KR100560431B1 - 분자 스위치 소자 - Google Patents
분자 스위치 소자 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100560431B1 KR100560431B1 KR1020030095391A KR20030095391A KR100560431B1 KR 100560431 B1 KR100560431 B1 KR 100560431B1 KR 1020030095391 A KR1020030095391 A KR 1020030095391A KR 20030095391 A KR20030095391 A KR 20030095391A KR 100560431 B1 KR100560431 B1 KR 100560431B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electron
- channel
- molecular switch
- control unit
- channel portion
- Prior art date
Links
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000002121 nanofiber Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 4
- HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(C#N)=C(C#N)C1=O HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical compound N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FKNIDKXOANSRCS-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trinitrofluoren-1-one Chemical compound C1=CC=C2C3=C([N+](=O)[O-])C([N+]([O-])=O)=C([N+]([O-])=O)C(=O)C3=CC2=C1 FKNIDKXOANSRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- -1 TCNaQ Chemical compound 0.000 claims 2
- RHPVRWXUCDJURW-UHFFFAOYSA-N (4-cyanoiminocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyanamide Chemical compound N#CN=C1C=CC(=NC#N)C=C1 RHPVRWXUCDJURW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012412 chemical coupling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/10—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0009—RRAM elements whose operation depends upon chemical change
- G11C13/0014—RRAM elements whose operation depends upon chemical change comprising cells based on organic memory material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0009—RRAM elements whose operation depends upon chemical change
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/02—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using elements whose operation depends upon chemical change
- G11C13/025—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using elements whose operation depends upon chemical change using fullerenes, e.g. C60, or nanotubes, e.g. carbon or silicon nanotubes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/10—Resistive cells; Technology aspects
- G11C2213/17—Memory cell being a nanowire transistor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
나노 미터 크기의 분자 스위치 소자를 제공한다. 본 발명은 전자가 흐를 수 있는 전자 채널을 구성하고, 카본 나노튜브, 반도체성 나노와이어, 금속성 나노와이어, 고분자 나노화이버 또는 전도성 유기분자로 이루어진 채널부와, 상기 채널부의 양단에 접촉된 전극과, 상기 채널부와 연결부를 통하여 연결되고, 상기 전극을 통해 전압을 인가하면 산화 상태 또는 전자 밀도가 달라져서 상기 채널부의 전기 전도도를 변화시킬 수 있게 전자 친화력(electron affinity)이 큰 전자 받게 분자로 구성된 조절부를 포함하여 이루어지고, 상기 연결부는 상기 채널부와 조절부를 물리적 결합 또는 화학적 결합으로 연결하는 나노 미터 크기의 물질로 구성되는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 분자 스위치 소자는 고속 동작이 가능하고, 분자 소자 제작 공정을 활용할 경우 고집적화가 가능하다.
분자 스위치 소자, 전자 채널,
Description
도 1은 본 발명의 분자 스위치 소자의 구조를 도시한 모식도이다.
도 2는 본 발명의 분자 스위치 소자의 동작을 설명하기 위한 전류-전압 그래프이다.
본 발명은 분자 스위치 소자에 관한 것이다.
일반적으로, 분자 스위치 소자는 유기 분자 또는 무기 분자를 전자 채널로 이용한 소자이다. 상기 분자 스위치 소자는 종래의 반도체 소자가 가지는 집적화의 한계를 극복할 수 있는 대안으로 주목받고 있다.
그런데, 종래의 분자 스위치 소자는 카테난(catenane)이나 로탁산(rotaxane) 등의 산화 상태에 따라 분자 구조가 변화되고 그에 따른 저항의 차이가 유발되는 원리를 이용한다. 따라서, 종래의 분자 스위치 소자는 분자 구조의 변화를 수반하기 때문에 10 마이크로초(μsec) 이하의 고속 동작이 어렵고, 분자막의 피로 현상에 의해 스위치 효과가 몇 사이클 이후에 감소하는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 전기적 신호에 의해 스위칭이 가능하여 고속 동작을 할 수 있는 분자 스위치 소자를 제공하는 데 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 분자 스위치 소자는 전자가 흐를 수 있는 전자 채널을 구성하고, 카본 나노튜브, 반도체성 나노와이어, 금속성 나노와이어, 고분자 나노화이버 또는 전도성 유기분자로 이루어진 채널부와, 상기 채널부의 양단에 접촉된 전극과, 상기 채널부와 연결부를 통하여 연결되고, 상기 전극을 통해 전압을 인가하면 산화 상태 또는 전자 밀도가 달라져서 상기 채널부의 전기 전도도를 변화시킬 수 있게 전자 친화력(electron affinity)이 큰 전자 받게 분자로 구성된 조절부를 포함하여 이루어지고, 상기 연결부는 상기 채널부와 조절부를 물리적 결합 또는 화학적 결합으로 연결하는 나노 미터 크기의 물질로 구성되는 것을 특징으로 한다.
상기 전극은 Au, Ag, Cu, Al, Pt, Pd 등의 금속이나, 높게 도핑된 반도체(highly doped semiconductor), 예컨대 Si이나 GaAs로 구성될 수 있다.
상기 전극은 Au, Ag, Cu, Al, Pt, Pd 등의 금속이나, 높게 도핑된 반도체(highly doped semiconductor), 예컨대 Si이나 GaAs로 구성될 수 있다.
삭제
이상과 같은 본 발명의 스위치 소자는 조절부의 전자상태가 외부 전압에 의해 조절되므로 스위칭 속도가 높일 수 있고, 구조적으로 안정한 분자를 사용함으로써 피로현상에 의한 스위칭 특성 저하를 방지할 수 있다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다. 그러나, 다음에 예시하는 본 발명의 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 상술하는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되어지는 것이다.
도 1은 본 발명의 분자 스위치 소자의 구조를 도시한 모식도이다.
구체적으로, 도 1에 도시된 바와 같이 본 발명의 분자 스위치 소자는 전자가 흐를 수 있는 전자 채널을 구성하는 채널부(200)와, 상기 채널부(200)의 양단에 접촉된 전극(100)과, 상기 채널부(200)와 연결부(300)를 통하여 연결되고 상기 전극(100)을 통한 전압 인가에 따라 산화 상태 또는 전자 밀도가 달라져서 채널부(200)의 전기 전도도를 변화시킬 수 있는 조절부(300)를 포함한다. 본 발명의 분자 스위치 소자의 상기 채널부(200), 연결부(400) 및 조절부(300)는 나노 미터의 크기로 구성되어, 집적도가 높은 나노 회로의 제작에 이용할 수 있다.
본 발명의 분자 스위치 소자는 상기 전극(100)을 통하여 외부 전압이 인가되면 되면 상기 조절부(300)의 산화 상태 또는 전자밀도의 차이가 유발되고, 이에 따라 상기 조절부(300)에 연결되어 있는 채널부(200)의 전자 흐름이 조절된다. 특히, 본 발명의 분자 스위치 소자는 상기 조절부(300)의 전자 상태가 외부 전압에 의해 조절되므로 스위칭 속도를 높일 수 있어 종래 분자 스위치 소자의 저속 동작을 극복할 수 있다.
상기 채널부(200)는 카본 나노튜브(carbon nanotubes), 반도체성 나노와이어(semiconducting nanowire), 금속성 나노 와이어, 고분자 나노 화이버, 전도성 유기 분자 등 1차원 전자수송 특성을 보이는 모든 물질을 이용할 수 있다. 채널부(200)는 가해진 전압에 따라 일정한 크기의 전류가 흐를 수 있는데, 스위칭 효과를 높이기 위해서는 반도체적인 성질을 띠는 물질을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 조절부(300)는 채널부(200)와 화학적 결합 또는 물리적 결합에 의해 만들어진 연결부(400)를 통해 채널부(200)의 일정한 위치에 안정된 구조를 이루면서 존재하고, 외부의 환경적인 요인에 의해 산화 상태 또는 전자밀도의 차이가 유발되는 물질로 구성된다. 본 발명의 분자 스위치 소자에 있어서는 상기 조절부(300)를 구성하는 분자는 구조적으로 안정한 분자를 사용하여 피로 현상에 의한 스위칭 특성 저하를 방지한다.
상기 조절부(300)는 전자 친화력이 큰 전자 받게 분자(electron-withdrawing molecules)로 구성될 수 있다. 특히, 상기 조절부(300)는 1~4eV 정도로 전자 친화력(electron affinity)이 큰 전자 받게 분자를 사용할 수 있다. 상기 조절부(300)를 구성하는 전자 받게 분자로는 TCNQ(tetracyanoquinonedimethane), TCNaQ(tetracyanoanthraquinodimethane), TCNE(Tetracyanoethylene), TCNQF4(2,3,5,6-tetrafluoro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane), DCNQI(dicyanoquinodiimine), Trinitrofluorenone, p-Benzoquinone, DDQ(dichlorodicyanobenzoquinone), dinitrobenzene, C60등의 분자를 사용하는 것이 바람직하나 다른 종류의 전자 받게 분자도 사용될 수 있다.
상기 연결부(400)는 상기 채널부(200)와 조절부(300)를 물리적 또는 화학적으로 연결하는 나노미터 크기의 물질로 구성된다. 상기 연결부(400)는 실제적으로 알킬 체인 등 전기 전도도가 낮은 화학 결합을 이용하는 것이 바람직하다.
상기 채널부(200)의 양단에 접촉된 전극(100)은 Au, Ag, Cu, Al, Pt, Pd 등의 금속이나 높게 도핑된 반도체(highly doped semiconductor), 예컨대 Si이나 GaAs를 이용한다.
도 2는 본 발명의 분자 스위치 소자의 동작을 설명하기 위한 전류-전압 그래프이다.
구체적으로, 본 발명의 분자 스위치 소자는 전극에 전압이 가해졌을 때 일정한 방향으로 전류가 흐를 수 있고 조절부(도 1의 300)의 산화 상태나 전자 밀도에 따라 고전도 상태(500, high conductance state)와 저전도 상태(600, low conductance state))를 가질 수 있어 스위칭 효과를 가질 수 있다.
특히, 본 발명의 분자 스위치 소자는 외부 전압이 인가되는 속도에 따라 채널의 특성이 고전도 상태와 저전도 상태로 상호 변경되기 때문에 고속 동작이 가능하다. 더하여, 본 발명의 스위치 소자는 조절부(도 1의 300)를 산화 상태가 바뀌는 물질을 사용하면 고전도 상태와 저전도 상태가 일정한 기간 동안 유지되어 비휘발성 메모리소자에 채용할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명의 분자 스위치 소자는 나노 미터 크기의 채널부과 조절부로 구성되기 때문에 집적도가 높은 나노 회로의 제작에 이용할 수 있다. 더하여, 본 발명의 스위치 소자는 조절부의 전자상태가 외부 전압에 의해 조절되므로 스위칭 속도가 높아져 기존의 분자 스위치의 저속 동작을 극복할 수 있고, 구조적으로 안정한 분자를 사용함으로써 피로현상에 의한 스위칭 특성 저하를 방지할 수 있다.
Claims (7)
- 전자가 흐를 수 있는 전자 채널을 구성하고, 카본 나노튜브, 반도체성 나노와이어, 금속성 나노와이어, 고분자 나노화이버 또는 전도성 유기분자로 이루어진 채널부;상기 채널부의 양단에 접촉된 전극; 및상기 채널부와 연결부를 통하여 연결되고, 상기 전극을 통해 전압을 인가하면 산화 상태 또는 전자 밀도가 달라져서 상기 채널부의 전기 전도도를 변화시킬 수 있게 전자 친화력이 큰 전자 받게 분자로 구성된 조절부를 포함하여 이루어지고, 상기 연결부는 상기 채널부와 조절부를 물리적 결합 또는 화학적 결합으로 연결하는 나노 미터 크기의 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 분자 스위치 소자.
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 전자 받게 분자는 TCNQ, TCNaQ, TCNE, TCNQF4, DCNQI, Trinitrofluorenone, p-Benzoquinone, DDQ, dinitrobenzene, 또는 C60로 구성되는 것을 특징으로 하는 분자 스위치 소자.
- 제1항에 있어서, 상기 전극은 Au, Ag, Cu, Al, Pt 또는 Pd로 이루어진 금속으로 구성되는 것을 특징으로 하는 분자 스위치 소자.
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030095391A KR100560431B1 (ko) | 2003-12-23 | 2003-12-23 | 분자 스위치 소자 |
US10/863,413 US20050135144A1 (en) | 2003-12-23 | 2004-06-07 | Molecular switching device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030095391A KR100560431B1 (ko) | 2003-12-23 | 2003-12-23 | 분자 스위치 소자 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050064109A KR20050064109A (ko) | 2005-06-29 |
KR100560431B1 true KR100560431B1 (ko) | 2006-03-13 |
Family
ID=34675956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030095391A KR100560431B1 (ko) | 2003-12-23 | 2003-12-23 | 분자 스위치 소자 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050135144A1 (ko) |
KR (1) | KR100560431B1 (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8183665B2 (en) * | 2005-11-15 | 2012-05-22 | Nantero Inc. | Nonvolatile nanotube diodes and nonvolatile nanotube blocks and systems using same and methods of making same |
US7929558B2 (en) | 2005-12-01 | 2011-04-19 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Method for buffering receive packet in media access control for sensor network and apparatus for controlling buffering of receive packet |
KR100789770B1 (ko) * | 2005-12-01 | 2007-12-28 | 한국전자통신연구원 | 센서 네트워크용 매체접근제어에서의 수신 패킷의 버퍼링방법 및 버퍼링 제어장치 |
US7846786B2 (en) | 2006-12-05 | 2010-12-07 | Korea University Industrial & Academic Collaboration Foundation | Method of fabricating nano-wire array |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000034979A (ko) * | 1998-11-18 | 2000-06-26 | 포만 제프리 엘 | 마이크로전자 디바이스 |
KR20010010348A (ko) * | 1999-07-19 | 2001-02-05 | 정선종 | 소스/드레인으로서 탄소 나노튜브를 갖는 공명 투과 트랜지스터 |
US6198655B1 (en) * | 1999-12-10 | 2001-03-06 | The Regents Of The University Of California | Electrically addressable volatile non-volatile molecular-based switching devices |
KR20030097323A (ko) * | 2002-06-20 | 2003-12-31 | 한국전자통신연구원 | 분자전자소자 제조방법 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6756605B1 (en) * | 1999-09-20 | 2004-06-29 | Yale University | Molecular scale electronic devices |
US5475341A (en) * | 1992-06-01 | 1995-12-12 | Yale University | Sub-nanoscale electronic systems and devices |
US6320200B1 (en) * | 1992-06-01 | 2001-11-20 | Yale University | Sub-nanoscale electronic devices and processes |
US5840935A (en) * | 1996-07-11 | 1998-11-24 | Northrop Grumman Corporation | Unsaturated polymerizable TTF, TCNQ and DCQDI monomers |
US6348700B1 (en) * | 1998-10-27 | 2002-02-19 | The Mitre Corporation | Monomolecular rectifying wire and logic based thereupon |
US6339227B1 (en) * | 1999-02-01 | 2002-01-15 | The Mitre Corporation | Monomolecular electronic device |
US6128214A (en) * | 1999-03-29 | 2000-10-03 | Hewlett-Packard | Molecular wire crossbar memory |
US6855950B2 (en) * | 2002-03-19 | 2005-02-15 | The Ohio State University | Method for conductance switching in molecular electronic junctions |
EP1286303A1 (en) * | 2001-08-13 | 2003-02-26 | Hitachi Europe Limited | Quantum computer |
US6858162B2 (en) * | 2002-04-01 | 2005-02-22 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Single molecule realization of the switch and doide combination |
US6670631B2 (en) * | 2002-05-20 | 2003-12-30 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Low-forward-voltage molecular rectifier |
US6989290B2 (en) * | 2003-11-15 | 2006-01-24 | Ari Aviram | Electrical contacts for molecular electronic transistors |
-
2003
- 2003-12-23 KR KR1020030095391A patent/KR100560431B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-06-07 US US10/863,413 patent/US20050135144A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000034979A (ko) * | 1998-11-18 | 2000-06-26 | 포만 제프리 엘 | 마이크로전자 디바이스 |
KR20010010348A (ko) * | 1999-07-19 | 2001-02-05 | 정선종 | 소스/드레인으로서 탄소 나노튜브를 갖는 공명 투과 트랜지스터 |
US6198655B1 (en) * | 1999-12-10 | 2001-03-06 | The Regents Of The University Of California | Electrically addressable volatile non-volatile molecular-based switching devices |
KR20030097323A (ko) * | 2002-06-20 | 2003-12-31 | 한국전자통신연구원 | 분자전자소자 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20050064109A (ko) | 2005-06-29 |
US20050135144A1 (en) | 2005-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Zhou et al. | A field effect transistor based on the Mott transition in a molecular layer | |
US6891744B2 (en) | Configurable nanoscale crossbar electronic circuits made by electrochemical reaction | |
Blanchet et al. | Contact resistance in organic thin film transistors | |
Yang et al. | Electrical switching and bistability in organic/polymeric thin films and memory devices | |
JP5810103B2 (ja) | 電気的浸透性ソース層を含む半導体デバイス及びこれの製造方法 | |
KR101963150B1 (ko) | 층상 디바이스 구조를 이용한 개선된 디바이스 스위칭 | |
US7186380B2 (en) | Transistor and sensors made from molecular materials with electric dipoles | |
CN1825613A (zh) | 操作相变随机存取存储器的方法 | |
KR101221789B1 (ko) | 유기 메모리 소자 및 그의 제조방법 | |
Semple et al. | Large-area plastic nanogap electronics enabled by adhesion lithography | |
JP2006240898A (ja) | カーボンナノチューブの溶液処理ドーピング方法、半導体装置および半導体装置の形成方法 | |
Song et al. | Memory performance of a thin-film device based on a conjugated copolymer containing fluorene and chelated europium complex | |
Ram et al. | Low-power resistive memory integrated on III–V vertical nanowire MOSFETs on silicon | |
US20080164461A1 (en) | Organic Transistor | |
US7332740B2 (en) | Memory device having molecular adsorption layer | |
KR100560431B1 (ko) | 분자 스위치 소자 | |
KR101190570B1 (ko) | 플렉서블 유기 메모리 소자 및 그 제조방법 | |
Aïssa et al. | The channel length effect on the electrical performance of suspended-single-wall-carbon-nanotube-based field effect transistors | |
US6670631B2 (en) | Low-forward-voltage molecular rectifier | |
KR100658993B1 (ko) | 폴리머로 표면처리된 반도체 나노막대 | |
KR100304399B1 (ko) | 전계효과트랜지스터및전계효과트랜지스터가적층된어레이 | |
JP2006049578A (ja) | 有機半導体装置 | |
US9831453B2 (en) | Four-terminal gate-controlled thin-film organic thyristor | |
CN118102732A (zh) | 一种超薄异质结的柔性有机场效应晶体管存储器及其制备方法 | |
Lin | Progress and Future of Carbon-Based Electronics |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20090303 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |