KR100535656B1 - 전극 겸용 안테나를 구비한 대기압 플라즈마 발생장치 - Google Patents

전극 겸용 안테나를 구비한 대기압 플라즈마 발생장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 전극 겸용의 안테나부에 의해 플라즈마를 발생시키는 대기압 플라즈마 발생 장치에 관한 것으로, 임피던스 정합기를 통해 RF 전원에 접속되는 안테나부와 이와 소정 간격을 갖도록 배치되는 평판 접지 전극, 안테나부와 평판 접지 전극 사이에서 안테나부에 인접하는 유전체, 그리고 하나 이상의 가스 입구를 갖고 유전체와 평판 접지 전극 사이로 반응 가스를 배출하는 가스 출구를 갖는 중공형의 가스 공급관으로 구성된다. 안테나부와 평판 접지 전극에 의해 플라즈마 방전 및 가속을 위한 전기장이 교차되어 발생된다. 교차된 전기장에 의해 플라즈마 이온 입자들은 유전체에 평행하게 회전하는 방향으로 가속됨으로 이온 입자들이 유전체에 강하게 충돌하지 않아 유전체의 수명이 길어지고 고열의 발생을 막아 피 처리 대상물에 미치는 부정적 영향을 막을 수 있다.

Description

전극 겸용 안테나를 구비한 대기압 플라즈마 발생장치{APPARATUS FOR GENERATING PLASMA AT ATMOSPHERIC PRESSURE HAVING ANTENNA WITH COMBINED ELECTRODE}
본 발명은 대기압 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 구체적으로는 전극 겸용의 안테나에 의해 플라즈마를 발생시키는 대기압 플라즈마 발생 장치에 관한 것이다.
알려진 바와 같이, 대기압 플라즈마를 발생하기 위한 기술로는 유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge; DBD), 코로나 방전(corona discharge), 마이크로웨이브 방전(microwave discharge), 아크방전(arc discharge) 등이 있다. 이 기술들은 여러 산업 분야에서 다양하게 사용되고 있으며, 반도체 제조 공정에서도 사용되고 있다.
유전체 장벽 방전은 유전체의 전하축적(charge build-up) 현상을 이용하여 교류전원에 의해 인가되는 전압 효율을 극대화시켜 균일한 글로우 방전(glow discharge)을 얻는 것이다. 유전체 장벽 방전을 이용한 대기압 플라즈마 발생장치는 유기 오염물의 세정 및 표면개질 등의 공정에 유용하게 사용된다. 반도체 제조공정의 경우 대형 기판의 세정이나 에싱(ashing), PFC 가스 정화 등에 이용되고 있다.
현재, 대형 웨이퍼 가공에서 수율을 향상 시킬 수 있는 대기압 플라즈마 발생 장치가 요구되고 있으며, TFT LCD, PDP(Plasma Display Panel) 등의 반도체 소자를 사용하는 공정은 다양한 종류의 대형 글라스(glass) 및 폴리머 평판을 사용하는데 이들 사이즈가 더욱 대형화 되어가고 있어 이에 효과적으로 대응할 수 있는 대기압 플라즈마 발생 장치가 요구되고 있다.
한편, 유전체 장벽 방전을 이용한 대기압 플라즈마 발생장치는 유전체 장벽을 사이에 두고 위치한 두 전극에 의해 유전체 장벽으로 수직의 전기장이 작용한다. 그럼으로 플라즈마 이온 입자가 대부분 수직으로 유전체 장벽에 강하게 충돌하게 되어 유전체 수명이 단축되는 문제점과 함께 파티클 발생의 문제점이 발생하게 된다. 게다가, 이온 입자의 강한 충돌에 의해 고열이 발생하게 되어 피 처리 대상물이 고열에 의한 변형이 발생하는 등의 문제점이 있다. 고열에 의한 부정적인 영향을 최소화하기 위해 냉각 가스를 이용하는 방법이 사용되고 있으나 이를 위한 설비를 추가적으로 구성해야 하는 부담이 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 고밀도의 플라즈마를 안정적으로 균일하게 발생하고, 대면적의 플라즈마 처리가 가능한 대기압 플라즈마 발생 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 목적은 가속되는 이온 입자가 유전체에 강하게 충돌되는 것을 방지하여 유전체 수명을 길게 하며, 고열 발생을 방지할 수 있는 대기압 플라즈마 발생장치를 제공하는데 있다.
이와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 대기압 플라즈마 발생장치는: 안테나 및 점화 전극을 갖고 각기 임피던스 정합기를 통해 RF 전원에 접속되는 안테나부; 안테나부로부터의 소정 간격을 갖도록 배치되는 평판 접지 전극; 안테나부와 평판 접지 전극 사이에서 안테나부에 인접하여 설치되는 유전체; 하나 이상의 가스 입구를 갖고 평판 접지 전극과 유전체 사이로 반응 가스를 배출하는 가스 출구를 갖는 중공형의 가스 공급관을 포함하여, 상기 안테나부와 평판 접지 전극에 의한 제1 전기장 및 상기 안테나에 의해 유도되는 제2 전기장에 의해 방전 가스로 유도 기전력이 전달되어 플라즈마 반응을 일으킨다.
이 실시예에 있어서, 상기 가스 공급관은 다수의 관통공이 형성된 하나 이상의 가스 분배 격판이 설치되고, 하나 이상의 가스 분배 격판들은 상호 다수의 관통공들이 서로 어긋나게 배열된다. 상기 평판 접지 전극은 안테나로부터의 상대적 간격을 조정 가능한 이동형으로 구성된다.
이 실시예에 있어서, 상기 안테나는 나선형으로 구성되고 그 양단은 임피던스 정합기에 공통으로 접속되며, 안테나를 사이에 두고 점화 전극이 설치된다. 또는 상기 안테나는 다수개의 선형 안테나가 병렬로 배열되고 각각의 양단이 임피던스 정합기에 공통으로 접속되고, 안테나를 사이에 두고 점화 전극이 설치된다.
이 실시예에 있어서, 상기 안테나는 다수개의 판형 안테나가 중접되어 아치형상을 이루고 각각의 양단이 임피던스 정합기에 공통으로 접속되고, 안테나를 사이에 두고 점화 전극이 설치된다. 또는 상기 안테나는 가로 또는 세로 방향으로 소정 길이를 갖도록 반복 권선되어 배열되고 그 양단이 임피던스 정합기에 공통으로 접속되며, 안테나를 사이에 두고 점화 전극이 설치된다. 또는, 상기 안테나는 가로 또는 세로 방향으로 지그제그형으로 소정 길이를 갖도록 반복되며 그 양단이 임피던스 정합기에 공통으로 접속되고, 안테나를 사이에 두고 점화 전극이 설치된다.
이 실시예에 있어서, 상기 평판 접지 전극은 안테나부를 중심으로 양측에 하나씩 각기 배열되어 두 개의 플라즈마 분사구를 형성하고, 상기 평판 접지 전극의 외측으로 각각 배기 덕트와 냉각수 공급관이 설치된다.
이 실시예에 있어서, 상기 평판 접지 전극은 안테나의 어느 일 측에 배열되어 하나의 플라즈마 분사구를 형성하고, 상기 평판 접지 전극과 안테나 외측으로 각각 배기 덕트와 냉각수 공급관이 설치된다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 플라즈마 발생 장치는: 안테나 및 점화 전극을 갖고 각기 임피던스 정합기를 통해 RF 전원에 접속되는 안테나부; 안테나부로부터의 소정 간격을 갖도록 배치되는 평판 접지 전극; 및 안테나부와 평판 접지 전극 사이에서 평판 접지 전극과 소정 간격을 두고 배치되고 안테나부에 인접하는 평판형의 유전체를 포함하고, 유전체와 평판 접지 전극 사이로 방전 가스가 입출력되고 피 처리 대상물이 그 사이로 진행하며, 상기 안테나와 판형 접지 전극에 의한 제1 전기장 및 상기 안테나에 의해 유도되는 제2 전기장에 의해 방전 가스로 유도 기전력이 전달되어 플라즈마 반응을 일으킨다.
이 실시예에 있어서, 상기 피 처리 대상물을 진행시키기 위한 적어도 하나 이상의 롤러가 안테나와 평판 접지 전극 사이에 설치된다.
(실시예)
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다.
실시예 1
도 1 및 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치의 사시도 및 단면도이다. 도면을 참조하여, 본 발명의 대기압 플라즈마 발생장치는 제1 및 제2 임피던스 정합기(20, 22)를 통해 제1 및 제2 RF 전원(21. 23)에 각각 접속되는 안테나부(18)를 구비한다. 후에 설명되겠지만, 안테나부(18)는 점화 전극과 안테나로 구성되며, 제1 임피던스 정합기(20)를 통해 제1 RF 전원(21)은 안테나에 접속되며, 제2 임피던스 정합기(22)를 통해 제2 RF 전원(23)은 점화 전극에 연결된다. 여기서 점화 전극은 플라즈마 방전을 일으키는 점화 기능을 갖는다.
대기압 플라즈마 발생장치는 안테나부(18)로부터의 소정 간격을 갖도록 배치되는 평판 접지 전극(14a, 14b), 안테나부(18)와 평판 접지 전극(14a, 14b) 사이에서 안테나부(18)에 인접하는 유전체(17), 그리고 하나 이상의 가스 입구(11a)를 갖고 유전체(17)와 평판 접지 전극(14a, 14b) 사이로 반응 가스를 배출하는 가스 출구(11b)를 갖는 중공형의 가스 공급관(10)으로 구성된다. 유전체(17)는 안테나부(18)를 감싸도록 구성된다.
평판 접지 전극(14a, 14b)은 안테나부(18)를 중심으로 양측에 하나씩 각기 수직으로 배열되며, 안테나부(18)로부터의 상대적 간격을 조정 가능하도록 가스 공급관(10)의 저면에 설치된 지지대(13a, 13b)에 결합되어 있다. 이와 같이하여, 유전체(17)와 평판 접지 전극(14a, 14b) 사이로 플라즈마 분사구(19)가 병렬로 길게 형성된다.
평판 접지 전극(14a, 14b)은 이동 가능함으로 안테나부(18)로부터의 상대적 거리를 조정함으로서 플라즈마 발생을 위한 유도 기전력의 세기를 조정할 수 있다. 평판 접지 전극(14a, 14b)의 외측으로 각각 아치형의 배기 덕트(15a, 15b)가 설치되어 처리된 가스 배출에 이용되며, 그 위로 냉각수 공급관(16a, 16b)이 설치된다.
가스 공급관(10)은 다수의 관통공이 형성된 하나 이상의 가스 분배 격판(12a, 12b, 12c)이 다층으로 설치되며, 가스 분배 격판(12a, 12b, 12c)은 상호 다수의 관통공들이 서로 어긋나게 배열된다. 그럼으로 가스 입구(11a)를 통해 입력된 반응 가스는 고르게 분포되어 가스 출구(11b)로 배출된다.
안테나부(18)와 평판 접지 전극(14a, 14b)에 사이에 발생되는 제1 전기장과 상기 안테나부(18)에 의해 유도되는 제2 전기장에 의한 유도 기전력이 방전 가스로 전달되어 플라즈마(P)가 발생된다. 여기서, 제1 전기장은 평판 접지 전극(14a, 14b)과 유전체(17)에 수직으로 발생하며, 제2 전기장은 수평으로 발생한다. 그럼으로 제1 전기장과 제2 전기장에 의해서 가속되는 플라즈마 이온 입자는 평판 접지 전극(14a, 14b)과 유전체(17) 사이에서 회전하며 가속된다. 그럼으로 이온 입자들이 유전체(18)에 강하게 충돌하는 것을 막아 유전체의 수명을 길게 하고 고열의 발생을 막아 피 처리 대상물에 미치는 부정적 영향을 막을 수 있다.
이와 같은 대기압 플라즈마 발생장치는 다수의 롤러(30)에 의해서 평판 형의 피 처리 대상물(31)이 이동될 때, 피 처리 대상물(31)의 상부에 위치하여 피 처리 대상물(31)로 플라즈마(P)를 분사한다.
도 3은 제1 실시예의 변형예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치의 단면도이다. 도면을 참조하여, 가스 공급관(40)은 가스 입구(41a)와 가스 출구(41b)를 구비하고, 다수의 가스 분배 격판(42a, 42b, 42c)을 구비한다. 가스 출구(41b)의 하부에는 일측으로 지지대(43)와 평판 접지 전극(44)이 수직으로 장착되며, 타측으로는 안테나부(48)와 이를 감싸는 유전체(47)가 설치된다. 평판 접지 전극(44)과 유전체(47)의 외측에는 각각 배기 덕트(45a, 45b)와 냉각수 공급관(46a, 46b)이 설치된다. 이와 같이 하여, 단일의 플라즈마 분사구(49)가 길게 형성되도록 할 수도 있다.
안테나부(18, 48)는 안테나와 점화 전극으로 구성되는데 이의 다양한 변형 예를 첨부도면 도 4 내지 도 8을 참조하여 설명한다. 도 4 내지 도 8은 도 1 본 발명의 대기압 플라즈마 발생장치에 탑재되는 안테나부의 다양한 예를 보여주는 도면이다.
일 예로, 도 4에 도시된 바와 같이, 안테나(181)는 나선형으로 구성되고, 그 양단(181a, 181b)은 제1 임피던스 정합기(20)에 공통으로 접속된다. 그리고 안테나(181)를 사이에 두고 양측으로 선형의 점화 전극(188a, 188b)이 배치되며 이는 제2 임피던스 정합기(22)를 통해 제2 RF 전원(23)에 연결된다.
다른 예로, 도 5에 도시된 바와 같이, 안테나(182)는 다수개의 선형 안테나가 병렬로 배열되고, 각각의 양단(182a, 182b)이 제1 임피던스 정합기(50)에 공통으로 접속된다. 그리고 안테나(182)를 사이에 두고 양측으로 선형의 점화 전극(188a, 188b)이 배치되며 이는 제2 임피던스 정합기(22)를 통해 제2 RF 전원(23)에 연결된다.
또 다른 예로, 도 6에 도시된 바와 같이, 안테나(183)는 다수개의 아치형의 판형 안테나가 중첩되고, 각각의 양단(183a, 183b)이 제1 임피던스 정합기(20)에 공통으로 접속된다. 그리고 안테나(183)를 사이에 두고 양측으로 선형의 점화 전극(188a, 188b)이 배치되며 이는 제2 임피던스 정합기(22)를 통해 제2 RF 전원(23)에 연결된다.
다른 예로, 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 안테나(184, 185)는 공심 코일 형태로서 가로 또는 세로 방향으로 소정 길이를 갖도록 반복 권선되어 배열되고, 그 양단(184a, 184b)(185a, 185b)이 (또는 중간 지점(184c)을 포함하여) 제1 임피던스 정합기(20)에 공통으로 접속된다. 그리고 안테나(184, 185)를 사이에 두고 양측으로 선형의 점화 전극(188a, 188b)이 배치되며 이는 제2 임피던스 정합기(22)를 통해 제2 RF 전원(23)에 연결된다.
다른 예로, 도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같이, 안테나(186, 187)는 가로 또는 세로 방향으로 지그제그형으로 소정 길이를 갖도록 반복되며, 그 양단(186a, 186b)(187a, 187b)이 제1 임피던스 정합기(20)에 공통으로 접속된다. 그리고 안테나(186, 187)를 사이에 두고 양측으로 선형의 점화 전극(188a, 188b)이 배치되며 이는 제2 임피던스 정합기(22)를 통해 제2 RF 전원(23)에 연결된다.
이상에서 예시한 안테나의 형상은 일예를 들어 설명하는 것으로, 또 다른 형태로 구체화될 수 있음을 이 분야의 통상적인 기술자들은 잘 알 수 있을 것이다.
실시예 2
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치의 사시도 및 단면도이다. 도면을 참조하여, 본 발명의 제2 실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치는 제1 및 제2 임피던스 정합기(90, 92)를 통해 제1 및 제2 RF 전원(91. 93)에 각각 접속되는 안테나부(70)를 구비한다. 여기서, 안테나부(70)는 상술한 제1 실시예의 안테나부와 동일한 구성 즉, 점화 전극과 안테나로 구성되며, 제1 임피던스 정합기(90)를 통해 제1 RF 전원(91)은 안테나에 접속되며, 제2 임피던스 정합기(92)를 통해 제2 RF 전원(93)은 점화 전극에 연결된다. 대기압 플라즈마 발생장치는 안테나부(70)로부터의 소정 간격을 갖도록 배치되는 평판 접지 전극(73) 및, 안테나부(70)와 평판 접지 전극(73) 사이에서 평판 접지 전극(73)과 소정 간격을 두고 배치되고 안테나(70)에 인접하여 평판형으로 설치되는 유전체(71)를 구비한다. 안테나부(70)의 상부에는 하나 이상의 냉각수 공급관(72) 설치된다.
유전체(71)와 평판 접지 전극(73) 사이로 방전 가스가 입출력되고 피 처리 대상물(81)이 그 사이로 진행한다. 피 처리 대상물(81)을 진행시키기 위해 적어도 하나 이상의 롤러(80)가 유전체(71)와 평판 접지 전극(73) 사이에 설치된다. 이때, 안테나부(70)와 평판 접지 전극(73)에 의한 제1 전기장과 상기 안테나부(70)에 의해 유도되는 제2 전기장에 의해 방전 가스로 유도 기전력이 전달되어 플라즈마 방전 및 이온 가속이 이루어진다.
여기서, 제1 전기장은 평판 접지 전극(73)과 유전체(71)에 수직으로 발생하며, 제2 전기장은 수평으로 발생한다. 그럼으로 제1 전기장과 제2 전기장에 의해서 가속되는 플라즈마 이온 입자는 평판 접지 전극(73)과 유전체(71) 사이에서 회전하며 가속된다. 그럼으로 이온 입자들이 유전체(71)에 강하게 충돌하는 것을 막아 유전체의 수명을 길게 하고 고열의 발생을 막아 피 처리 대상물에 미치는 부정적 영향을 막을 수 있다.
이상에서 본 발명에 따른 전극 겸용 안테나를 구비한 대기압 플라즈마 발생장치의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였으나, 이는 일예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 본 발명의 대기압 플라즈마 발생 장치는 안테나를 이용하여 플라즈마 방전을 위한 전기장과 가속을 위한 전기장을 동시에 발생하고, 가속을 위한 전기장이 유전체에 수평으로 회전하는 방향으로 발생함으로서 이온 입자들이 유전체에 강하게 충돌하는 것을 막아 유전체의 수명을 길게 하고 고열의 발생을 막아 피 처리 대상물에 미치는 부정적 영향을 막을 수 있다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치의 사시도 및 단면도;
도 3은 제1 실시예의 변형예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치의 단면도;
도 4 내지 도 8은 도 1 본 발명의 대기압 플라즈마 발생장치에 탑재되는 안테나부의 다양한 예를 보여주는 도면;
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치의 사시도 및 단면도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10, 40: 가스 공급관 20: 임피던스 정합기
21: RF 전원 30, 60: 롤러
31, 61: 피 처리 대상물

Claims (15)

  1. 안테나 및 점화 전극을 갖고 각기 임피던스 정합기를 통해 RF 전원에 접속되는 안테나부;
    안테나부로부터의 소정 간격을 갖도록 배치되는 평판 접지 전극;
    안테나부와 평판 접지 전극 사이에서 안테나부에 인접하여 설치되는 유전체;
    하나 이상의 가스 입구를 갖고 평판 접지 전극과 유전체 사이로 반응 가스를 배출하는 가스 출구를 갖는 중공형의 가스 공급관을 포함하여,
    상기 안테나부와 평판 접지 전극에 의한 제1 전기장 및 상기 안테나에 의해 유도되는 제2 전기장에 의해 방전 가스로 유도 기전력이 전달되어 플라즈마 반응을 일으키는 대기압 플라즈마 발생장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가스 공급관은 다수의 관통공이 형성된 하나 이상의 가스 분배 격판이 설치되는 대기압 플라즈마 발생장치.
  3. 제2항에 있어서, 하나 이상의 가스 분배 격판들은 상호 다수의 관통공들이 서로 어긋나게 배열되는 대기압 플라즈마 발생장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 평판 접지 전극은 안테나로부터의 상대적 간격을 조정 가능한 이동형인 대기압 플라즈마 발생장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 안테나는 나선형으로 구성되고 그 양단은 임피던스 정합기에 공통으로 접속되며, 안테나를 사이에 두고 점화 전극이 설치되는 대기압 플라즈마 발생장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 안테나는 다수개의 선형 안테나가 병렬로 배열되고 각각의 양단이 임피던스 정합기에 공통으로 접속되고, 안테나를 사이에 두고 점화 전극이 설치되는 대기압 플라즈마 발생장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 안테나는 다수개의 판형 안테나가 중접되어 아치형상을 이루고 각각의 양단이 임피던스 정합기에 공통으로 접속되고, 안테나를 사이에 두고 점화 전극이 설치되는 는 대기압 플라즈마 발생장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 안테나는 가로 또는 세로 방향으로 소정 길이를 갖도록 반복 권선되어 배열되고 그 양단이 임피던스 정합기에 공통으로 접속되며, 안테나를 사이에 두고 점화 전극이 설치되는 대기압 플라즈마 발생장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 안테나는 가로 또는 세로 방향으로 지그제그형으로 소정 길이를 갖도록 반복되며 그 양단이 임피던스 정합기에 공통으로 접속되고, 안테나를 사이에 두고 점화 전극이 설치되는 대기압 플라즈마 발생장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 평판 접지 전극은 안테나부를 중심으로 양측에 하나씩 각기 배열되어 두 개의 플라즈마 분사구를 형성하는 대기압 플라즈마 발생장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 평판 접지 전극의 외측으로 각각 배기 덕트와 냉각수 공급관이 설치되는 대기압 플라즈마 발생장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 평판 접지 전극은 안테나의 어느 일 측에 배열되어 하나의 플라즈마 분사구를 형성하는 대기압 플라즈마 발생장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 평판 접지 전극과 안테나 외측으로 각각 배기 덕트와 냉각수 공급관이 설치되는 대기압 플라즈마 발생장치.
  14. 안테나 및 점화 전극을 갖고 각기 임피던스 정합기를 통해 RF 전원에 접속되는 안테나부;
    안테나부로부터의 소정 간격을 갖도록 배치되는 평판 접지 전극; 및
    안테나부와 평판 접지 전극 사이에서 평판 접지 전극과 소정 간격을 두고 배치되고 안테나부에 인접하는 평판형의 유전체를 포함하고,
    유전체와 평판 접지 전극 사이로 방전 가스가 입출력되고 피 처리 대상물이 그 사이로 진행하며, 상기 안테나와 판형 접지 전극에 의한 제1 전기장 및 상기 안테나에 의해 유도되는 제2 전기장에 의해 방전 가스로 유도 기전력이 전달되어 플라즈마 반응을 일으키는 대기압 플라즈마 발생장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 피 처리 대상물을 진행시키기 위한 적어도 하나 이상의 롤러가 안테나와 평판 접지 전극 사이에 설치되는 대기압 플라즈마 발생장치.
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