KR100539359B1 - Excimer irradiation apparatus - Google Patents

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KR100539359B1
KR100539359B1 KR10-2000-0040109A KR20000040109A KR100539359B1 KR 100539359 B1 KR100539359 B1 KR 100539359B1 KR 20000040109 A KR20000040109 A KR 20000040109A KR 100539359 B1 KR100539359 B1 KR 100539359B1
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쿼크 시스템즈 가부시키가이샤
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    • G03F7/70016Production of exposure light, i.e. light sources by discharge lamps

Abstract

본 발명은 노출 상태에서 사용할 수 있는 엑시머 램프를 사용함으로써, 엑시머 광의 조사 효율을 향상시킨 엑시머 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an excimer device that improves the irradiation efficiency of excimer light by using an excimer lamp that can be used in an exposed state.

본 발명의 엑시머 조사(照射) 장치에 의하면, 엑시머 램프를 피조사체에 더 접근시킬 수 있어, 보다 높은 조사 효율을 실현할 수 있다. 또, 얇은 외부관을 사용할 수 있기 때문에, 엑시머 광의 투과성의 저하를 방지하여 높은 조사 효율로 조사할 수 있고, 외부 전극의 보호와 엑시머 광의 흡수 방지를 목적으로 한 질소 가스 유동 수단에 의해, 내부관 및 외부관의 냉각과 엑시머 광의 투과성의 저하를 방지할 수 있기 때문에, 높은 조사 효율로 조사할 수 있다.According to the excimer irradiation device of the present invention, the excimer lamp can be brought closer to the irradiated object, and higher irradiation efficiency can be realized. In addition, since a thin outer tube can be used, the inner tube can be irradiated with high irradiation efficiency by preventing a decrease in the permeability of excimer light, and the inner tube is provided by nitrogen gas flow means for protecting the external electrode and preventing absorption of excimer light. And since cooling of an outer tube and the fall of the transmittance of an excimer light can be prevented, it can irradiate with high irradiation efficiency.

또한, 본 발명의 조사 장치에 의하면, 엑시머 램프를 작은 간극으로 상호 인접시켜 배치하기 때문에, 발생한 엑시머 광을 높은 조사 효율 하에서 피조사체에 조사할 수 있고, 그 조도 분포를 보다 균일하게 할 수 있다. In addition, according to the irradiation apparatus of the present invention, since the excimer lamps are arranged adjacent to each other with a small gap, the generated excimer light can be irradiated to the irradiated object under high irradiation efficiency, and the illuminance distribution can be made more uniform.

Description

엑시머 조사 장치{EXCIMER IRRADIATION APPARATUS}Excimer irradiation device {EXCIMER IRRADIATION APPARATUS}

본 발명은 엑시머 조사(照射) 장치에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 노출 상태에서 사용할 수 있는 엑시머 램프를 사용함으로써, 엑시머 광의 조사 효율을 더욱 향상시킨 엑시머 조사 장치에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to an excimer irradiation apparatus, and more particularly, to an excimer irradiation apparatus which further improves the irradiation efficiency of excimer light by using an excimer lamp that can be used in an exposed state.

엑시머 조사 장치는 무성 방전(無聲 放電)이라 불리는 유전체 장벽 방전에 의해, 엑시머 램프로부터 단일 파장의 자외선 광(이하, "엑시머 광"이라 함)을 조사하는 장치이다. 유전체 장벽 방전은 엑시머 분자를 형성하기 위한 방전용 가스를 충전한 엑시머 램프에 고전압을 인가하여, 엑시머 램프 내에 엑시머 분자를 형성하고, 상기 엑시머 분자가 기저 상태로 천이할 때에 단일 파장의 엑시머 광을 방사하는 원리에 따른 방전 방식이다. 이러한 유전체 장벽 방전을 이용한 엑시머 조사 장치는 엑시머 램프 내의 방전용 가스의 종류에 따라 172nm, 193nm, 207nm, 222nm 또는 248nm 등의 엑시머 광을 발생시킨다.An excimer irradiation apparatus is a device which irradiates ultraviolet light of a single wavelength (hereinafter, referred to as "excimer light") from an excimer lamp by a dielectric barrier discharge called silent discharge. The dielectric barrier discharge applies a high voltage to an excimer lamp filled with a discharge gas for forming the excimer molecule, thereby forming an excimer molecule in the excimer lamp, and radiating excimer light of a single wavelength when the excimer molecule transitions to the ground state. It is a discharge method according to the principle. The excimer irradiation apparatus using the dielectric barrier discharge generates excimer light of 172 nm, 193 nm, 207 nm, 222 nm, or 248 nm depending on the type of discharge gas in the excimer lamp.

엑시머 광은 공기나 물에 반응하여 유기 화합물을 효과적으로 분해하는 여기 산소 원자나 OH 래디컬 등을 생성시킬 수 있다. 그러므로, 유기 화합물로 이루어지는 오염 물질의 분해에 바람직하게 이용되고 있다. 또, 엑시머 광은 광자 에너지가 강하기 때문에, 직접 조사체에 반응시키는 표면 개질 처리 등에 이용되고 있다. 예를 들면, 반도체 산업의 분야에 있어서는 실리콘 웨이퍼나 유리 기판을 오염시킨 유기 화합물을 분해하는 드라이 세정에 응용되거나, 반도체 재료의 표면 활성화 처리나 소프트 회분화(ashing)에 응용되고 있다. 또, 플라즈마 디스플레이 패널의 형광 발광, LCD 프로세스, 재료 관련 분야에 있어서의 수지나 금속 재료의 표면 활성화 처리, 또는 표면 개질 처리 등의 다방면에서 응용되고 있다. 또한, 엑시머 광은 환경 기술 분야에 있어서, 오존의 생성, 수중·대기의 오염 정화, 불순물을 함유하지 않은 물의 제조 공정에 이용되고 있다.Excimer light can generate excitation oxygen atoms, OH radicals, and the like that react with air or water to effectively decompose organic compounds. Therefore, it is preferably used for decomposition of contaminants composed of organic compounds. Moreover, since excimer light is strong in photon energy, it is used for the surface modification process etc. which make it react directly with an irradiation body. For example, in the field of the semiconductor industry, it is applied to the dry cleaning which decomposes the organic compound which contaminated a silicon wafer or a glass substrate, or is applied to the surface activation process and soft ashing of a semiconductor material. In addition, the present invention has been applied to various fields such as fluorescence emission of LCD display panels, LCD processes, surface activation treatment of resins and metal materials, or surface modification treatment in materials related fields. Furthermore, excimer light is used in the environmental technology field for the production of ozone, purification of water and air pollution, and production of water containing no impurities.

상기와 같은 응용 분야의 확대 중, 대면적의 피조사체의 각 부에 균일한 조도로 조사하고자 하는 요구나 연속하여 이동하는 공정 중에 균일한 조도로 일정 시간 조사하고자 하는 요구가 있다. 예를 들면, LCD(액정 패널)나 PDP(플라즈마 디스플레이 패널) 등의 대면적의 표시 소자에 대하여, 그곳에 부착되는 오염 물질을 효율적으로 분해하는 것이 가능한 엑시머 조사 장치가 요구되고 있다.During the expansion of the application fields as described above, there is a request to irradiate each part of a large-area irradiated object with uniform illuminance or to irradiate a constant time with uniform illuminance during a continuous moving process. For example, for large display elements such as LCD (liquid crystal panel) and PDP (plasma display panel), an excimer irradiation device capable of efficiently decomposing contaminants attached thereto is desired.

최근, 이러한 엑시머 조사 장치의 현재 상태 및 요구에 대해서는 발생하는 엑시머 광을 효율적으로 조사하기 위한 고안이 다양하게 검토되고 있다. 예를 들면, (a) 엑시머 램프가 장착되는 박스 내에 질소 가스를 흐르게 함으로써, 엑시머 램프로부터 발생하는 엑시머 광이 흡수되지 않도록 하거나, (b) 엑시머 램프가 장착되는 박스의 유리창이나 엑시머 램프의 방전 용량을 투과성이 우수한 석영 유리로 재질 변경함으로써, 엑시머 광의 투과성을 높이거나, (c) 엑시머 램프의 배면측에 반사판을 설치하거나, 그 반사판의 형상을 고안하고 있다.In recent years, with respect to the current state and requirements of such an excimer irradiation apparatus, various designs have been studied for efficiently irradiating the generated excimer light. For example, (a) nitrogen gas flows into a box in which an excimer lamp is mounted so that excimer light generated from the excimer lamp is not absorbed, or (b) the discharge capacity of the glass window or excimer lamp of the box in which the excimer lamp is mounted. By changing the material to quartz glass having excellent transmittance, the transmittance of the excimer light is increased, (c) a reflector is provided on the back side of the excimer lamp, or the shape of the reflector is devised.

그러나, 엑시머 램프가 장착되는 박스 내에 질소 가스를 흐르게 하는 경우에는 엑시머 광을 투과하는 유리창이 충분한 강도를 가질 필요가 있기 때문에, 유리창을 두껍게 하지 않으면 안 되어, 그 결과 엑시머 광의 투과율이 감소되는 문제가 있다. 이 경우, 보다 투과성이 우수한 석영 유리를 사용하는 것도 가능하지만, 강도 부족은 여전히 해결되지 않는다. 그러므로, 두꺼운 석영 유리를 사용하지 않으면 안 되어, 고가이며 경제적이지 않다는 문제가 있다.However, when nitrogen gas flows into the box where the excimer lamp is mounted, the glass window that transmits the excimer light needs to have sufficient strength, so the glass window must be thickened, resulting in a decrease in the transmittance of the excimer light. have. In this case, it is also possible to use quartz glass which is more excellent in permeability, but the lack of strength is still not solved. Therefore, there is a problem that thick quartz glass must be used, which is expensive and not economical.

또, 균일한 조도 분포로 조사 가능한 엑시머 조사 장치는 아직 개발되지 않아 엑시머 조사 장치에 대한 상기 요구를 만족시키지 못하고 있다.Moreover, the excimer irradiation apparatus which can irradiate with a uniform illuminance distribution has not been developed yet, and it does not satisfy the said requirement for an excimer irradiation apparatus.

본 발명은 상기의 문제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 노출 상태에서 사용할 수 있는 엑시머 램프를 사용하고, 엑시머 광의 조사 효율과 피조사체 상의 조도 분포의 균일성을 더욱 향상시킨 엑시머 조사 장치의 제공을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an excimer irradiation apparatus that uses an excimer lamp that can be used in an exposed state and further improves the irradiation efficiency of the excimer light and the uniformity of the illuminance distribution on the irradiated object. do.

본원의 제1의 발명은 노출 상태에서 배치되는 엑시머 램프를 둘 이상 가지는 엑시머 조사 장치로서, 상기 엑시머 램프는 엑시머 방전관과 상기 엑시머 방전관의 외측에 배치되는 외부 전극과, 상기 외부 전극의 보다 외측에 배치되는 외부관과, 상기 엑시머 방전관의 내측에 배치되는 내부관과, 상기 내부관 내에 배치되는 내부 전극과, 상기 엑시머 방전관과 상기 내부관 사이의 밀폐 공간에 충전된 방전용 가스와, 상기 내부관 내의 공간 및 상기 외부관과 상기 엑시머 방전관 사이의 공간 내에 질소 가스를 유입 및 유출시키는 질소 가스 유동 수단을 가지는 데에 특징을 갖는다.1st invention of this application is an excimer irradiation apparatus which has two or more excimer lamps arrange | positioned in an exposure state, The said excimer lamp is an excimer discharge tube and the external electrode arrange | positioned outside the said excimer discharge tube, and is arrange | positioned outside the said external electrode more. An outer tube, an inner tube disposed inside the excimer discharge tube, an inner electrode disposed in the inner tube, a discharge gas filled in a sealed space between the excimer discharge tube and the inner tube, and the inner tube And a nitrogen gas flow means for introducing and discharging nitrogen gas into a space and a space between the outer tube and the excimer discharge tube.

본 발명에 의하면, 둘 이상의 엑시머 램프가 노출 상태에서 개방 케이스에 배치되기 때문에, 엑시머 램프를 피조사체에 접근시켜 조사 효율을 향상시킬 수 있다. 또, 종래와 같이 엑시머 램프가 장착되어 있는 박스 내에 질소를 유입할 필요가 없고, 유리창이나 두꺼운 석영 유리도 필요하지 않게 되므로, 매우 경제적이다. 또, 얇은 외부관을 사용할 수 있기 때문에, 엑시머 광의 투과성의 저하를 방지하여 높은 조사 효율로 조사할 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서는, 외부 전극의 보호와 엑시머 광의 흡수 방지를 목적으로 한 질소 가스 유동 수단을 가지고 있기 때문에, 엑시머 광의 투과성의 저하를 방지할 수 있는 동시에, 내부관과 외부관을 냉각할 수도 있고, 높은 조사 효율로 조사할 수 있다.According to the present invention, since two or more excimer lamps are arranged in the open case in an exposed state, the excimer lamps can be brought closer to the irradiated object to improve the irradiation efficiency. Moreover, since nitrogen does not need to flow into the box in which the excimer lamp is mounted like conventionally, neither a window nor thick quartz glass is needed, it is very economical. Moreover, since a thin outer tube can be used, the fall of the permeability of excimer light can be prevented and it can irradiate with high irradiation efficiency. In addition, in the present invention, since it has a nitrogen gas flow means for protecting the external electrode and preventing absorption of excimer light, it is possible to prevent a decrease in the permeability of the excimer light and to cool the inner tube and the outer tube. And can be irradiated with high irradiation efficiency.

본원의 제2의 발명은 제1 발명에 기재된 엑시머 조사 장치에 있어서, 상기 외부관이 원형 단면으로 이루어지는 중공관에 있어서, 하나의 엑시머 램프의 외부관의 외주면과, 인접하는 다른 엑시머 램프의 외부관의 외주면의 간극 g가 50mm 이하인 데에 특징을 갖는다.The 2nd invention of this application is the excimer irradiation apparatus as described in 1st invention WHEREIN: The outer tube is a hollow tube which has a circular cross section WHEREIN: The outer peripheral surface of the outer tube of one excimer lamp, and the outer tube of the other excimer lamp which adjoin. It is characterized in that the gap g of the outer peripheral surface of is 50 mm or less.

본 발명에 의하면, 인접하는 엑시머 램프를 50mm 이하의 간극 g로 상호 배치하기 때문에, 발생한 엑시머 광을 높은 조도 효율 하에서 피조사체에 조사할 수 있는 동시에, 그 조도 분포를 보다 균일하게 할 수 있다. 게다가, 사용하는 외부관은 강도가 우수한 원형 단면으로 이루어지는 중공관이기 때문에, 유입 및 유출시키는 질소 가스압에도 충분히 견딜 수 있어, 외부관의 두께를 얇게 할 수 있다. 그 결과, 엑시머 광의 투과성의 저하를 방지할 수 있기 때문에, 높은 조사 효율로 조사할 수 있다.According to the present invention, since the adjacent excimer lamps are mutually disposed at a gap g of 50 mm or less, the generated excimer light can be irradiated to the irradiated object under high illuminance efficiency, and the illuminance distribution can be made more uniform. In addition, since the outer tube to be used is a hollow tube having a circular cross section with excellent strength, it can sufficiently withstand the nitrogen gas pressure to be introduced and discharged, and the thickness of the outer tube can be reduced. As a result, since the fall of the transmittance of an excimer light can be prevented, it can irradiate with high irradiation efficiency.

본원의 제3의 발명은 제1 발명에 기재된 엑시머 조사 장치에 있어서, 상기 외부관이 4변형 단면으로 이루어지는 중공관에 있어서, 하나의 엑시머 램프의 외부관의 외주 평면과, 인접하는 다른 엑시머 램프의 외부관의 외주 평면의 간극 g가 10mm 이하인 데에 특징을 갖는다.The third invention of the present application is the excimer irradiation apparatus according to the first invention, wherein the outer tube is a hollow tube having a quadrilateral cross section, wherein the outer peripheral plane of the outer tube of one excimer lamp is adjacent to another adjacent excimer lamp. The gap g of the outer circumferential plane of the outer tube is 10 mm or less.

본 발명에 의하면, 인접하는 엑시머 램프를 10mm 이하의 간극 g로 상호 인접하게 배치하기 때문에, 발생한 엑시머 광을 높은 조사 효율 하에서 피조사체에 조사할 수 있다. 본 발명에 있어서는, 엑시머 램프의 피조사체측도 납작한 평면으로 되기 때문에, 외부관과 피조사체의 각 부의 간격을 일정하게 유지할 수 있다. 그 결과, 엑시머 램프로부터 조사하는 엑시머 광의 공기 중에서의 감쇠가 피조사체의 각 부에서 일정하게 되고, 또한 그 감쇠도 작기 때문에, 피조사체의 각 부에서의 조도 분포의 균일성을 매우 향상시킬 수 있다. 또, 상기 원형 단면의 외부관의 경우와 마찬가지로, 외부관의 강도가 높기 때문에, 외부관의 두께를 얇게 하여 엑시머 광의 투과성의 저하를 방지하고, 높은 조도 효율로의 조사를 달성할 수 있다.According to the present invention, since the adjacent excimer lamps are disposed adjacent to each other with a gap g of 10 mm or less, the generated excimer light can be irradiated to the irradiated object under high irradiation efficiency. In the present invention, since the irradiated object side of the excimer lamp also becomes a flat plane, the distance between the outer tube and each part of the irradiated object can be kept constant. As a result, the attenuation in the air of the excimer light irradiated from the excimer lamp becomes constant at each part of the irradiated object, and the attenuation is also small, so that the uniformity of illuminance distribution in each part of the irradiated object can be greatly improved. . In addition, as in the case of the outer tube of the circular cross section, since the strength of the outer tube is high, it is possible to reduce the thickness of the outer tube to prevent a decrease in the transmittance of the excimer light, and to achieve irradiation at high illuminance efficiency.

본원의 제4의 발명은 제1 내지 제3 발명 중 어느 하나에 기재된 엑시머 조사 장치에 있어서, 고주파 전원을 추가로 구비하고, 당해 고주파 전원은 상기 엑시머 램프의 정전(靜電) 용량과 공진점이 일치하는 1∼20MHz 범위 내의 고주파 전압을 인가하는 데에 특징을 갖는다.The fourth invention of the present application is the excimer irradiation device according to any one of the first to third inventions, further comprising a high frequency power source, the high frequency power source having a resonance point equal to the electrostatic capacitance of the excimer lamp. It is characterized by applying a high frequency voltage in the range of 1 to 20 MHz.

본 발명에 의하면, 고주파 전원에 의해, 엑시머 램프의 정전 용량과 공진점이 일치하는 1∼20MHz 범위 내의 고주파 전압을 인가하기 때문에, 엑시머 광의 발생에 필요한 인가 전력을 작게 억제할 수 있다. 그 결과, 인가 전원에 대한 발광 효율이 향상되기 때문에, 엑시머 램프의 발열을 억제하고, 엑시머 조사 장치의 온도 상승을 억제할 수 있다. 이러한 온도 상승의 억제 효과는 다수의 엑시머 램프를 구비하는 대면적 조사형의 엑시머 조사 장치에 있어서 특히 바람직하다.According to the present invention, since the high frequency power supply applies a high frequency voltage within the range of 1 to 20 MHz in which the capacitance of the excimer lamp and the resonance point coincide, the applied power required for the generation of the excimer light can be suppressed to be small. As a result, since the luminous efficiency with respect to an applied power supply improves, heat generation of an excimer lamp can be suppressed and the temperature rise of an excimer irradiation apparatus can be suppressed. Such a suppression effect of temperature rise is particularly preferable in a large area irradiation type excimer irradiation apparatus including a plurality of excimer lamps.

본원의 제5의 발명은 제4 발명에 기재된 엑시머 조사 장치에 있어서, 상기 고주파 전압이 1∼3kV의 범위 내인 데에 특징을 갖는다.5th invention of this application is characterized in that the said high frequency voltage exists in the range of 1-3 kV in the excimer irradiation apparatus as described in 4th invention.

본 발명에 의하면, 엑시머 램프에 인가되는 고주파 전압이 상기 범위 내이기 때문에, 엑시머 램프의 발열과 엑시머 조사 장치의 온도 상승을 억제하는 데에 특히 바람직하다.According to this invention, since the high frequency voltage applied to an excimer lamp exists in the said range, it is especially preferable for suppressing heat_generation | fever of an excimer lamp and temperature rise of an excimer irradiation apparatus.

본원의 제6의 발명은 제1 내지 제5 발명 중 어느 하나에 기재된 엑시머 조사 장치에 있어서, 상기 내부관의 내경 d와 상기 내부 전극의 외경 D의 비(d/D)가 1.1 이상 3.0 이하인 데에 특징을 갖는다.In the sixth invention of the present application, in the excimer irradiation apparatus according to any one of the first to fifth inventions, the ratio (d / D) of the inner diameter d of the inner tube and the outer diameter D of the inner electrode is 1.1 or more and 3.0 or less. It is characterized by.

본 발명에 의하면, 내부관과 내부 전극 사이에 일정한 간극이 형성되므로, 냉각 매체인 질소 가스를 내부관 내에 용이하게 도입시킬 수 있다. 그 결과, 내부관을 효율적으로 냉각할 수 있다.According to the present invention, since a constant gap is formed between the inner tube and the inner electrode, nitrogen gas which is a cooling medium can be easily introduced into the inner tube. As a result, the inner tube can be cooled efficiently.

본원의 제7의 발명은 제1 내지 제6 발명 중 어느 하나에 기재된 엑시머 조사 장치에 있어서, 상기 내부 전극의 길이 L과 상기 내부 전극의 외경 D의 비(L/D)가 10 이상 100 이하인 데에 특징을 갖는다.7th invention of this application is the excimer irradiation apparatus in any one of 1st-6th invention WHEREIN: The ratio (L / D) of the length L of the said inner electrode and the outer diameter D of the said inner electrode is 10 or more and 100 or less, It is characterized by.

본 발명에 의하면, L/D를 상기 범위 내로 함으로써, 내부 전극이 배치되는 내부관을 질소 가스에 의해 효율적으로 냉각할 수 있다.According to this invention, by making L / D into the said range, the internal tube in which an internal electrode is arrange | positioned can be cooled efficiently by nitrogen gas.

본원의 제8의 발명은 제1 내지 제7 발명 중 어느 하나에 기재된 엑시머 조사 장치에 있어서, 동등한 간격으로 배치된 상기 엑시머 램프로 구성되는 조사면이 상기 엑시머 램프의 실효 길이에 상당하는 세로 길이 V와, 상기 엑시머 램프의 실효 길이의 2배 이상의 길이에 상당하는 가로 길이 W로 이루어지는 데에 특징을 갖는다.In the eighth invention of the present application, in the excimer irradiation device according to any one of the first to seventh inventions, a longitudinal length V whose irradiation surfaces composed of the excimer lamps arranged at equal intervals corresponds to the effective length of the excimer lamps. And a horizontal length W corresponding to a length of two or more times the effective length of the excimer lamp.

본 발명에 의하면, 동등한 간격으로 배치된 엑시머 램프로 구성되는 조사면이 세로 길이 V와 가로 길이 W로 이루어지는 큰 면적으로 되어 있기 때문에, 대면적의 피조사체의 각 부에 균일한 조도로 조사하거나, 연속하여 이동하는 공정 중에 균일한 조도로 일정 시간 조사할 수 있다.According to the present invention, since the irradiated surface composed of excimer lamps arranged at equal intervals has a large area composed of the longitudinal length V and the horizontal length W, each part of the large-area irradiated object is irradiated with uniform illuminance, Irradiation for a certain time with uniform illuminance during the continuous moving process.

다음에, 도면을 참조하면서 본 발명의 엑시머 조사 장치에 대해 설명한다.Next, the excimer irradiation apparatus of this invention is demonstrated, referring drawings.

도 1은 본 발명의 엑시머 조사 장치의 일례를 나타낸 정면 단면도이며, 도 2는 본 발명의 엑시머 조사 장치의 다른 일례를 나타낸 정면 단면도이다. 도 3은 도 1 및 도 2의 엑시머 조사 장치를 나타낸 측면도이며, 도 4는 도 1의 엑시머 조사 장치의 평면도이다. 도 5는 대면적의 조사면을 가지는 엑시머 조사 장치의 일례를 나타낸 평면도이다. 도 6은 도 1에서 사용한 엑시머 램프의 세로 방향의 단면도이며, 도 7은 도 1에서 사용한 엑시머 램프의 가로 방향의 단면도이다.1 is a front sectional view showing an example of an excimer irradiation device of the present invention, Figure 2 is a front sectional view showing another example of the excimer irradiation device of the present invention. 3 is a side view illustrating the excimer irradiation apparatus of FIGS. 1 and 2, and FIG. 4 is a plan view of the excimer irradiation apparatus of FIG. 1. 5 is a plan view showing an example of an excimer irradiation apparatus having a large-area irradiation surface. 6 is a longitudinal cross-sectional view of the excimer lamp used in FIG. 1, and FIG. 7 is a cross-sectional view of the excimer lamp used in FIG. 1 in a horizontal direction.

본 발명은 노출 상태에서 사용할 수 있는 엑시머 램프(2), 내부관(7)의 내부와 외부관(6)의 내부에 질소 가스(3)를 유입 및 유출시키는 질소 가스 유동 수단, 외부관(6)의 단면 형상, 엑시머 램프(2) 상호간의 간격 g 등의 특징적인 수단을 취함으로써, 상기한 종래의 문제를 해결한 것이다. 그리고, 도 4 및 도 5의 해칭은 외부관(6)을 나타내고 있다.The present invention provides an excimer lamp (2) that can be used in an exposed state, a nitrogen gas flow means for introducing and discharging nitrogen gas (3) into and out of an inner tube (7) and an inner tube (6). The above-mentioned conventional problem is solved by taking the characteristic means, such as the cross-sectional shape of (), the space | interval g between the excimer lamps 2, etc. 4 and 5 show the outer tube 6.

본 발명의 엑시머 조사 장치(1)의 특징은 노출 상태에서 개방 케이스(21)에 배치되는 엑시머 램프(2)를 둘 이상(도 1에 있어서는 4개)을 설치하고, 그 엑시머 램프(2)가 직접 피조사체에 마주보도록 일정 간격으로 나란히 배치한 것이다. 엑시머 램프(2)의 수는 특별히 한정이 없고, 다수의 엑시머 램프(2)를 개방 케이스(21)에 배치하여 대면적의 조사면(42)을 가지는 엑시머 조사 장치(41)로 할 수도 있다(도 5 참조). 엑시머 조사 장치(1)의 엑시머 램프(2) 이외의 부분에는 고주파 전원이나 질소 가스 유동 수단에 사용하는 유량 조절판 등을 설치할 수 있다. 또, 피조사체의 반대측에는 엑시머 램프(2)로부터 조사된 엑시머 광을 반사하기 위한 반사체(10)를 형성할 수도 있다.A feature of the excimer irradiation device 1 of the present invention is to provide two or more (four in FIG. 1) excimer lamps 2 arranged in the open case 21 in an exposed state, and the excimer lamps 2 They are arranged side by side at regular intervals to face the subject directly. The number of the excimer lamps 2 is not particularly limited, and a plurality of excimer lamps 2 may be disposed in the open case 21 to form an excimer irradiation device 41 having a large area irradiation surface 42 ( See FIG. 5). A portion other than the excimer lamp 2 of the excimer irradiation device 1 can be provided with a flow control plate for use in a high frequency power source or a nitrogen gas flow means. Moreover, the reflector 10 for reflecting the excimer light irradiated from the excimer lamp 2 can also be provided in the opposite side to an irradiated object.

본 발명에 있어서는, 노출 상태의 엑시머 램프(2)를 나란히 배치함으로써, 엑시머 램프(2)를 피조사체에 더욱 접근시킬 수 있다. 그 결과, 엑시머 램프(2)의 조사 효율의 향상과 조도 분포의 균일화를 도모할 수 있다. 그리고, 본 발명의 엑시머 조사 장치(1)는 종래와 같은 석영 유리창을 개방 케이스(21)의 피조사체측의 표면에 설치하지 않기 때문에, 경제적으로도 이점이 있다.In the present invention, the excimer lamp 2 can be brought closer to the irradiated object by arranging the excimer lamp 2 in the exposed state side by side. As a result, the irradiation efficiency of the excimer lamp 2 can be improved and the illuminance distribution can be made uniform. And since the excimer irradiation apparatus 1 of this invention does not provide the conventional quartz glass window on the surface of the to-be-projected object side of the open case 21, there is an advantage economically.

(1) 엑시머 램프(1) excimer lamp

엑시머 램프(2)는 엑시머 방전관(4)과 엑시머 방전관(4)의 외측에 배치되는 외부 전극(5)과, 외부 전극(5)의 보다 외측에 배치되는 외부관(6)과, 엑시머 방전관(4)의 내측에 배치되는 내부관(7)과, 내부관(7) 중에 배치되는 내부 전극(8)과, 엑시머 방전관(4)과 내부관(7) 사이의 밀폐 공간에 충전된 방전용 가스(9)를 가지고 있다. 그리고, 상기 엑시머 램프(2)는 엑시머 램프의 세로 방향의 양단 또는 양단 부근을 개방 케이스(21)에 고정하여 장착하고 있다(도 3 또는 도 4를 참조). 또한, 본 발명에 있어서는 내부관(7) 내의 공간 내부 및 외부관(6)과 엑시머 방전관(4) 사이의 공간 내에 질소 가스(3)를 유입 및 유출시키는 질소 가스 유동 수단을 가지고 있다.The excimer lamp 2 includes an external electrode 5 disposed outside the excimer discharge tube 4 and the excimer discharge tube 4, an outer tube 6 disposed outside the external electrode 5, and an excimer discharge tube ( Discharge gas filled in an inner tube 7 disposed inside 4), an inner electrode 8 disposed in the inner tube 7, and an enclosed space between the excimer discharge tube 4 and the inner tube 7; Have (9) The excimer lamp 2 is fixed to the open case 21 at both ends of the excimer lamp in the longitudinal direction or near both ends thereof (see FIG. 3 or FIG. 4). Moreover, in this invention, it has the nitrogen gas flow means which inflows and outflows the nitrogen gas 3 in the space in the inner tube 7, and the space between the outer tube 6 and the excimer discharge tube 4.

엑시머 방전관(4)은 그 내측에 배치되는 내부관(7)과의 사이의 밀폐 공간에 소정 종류의 방전용 가스(9)가 충전된 관형 용기이다. 엑시머 방전관(4)의 재질은 발생한 엑시머 광이 투과하기 쉬운 유전체로 이루어져 있다. 통상, 광 투과성이 우수한 석영관 또는 합성 석영관이 사용된다. 그 석영관 또는 합성 석영관의 두께는 1.0∼2.0mm 정도의 것이 사용된다. 그리고, 엑시머 방전관(4)의 길이나 직경은 피조사체의 크기나 조사시간을 토대로 설계되는 조사면의 면적에 따라 임의로 설정된다. 통상, 외경이 20∼40mm 정도이며, 길이가 100∼1000mm 정도의 석영관이 사용된다. 엑시머 방전관(4)은 선단이 밀폐된 것이 바람직하게 사용된다. 양단이 개방된 것인 경우에는 그 선단부는 테플론 실 등에 의해 밀폐된다. The excimer discharge tube 4 is a tubular container in which a predetermined type of discharge gas 9 is filled in a sealed space between the inner tube 7 disposed inside the excimer discharge tube 4. The material of the excimer discharge tube 4 is made of a dielectric through which excimer light generated is easily transmitted. Usually, a quartz tube or a synthetic quartz tube excellent in light transmittance is used. The quartz tube or the synthetic quartz tube has a thickness of about 1.0 to 2.0 mm. The length and diameter of the excimer discharge tube 4 are arbitrarily set according to the area of the irradiation surface designed based on the size of the irradiated object and the irradiation time. Usually, quartz tubes with an outer diameter of about 20 to 40 mm and a length of about 100 to 1000 mm are used. The excimer discharge tube 4 is preferably one whose tip is sealed. When both ends are open, the tip is closed by Teflon seal or the like.

방전용 가스(9)는 엑시머 방전관(4) 내에 봉입된다. 엑시머 램프(2)는 엑시머 방전관(4)의 내외에 형성된 내부 전극(8)과 외부 전극(5) 사이에 고주파 전압이 인가됨으로써, 봉입한 방전용 가스(9)의 종류에 따른 파장의 엑시머 광을 발생한다. 방전용 가스(9)의 종류와 엑시머 광의 파장의 관계는 예를 들면 크립톤(Kr) 가스에서는 146nm, 크세논(Xe) 가스에서는 172nm, KrI 가스에서는 191nm, ArF 가스에서는 193nm, KrCI 가스에서는 222nm, KrF 가스에서는 248nm의 엑시머 광이 각각 단일 파장으로 발생한다. 그러므로, 방전용 가스(9)를 임의로 선정함으로써, 이용 목적에 따른 엑시머 광을 발생시킬 수 있다. 예를 들면, 소자나 부품에 부착된 유기 화합물의 분해에는 172nm 또는 222nm의 파장의 엑시머 광이 바람직하게 적용된다. 상기 파장의 엑시머 광은 대기중 또는 액체중의 산소로부터 산화력이 강한 많은 여기 산소 원자를 직접 생성할 수 있다. 그러므로, 광자의 에너지가 강해, 유기 화합물 중의 C-C, C-O, C-H, C-CI 등의 결합을 용이하게 절단할 수 있고, 여기에 여기 산소 원자가 반응하여 유기 화합물을 분해할 수 있다. 그리고, 엑시머 방전관(4) 내의 방전용 가스(9)의 내압은 가스의 종류 및 원하는 엑시머 광의 조도에 따라 임의로 설정되지만, 통상은 10∼60kPa 정도이다.The gas 9 for discharge is enclosed in the excimer discharge tube 4. The excimer lamp 2 has an excimer light having a wavelength corresponding to the type of the discharge gas 9 encapsulated by applying a high frequency voltage between the internal electrode 8 and the external electrode 5 formed inside and outside the excimer discharge tube 4. Occurs. The relationship between the type of discharge gas 9 and the wavelength of excimer light is, for example, 146 nm in krypton (Kr) gas, 172 nm in xenon (Xe) gas, 191 nm in KrI gas, 193 nm in ArF gas, 222 nm in KrCI gas, KrF In the gas, 248 nm excimer light is generated at each single wavelength. Therefore, by selecting the gas 9 for discharge arbitrarily, excimer light according to a use purpose can be generated. For example, excimer light having a wavelength of 172 nm or 222 nm is preferably applied to decomposition of an organic compound attached to an element or part. Excimer light of this wavelength can directly generate many oxidizing excited oxygen atoms directly from oxygen in the atmosphere or liquid. Therefore, the energy of photons is strong, so that the bonds of C-C, C-O, C-H, C-CI and the like in the organic compound can be easily cleaved, and the excitation oxygen atoms can react to decompose the organic compound. The internal pressure of the discharge gas 9 in the excimer discharge tube 4 is arbitrarily set depending on the kind of gas and the illuminance of the desired excimer light, but is usually about 10 to 60 kPa.

외부 전극(5)은 엑시머 방전관(4)의 외주 표면의 전역에 걸쳐 배치되고, 스테인레스 강철, 알루미늄, 알루미늄 합금, 구리, 산화구리, 또는 그들의 합금, 산화이트륨, 산화이트륨알루미늄 등과 같은 양호한 금속 도전성을 나타내어 방전율이 높아지는 것이 바람직하게 선정된다. 외부 전극(5)의 형상은 판형, 그물코형 등 특별히 한정되지 않는다. 그리고, 원형, 사각형, 육각형 등의 관통 구멍이 다수 형성된 두께 0.5mm 정도의 팬팅(panting) 메탈은 엑시머 방전관(4)으로부터 조사되는 엑시머 광의 광로를 많이 방해하지 않기 때문에, 바람직하게 사용된다.The external electrodes 5 are disposed throughout the outer circumferential surface of the excimer discharge tube 4 and have good metal conductivity such as stainless steel, aluminum, aluminum alloy, copper, copper oxide, or their alloys, yttrium oxide, aluminum yttrium aluminum, or the like. It is selected preferably that discharge rate becomes high. The shape of the external electrode 5 is not particularly limited, such as a plate shape or a mesh shape. In addition, a panning metal having a thickness of about 0.5 mm in which a large number of through holes such as a circle, a rectangle, and a hexagon are formed is preferably used because it does not obstruct much of the optical path of the excimer light emitted from the excimer discharge tube 4.

외부관(6)은 외부 전극(5)의 외측에 배치되고, 원형 단면 또는 4변형 단면으로 이루어지는 석영관 또는 합성 석영관이 사용된다. 상기 외부관(6)은 엑시머 방전관(4)과의 사이에 공간을 형성한다. 외부관(6)의 단부는 그 공간 내에 외부 전극(5)의 산화 방지와 엑시머 광의 흡수 방지를 목적으로 한 질소 가스(3)가 유입 및 유출될 수 있도록 가공되어 있다. 외부관(6)은 강도가 우수한 원형 단면 또는 4변형 단면으로 이루어지는 중공(中空)관이기 때문에, 그곳에 유입 및 유출되는 질소 가스압에도 충분히 견딜 수 있다. 그러므로, 외부관(6)의 두께를 1.0∼2.0mm 정도로 얇게 할 수 있다. 본 발명에 있어서는 상기와 같이 외부관(6)을 얇게 할 수 있기 때문에, 엑시머 방전관(4)으로부터 조사되는 엑시머 광이 외부관(6)을 통과할 때에 투과율이 저하되는 것을 매우 작게 할 수 있다. 그러므로, 노출 상태에서 사용할 수 있고, 충분한 조사 효율로 피조사체에 조사할 수 있다.The outer tube 6 is disposed outside the outer electrode 5, and a quartz tube or a synthetic quartz tube having a circular cross section or a quadrilateral cross section is used. The outer tube 6 forms a space between the excimer discharge tube 4. The end of the outer tube 6 is machined to allow nitrogen gas 3 to flow in and out of the space for the purpose of preventing oxidation of the outer electrode 5 and preventing absorption of excimer light. Since the outer tube 6 is a hollow tube having a circular cross section or a quadrilateral cross section with excellent strength, the outer tube 6 can sufficiently withstand the nitrogen gas pressure flowing in and out there. Therefore, the thickness of the outer tube 6 can be made thin about 1.0-2.0 mm. In the present invention, since the outer tube 6 can be made thin as described above, the transmittance decreases when the excimer light emitted from the excimer discharge tube 4 passes through the outer tube 6 can be made extremely small. Therefore, it can use in an exposed state and can irradiate an irradiated object with sufficient irradiation efficiency.

외부관(6)의 크기는 원형 단면 및 4변형 단면으로 이루어지는 어떠한 외부관에 있어서도 외경 50∼80mm 정도의 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 그러나, 외부관(6)의 크기에 대해서는 그 내측에 설치되는 엑시머 방전관(4)의 크기나 엑시머 조사 장치 전체의 구성, 크기, 비용, 취급의 용이함 등에 따라서도 상이하기 때문에, 특별히 한정되는 것은 아니다. 그리고, 외부관(6)의 길이는 엑시머 방전관(4)의 길이에 대응한 것이 사용된다. 외부관(6)은 양단이 개방된 것이어도 되고, 선단부가 밀폐된 것이어도 되고 특별히 한정되지 않는다. 개방된 관인 경우에는 그 선단부는 테플론 실 등으로 밀폐된다.As for the size of the outer tube 6, in the outer tube which consists of a circular cross section and a quadrilateral cross section, the thing of about 50-80 mm in outer diameter can be used preferably. However, the size of the outer tube 6 is not particularly limited because it varies depending on the size of the excimer discharge tube 4 provided therein, the structure, size, cost, ease of handling, and the like of the entire excimer irradiation apparatus. . The length of the outer tube 6 corresponding to the length of the excimer discharge tube 4 is used. The outer tube 6 may be open at both ends, may be sealed at the distal end, or is not particularly limited. In the case of an open tube, its tip is sealed with Teflon seal or the like.

내부관(7)은 엑시머 방전관(4) 내의 대개 중심에 설치되고, 통상 석영관 또는 합성 석영관이 사용된다. 상기 내부관(7)은 그 내측에 형성된 내부 전극(8)과 그 한 쪽의 단부에 형성된 질소 가스(3)의 유입구(11) 및 유출구(12)를 구비하고 있다. 내부관(7)은 통상 그 선단이 밀폐된 것이 사용된다(도 6을 참조).The inner tube 7 is usually installed in the center of the excimer discharge tube 4, and usually a quartz tube or a synthetic quartz tube is used. The inner tube 7 includes an inner electrode 8 formed therein and an inlet 11 and an outlet 12 of nitrogen gas 3 formed at one end thereof. As for the inner tube 7, the thing whose tip is sealed normally is used (refer FIG. 6).

내부관(7) 내에는 그 유출구(11)로부터 질소 가스(3)가 도입되고, 상기 질소 가스(3)에 의해 내부관(7)이 냉각된다. 질소 가스(3)의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니며, 시판되는 질소 가스 등을 사용할 수 있다. 내부관(7) 내에 도입하는 질소 가스(3)의 온도를 열 교환기 등에 의해 낮추어 놓음으로써, 내부관(7)을 한층 더 냉각시킬 수 있다. 질소 가스(3)에 의해 냉각된 내부관(7)은 그 열화 수명이 향상되어 엑시머 방전관(4)의 열화 수명과 같은 정도로 되기 때문에, 엑시머 램프 전체로서 보았을 때, 그 수명을 향상시킬 수 있다.Nitrogen gas 3 is introduced into the inner tube 7 from the outlet 11, and the inner tube 7 is cooled by the nitrogen gas 3. The kind of nitrogen gas 3 is not specifically limited, Commercially available nitrogen gas etc. can be used. By lowering the temperature of the nitrogen gas 3 introduced into the inner tube 7 by a heat exchanger or the like, the inner tube 7 can be cooled further. Since the deterioration life of the inner tube 7 cooled by the nitrogen gas 3 is improved to be about the same as the deterioration life of the excimer discharge tube 4, the life of the excimer lamp as a whole can be improved.

내부 전극(8)은 내부관(7)의 내측에 형성되고, 전술한 외부 전극(5)에서 사용되는 재료와 같은 종류의 재료를 사용할 수 있고, 양호한 금속 도전성을 나타내어 방전율이 높아지는 것이 바람직하게 선정된다. 내부 전극(8)은 내부관(7) 중에 배치되므로, 방전용 가스(9)에 직접 접촉되지 않는다. 이로써, 유전체 장벽 방전이 내부관(7) 상의 각 부분에서 일정하게 생긴다고 하는 바람직한 효과가 얻어진다. 그리고, 내부 전극(8)의 형상은 봉형, 관형, 망형 등 특별히 한정되지 않지만, 유입구(11)로부터 들어온 질소 가스(3)가 내부관(7) 내를 통과하기 쉬운 형상인 것이 바람직하다. 망형 전극은 망 사이에 공간이 있고, 질소 가스(3)가 통과하기 쉬운 것이 바람직하게 사용된다.The inner electrode 8 is formed inside the inner tube 7 and can be made of the same kind of material as the material used for the outer electrode 5 described above, and preferably exhibits good metal conductivity to increase the discharge rate. do. Since the internal electrode 8 is disposed in the inner tube 7, it does not directly contact the gas for discharge 9. Thereby, the preferable effect that a dielectric barrier discharge arises uniformly in each part on the inner tube 7 is acquired. The shape of the internal electrode 8 is not particularly limited, such as a rod, tubular, or mesh, but it is preferable that the nitrogen gas 3 introduced from the inlet 11 easily passes through the inner tube 7. The mesh electrode preferably has a space between the meshes, and the nitrogen gas 3 easily passes therethrough.

여기서, 내부관(7)과 봉형 또는 관형의 내부 전극(8)의 관계에 대해 설명한다. 도 8, 도 10 및 도 11은 본 발명의 엑시머 램프의 다른 예를 나타낸 단면도이다. 도 9, 도 12∼도 14는 엑시머 램프의 내부관(7)과 내부 전극(8)의 단면도이다. 그리고, 도 8, 도 10 및 도 11의 엑시머 램프에 있어서는, 편의상, 외부관을 생략한 형태로 설명한다.Here, the relationship between the inner tube 7 and the rod-shaped or tubular inner electrode 8 will be described. 8, 10 and 11 are cross-sectional views showing another example of the excimer lamp of the present invention. 9 and 12 to 14 are cross-sectional views of the inner tube 7 and the inner electrode 8 of the excimer lamp. In addition, in the excimer lamp of FIG. 8, FIG. 10, and FIG. 11, the external tube is abbreviate | omitted for convenience.

내부관(7)의 내경 d와 내부 전극(8)의 외경 D의 비(d/D)는 질소 가스(3)가 내부관(7) 내에 용이하게 도입되도록, 1.1 이상 3.0 이하인 것이 바람직하다. 이러한 범위로 함으로써, 질소 가스(3)를 내부관(7) 내에 용이하게 유입할 수 있다. d/D의 비가 1.1 미만인 경우에는 내부관(7)과 내부 전극(8) 사이의 간극이 작기 때문에, 내부관(7) 내에서의 질소 가스(3)의 흐름이 불량하여 내부관(7)을 충분히 냉각할 수 없는 경우가 있다. 한편, d/D의 비가 3.0을 넘으면, 질소 가스(3)의 흐름이 양호하기 때문에 내부관(7)을 충분히 냉각할 수 있으나, 내부관(7)이 두꺼워져 엑시머 램프 전체가 두꺼워지거나 내부 전극(8)이 가늘어져 균일한 방전을 일으키지 못할 우려가 있다.The ratio (d / D) of the inner diameter d of the inner tube 7 and the outer diameter D of the inner electrode 8 is preferably 1.1 or more and 3.0 or less so that the nitrogen gas 3 is easily introduced into the inner tube 7. By setting it as such a range, the nitrogen gas 3 can flow easily into the inner tube 7. As shown in FIG. If the ratio d / D is less than 1.1, since the gap between the inner tube 7 and the inner electrode 8 is small, the flow of the nitrogen gas 3 in the inner tube 7 is poor and the inner tube 7 May not be sufficiently cooled. On the other hand, if the ratio of d / D exceeds 3.0, the inner tube 7 can be sufficiently cooled because the flow of the nitrogen gas 3 is good, but the inner tube 7 is thickened and the entire excimer lamp is thickened or the inner electrode is thickened. (8) becomes thin and there is a possibility that a uniform discharge may not be produced.

도 10에 나타낸 바와 같이, 내부관(7)의 양단이 개방되어 있는 경우에는 내부 전극(8)을 봉 형상으로 함으로써, 그 한 끝으로부터 다른 끝으로 질소 가스(3)를 용이하게 흐르게 할 수 있어, 내부관(7)을 효율적으로 냉각할 수 있다. 한편, 도 11에 나타낸 바와 같이, 내부관(7)의 한 끝이 밀폐되어 있는 경우에는 파이프 형상의 내부 전극(8)으로 함으로써, 파이프 형상의 내부 전극(8)의 외측 또는 내측으로부터 유입시킨 질소 가스(3)를 그 내측 또는 외측으로부터 유출시켜, 내부관(7)을 효율적으로 냉각할 수 있다. 그리고, 파이프 형상의 내부 전극(8)을 사용한 경우도 내부관(7)의 내경 d와 파이프 형상의 내부 전극(8)의 외경 D의 비는 전술한 범위 내인 것이 바람직하다.As shown in FIG. 10, when both ends of the inner tube 7 are open, the internal electrode 8 has a rod shape, whereby the nitrogen gas 3 can easily flow from one end to the other. The inner tube 7 can be cooled efficiently. On the other hand, as shown in FIG. 11, when one end of the inner tube 7 is sealed, by making it the pipe-shaped inner electrode 8, nitrogen which flowed in from the outer side or the inside of the pipe-shaped inner electrode 8 is shown. The gas 3 can flow out from the inside or the outside, and the inner pipe 7 can be cooled efficiently. In addition, even when using the pipe-shaped inner electrode 8, it is preferable that the ratio of the inner diameter d of the inner tube 7 and the outer diameter D of the pipe-shaped inner electrode 8 is in the above-mentioned range.

또, 내부관(7)의 한 끝이 밀폐되어 있는 경우에 있어서, 질소 가스(3)를 내부관(7) 내에 도입하기 위한 소경관(小徑管)(13)을 봉 형상의 내부 전극(8)을 따라 내부관(7) 내의 밀폐된 한쪽 끝까지 또는 적당한 위치까지 삽입해도 된다(도 13을 참조). 이로써, 질소 가스(3)를 내부관(7) 내에 용이하게 도입시킬 수 있다. 또한, 도 14에 나타낸 바와 같이, 내부관(7) 내에 배치하는 내부 전극(8)의 형상을 평판 형상으로 함으로써, 질소 가스(3)의 유입측과 유출측을 나눌 수 있다. 이로써, 질소 가스(3)를 내부관(7) 내에 용이하게 도입할 수 있다.In addition, when one end of the inner tube 7 is sealed, a small diameter tube 13 for introducing the nitrogen gas 3 into the inner tube 7 is provided with a rod-shaped inner electrode ( You may insert along 8) to the sealed one end in the inner pipe | tube 7, or to an appropriate position (refer FIG. 13). As a result, the nitrogen gas 3 can be easily introduced into the inner tube 7. As shown in FIG. 14, the inflow side and the outflow side of the nitrogen gas 3 can be divided by making the shape of the internal electrode 8 disposed in the inner tube 7 flat. As a result, the nitrogen gas 3 can be easily introduced into the inner tube 7.

또한, 내부 전극의 길이 L과 내부 전극의 외경 D의 비에 대해 설명한다.In addition, the ratio of the length L of the inner electrode to the outer diameter D of the inner electrode will be described.

본 발명에 있어서, 내부 전극(8)의 길이 L과 내부 전극(8)의 외경 D의 비(L/D)가 10 이상 100 이하인 것이 바람직하다. 내부 전극(8)의 길이 L은 엑시머 램프(2)의 길이와 비례 관계에 있고, 엑시머 램프(2)의 길이에 따라 내부 전극(8)의 길이 L도 대략 결정된다. 내부 전극(8)의 외경 D는 엑시머 램프(2) 전체의 두께에 관계되기 때문에, 내부 전극(8)의 외경 D가 커짐에 따라 내부관(7) 및 엑시머 방전관(4)도 두꺼워지고, 엑시머 램프(2) 전체가 두꺼운 형상으로 된다. L/D가 10 미만인 경우에는 이른바 두꺼운 내부 전극(8)을 사용하게 되므로, 내부관(7) 내에 도입된 질소 가스(3)에 의해 내부관(7)을 충분히 냉각할 수 있으나, 엑시머 램프(2) 전체가 두꺼워지기 때문에, 엑시머 광을 발광하는 엑시머 램프(2)의 표면적이 작아져 그다지 효율적이지 않다. L/D가 100을 넘는 경우에는 가늘고 긴 내부 전극(8)을 사용하게 되므로, 내부관(7) 내에 질소 가스(3)를 충분히 도입하지 못할 우려가 있어, 내부관(7)의 냉각이 불충분해질 우려가 있다. 또, L/D가 상기 범위 내이면 내부 전극(8)의 길이 L이나 그 외경 D는 특별히 한정되지 않고, 긴 내부 전극(8)이어도 되고 짧은 내부 전극(8)이어도 된다.In this invention, it is preferable that ratio (L / D) of length L of the internal electrode 8 and the outer diameter D of the internal electrode 8 is 10 or more and 100 or less. The length L of the internal electrode 8 is in proportion to the length of the excimer lamp 2, and the length L of the internal electrode 8 is also approximately determined according to the length of the excimer lamp 2. Since the outer diameter D of the inner electrode 8 relates to the thickness of the entire excimer lamp 2, as the outer diameter D of the inner electrode 8 increases, the inner tube 7 and the excimer discharge tube 4 also become thicker, and the excimer The whole lamp 2 becomes thick shape. When the L / D is less than 10, the so-called thick inner electrode 8 is used, so that the inner tube 7 can be sufficiently cooled by the nitrogen gas 3 introduced into the inner tube 7, but the excimer lamp ( 2) Since the whole becomes thick, the surface area of the excimer lamp 2 which emits excimer light is small, which is not very efficient. When the L / D exceeds 100, the elongated inner electrode 8 is used, so that the nitrogen gas 3 may not be sufficiently introduced into the inner tube 7, so that the cooling of the inner tube 7 is insufficient. There is a risk of loss. Moreover, if L / D is in the said range, the length L of the internal electrode 8 and its outer diameter D are not specifically limited, The long internal electrode 8 may be sufficient, or the short internal electrode 8 may be sufficient.

다음에, 질소 가스 유동 수단에 대해 설명한다.Next, nitrogen gas flow means will be described.

본 발명에 있어서는 질소 가스(3)를 내부관(7) 내의 공간 내 및 외부관(6)과 엑시머 방전관(4) 사이의 공간 내에 유입 및 유출시키는 질소 가스 유동 수단을 가지고 있다. 그러므로, 도 6에 나타낸 바와 같이 각각의 공간 내에 질소 가스(3)를 용이하게 유입 및 유출시키기 위한 유입구(11)나 유출구(12)를 형성하고 있다.The present invention has nitrogen gas flow means for introducing and discharging the nitrogen gas 3 into the space in the inner tube 7 and in the space between the outer tube 6 and the excimer discharge tube 4. Therefore, as shown in FIG. 6, the inflow port 11 and the outflow port 12 for inflow and outflow of the nitrogen gas 3 in each space easily are formed.

이러한 질소 가스 유동 수단에 의해, 내부관(7)이나 외부관(6)이 엑시머 광이나 열로 서서히 열화되는 정도를 엑시머 방전관(4)의 열화 정도와 같은 정도로 할 수 있다. 그 결과, 엑시머 램프(2) 전체로서의 수명을 향상시킬 수 있다. 특히, 200nm 이하의 진공 자외선 영역의 파장의 엑시머 광을 발생시키는 엑시머 램프 발생 장치(20)에서는 그 내부관(7)의 열화를 한층 더 억제할 수 있다.By such nitrogen gas flow means, the degree to which the inner tube 7 and the outer tube 6 are gradually degraded by excimer light or heat can be made to the same degree as that of the excimer discharge tube 4. As a result, the lifetime as the whole excimer lamp 2 can be improved. In particular, in the excimer lamp generator 20 that generates excimer light having a wavelength in a vacuum ultraviolet region of 200 nm or less, deterioration of the inner tube 7 can be further suppressed.

질소 가스(3)의 유입 및 유출 경로는 도 6에 나타낸 바와 같이, (i) 내부관(7)에 유입구(11)를 형성하고, (ii) 내부관(7)과 외부관(7) 사이에서는 내부관(7) 내의 질소 가스(3)가 외부관(6) 내의 공간에 유입되기 위한 유입 및 유출 경로를 형성하고, (iii) 외부관(6)에는 유출구(12)를 형성하는 것이 바람직하다. 그리고, 질소 가스(3)를 최초로 외부관(6)에 유입시키고, 그 후 내부관(7)에 유입되는 유입 및 유출 경로로 해도 된다. 또, 내부관(7)용과 외부관(6)용으로 각각 형성할 수도 있다. 또, 유입되는 질소 가스(3)가 내부관(7) 내의 공간이나 외부관(6) 내의 공간을 용이하게 흐르도록 양단이 개구된 내부관(7)이나 외부관(6)을 사용할 수도 있다. 또, 한 끝이 개구된 내부관(7)이나 외부관(6)을 사용하는 경우에는, 소경관(13)을 삽입하여 내부관(7)이나 외부관(6)의 끝까지 질소 가스(3)를 유도할 수도 있다.As shown in FIG. 6, the inflow and outflow paths of the nitrogen gas 3 include (i) an inlet 11 in the inner tube 7, and (ii) between the inner tube 7 and the outer tube 7. In the inner tube (7) it is preferable to form an inlet and outlet path for the nitrogen gas (3) to enter the space in the outer tube (6), and (iii) the outlet tube (12) to form an outlet (12) Do. The nitrogen gas 3 may be introduced into the outer tube 6 first, and then the inflow and outflow paths flowing into the inner tube 7 may be used. Moreover, it can also form for the inner pipe | tube 7 and the outer pipe | tube 6, respectively. Moreover, the inner tube 7 and the outer tube 6 which open | released both ends may be used so that the nitrogen gas 3 which flows in may flow easily into the space in the inner tube 7 or the space in the outer tube 6. In addition, when using the inner tube 7 or the outer tube 6 which opened one end, the small diameter tube 13 is inserted, and the nitrogen gas 3 to the end of the inner tube 7 or the outer tube 6 is carried out. Can also be derived.

질소 가스(3)는 전술한 공간 내에 가압 상태로 유지하면서 유입 및 유출시키는 것이 바람직하다. 질소 가스(3)의 유입 및 유출은 외부 전극(5) 및 내부 전극(8)의 산화 방지와 엑시머 광의 흡수 방지를 목적으로 한 것이다. 게다가, 본 발명에 있어서는, 외부관(6)이 강도가 우수한 원형 단면 또는 4변형 단면으로 이루어지는 중공관이기 때문에, 가압 상태의 질소 가스압에도 충분히 견딜 수 있어, 외부관(6)의 두께를 얇게 할 수 있다. 그 결과, 종래와 같은 두꺼운 석영 유리창을 사용한 경우와는 상이하게 엑시머 광의 투과성을 저하시키지 않아, 높은 조사 효율로 조사할 수 있는 동시에 경제적으로도 바람직하다.Nitrogen gas 3 is preferably introduced and discharged while maintaining the pressurized state in the above-mentioned space. The inflow and outflow of the nitrogen gas 3 is for the purpose of preventing the oxidation of the external electrodes 5 and 8 and the absorption of excimer light. In addition, in the present invention, since the outer tube 6 is a hollow tube having a circular cross section or a quadrilateral cross section excellent in strength, the outer tube 6 can withstand nitrogen gas pressure in a pressurized state sufficiently, and the thickness of the outer tube 6 can be reduced. Can be. As a result, unlike the conventional case of using a thick quartz glass window, the transmittance of excimer light is not lowered, the irradiation can be carried out with high irradiation efficiency, and economical is preferable.

질소 가스 유동 수단에는 질소 가스(3)의 순환 냉각 장치(55)도 포함되고, 또한 순환 냉각 장치(55)에는 순환되는 질소 가스(3)를 냉각하는 열 교환기나 여과 필터 등을 필요에 따라 설치할 수 있다. 상기 순환 냉각 장치(55)에 의해, 질소 가스(3)를 순환시킬 수 있기 때문에, 경제성이 우수하다. 또, 열 교환이나 여과를 행함으로써, 냉각 성능이 우수한 질소 가스(3)를 내부관(7)이나 외부관(6) 내에 도입시킬 수 있다.The nitrogen gas flow means also includes a circulating cooling device 55 of the nitrogen gas 3, and the heat circulating cooling device 55 is provided with a heat exchanger or a filtration filter for cooling the circulated nitrogen gas 3 as necessary. Can be. Since the nitrogen gas 3 can be circulated by the said circulation cooling apparatus 55, it is excellent in economy. In addition, by performing heat exchange and filtration, the nitrogen gas 3 having excellent cooling performance can be introduced into the inner tube 7 or the outer tube 6.

그리고, 본 발명에서는 경제성이나 안정성 등도 고려하여 질소 가스(3)를 채용하고 있으나, 본 발명의 목적을 달성할 수 있는 것이면, 아르곤 가스 등의 불활성 가스를 사용할 수도 있다.In addition, although nitrogen gas 3 is employ | adopted in this invention in consideration of economy, stability, etc., as long as the objective of this invention can be achieved, inert gas, such as argon gas, can also be used.

(2) 엑시머 조사 장치(2) excimer irradiation device

본 발명의 엑시머 조사 장치(1)는 노출 상태에서 배치되는 엑시머 램프(2)를 둘 이상 가지는 것이다.The excimer irradiation device 1 of the present invention has two or more excimer lamps 2 arranged in an exposed state.

본 발명에 있어서, 원형 단면으로 이루어지는 외부관(6)을 구비한 엑시머 램프(2)를 사용하는 경우(도 1 참조)에는 하나의 엑시머 램프(2)의 외부관(6)의 외주면과, 인접하는 다른 엑시머 램프의 외부관(6)의 외주면의 간극 g를 50mm 이하, 특히 20mm 이하로 하는 것이 바람직하다.In the present invention, in the case of using the excimer lamp 2 having the outer tube 6 having a circular cross section (see FIG. 1), the outer peripheral surface of the outer tube 6 of one excimer lamp 2 is adjacent to the adjacent one. It is preferable to make the clearance g of the outer peripheral surface of the outer tube 6 of another excimer lamp to be 50 mm or less, especially 20 mm or less.

이러한 간격으로 배치함으로써, 발생한 엑시머 광을 높은 조사 효율 하에서 피조사체에 조사할 수 있고, 그 조도 분포를 더 균일하게 할 수 있다. 게다가, 원형 단면으로 이루어지는 외부관(6)은 강도가 우수하므로, 유입 및 유출시키는 질소 가스압에도 충분히 견딜 수 있어, 외부관(6)의 두께를 얇게 할 수 있다. 그 결과, 엑시머 광의 투과성의 저하를 방지할 수 있기 때문에, 높은 조사 효율로 조사할 수 있다. 그리고, 도 1에 나타낸 엑시머 조사 장치(1)를 사용하는 경우에는 그 엑시머 조사 장치(1)를 요동시키거나, 스캔하거나, 고정하거나 하여 사용하는 것이 바람직하다.By arrange | positioning at such an interval, the generated excimer light can be irradiated to a to-be-tested object under high irradiation efficiency, and the illuminance distribution can be made more uniform. In addition, since the outer tube 6 having a circular cross section is excellent in strength, it can withstand the nitrogen gas pressure flowing in and out, and the thickness of the outer tube 6 can be made thin. As a result, since the fall of the transmittance of an excimer light can be prevented, it can irradiate with high irradiation efficiency. And when using the excimer irradiation apparatus 1 shown in FIG. 1, it is preferable to rock, scan, or fix the excimer irradiation apparatus 1, and to use it.

4변형 단면으로 이루어지는 외부관(6)을 구비한 엑시머 램프(2)를 사용하는 경우(도 2를 참조)에는 하나의 엑시머 램프(2)의 외부관(6)의 외주 평면과, 인접하는 다른 엑시머 램프의 외부관(6)의 외주 평면의 간극 g를 10mm 이하, 특히 5mm 이하로 하는 것이 바람직하다.When using an excimer lamp 2 having an outer tube 6 having a four-sided cross section (see FIG. 2), the outer circumferential plane of the outer tube 6 of one excimer lamp 2 is different from the adjacent one. It is preferable that the gap g of the outer circumferential plane of the outer tube 6 of the excimer lamp is 10 mm or less, particularly 5 mm or less.

이러한 간격으로 배치함으로써, 발생한 엑시머 광을 높은 조사 효율 하에서 피조사체에 조사할 수 있다. 또한, 엑시머 램프(2)의 피조사체측도 납작한 평면으로 되기 때문에(도 2를 참조), 외부관(6)과 피조사체의 각 부의 간격을 일정하게 유지할 수 있다. 그 결과, 엑시머 램프(2)로부터 조사하는 엑시머 광의 공기 중에서의 감쇠가 피조사체의 각 부에서 일정해지고, 또한 그 감쇠도 작기 때문에, 피조사체의 각 부에서의 조도 분포의 균일성을 매우 향상시킬 수 있다. 또, 상기 원형 단면의 외부관(6)의 경우와 마찬가지로 외부관(6)의 강도가 높기 때문에, 외부관(6)의 두께를 얇게 하여 엑시머 광의 투과성의 저하를 방지하고, 높은 조사 효율로의 조사를 달성할 수 있다. 그리고, 도 2에 나타낸 엑시머 조사 장치는 도 1의 엑시머 조사 장치보다도 조도 분포가 우수하기 때문에, 그 엑시머 조사 장치를 고정한 상태에서도 충분히 우수한 조도 분포로 조사할 수 있다.By arrange | positioning at such interval, the generated excimer light can be irradiated to a to-be-tested object under high irradiation efficiency. In addition, since the side to be irradiated of the excimer lamp 2 also becomes a flat plane (see FIG. 2), the interval between the outer tube 6 and each part of the irradiated object can be kept constant. As a result, the attenuation in the air of the excimer light irradiated from the excimer lamp 2 becomes constant at each part of the irradiated object, and since the attenuation is small, the uniformity of illuminance distribution in each part of the irradiated object can be greatly improved. Can be. In addition, as in the case of the outer tube 6 of the circular cross section, since the strength of the outer tube 6 is high, the thickness of the outer tube 6 is made thin to prevent a decrease in the permeability of excimer light, and to achieve high irradiation efficiency. Investigation can be achieved. And since the excimer irradiation apparatus shown in FIG. 2 is superior in illuminance distribution than the excimer irradiation apparatus of FIG. 1, it can irradiate with sufficient illumination intensity distribution even in the state which fixed the excimer irradiation apparatus.

상기 어떠한 경우에 있어서도, 엑시머 램프 상호를 밀착시켜 배치해도 된다. 조도 분포의 균일화는 피조사체에 대한 처리 시간 등의 차이로서 현저하게 나타나고, 예를 들면, 피조사체 상에 부착된 유기 불순물의 분해 속도를 향상시켜, 처리 시간을 단축시킬 수 있다. 한편, 엑시머 램프(2)를 전술한 범위의 간극 g를 넘은 범위에서 배치한 경우에는 피조사체의 조도 분포가 흐트러지게 된다.In any of the above cases, the excimer lamps may be placed in close contact with each other. The uniformity of the roughness distribution is remarkably represented as a difference in the treatment time for the irradiated object, and for example, the decomposition rate of organic impurities adhered on the irradiated object can be improved, and the treatment time can be shortened. On the other hand, when the excimer lamp 2 is arrange | positioned in the range exceeding the clearance g of the above-mentioned range, the illuminance distribution of an irradiated object will be disturbed.

엑시머 조사 장치(1)에는 엑시머 램프(2)의 뒤쪽에 반사체(10)를 형성할 수도 있다. 반사체(10)는 피조사체의 반대측, 즉 엑시머 램프(2)의 뒤쪽을 향하여 조사된 엑시머 광을 피조사체측에 반사시키는 역할을 담당하는 것이다. 통상, 경면 가공된 스테인레스 강철 또는 코팅된 알루미늄재가 사용되지만, 엑시머 광을 바람직하게 반사하는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 그리고, 본 발명의 엑시머 조사 장치(1)는 피조사체 상으로의 조사 효율이 우수하고, 조사 분포도 우수하므로, 도 1이나 도 2에 나타낸 바와 같은 평평한 형상의 반사체(10)로 충분하지만, 특별히 그 형상은 한정되지 않는다.In the excimer irradiation device 1, a reflector 10 may be formed behind the excimer lamp 2. The reflector 10 plays a role of reflecting the excimer light irradiated toward the opposite side of the irradiated object, that is, the back of the excimer lamp 2, to the irradiated object side. Usually, mirror processed stainless steel or coated aluminum material is used, but it is not particularly limited as long as it preferably reflects excimer light. And the excimer irradiation apparatus 1 of this invention is excellent in irradiation efficiency to an irradiated object, and also irradiation distribution is excellent, the flat reflector 10 as shown in FIG. 1 or FIG. 2 is sufficient, but especially The shape is not limited.

도 5는 큰 면적의 조사면(42)을 가지는 엑시머 조사 장치(41)의 일례를 나타내고 있다. 상기 엑시머 조사 장치(41)는 동등한 간격으로 배치된 엑시머 램프(2)로 구성되는 조사면(42)이 엑시머 램프(2)의 실효 길이에 상당하는 세로 길이 V와, 엑시머 램프(2)의 실효 길이의 2배 이상의 길이에 상당하는 가로 길이 W로 이루어지는 것이다.5 shows an example of an excimer irradiation device 41 having a large irradiation surface 42. The excimer irradiation device 41 has a vertical length V in which the irradiation surface 42 composed of the excimer lamps 2 arranged at equal intervals corresponds to the effective length of the excimer lamp 2, and the effective of the excimer lamp 2. It consists of horizontal length W corresponding to length more than twice the length.

이러한 구성으로 이루어지는 엑시머 조사 장치(41)는 큰 면적의 피조사체의 각 부에 균일한 조도로 조사하거나 연속하여 이동하는 공정 중에 균일한 조도로 일정 시간 조사할 수 있다. 그러므로, 대면적의 LCD(액정 패널)나 PDP(플라즈마 디스플레이 패널) 등의 표시 소자에 대하여, 그곳에 부착되는 오염 물질을 효율적인 엑시머 조사 처리에 의해 분해할 수 있다. 그리고, 여기서 말하는 실효 길이라는 것은 엑시머 램프(2)의 전체 길이 중, 엑시머 광의 조사에 관한 부분의 길이이다.The excimer irradiation apparatus 41 which consists of such a structure can irradiate a fixed area with a uniform illuminance for a predetermined time in the process which irradiates each part of a large irradiated object with uniform illuminance, or moves continuously. Therefore, for a display element such as a large area LCD (liquid crystal panel) or PDP (plasma display panel), contaminants adhering thereto can be decomposed by an efficient excimer irradiation process. In addition, the effective length here is the length of the part regarding irradiation of an excimer light among the full length of the excimer lamp 2.

도 5의 엑시머 조사 장치(41)에 있어서는 긴 엑시머 램프를 적은 수 설치해도 되고, 짧은 엑시머 램프를 다수 설치해도 되지만, 보전 관리 등을 포함한 경제성을 고려하면 짧은 엑시머 램프를 다수 설치하는 것이 바람직하다.In the excimer irradiation device 41 of FIG. 5, a small number of long excimer lamps may be provided, or a large number of short excimer lamps may be provided. However, in consideration of economic efficiency including maintenance management and the like, it is preferable to provide a plurality of short excimer lamps.

다음에, 전원부에 대해 설명한다.Next, the power supply unit will be described.

전원부는 엑시머 램프(2)를 구성하는 외부 전극(5)과 내부 전극(8) 사이에 고주파 전압을 인가하기 위해 형성된다.The power supply unit is formed to apply a high frequency voltage between the external electrode 5 and the internal electrode 8 constituting the excimer lamp 2.

고주파 전압은 엑시머 램프(2)의 정전 용량과 공진점이 일치하는 1∼20㎒ 범위 내의 고주파에서 전원부로부터 출력된다. 이러한 고주파 전압은 예를 들면 1∼3kV라는 낮은 전압이어도 엑시머 램프(2)에 무성 방전(이른바 유전체 장벽 방전)을 용이하게 일으킬 수 있다. 이 점은 엑시머 램프(2)에 인가하는 전력을 저하시켜도 충분한 엑시머 광의 발생을 가능하게 하므로, 엑시머 램프(2)의 발광 효율을 향상시킬 수 있다. 그 결과, 엑시머 램프(2)의 발열 및 그 발열에 따르는 엑시머 조사 장치(1)의 고온 상승을 억제할 수 있고, 다수의 엑시머 램프(2)를 구비하는 엑시머 조사 장치(1, 41)를 구성하는 것이 가능해진다.The high frequency voltage is output from the power supply section at a high frequency within a range of 1 to 20 MHz in which the capacitance of the excimer lamp 2 and the resonance point coincide. Such a high frequency voltage can easily cause silent discharge (so-called dielectric barrier discharge) to the excimer lamp 2 even at a low voltage of, for example, 1 to 3 kV. This makes it possible to generate sufficient excimer light even if the power applied to the excimer lamp 2 is lowered, so that the luminous efficiency of the excimer lamp 2 can be improved. As a result, the heat generation of the excimer lamp 2 and the high temperature rise of the excimer irradiation device 1 accompanying the heat generation can be suppressed, and the excimer irradiation device 1, 41 provided with many excimer lamps 2 is comprised. It becomes possible.

도 15와 도 16은 전술한 고주파 전압을 출력하는 전원부의 일례를 나타낸 설명도이다. 그리고, 여기에 있어서도, 편의상, 외부관을 생략한 엑시머 램프의 형태로 설명한다.15 and 16 are explanatory diagrams showing an example of a power supply unit that outputs the high frequency voltage described above. In addition, also here, it demonstrates in the form of an excimer lamp which omitted the outer tube for convenience.

어떠한 전원부(51, 61)도 1∼20㎒ 범위 내의 주파수에서 고주파 전압을 인가할 수 있는 전원 회로로 구성된다. 도 15는 소정의 주파수로 변환된 고주파 전압을 매칭 컨트롤러(53)에 의해 소정의 전압으로 조정하여 인가하는 방식(이하 「제1 변환 방식」이라 함)을 나타내고 있고, 도 16은 직류 전압을 발진기(65)에서 소정의 주파수로 변환하여 그 후 증폭하고, 소정의 전압으로 조정하여 인가하는 방식(이하 「제2 변환 방식」이라 함)을 나타내고 있다. 이들 방식에 의해, 엑시머 램프(2)의 정전 용량과 공진점이 일치하는 1∼20㎒ 범위 내의 주파수 조건에서 고주파 전압이 조정된다.Any power supply units 51 and 61 are constituted by a power supply circuit capable of applying a high frequency voltage at a frequency within the range of 1 to 20 MHz. FIG. 15 shows a method (hereinafter, referred to as a "first conversion method") of adjusting and applying a high frequency voltage converted to a predetermined frequency to a predetermined voltage by the matching controller 53, and FIG. 16 illustrates an oscillator of a DC voltage. In Fig. 65, a method of converting to a predetermined frequency, then amplifying, adjusting to a predetermined voltage, and then applied is shown (hereinafter referred to as "second conversion method"). By these methods, the high frequency voltage is adjusted under the frequency conditions within the range of 1 to 20 MHz where the capacitance of the excimer lamp 2 and the resonance point coincide.

제1 변환 방식에 의한 전원부(51)는 도 15에 나타낸 바와 같이, 기본 구성으로서 고주파 전원(52)과 매칭 컨트롤러(53)와 인덕턴스(L1, L2)와 가변 콘덴서(C1, C2)로 구성된다.As shown in FIG. 15, the power supply unit 51 according to the first conversion method includes a high frequency power supply 52, a matching controller 53, inductances L1 and L2, and variable capacitors C1 and C2 as a basic configuration. .

고주파 전원(52)은 그곳에 입력되는 교류 전력(54)을 1∼20㎒ 범위 내의 소정의 주파수로 변환한다. 그 주파수로서는 엑시머 광의 발광 효율의 면에서 10∼15㎒가 바람직하고, 13.56㎒가 특히 바람직하다. 이러한 주파수는 통상 0.1∼10V, 바람직하게는 0.1∼5V에서 고주파 전원(52)으로부터 출력된다. 이어서, 고주파 전원(52)으로부터 출력될 때의 임피던스 Z1과 엑시머 램프(2)에 인가될 때의 임피던스 Z2를 매칭시킨다. 상기 매칭은 매칭 컨트롤러(53)에 의해 가변 콘덴서(C1)를 조정하여 행해지고, 엑시머 램프(2)로부터 엑시머 광이 가장 효율적으로 발광하도록 인가 전압이 조정된다. 이 때의 바람직한 인가 전압은 1∼3kV이며, 특히 바람직하게는 2kV이다.The high frequency power supply 52 converts the AC power 54 input therein into a predetermined frequency within the range of 1 to 20 MHz. As the frequency, 10-15 MHz is preferable and 13.56 MHz is especially preferable at the light emission efficiency of an excimer light. This frequency is usually output from the high frequency power supply 52 at 0.1-10V, preferably 0.1-5V. Next, the impedance Z1 when it is output from the high frequency power supply 52 and the impedance Z2 when it is applied to the excimer lamp 2 are matched. The matching is performed by adjusting the variable capacitor C1 by the matching controller 53, and the applied voltage is adjusted so that the excimer light from the excimer lamp 2 emits most efficiently. At this time, the applied voltage is preferably 1 to 3 kV, particularly preferably 2 kV.

본 발명의 엑시머 조사 장치(1, 41)는 둘 이상의 엑시머 램프(2)를 구비하므로, 각각의 엑시머 램프(2)에 고주파 전압이 인가된다. 일례로서, 13.56㎒, 2kV의 고주파 전압을 인가한 경우, 엑시머 램프(2)의 외주면으로부터 10mW/㎠의 조도로 엑시머 광을 조사시킬 수 있고, 높은 발광 효율로 엑시머 광을 발생시킬 수 있다.Since the excimer irradiation apparatuses 1 and 41 of the present invention have two or more excimer lamps 2, a high frequency voltage is applied to each excimer lamp 2. As an example, when a high frequency voltage of 13.56 MHz and 2 kV is applied, excimer light can be irradiated with an illuminance of 10 mW / cm 2 from the outer circumferential surface of the excimer lamp 2, and excimer light can be generated with high luminous efficiency.

제2 변환 방식에 의한 전원부(61)는 도 16에 나타낸 바와 같이, 기본 구성으로서 직류 전원(62)과 파워 컨트롤러(63)와 발진기(65)와 증폭기(66)로 구성되어 있다.As shown in FIG. 16, the power supply part 61 by the 2nd conversion system is comprised from the DC power supply 62, the power controller 63, the oscillator 65, and the amplifier 66 as a basic structure.

직류 전원(62)은 그곳에 입력되는 교류 전력(64)을 12∼15V(통상은 약 12V) 정도의 직류 전압으로 변환하여 출력한다. 이어서, 그 직류 전압은 발진기(65)에 의해 소정의 주파수로 되어, 증폭기(66)에서 소정의 전압으로 증폭된다. 그 후, Q값 조정기(67)에 의해, 인덕턴스 L에서 Q값이 조정되고, 엑시머 램프(2)에 인가된다. 일례로서, 이 때의 바람직한 주파수는 1∼3㎒이며, 바람직한 인가 전압은 1∼3kV이다. 또한 상기 제2 변환 방식에 있어서는 파워 컨트롤러(63)에 의해 엑시머 광의 조도 조정을 행한다. 상기 조도 조정은 전술한 고주파 전원을 듀티(Duty) 컨트롤함으로써 행해지고, 예를 들면 100%∼10% 범위에서 듀티를 조정함으로써 엑시머 램프(2)의 조도를 일정한 범위 내로 유지하고 있다. 그리고, 엑시머 광의 잔상 현상을 이용하고, 고주파 전압의 인가 시간을 듀티 컨트롤하여 조도 조정하는 것이 바람직하다.The DC power supply 62 converts the AC power 64 input therein into a DC voltage of about 12-15V (normally about 12V) and outputs it. Subsequently, the DC voltage becomes a predetermined frequency by the oscillator 65 and is amplified by the amplifier 66 to a predetermined voltage. Thereafter, the Q value is adjusted by the Q value adjuster 67 at the inductance L, and is applied to the excimer lamp 2. As an example, the preferable frequency at this time is 1-3 MHz, and the preferable applied voltage is 1-3 kV. In the second conversion method, illuminance adjustment of the excimer light is performed by the power controller 63. The illuminance adjustment is performed by duty control of the above-described high frequency power supply, and the illuminance of the excimer lamp 2 is maintained within a certain range by adjusting the duty in the range of 100% to 10%, for example. It is preferable to adjust the illuminance by duty control of the application time of the high frequency voltage by using the afterimage phenomenon of the excimer light.

이러한 제1 또는 제2 변환 방식의 전원부(51, 61)를 구비함으로써, 엑시머 램프(2)의 발광 효율을 향상시킬 수 있다. 그러므로, 엑시머 램프(2)의 발광 및 이에 따르는 엑시머 조사 장치(1)의 온도 상승을 효과적으로 억제할 수 있다. 그리고, 전술한 질소 가스(3)에 의한 냉각 작용과 합침으로써, 엑시머 램프(2)를 다수 구비하는 큰 면적의 엑시머 조사 장치(1, 41)를 구성할 수 있다.By providing the power supply parts 51 and 61 of such a 1st or 2nd conversion system, the luminous efficiency of the excimer lamp 2 can be improved. Therefore, the light emission of the excimer lamp 2 and the temperature rise of the excimer irradiation device 1 can be effectively suppressed. And by combining with the cooling effect | action by the above-mentioned nitrogen gas 3, the excimer irradiation apparatus 1 and 41 of the large area provided with many excimer lamps 2 can be comprised.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 엑시머 조사 장치에 의하면, 엑시머 램프를 피조사체에 더욱 접근시킬 수 있어, 보다 높은 조사 효율을 실현할 수 있다. 또, 종래와 같이 액시머 램프가 장착되어 있는 박스 내에 질소를 유입할 필요가 없어, 유리창이나 두꺼운 석영 유리도 필요하지 않게 되므로, 매우 경제적이다. 또한, 얇은 외부관을 사용할 수 있기 때문에, 엑시머 광의 투과성의 저하를 방지하여 높은 조사 효율로 조사할 수 있다. 또, 외부 전극의 보호와 엑시머 광의 흡수 방지를 목적으로 한 질소 가스 유동 수단에 의해, 내부관 및 외부관의 냉각과 엑시머 광의 투과성의 저하 방지를 행할 수 있기 때문에, 높은 조사 효율로 조사할 수 있다.As described above, according to the excimer irradiation apparatus of the present invention, the excimer lamp can be brought closer to the irradiated object, and higher irradiation efficiency can be realized. Moreover, since it is not necessary to introduce nitrogen into the box in which the aximer lamp is attached like conventionally, neither a window nor thick quartz glass is needed, it is very economical. Moreover, since a thin outer tube can be used, the fall of the permeability of excimer light can be prevented and it can irradiate with high irradiation efficiency. Moreover, since nitrogen gas flow means for the protection of an external electrode and the absorption of excimer light can be prevented, cooling of an inner pipe | tube and an outer pipe | tube and prevention of the fall of the excimer light can be performed, and it can irradiate with high irradiation efficiency. .

또한, 본 발명의 조사 장치에 의하면, 엑시머 램프를 작은 간극으로 상호 인접시켜 배치하기 때문에, 발생한 엑시머 광을 높은 조사 효율 하에서 피조사체에 조사할 수 있고, 그 조도 분포를 보다 균일하게 할 수 있다.In addition, according to the irradiation apparatus of the present invention, since the excimer lamps are arranged adjacent to each other with a small gap, the generated excimer light can be irradiated to the irradiated object under high irradiation efficiency, and the illuminance distribution can be made more uniform.

도 1은 본 발명의 엑시머 조사 장치의 일례를 나타낸 정면 단면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The front sectional drawing which shows an example of the excimer irradiation apparatus of this invention.

도 2는 본 발명의 엑시머 조사 장치의 다른 일례를 나타낸 정면 단면도.2 is a front sectional view showing another example of the excimer irradiation device of the present invention.

도 3은 도 1 및 도 2의 엑시머 조사 장치의 개략 형태를 나타낸 측면도.3 is a side view illustrating a schematic form of the excimer irradiation device of FIGS. 1 and 2.

도 4는 도 1의 엑시머 조사 장치의 평면도.4 is a plan view of the excimer irradiation device of FIG.

도 5는 대면적의 조사면을 가지는 엑시머 조사 장치의 일례를 나타낸 평면도.5 is a plan view showing an example of an excimer irradiation device having a large-area irradiation surface;

도 6은 도 1의 엑시머 램프의 세로 방향의 단면도.6 is a longitudinal cross-sectional view of the excimer lamp of FIG. 1.

도 7은 도 1의 엑시머 램프의 가로 방향의 단면도.7 is a cross-sectional view in the transverse direction of the excimer lamp of FIG. 1.

도 8은 본 발명의 엑시머 램프의 다른 예를 나타낸 단면도.8 is a cross-sectional view showing another example of the excimer lamp of the present invention.

도 9는 도 8에 나타낸 엑시머 램프의 내부관과 내부 전극의 관계를 나타낸 단면도.9 is a cross-sectional view showing a relationship between an inner tube and an inner electrode of the excimer lamp shown in FIG. 8.

도 10은 본 발명의 엑시머 램프의 다른 예를 나타낸 단면도.10 is a cross-sectional view showing another example of the excimer lamp of the present invention.

도 11은 본 발명의 엑시머 램프의 다른 예를 나타낸 단면도.11 is a cross-sectional view showing another example of the excimer lamp of the present invention.

도 12는 도 11에 나타낸 엑시머 램프의 내부관과 내부 전극의 관계를 나타낸 단면도.12 is a cross-sectional view showing a relationship between an inner tube and an inner electrode of the excimer lamp shown in FIG. 11;

도 13은 엑시머 램프의 내부관과 내부 전극의 관계를 나타낸 단면도.13 is a cross-sectional view showing the relationship between the inner tube and the inner electrode of the excimer lamp.

도 14는 엑시머 램프의 내부관과 내부 전극의 관계를 나타낸 단면도.14 is a cross-sectional view showing a relationship between an inner tube and an inner electrode of an excimer lamp.

도 15는 고주파 전압을 출력하는 전원부의 일례를 나타낸 설명도.15 is an explanatory diagram showing an example of a power supply unit that outputs a high frequency voltage.

도 16은 고주파 전압을 출력하는 전원부의 다른 일례를 나타낸 설명도.16 is an explanatory diagram showing another example of a power supply unit that outputs a high frequency voltage.

[도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명][Description of Symbols for Main Parts of Drawing]

1,41:엑시머 조사 장치, 2:엑시머 램프, 3:질소 가스, 4:엑시머 방전관, 5:외부 전극, 6:외부관, 7:내부관, 8:내부 전극, 9: 방전용 가스, 10:반사체, 11:유입구, 12:유출구, 13:소경관, 21:개방 케이스, 42:조사면, 51,61:전원부, 52:고주파 전원, 53:매칭 컨트롤러, 54,64:교류 전력, 55:순환 냉각 장치, 62:직류 전원, 63:파워 컨트롤러, 65:발진기, 66:증폭기, 67:Q값 조정기, g:간극, d:내부관의 내경, L:내부 전극의 길이, D:내부 전극의 외경, V:조사면의 세로 길이, W:조사면의 가로 길이, L1,L2:인덕턴스, C1,C2:가변 콘덴서, Z1:출력 임피던스, Z2:입력 임피던스.1,41: excimer irradiation device, 2: excimer lamp, 3: nitrogen gas, 4: excimer discharge tube, 5: outer electrode, 6: outer tube, 7: inner tube, 8: inner electrode, 9: gas for discharge, 10 : Reflector, 11: Inlet, 12: Outlet, 13: Small diameter tube, 21: Open case, 42: Irradiation surface, 51, 61: Power supply part, 52: High frequency power supply, 53: Matching controller, 54, 64: AC power, 55 : Circulating cooling device, 62: DC power supply, 63: power controller, 65: oscillator, 66: amplifier, 67: Q value regulator, g: gap, d: inner diameter of inner tube, L: inner electrode length, D: inner Outer diameter of electrode, V: vertical length of irradiation surface, W: horizontal length of irradiation surface, L1, L2: inductance, C1, C2: variable capacitor, Z1: output impedance, Z2: input impedance.

Claims (9)

방전 공간을 형성하는 중공 이중 원통 구조의 엑시머 방전관과, 상기 방전 공간에 충전된 방전용 가스와, 상기 엑시머 방전관의 내부관 내측에 배치된 내부 전극과, 상기 엑시머 방전관의 외측에 배치된 외부 전극을 갖는 엑시머 램프에 있어서,An excimer discharge tube having a hollow double-cylindrical structure forming a discharge space, a discharge gas filled in the discharge space, an internal electrode disposed inside the inner tube of the excimer discharge tube, and an external electrode disposed outside the excimer discharge tube In the excimer lamp to have, 상기 외부 전극의 외측에 배치되는 외부관을 구비하며,An outer tube disposed outside the outer electrode, 상기 엑시머 방전관과 상기 외부관의 사이의 공간에 냉각매체를 도입하는 것을 특징으로 하는 엑시머 램프. And an excimer lamp introducing a cooling medium into a space between the excimer discharge tube and the outer tube. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 내부관 내의 공간에 냉각매체를 도입하는 것을 특징으로 하는 엑시머 램프.Excimer lamp, characterized in that to introduce a cooling medium into the space in the inner tube. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 내부관 내의 공간에 도입한 상기 냉각매체를 상기 엑시머 방전관과 상기 외부관의 사이의 공간에 도입하는 것을 특징으로 하는 엑시머 램프.And the cooling medium introduced into the space in the inner tube is introduced into the space between the excimer discharge tube and the outer tube. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 외부관은 단면이 원형인 중공관인 것을 특징으로 하는 엑시머 램프.The outer tube is an excimer lamp, characterized in that the hollow tube of circular cross section. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 외부관은 단면이 사각형인 중공관인 것을 특징으로 하는 엑시머 램프. The outer tube is an excimer lamp, characterized in that the hollow tube having a rectangular cross section. 청구항 4에 기재된 엑시머 램프를 2개 이상 구비하는 엑시머 조사장치에 있어서, An excimer irradiation device comprising two or more excimer lamps of claim 4, 상기 하나의 엑시머 램프의 상기 외부관의 외주면과, 인접하는 상기 다른 엑시머 램프의 상기 외부관의 외주면의 간격이 50mm 이하인 것을 특징으로 하는 엑시머 조사장치. And an interval between an outer circumferential surface of the outer tube of the one excimer lamp and an outer circumferential surface of the outer tube of the other excimer lamp adjacent to each other is 50 mm or less. 청구항 5에 기재된 엑시머 램프를 2개 이상 구비하는 엑시머 조사장치에 있어서, An excimer irradiation device comprising two or more excimer lamps of claim 5, 상기 하나의 엑시머 램프의 상기 외부관의 외주 평면과, 인접하는 상기 다른 엑시머 램프의 상기 외부관의 외주 평면의 간격이 10mm 이하인 것을 특징으로 하는 엑시머 조사장치. And an outer peripheral plane of the outer tube of the one excimer lamp and an outer peripheral plane of the outer tube of the other excimer lamp adjacent to each other are 10 mm or less. 제6항에 있어서, The method of claim 6, 고주파 전원을 추가로 구비하며,Additionally equipped with high frequency power, 상기 고주파 전원은 1~20MHz의 주파수 중에서 상기 엑시머 램프와 공진하는 주파수의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 엑시머 조사장치. The high frequency power supply is excimer irradiation apparatus, characterized in that for applying a voltage of the frequency resonating with the excimer lamp in the frequency of 1 ~ 20MHz. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 고주파 전원을 추가로 구비하며, Additionally equipped with high frequency power, 상기 고주파 전원은 1~20MHz의 주파수 중에서 상기 엑시머 램프와 공진하는 주파수의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 엑시머 조사장치. The high frequency power supply is excimer irradiation apparatus, characterized in that for applying a voltage of the frequency resonating with the excimer lamp in the frequency of 1 ~ 20MHz.
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