KR100538191B1 - 역류접촉에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법 - Google Patents
역류접촉에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100538191B1 KR100538191B1 KR10-1999-7003369A KR19997003369A KR100538191B1 KR 100538191 B1 KR100538191 B1 KR 100538191B1 KR 19997003369 A KR19997003369 A KR 19997003369A KR 100538191 B1 KR100538191 B1 KR 100538191B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- oxygen
- reaction zone
- cyclohexane
- containing gas
- gas
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/48—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by oxidation reactions with formation of hydroxy groups
- C07C29/50—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by oxidation reactions with formation of hydroxy groups with molecular oxygen only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C27/00—Processes involving the simultaneous production of more than one class of oxygen-containing compounds
- C07C27/10—Processes involving the simultaneous production of more than one class of oxygen-containing compounds by oxidation of hydrocarbons
- C07C27/12—Processes involving the simultaneous production of more than one class of oxygen-containing compounds by oxidation of hydrocarbons with oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/27—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
- C07C45/32—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen
- C07C45/33—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
본 발명은 산소-함유 가스와의 액상 접촉 산화에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법에 관한 것이다. 반응 대역에서, 시클로헥산과 산소-함유 가스는 실질적으로 균일하게 접촉하게 되고, 액상 시클로헥산 및 산소-함유 가스가 반응 대역을 역류로 통과한다.
Description
본 발명은 산소-함유 가스와의 촉매 산화에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 연속 제조 방법에서 하나 이상의 반응 대역중에서 가스와 액상 시클로헥산이 실질적으로 균일하게 접촉되는 방법에 관한 것이다.
분자 산소를 사용하여 탄화수소를 산화시키는 방법, 구체적으로는 시클로헥산을 산화시켜 시클로헥산올 및 시클로헥산온을 제조하는 방법은 선행 기술에 공지되어 있다. 따라서, DE-A-21 36 744 및 US-A-3,957,876에서는 시클로헥산을 대역에 따라 단계적 산화시켜 시클로헥실 히드로퍼옥시드를 함유하는 용액의 제조 방법에 대하여 기술하고 있으며, 이 방법에서 시클로헥산과 가용성 코발트 촉매의 혼합물은 상부로부터 트레이 컬럼을 통하여 아랫쪽으로 유동하고, 산소-함유 가스는 하부로부터 컬럼을 통하여 위쪽으로 역류하게 된다. 컬럼은 상단에 산소 소비 대역을 갖고, 이에 인접하여 아랫쪽 방향에 산화 대역을 가지며, 각 산화 대역에는 상이한 양의 산소가 개별적으로 공급될 수 있다. 이 방법은 산화 생성물의 총량을 기준으로 하여 15 중량 %의 양으로 수득되는 시클로헥실 히드로퍼옥시드의 제조를 그 목적으로 한다.
US-A-4,675,450에서는 DE-A-21 36 744에서와 유사한 시클로헥실 히드로퍼옥시드의 제조 방법에 대하여 기술하고 있으며, 시클로헥산의 산화는 가용성 코발트 촉매 및 인산 에스테르의 존재하에 수행된다.
DE-A-12 87 575에서는 산소-함유 가스를 각 산화 단계에 도입하여, 다수의 연속적인 일련의 산화 단계중에서 액체 시클로헥산을 산화시키는 방법에 대하여 기술하고 있다. 이러한 도입은 불활성 가스를 최종 산화 단계로 추가로 도입하여, 각 단계로 산소가 공급되는 속도와 산소가 실질적으로 소비되는 속도가 일치하게 되는 방식으로 수행된다. 이는 불가피하게 불균일한 산소 공급 속도 및 불균일한 반응 생성물중의 산소 분포를 가져와, 수율을 감소시킨다. 반응 대역은 아랫쪽으로 구부러져 있고, 전체 단면을 커버하지 않는 금속 쉬이트에 의하여 챔버로 분할된다. 가스는 이들 금속 쉬이트 밑에서 후속되는 산화 단계의 하강하는 가스상으로 공급되어, 적절하다고 기술되어 있는 "침수된 트레이"를 사용하는 반응 공정에 있어서, 마찬가지로 불균일한 산소 공급, 불균일한 반응 혼합물의 유동 및, 가장 바람직하지 않은 경우, 트레이 밑에 산소-함유 가스 공간을 형성시킬 수 있고, 이는 발화성 혼합물의 형성 및 폭발의 위험성을 증가시킨다.
US-A-3,987,100에 대응하는 DE-C-25 15 419에서는 0.1 내지 5 ppm의 코발트 및 0.02 내지 0.9 ppm의 크롬을 함유하는 가용성 2 성분 촉매 시스템의 존재하에 역류로 조작되는 트레이 컬럼중에서 시클로헥산의 산화에 의한 시클로헥산온 및 시클로헥산올의 제조 방법에 대하여 기술하고 있다. 이 방법에 있어서, 개별적인 트레이는, 예를 들어, 산소-함유 가스가 상승할 수 있고, 하강하는 시클로헥산이 유동할 수 있는 천공된 금속 쉬이트로서 구성된다.
DE-A-12 87 575에서와 유사하게, 산소-함유 가스는 (컬럼 상부의 산소 소비 대역을 제외한)트레이중 몇 곳 또는 모두에 추가로 도입될 수 있다. 이 도입은 실질적으로 각 단계에 도입된 모든 산소가 이 단계에서 소비되는 방식으로 재차 수행된다. 또한, 천공된 금속 쉬이트 중 구멍의 수 및(또는) 크기가 반응기의 하부로부터 상부까지 증가하고, 상부 트레이로는 산소가 공급되지 않기 때문에, 이미 상기의 DE-A-12 87 575의 경우에서 기술한 바와 같이, 이 방법에서는 불균일한 산소 공급, 반응기중의 불균일한 산소 분포 및 반응 혼합물의 불균일한 유동이 발생한다. 또한, 자유 트레이 영역이 약 1.2 %로 매우 좁기 때문에, 이 방법에서도 상기에 기술한 폭발의 위험과 함께 트레이 아래에 가스 공간이 형성될 수 있다.
상기에 기술한 문헌 중 어떤 것도 산소-함유 가스가 액상으로 직접 도입되고, 그 내에 버블을 형성되어, 반응기내에 어떠한 연속 가스상도 생성되지 않으며, 반응 혼합물을 매우 균일하게 산소에 노출되는 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법에 대해서는 기술하고 있지 않다.
EP-A-0 135 718에서는 액상 중 탄화수소의 연속 산화 방법, 특히, 아랫쪽으로 향한 노즐 오리피스를 사용하여 산소-함유 가스를 반응 대역을 따라 다수의 지점에서 액상 반응 혼합물로 도입하는, 시클로헥산의 연속 산화 방법에 대하여 기술하고 있다. 여기서, 반응 대역은 다수의 챔버로 분할되어, 연속 가스상이 형성되지 않게 한다.
이는 실제로, 예를 들어, 천공된 금속 쉬이트에 의하여 챔버로 분할되어 있는 수직 버블 컬럼을 사용하고, 시클로헥산을 그안에 용해되어 있는 코발트 촉매와 함께 하부에서 위쪽을 향하여 버블 컬럼을 통과시켜 얻어진다. 노즐을 사용하여 천공된 금속 쉬이트 위쪽으로 산소-함유 가스를 공급하면서, 정확하게 제한된 가스 배출 속도 및 가스 배출량을 사용하여 제한된 크기의 버블을 형성시킨다. 따라서, 액상 반응 혼합물은 반응 대역의 부피에 걸쳐 실질적으로 균일하게 분자 산소와 접촉하게 되고, DE-A-12 87 575에서의 결점이 회피된다. 이 방법에 있어서, 액상 탄화수소 및 산소-함유 가스는 반응기를 역류 통과한다. 폐가스중 높은 시클로헥산 함량 및 시클로헥산올 및 시클로헥산온의 형성에 대한 산화의 선택성에 있어서, 이 방법은 여전히 개선되어야 할 여지가 남아 있다. 여기에는, 특히, 고비용이 소요되는 물 및 수산화 나트륨 용액을 사용한 세척으로, 반응 혼합물로부터 제거되어야 하는 산-함유 부산물(예를 들어, 카프론산)의 양을 감소시킴으로써, 높은 염 적재량 및 증가된 TOC(총 유기 탄소) 함량을 갖는 폐수를 생성시키는 방법을 사용한다.
본 발명의 목적은 상기에 기술한 결점이 없는 시클로헥산 산화 생성물의 개선된 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 본 발명의 목적이 액상 시클로헥산 및 산소-함유 가스가 반응 대역을 역류로 통과하고, 반응 매질이 산소에 균일하게 노출되도록 보장되는 경우, 산소-함유 가스와의 액상 접촉 산화에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법에 의하여 성취된다는 사실을 밝혀냈다.
따라서, 본 발명은 산소-함유 가스와의 액상 접촉 촉매 산화에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법에서 하나 이상의 반응 대역중에서 가스와 액상 시클로헥산이 실질적으로 균일하게 접촉되고, 액상 시클로헥산 및 산소-함유 가스가 반응 대역을 역류 통과하는 방법을 제공한다.
본 발명의 방법에 적절한 반응기는 수평 또는 바람직하게는 수직 반응 대역을 갖는 반응기이다. 바람직한 실시태양에 따르면, 이들 반응 대역은 챔버 또는 구역으로 분할되어 혼합이 방지된다. 수평 반응 대역의 경우에 있어서, 이는, 예를 들어, 개구를 갖는 배수관 또는 분할 벽을 사용하여 얻어질 수 있고, 수직 반응 대역의 경우에 있어서는, 이는, 예를 들어, 일정한 간격으로 장착된 천공된 금속 쉬이트를 사용하여 얻어질 수 있다.
유익하게는, 이들 수단은 반응 대역중에서 연속 가스상을 더 이상 형성시키지 않는다.
본 발명의 방법에 있어서, EP-A-0 135 718에서와는 반대로, 액상 시클로헥산 및 산소-함유 가스는 반응 대역을 역류로 통과한다.
산화는 분자 산소가 존재하는 산소-함유 가스를 사용하여 수행된다. 산소 농도는 바람직하게는 5 내지 30 부피 %이다. 산소-함유 가스는 바람직하게는 노즐을 사용하여 반응 대역을 따라 다수의 지점에서 액상 시클로헥산으로 도입된다. 노즐 오리피스는 유리하게는 아랫쪽으로 향한다.
본 발명 방법의 바람직한 실시태양에 따르면, 각 노즐 오리피스에서 산소-함유 가스의 배출 속도는 0.01 내지 1 m/s, 바람직하게는 0.03 내지 0.3 m/s이다.
또한, 각 노즐 오리피스에서 배출되는 산소-함유 가스의 양은 바람직하게는 0.01 내지 10 l/s, 바람직하게는 0.1 내지 1.0 l/s이다.
노즐 오리피스는 반응 대역의 부피에 걸쳐 균일하게 분포되어 있다. 이는, 예를 들어, 노즐 오리피스를 반응 대역을 따라 실질적으로 동일한 간격으로 다수의 지점에 배열하고, 이들 노즐 개구를 반응 대역의 단면에 걸쳐 균일하게 분포시켜 얻어진다.
반응 대역을 따른 간격은 바람직하게는 반응 대역 직경의 0.1 내지 3 배에 이르고, 특히, 이전 공급 지점으로부터의 상승하는 가스 버블중의 분자 산소는 완전하게 소비되지 않으며, 예를 들어, 본래 함량의 60 내지 90 %이도록 선택된다. 이 공정 처리의 결과, 산화될 시클로헥산은 공간적으로 실질적으로 균일하게 산소-함유 가스에 노출된다. 실질적으로, 등량의 가스가 각 노즐 오리피스를 통하여 공급된다. 기술한 2 가지 수단의 조합으로, 즉, 실질적으로 등량의 가스를 공급하고, 이를 이전 공급 지점으로부터의 산소가 완전하게 반응하지 않은 반응 대역을 따른 지점으로 운반하여, 반응기중에서 균일한 산소 농도를 나타내게 한다. 이는 본 발명의 방법을 DE-A-12 87 575 및 유사한 방법에 기술되어 있는 방법과 구별짓는다.
상기에 기술한 바와 같이, 노즐 오리피스를 통한 액상 시클로헥산 상으로의 산소-함유 가스의 공급은 제한된, 바람직하게는 10 mm 이상, 예를 들어, 10 내지 100 mm의 직경을 갖는 버블을 생성시킨다. 이들 버블은 우선 평형 버블 보다 큰 직경을 갖고, 반응 대역을 따라 붕괴된다. 본 명세서에 있어서, 평형 버블은 분할 또는 유착 공정의 결과로서, 노즐 오리피스로부터 특정 거리에 형성되는 버블이다. 시클로헥산/공기 시스템의 예에 있어서, 약 1 내지 10 mm의 평균 직경을 갖는 평형 버블이 생성된다.
산소-함유 가스의 공급 장치에 대한 적절한 실시태양에 있어서, 각 가스 배출 지점은, 예를 들어, 다수의 매우 작은 천공된 구멍을 갖는 공급 라인을 통하여 산소-함유 가스가 균일하게 공급되어, 압력 강하를 제한할 수 있다. 가스는 각 천공된 구멍으로부터, 상부는 밀폐되어 있고, 아랫쪽 방향으로 개방되어 있으며, 액상 반응 매질로의 상기에 기술한 바람직한 가스 배출량 및 속도가 얻어질 수 있는 칫수를 갖는 공간으로 진행한다. 이러한 목적을 위하여, 예를 들어, 산소-함유 가스를 좁은 천공된 구멍을 통하여, 아랫쪽 방향으로 개방되어 있고 좁은 천공된 구멍을 제외하고는 상부는 밀폐되어 있는 넓은 구역으로 도입할 수 있다. 이 넓은 구역의 구조는 원통형, 원뿔형, 직사각형, 정사각형, 트럼펫형 또는 종형일 수 있고, 넓은 구역의 바닥 단부는 톱니모양 또는 바람직한 경우 사선모양일 수 있다. 이 넓은 구역의 기하학적 칫수는 상기에 기술한 노즐 오리피스에서의 가스-배출 속도 및 가스 배출량에 따르고, 당업계의 숙련자들은 지시된 데이터를 사용하여 손쉽게 계산할 수 있을 것이다.
바람직하게는, 코발트를 기재로 한 가용성 촉매를 산화될 시클로헥산에 가한다. 적절한 촉매는, 예를 들어, DE-C-25 15 419에 기술되어 있다.
반응 대역중의 반응 온도는 120 내지 180 ℃, 바람직하게는 130 내지 160 ℃이고, 반응 압력은 5 내지 30 bar, 바람직하게는 10 내지 20 bar이다. 압력 및 온도는 서로 조화되어, 반응이 언제나 액상으로 일어나도록 한다.
시클로헥산 산화 생성물을 제조하기 위한 본 발명 방법의 특정 실시태양에 따르면, 수직 반응 대역을 사용한다. 반응은, 예를 들어, 연속적으로 연결된 하나 이상의 타워 반응기중에 수행할 수 있다. 수직 반응 대역은 천공된 금속 쉬이트가 사용되어 챔버로 분할되고, 이는 균일한 간격으로 배열된다. 이들 천공된 금속 쉬이트는 유익하게도 3 내지 20 %, 특히, 5 내지 10 %의 자유 단면적(구멍의 총 면적)을 갖는다. 상기의 각 천공된 금속 쉬이트에 있어서, 공급 오리피스들이 넓어지는 영역에 제공되어, 오리피스들은 바람직하게는 아랫쪽으로 향하고 있는 노즐의 단면에 걸쳐 균일하게 분포된다. 액상 시클로헥산은 상부로부터 아랫쪽으로 이 반응 대역을 통과한다. 동시에, 산소-함유 가스가 노즐을 통하여 공급된다. 액체 시클로헥산 및 산소-함유 가스는 반응 대역을 역류로 통과하고, 반응으로부터의 폐가스가 반응 대역의 상부로부터 분리 제거된다. 반응은, 예를 들어, 약 140 내지 160 ℃의 온도 및 약 12 내지 16 bar의 압력에서 수행된다.
공급된 분자 산소-함유 가스와 시클로헥산의 비율은 바람직하게는 서로 조화되어, 반응 대역으로부터 배출되는 폐가스가 2.5 부피 % 이하, 예를 들어, 0.1 내지 1.5 부피 %의 분자 산소 함량을 갖도록 한다.
또한, 상부에서 분리 제거된 폐 가스는 여전히 45 부피 % 이하, 바람직하게는 40 부피 % 이하의 시클로헥산 함량을 가지며, 이 시클로헥산은 응축된 후 반응기로 재순환시킬 수 있다. 이 방법에 있어서, 본 발명의 방법은 유익하게도 폐가스중 시클로헥산의 함량을 보다 낮출수 있게 하여, 폐가스-제한 반응기를 사용하는 경우에 있어, 용량의 증가, 즉, 최대 시클로헥산 전환율을 얻을 수 있도록 한다. 폐가스의 온도는 바람직하게는 반응 대역중의 최저 반응 온도 보다 낮다.
조 산화 혼합물은 통상적인 방법으로 마무리 처리된다. 이들은, 예를 들어, 물 및(또는) 수성 알칼리, 예를 들어, NaOH로 수세하여 산-함유 및(또는) 염-함유 폐수를 형성시키키는 단계를 포함한다. 주요한 시클로헥산올 및 시클로헥산온 생성물로의 정제된 산화 혼합물의 분리 및 미반응 시클로헥산 및 부수적인 양으로 생성된 추가의 산화 생성물의 제거는 통상적인 방법, 예를 들어, 분별 증류로 수행된다.
본 발명의 방법은 유익하게도 추가의 기계적 혼합 수단 없이도 산화될 시클로헥산중에 분자 산소의 균일한 분포를 가능케하였다. 특히, 연속 가스상이 형성되지 않았다.
반응물을 역류로 반응 대역을 통과시켜, 상기에 언급한 결점을 극복하였다. 이 방법에 있어서, 시클로헥산의 총 전환율은 증가하였고, 동시에 시클로헥산올 및 시클로헥산온의 선택적인 형성에 대한 산화의 선택성도 개량되었다. 특히, 산화 생성물 중 카르복실산(카프론산) 양의 감소가 조 산화 혼합물이 물 및 수성 알칼리로 수세로 얻어진 폐수중에 보다 낮은 산 또는 염 적재량을 가져왔다.
본 발명의 방법을 하기의 제한되지 않은 실시예로 예시한다.
<실시예 1>
시클로헥산을 직렬로 연결되어 있는 3 개의 반응기(각 용적 : 40 m3, 높이 : 16 m, 직경 : 1.8 m), 마무리처리 구역(수세를 통한 산의 제거 및 추출 및 수산화 나트륨 용액을 사용한 중화가 이루어짐) 및 증류 구역으로 이루어진 산화 시스템중에서 산화시켰다. 반응기에는 가스 분배기가 장착되어 있고, 이는 공기를 반응기 단면 및 반응기 높이에 걸쳐 균일하게 분배한다. 액체 성분을 가스를 사용하여 2 m 간격으로 7 단에서 처리하였다. 혼합을 감소시키기 위하여, 천공된 금속 쉬이트( 구멍 직경 : 40 mm, 반응기 단면을 기준으로 한 자유 영역 : 4 %)를 각 가스 분배기 30 cm 밑에 장착하였다. 각 단의 가스 분배기를 33개의 천공된 구멍( 직경 3 mm)을 통하여 가스-도입 튜브(NW 32) 밑에서 공기가 반응기 단면에 걸쳐 균일하게 배출되도록 구성하였다. 각 천공된 구멍에 덮개 튜브(길이 : 60 mm, 직경 : 25 mm)를 제공하였다. 조작 조건하에서의 가스 배출 속도는 0.25 m/s였다. 140 ℃에서 반응기 시스템(상부 압력 : 약 13 bar)에 하부로부터 시클로헥산 80 미터톤/시간을 공급하고, 정류로 조작하였다. 제1 반응기로 도입하기 전에, 시클로헥산을 에틸헥센산 염 형태로 Co 0.1 ppm과 혼합하였다.
<실시예 2>
시클로헥산을 상부로부터 역류로 가하는 것을 제외하고, 산화 시스템을 실시예 1에서와 유사한 방식으로 조작하였다.
실험의 결과를 표 1에 요약하였다.
| 실시예 1 (정류) | 실시예 2 (역류) | |
| 최대 시클로헥산 전환율[%](폐가스 측에 따라 제한됨) | 4.9 | 5.6 |
| 시클로헥산 전환율[%] | 4.9 | 5.0 |
| 시클로헥산올/시클로헥산온에 관한 선택도[%] | 77.5 | 78.3 |
| 폐가스 온도 [℃] | 153 | 141 |
표 1에 나타낸 바와 같이, 시클로헥산 산화는 추가의 용량 증가(최대 시클로헥산 전환율은 폐가 측에 따라 제한됨)가 여전히 가능하다는 것을 조건으로하여 역류 방법에 의하여 현저하게 개선되어 있다.
Claims (18)
- 하나 이상의 수직 반응 대역에서 역류로 산소-함유 가스와 액상 시클로헥산이 실질적으로 균일하게 접촉되고, 산소-함유 가스가 다수의 노즐을 통하여 반응 대역으로 도입되며, 반응 대역이 천공된 금속 쉬이트에 의하여 다수의 챔버로 분할되어 반응 대역중에 연속 가스상이 형성되지 않는 것을 특징으로 하는, 승온에서 산소-함유 가스와의 액상 촉매 산화에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 폐가스의 온도가 반응 대역중의 최저 반응 온도 보다 낮은 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 각각의 노즐 오리피스에서 산소-함유 가스의 배출 속도가 0.01 내지 1 m/s이고, 각각의 노즐 오리피스로부터 배출되는 양이 0.001 내지 10 l/s인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 산소-함유 가스가 반응 대역을 따라 반응 대역 직경의 0.1 내지 3 배에 이르는 일정 간격으로 공급되고, 가스를 공급하는 노즐 오리피스가 반응 대역의 단면에 걸쳐 균일하게 분포되어 있는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 반응 대역이 서로 연결된 다수의 챔버로 분할되어 있는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 산소-함유 가스가 이전 공급 지점으로부터의 산소가 완전하게 반응하지 않은 지점에서 반응 대역으로 공급되는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 반응 온도가 120 내지 180 ℃인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 반응 압력이 5 내지 30 bar인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 산소-함유 가스 중 산소의 농도가 5 내지 30 부피 %인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 폐가스중 시클로헥산 함량이 45 부피 % 이하인 방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제3항에 있어서, 각각의 노즐 오리피스에서 산소-함유 가스의 배출 속도가 0.03 내지 0.3 m/s이고, 각각의 노즐 오리피스로부터 배출되는 양이 0.1 내지 1.0 l/s인 방법.
- 제7항에 있어서, 반응 온도가 130 내지 160 ℃인 방법.
- 제8항에 있어서, 반응 압력이 10 내지 20 bar인 방법
- 제10항에 있어서, 폐가스중 시클로헥산 함량이 40 부피 % 이하인 방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-1999-7003369A KR100538191B1 (ko) | 1996-10-18 | 1997-10-17 | 역류접촉에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19643154.9 | 1996-10-18 | ||
| KR10-1999-7003369A KR100538191B1 (ko) | 1996-10-18 | 1997-10-17 | 역류접촉에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000049260A KR20000049260A (ko) | 2000-07-25 |
| KR100538191B1 true KR100538191B1 (ko) | 2005-12-22 |
Family
ID=39004562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-1999-7003369A KR100538191B1 (ko) | 1996-10-18 | 1997-10-17 | 역류접촉에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100538191B1 (ko) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3957876A (en) * | 1970-07-31 | 1976-05-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the oxidation of cyclohexane |
-
1997
- 1997-10-17 KR KR10-1999-7003369A patent/KR100538191B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3957876A (en) * | 1970-07-31 | 1976-05-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the oxidation of cyclohexane |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20000049260A (ko) | 2000-07-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1284815B1 (en) | An apparatus for the controlled optimized addition of reactants in continuous flow reaction systems and methods of using the same | |
| CA2091178C (en) | Process and apparatus for the production of hydrogen peroxide from hydrogen and oxygen | |
| US6008415A (en) | Cyclohexane oxidation | |
| EP3903925B1 (en) | Method for oxidizing ethylbenzene | |
| EP0018159B1 (en) | Process for the production of phenol, acetone and alpha methylstyrene | |
| US4587363A (en) | Continuous preparation of oxygen-containing compounds | |
| CN103663385A (zh) | 一种生产过氧化氢的方法和装置 | |
| US6150564A (en) | Selective liquid-phase hydrogenation of α,β-unsaturated carbonyl compounds | |
| CN109678119B (zh) | 一种蒽醌法生产双氧水系统及蒽醌法生产双氧水方法 | |
| US6075169A (en) | Process for preparing oxidation products from cyclohexane in counterflow | |
| KR100538191B1 (ko) | 역류접촉에 의한 시클로헥산 산화 생성물의 제조 방법 | |
| KR20150036439A (ko) | 사이클로헥산의 산화를 위한 공정 | |
| US5277878A (en) | Reactor for heterogeneous-phase reactions | |
| JP3567582B2 (ja) | シクロヘキサンの液相酸化方法 | |
| US8674145B2 (en) | Method for acceleration of cumene oxidation | |
| KR960016466B1 (ko) | 탄화수소의 산화방법 및 그 장치 | |
| EP3846928A1 (en) | Bubble shell-and-tube apparatus | |
| CN114984897B (zh) | 一种氧化-过氧化物分解耦合反应装置及其用于有机醛氧化生产有机酸的方法 | |
| EP1932583A1 (en) | Reactor vessel | |
| US6369277B1 (en) | Selective liquid-phase hydrogenation of α,β-unsaturated carbonyl compounds | |
| CN111471004A (zh) | 一种乙苯氢过氧化物的制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20101209 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |