)가 모두 하이 레벨일 때 하 이 레벨로 활성화된다.The sense amplifier enable signal SAE2 has the read enable signal ATD_READ and the read mode bank 2 select signal RDBASEL2 at a high level, a bank 2 operation signal BANKBUSY2, and a write mode bank 2 select signal WTBASEL2. ) And the write enable signal ADT_WRITE are activated to a high level when both of them are at a low level. The read enable signal ATD_READ and the read mode bank 2 select signal RDBASEL2 are at a low level, and the bank 2 operation signal BANKBUSY2, the write mode bank 2 select signal WTBASEL2, and the write enable signal ATD_WRITE Are all high level when they are high level.

도 7은 도 4에 도시된 데이터 출력 선택 회로를 상세히 보여주는 회로도이다.FIG. 7 is a circuit diagram showing in detail the data output selection circuit shown in FIG. 4.

도 7을 참조하면, 상기 데이터 출력 선택 회로(250)는 인버터(352)와 세 개의 낸드 게이트들(354, 356, 358)을 포함한다. 상기 인버터(352)는 상기 독출 모드 뱅크 2 선택 신호(RDBASEL2)를 받아들여 반전된 신호를 출력한다. 상기 낸드 게이트(354)는 상기 감지 증폭기(220)의 출력 신호(DOUT1)와 상기 인버터(352)의 출력 신호를 받아들여 낸드 연산하고, 상기 낸드 게이트(356)는 상기 독출 모드 뱅크 2 선택 신호(RDBASEL2) 및 상기 감지 증폭기(240)의 출력 신호(DOUT2)를 받아들여 낸드 연산한다. 상기 낸드 게이트(358)는 상기 낸드 게이트들(354, 356)의 출력 신호들을 받아들여 낸드 연산한다.Referring to FIG. 7, the data output selection circuit 250 includes an inverter 352 and three NAND gates 354, 356, and 358. The inverter 352 receives the read mode bank 2 selection signal RDBASEL2 and outputs an inverted signal. The NAND gate 354 receives a NAND operation of the output signal DOUT1 of the sense amplifier 220 and the output signal of the inverter 352, and the NAND gate 356 receives the read mode bank 2 selection signal ( RDBASEL2 and the output signal DOUT2 of the sense amplifier 240 are received and NAND-operated. The NAND gate 358 receives a NAND operation of the output signals of the NAND gates 354 and 356.

즉, 상기 데이터 출력 선택 회로는 상기 선택 신호(RDBASEL2)가 로우 레벨일 때, 상기 감지 증폭기(220)로부터 입력되는 신호를 출력하고, 상기 선택 신호(RDBASEL2)가 하이 레벨일 때, 상기 감지 증폭기(240)로부터 입력되는 신호를 출력한다.That is, the data output selection circuit outputs a signal input from the sense amplifier 220 when the selection signal RDBASEL2 is at a low level, and outputs the signal from the sense amplifier 220 when the selection signal RDBASEL2 is at a high level. And outputs a signal input from 240.

계속해서 도 4 및 도 8을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 EEPROM 장치에서 뱅크 1(110)로부터 데이터를 독출할 경우의 동작이 설명된다.4 and 8, an operation in the case of reading data from the bank 1 110 in the EEPROM device according to the preferred embodiment of the present invention will be described.

도 8은 도 3에 도시된 EEPROM 장치의 뱅크 1로부터 데이터를 독출할 때의 타이밍도이다. 뱅크 1(110)로부터 데이터를 독출할 경우, 독출 모드 뱅크 1 선택 신호(RDBASEL1)가 활성화된 상태에서 어드레스 천이 또는 칩 인에이블에 의해 독출 인에이블 신호(ATD_READ)가 활성화된다. 상기 신호(ATD_READ)에 의해 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE1)가 활성화되어 감지 증폭기(220)를 구동시킨다. 상기 감지 증폭기(220)로부터 출력되는 신호(DOUT1)는 데이터 출력 선택 회로(250)로 전달된다. 이 때, 독출 모드 뱅크 2 선택 신호(RDBASEL2)가 로우 레벨이므로 상기 출력 신호(DOUT1)가 데이터 출력 버퍼(260)로 전달된다.FIG. 8 is a timing diagram when reading data from bank 1 of the EEPROM device shown in FIG. 3. When data is read from the bank 1 110, the read enable signal ATD_READ is activated by address transition or chip enable while the read mode bank 1 select signal RDBASEL1 is activated. The sense amplifier enable signal SAE1 is activated by the signal ADT_READ to drive the sense amplifier 220. The signal DOUT1 output from the sense amplifier 220 is transferred to the data output selection circuit 250. At this time, since the read mode bank 2 select signal RDBASEL2 is at a low level, the output signal DOUT1 is transmitted to the data output buffer 260.

한편, 상기 뱅크 2(120)로부터 데이터를 독출할 경우에는 상술한 바와 같은 방법으로 상기 뱅크 2(120)로부터 데이터를 독출할 수 있다. 즉, 독출 모드 뱅크 2 선택 신호(RDBASEL2)가 활성화되어 독출 인에이블 신호(ATD_READ)가 활성화되고, 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE2)가 활성화되어 상기 감지 증폭기(240)가 구동된다. 데이터 출력 선택 회로(250)는 상기 감지 증폭기(240)로부터의 출력 신호를 데이터 출력 버퍼(260)로 전달한다.Meanwhile, when reading data from the bank 2 120, the data may be read from the bank 2 120 in the same manner as described above. That is, the read mode bank 2 selection signal RDBASEL2 is activated to activate the read enable signal ATD_READ, and the sense amplifier enable signal SAE2 is activated to drive the sense amplifier 240. The data output selection circuit 250 transfers the output signal from the sense amplifier 240 to the data output buffer 260.

다음 도 4 및 도 9를 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 EEPROM 장치의 뱅크 2(120)에서 기입 동작을 수행하고 있는 중에 뱅크 1(110)로부터 데이터를 독출할 경우의 동작이 설명된다.Next, referring to FIGS. 4 and 9, an operation when data is read from the bank 1 110 while a write operation is performed in the bank 2 120 of the EEPROM device according to the preferred embodiment of the present invention will be described. .

도 9는 도 3에 도시된 EEPROM 장치의 뱅크 2에서 기입 동작을 수행하고 있는 중에 뱅크 1로부터 데이터를 독출할 때의 타이밍도이다. 뱅크 동작 신호(BANKBUSY2)와 기입 모드 뱅크 선택 신호(WTBASEL2)가 활성화된 상태에서 검증(verify) 개시 신호에 의해 기입 인에이블 신호(ATD_WRITE)가 활성화됨에 따라 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE2)가 활성화되어 감지 증폭기(240)가 구동된다. 한편, 상기 기입 모드 뱅크 2 선택 신호(WTBASEL2)가 활성화됨과 동시에 독출 모드 뱅크 1 선택 신호(RDBASEL1)가 활성화되면, 독출 인에이블 신호(ATD_READ)가 활성화되고, 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE1)가 활성화된다. 상기 감지 증폭기 인에이블 신호(SAE1)에 의해 상기 감지 증폭기(220)는 상기 뱅크 1(110)의 셀 데이터를 감지하고 증폭한다. 상기 감지 증폭기(220)의 출력 신호(DOUT1)는 데이터 출력 선택 회로(250)로 전달된다. 이 때, 독출 모드 뱅크 2 선택 신호(RDBASEL2)가 로우 레벨이므로 상기 출력 신호(DOUT1)가 데이터 출력 버퍼(260)로 전달된다.FIG. 9 is a timing diagram when data is read from bank 1 while a write operation is performed in bank 2 of the EEPROM device shown in FIG. 3. As the write enable signal ATD_WRITE is activated by the verify start signal while the bank operation signal BANKBUSY2 and the write mode bank select signal WTBASEL2 are activated, the sense amplifier enable signal SAE2 is activated. The sense amplifier 240 is driven. Meanwhile, when the write mode bank 2 select signal WTBASEL2 is activated and the read mode bank 1 select signal RDBASEL1 is activated, the read enable signal ATD_READ is activated and the sense amplifier enable signal SAE1 is activated. do. The sense amplifier 220 senses and amplifies the cell data of the bank 1 110 by the sense amplifier enable signal SAE1. The output signal DOUT1 of the sense amplifier 220 is transmitted to the data output selection circuit 250. At this time, since the read mode bank 2 select signal RDBASEL2 is at a low level, the output signal DOUT1 is transmitted to the data output buffer 260.

반대로, 상기 뱅크 1(110)에서 기입 모드를 수행하고 있는 중에 상기 뱅크 2(120)로부터 데이터를 독출하는 경우에도 상술한 바와 같은 동일한 방법으로 동작이 수행된다.On the contrary, when data is read from the bank 2 120 while the write mode is performed in the bank 1 110, the operation is performed in the same manner as described above.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 EEPROM 장치는, 각각이 복수 개의 메모리 셀들로 구성된 두 개의 뱅크들(110, 120), 상기 뱅크들에 각각 대응하는 감지 증폭기들(220, 240) 그리고 상기 감지 증폭기들(220, 240)을 구동시키기 위한 감지 증폭기 인에이블 신호들을 출력하는 제어 회로들(210, 220)을 포함하여, 하나의 뱅크가 기입 동작을 수행하고 있을 때 동시에 다른 뱅크로부터 셀 데이터를 독출할 수 있다.As described above, the EEPROM device according to the preferred embodiment of the present invention includes two banks 110 and 120, each of which consists of a plurality of memory cells, and sense amplifiers 220 and 240 respectively corresponding to the banks. And control circuits 210 and 220 for outputting sense amplifier enable signals for driving the sense amplifiers 220 and 240 so that when one bank is performing write operations, You can read the data.

예시적인 바람직한 실시예들을 이용하여 본 발명을 설명하였지만, 본 발명의 범위는 개시된 실시예들에 한정되지 않는다는 것이 잘 이해될 것이다. 오히려, 본 발명의 범위에는 다양한 변형 예들 및 그 유사한 구성들을 모두 포함될 수 있도록 하려는 것이다. 따라서, 청구 범위는 그러한 변형 예들 및 그 유사한 구성들 모두를 포함하는 것으로 가능한 폭넓게 해석되어야 한다.While the invention has been described using exemplary preferred embodiments, it will be understood that the scope of the invention is not limited to the disclosed embodiments. Rather, the scope of the present invention is intended to include all of the various modifications and similar configurations. Accordingly, the claims should be construed as broadly as possible to encompass all such modifications and similar constructions.

이상과 같은 본 발명에 의하면, 적어도 두 개의 뱅크를 포함하는 불휘발성 메모리 장치에서 각각의 뱅크에 대해 독출, 프로그램 및 소거 동작이 개별적으로 수행된다. 따라서, 하나의 뱅크가 기입 동작을 수행하고 있을 때 동시에 다른 뱅크로부터 메모리 셀 데이터를 독출할 수 있다. 그 결과, 불휘발성 반도체 메모리 장치의 동작 속도가 향상된다.According to the present invention as described above, the read, program and erase operations are separately performed for each bank in the nonvolatile memory device including at least two banks. Therefore, when one bank is performing a write operation, memory cell data can be read from another bank at the same time. As a result, the operation speed of the nonvolatile semiconductor memory device is improved.

Claims (5)

각각이 복수 개의 메모리 셀들을 포함하는 제1뱅크(110) 및 제2뱅크(120)와;A first bank 110 and a second bank 120 each including a plurality of memory cells; 제어 신호(SAE1, SAE2)에 응답하여 상기 제1뱅크(110) 및 상기 제2뱅크(120)의 데이터를 각각 감지 증폭하는 제 1 감지 증폭기(220) 및 제 2 감지 증폭기(240)와;A first sense amplifier (220) and a second sense amplifier (240) for sensing and amplifying data of the first bank (110) and the second bank (120), respectively, in response to control signals (SAE1, SAE2); 독출 인에이블 신호(ATD_READ) 및 기입 인에이블 신호(ATD_WRITE)에 응답하여, 상기 제 1 감지 증폭기(220)와 제 2 감지 증폭기(240)의 활성화 여부를 제어하는 상기 제어 신호(SAE1, SAE2)를 출력하는 제어 회로와; 그리고The control signals SAE1 and SAE2 for controlling whether the first sense amplifier 220 and the second sense amplifier 240 are activated in response to the read enable signal ADT_READ and the write enable signal ATD_WRITE. A control circuit for outputting; And 상기 제 1 감지 증폭기 및 상기 제 1 감지 증폭기들 중 상기 독출 인에이블 신호(ATD_READ)에 대응하는 감지 증폭기로부터의 데이터를 선택적으로 출력하는 출력 선택 회로(250)를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치.And an output selection circuit 250 for selectively outputting data from the sense amplifier corresponding to the read enable signal ADT_READ among the first sense amplifier and the first sense amplifiers. Memory device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제어 회로는,The control circuit, 상기 제1뱅크에 대응하는 상기 독출 인에이블 신호 및 기입 인에이블 신호에 응답하여, 상기 제 1 감지 증폭기를 구동시키기 위한 상기 제어 신호를 출력하는 제 1 제어 회로(210) 및;A first control circuit (210) for outputting the control signal for driving the first sense amplifier in response to the read enable signal and the write enable signal corresponding to the first bank; 상기 제2뱅크에 대응하는 상기 독출 인에이블 신호 및 기입 인에이블 신호에 응답하여, 상기 제 2 감지 증폭기를 구동시키기 위한 상기 제어 신호를 출력하는 제 2 제어 회로(230)를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치.And a second control circuit 230 for outputting the control signal for driving the second sense amplifier in response to the read enable signal and the write enable signal corresponding to the second bank. Nonvolatile Semiconductor Memory Device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 및 제 2 제어 회로(210, 230)는,The first and second control circuits 210 and 230, 상기 독출 인에이블 신호(ATD_READ)가 활성화되었는 지를 검출하는 제 1 검출 회로와;A first detection circuit detecting whether the read enable signal ADT_READ is activated; 상기 기입 인에이블 신호(ATD_WRITE)가 활성화되었는 지를 검출하는 제 2 검출 회로 및;A second detection circuit for detecting whether the write enable signal ADT_WRITE is activated; 상기 제 1 및 제 2 검출 회로로부터 적어도 하나의 검출 신호가 입력될 때 상기 제어 신호를 출력하는 로직 회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치.And a logic circuit for outputting the control signal when at least one detection signal is input from the first and second detection circuits. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 독출 인에이블 신호(ATD_READ) 및 상기 기입 인에이블 신호(ATD_WRTIE)는 명령어와 상기 뱅크 어드레스로부터 검출된 신호인 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치.And the read enable signal (ATD_READ) and the write enable signal (ATD_WRTIE) are signals detected from an instruction and the bank address. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 기입 인에이블 신호(ATD_WRITE)는 상기 명령어가 기입 및 소거를 지시하는 경우 활성화되 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치.And the write enable signal (ATD_WRITE) is activated when the command instructs writing and erasing.
KR1019990000655A 1999-01-13 1999-01-13 Non-volatile semiconductor memory KR100560634B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990000655A KR100560634B1 (en) 1999-01-13 1999-01-13 Non-volatile semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990000655A KR100560634B1 (en) 1999-01-13 1999-01-13 Non-volatile semiconductor memory

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20000050639A KR20000050639A (en) 2000-08-05
KR100560634B1 true KR100560634B1 (en) 2006-03-16

Family

ID=19571136

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019990000655A KR100560634B1 (en) 1999-01-13 1999-01-13 Non-volatile semiconductor memory

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100560634B1 (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0554682A (en) * 1991-08-29 1993-03-05 Mitsubishi Electric Corp Nonvolatile semiconductor memory
US5748528A (en) * 1995-05-05 1998-05-05 Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. EEPROM memory device with simultaneous read and write sector capabilities
JPH10144086A (en) * 1996-11-14 1998-05-29 Sharp Corp Nonvolatile semiconductor memory
WO1998028750A1 (en) * 1996-12-20 1998-07-02 Advanced Micro Devices, Inc. Bank architecture for a non-volatile memory enabling simultaneous reading and writing
US5847998A (en) * 1996-12-20 1998-12-08 Advanced Micro Devices, Inc. Non-volatile memory array that enables simultaneous read and write operations
US5847994A (en) * 1997-09-08 1998-12-08 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Non-volatile semiconductor memory device having a back ground operation mode
KR20000033380A (en) * 1998-11-23 2000-06-15 윤종용 Nonvolatile semiconductor memory device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0554682A (en) * 1991-08-29 1993-03-05 Mitsubishi Electric Corp Nonvolatile semiconductor memory
US5748528A (en) * 1995-05-05 1998-05-05 Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. EEPROM memory device with simultaneous read and write sector capabilities
JPH10144086A (en) * 1996-11-14 1998-05-29 Sharp Corp Nonvolatile semiconductor memory
WO1998028750A1 (en) * 1996-12-20 1998-07-02 Advanced Micro Devices, Inc. Bank architecture for a non-volatile memory enabling simultaneous reading and writing
US5847998A (en) * 1996-12-20 1998-12-08 Advanced Micro Devices, Inc. Non-volatile memory array that enables simultaneous read and write operations
US5847994A (en) * 1997-09-08 1998-12-08 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Non-volatile semiconductor memory device having a back ground operation mode
KR20000033380A (en) * 1998-11-23 2000-06-15 윤종용 Nonvolatile semiconductor memory device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20000050639A (en) 2000-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3888808B2 (en) NAND nonvolatile memory
US6717857B2 (en) Non-volatile semiconductor memory device with cache function and program, read, and page copy-back operations thereof
US6556479B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
US5999451A (en) Byte-wide write scheme for a page flash device
US5886923A (en) Local row decoder for sector-erase fowler-nordheim tunneling based flash memory
US7313024B2 (en) Non-volatile memory device having page buffer for verifying pre-erase
US5748535A (en) Advanced program verify for page mode flash memory
JP4429007B2 (en) NAND flash memory page buffer
JPH11506244A (en) Automatic programming algorithm for page mode flash memory with variable program pulse height and pulse width
KR100423894B1 (en) Low-voltage semiconductor memory device
JP2003217288A (en) Flash memory in which read-disturbance is relaxed
JPH05128878A (en) Nonvolatile semiconductor memory device
KR19980047428A (en) Flash non-volatile semiconductor memory device and method of controlling the operation mode of the device
US6826081B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device, nonvolatile semiconductor memory device-integrated system, and defective block detecting method
KR960005354B1 (en) Non-volatile semiconductor memory having an address-transition-detection circuit
KR970051349A (en) Threshold Voltage Rising Method for Nonvolatile Semiconductor Memory and Exhausted Memory Cells
US5991198A (en) Local row decoder and associated control logic for fowler-nordheim tunneling based flash memory
JP4828520B2 (en) Semiconductor device and control method thereof
US5617350A (en) Flash memory system having reduced disturb and method
JP3143161B2 (en) Non-volatile semiconductor memory
US7042795B2 (en) Flash memory device with burst read mode of operation
KR960030428A (en) Semiconductor non-volatile memory
US6151250A (en) Flash memory device and verify method thereof
KR19990013057A (en) Read and write method of flash memory device for selectively storing single bit data and multiple bit data on same chip
KR100560634B1 (en) Non-volatile semiconductor memory

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20100216

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee