KR100506800B1 - System for sensing strange flow of developer - Google Patents
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Abstract
본 발명은 현상액 공급 시스템의 현상액 이상 흐름 검출 시스템으로서, 현상액 공급 시스템의 비정상적인 동작에 의한 현상액의 누수를 감지하기 위하여, 본 발명은 현상액 공급 시스템의 복수의 배수부와 연결된 현상액 검출 탱크와, 현상액 검출 탱크에 소정양의 현상액이 채원진 상태를 감지할 수 있는 현상액 검출 센서 및 상기 배수부를 통하여 상기 현상액 검출 탱크로 보내진 현상액을 배수하기 위한 검출 배수관과 배수 밸브로 구성된 검출 배수부를 갖는 현상액 이상 흐름 검출 시스템을 제공한다. 특히, 배수부를 통하여 비정상적으로 배수되는 현상액은 배수 밸브가 닫혀진 현상액 검출 탱크로 보내지고 소정양의 현상액이 현상액 검출 탱크에 채워진 경우 현상액 검출 센서는 이를 감지하여 현상액이 누수되고 있음을 알리는 전기적인 신호를 출력하는 것을 특징으로 한다. 특히, 본 발명에 따른 현상액 검출 센서로 마그네트 센서를 사용하는 것이 바람직하다.The present invention is a developer abnormal flow detection system of the developer supply system, in order to detect the leakage of the developer by abnormal operation of the developer supply system, the present invention is a developer detection tank connected to a plurality of drainage of the developer supply system, and the developer detection A developer abnormal flow detection system having a developer detecting sensor capable of detecting a predetermined amount of developer in a tank, and a detection drainage portion consisting of a detection drainage pipe and a drain valve for draining the developer sent to the developer detection tank through the drainage portion. To provide. In particular, the developer which is abnormally drained through the drainage part is sent to the developer detection tank in which the drain valve is closed, and when a predetermined amount of developer is filled in the developer detection tank, the developer detection sensor detects this to detect an electrical signal indicating that the developer is leaking. It is characterized by outputting. In particular, it is preferable to use a magnet sensor as the developer detection sensor according to the present invention.
Description
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 포토레지스트의 현상 공정에 사용되는 현상액 공급 시스템에 있어서 현상액의 배수관으로의 누수와 같은 현상액의 이상 흐름을 검출할 수 있는 현상액 공급 시스템의 현상액 이상 흐름 검출 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly, in a developer supply system used in a developing process of a photoresist, a developer abnormality of a developer supply system capable of detecting an abnormal flow of a developer such as leakage of a developer to a drain pipe. A flow detection system.
포토레지스트(photoresist)를 이용한 사진 공정은 포토레지스트 도포 공정, 노광 공정, 현상 공정 및 에싱 공정으로 이루어진다. 현상 공정은 웨이퍼에 상에 도포된 포토레지스트에 대한 노광 공정이 완료된 이후에 현상액(developer)을 포토레지스트가 도포된 웨이퍼에 분사하여 노광된( 또는 노광되지 않은) 부분의 포토레지스트를 제거하여 웨이퍼 상에 포토 마스크(photo mask)를 형성하는 공정이다.A photoresist using a photoresist includes a photoresist coating step, an exposure step, a developing step, and an ashing step. After the exposure process for the photoresist applied on the wafer is completed, the developing process is performed by spraying a developer onto the photoresist-coated wafer to remove the exposed (or unexposed) photoresist on the wafer. It is a process of forming a photo mask in a.
포토레지스트가 도포된 웨이퍼 상에 현상액을 공급하기 위한 현상액 공급 시스템(system for supplying developer)은 현상액을 현상액 주 공급부로부터 공급받아 최종단인 노즐(nozzle)에 공급하는 시스템으로서, 중간 부분은 많은 종류의 부품과 배관 등으로 연결되어 있다.A system for supplying developer for supplying a developer on a photoresist-coated wafer is a system in which a developer is supplied from a developer main supply part to a nozzle, which is the final stage. It is connected by parts and piping.
통상적으로 현상액 주 공급부에서 공급된 현상액은 바로 노즐로 공급되지 않고 보조 탱크인 버퍼 탱크(buffer tank)로 보내지고, 버퍼 탱크로부터 필요한 현상액을 복수의 노즐로 공급하여 현상 공정을 진행한다. 버퍼 탱크에는 버퍼 탱크로 공급되는 현상액의 양을 감지하기 위한 현상액 검출 센서가 설치되어 있다. 현상액 검출 센서는 버퍼 탱크로 공급되는 현상액의 양을 감지하여 버퍼 탱크의 수용 용량 이상의 현상액이 공급된 경우에 이를 외부에 알리고 수용 용량 이상의 현상액은 버퍼 탱크 밖으로 배수시킬 수 있도록 버퍼 탱크에 연결된 배수 밸브를 동작시키게 된다. 그리고, 현상액 공급 시스템의 각 부분에서의 유지 보수 작업을 진행하기 위해서, 현상액 공급 시스템 내에 잔존하는 현상액을 현상액 공급 시스템 밖으로 배수할 수 있도록 버퍼 탱크를 포함한 배관 사이에 복수개의 배수 밸브와 배수관을 포함하는 배수부가 설치되어 있다.In general, the developer supplied from the developer main supply part is not directly supplied to the nozzle, but is sent to a buffer tank, which is an auxiliary tank, and a developing process is performed by supplying the necessary developer from the buffer tank to the plurality of nozzles. The buffer tank is provided with a developer detection sensor for detecting the amount of developer supplied to the buffer tank. The developer detection sensor detects the amount of the developer supplied to the buffer tank and notifies the outside of the developer when the developer solution of the buffer capacity is supplied, and the drain valve connected to the buffer tank can be drained out of the buffer tank. It will work. Then, in order to carry out maintenance work in each part of the developer supply system, a plurality of drain valves and drain pipes are provided between the pipes including the buffer tank so as to drain the developer remaining in the developer supply system out of the developer supply system. Drainage is provided.
이와 같은 현상액 공급 시스템에 있어서, 버퍼 탱크에 설치된 현상액 검출 센서는 버퍼 탱크로 공급되는 현상액의 양을 감지하기 위한 센서 라인이 현상액과 접촉된 상태를 항상 유지하고 있기 때문에, 부식성을 갖는 현상액이 현상액 검출 센서의 센서 라인에 침투하여 현상액 검출 센서의 오동작시키는 원인으로 작용할 수 있다.In such a developer supply system, the developer detection sensor installed in the buffer tank always maintains a state in which the sensor line for detecting the amount of the developer supplied to the buffer tank is in contact with the developer, so that the developer having corrosiveness detects the developer. It can penetrate the sensor line of the sensor and act as a cause of malfunction of the developer detection sensor.
배수 밸브는 수동 밸브로서 유지 보수 작업이 필요한 경우 작업자는 배수 밸브를 수동으로 열어 현상액 공급 시스템 내의 현상액을 배수관을 통하여 배수한 이후에 작업을 진행한다. 이때, 유지 보수 작업이 완료된 이후에 배수 밸브를 잠그지 않고 현상 공정을 진행할 경우, 잠그지 않은 배수 밸브와 연결된 배수관을 통하여 현상액이 빠져나가는 불량이 발생될 수 있다.The drain valve is a manual valve, and when maintenance work is required, the operator opens the drain valve manually and proceeds after draining the developer in the developer supply system through the drain pipe. In this case, when the development process is performed without closing the drain valve after the maintenance work is completed, a defect may occur in which the developer is discharged through the drain pipe connected to the unlock valve.
그리고, 종래 기술에 따른 배수부는 현상액 공급 시스템 내에 잔존하는 현상액을 외부로 배수시키기 위한 부분으로서, 배수 밸브를 지나 배수관으로 배수되는 현상액의 양을 점검하는 부분을 별도로 갖추고 있지 않다.In addition, the drain according to the prior art is a part for draining the developer remaining in the developer supply system to the outside, and has no separate part for checking the amount of the developer drained through the drain valve to the drain pipe.
따라서, 본 발명의 목적은 배수관을 통한 현상액의 누수를 감지할 수 있는 현상액 이상 흐름 검출 시스템을 제공하는 데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a developer abnormal flow detection system that can detect the leakage of the developer through the drain pipe.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 현상액 주 공급부에서 공급된 현상액을 보조 탱크를 통하여 노즐로 공급하며, 현상액 주 공급부와 노즐 사이의 현상액을 배수하기 위한 복수의 배수부가 설치된 현상액 공급 시스템의 현상액 이상 흐름 검출 시스템으로, 복수의 배수부와 연결된 현상액 검출 탱크와; 현상액 검출 탱크에 설치되어 현상액 검출 탱크로 소정양의 현상액이 채워질 경우 이를 감지하는 현상액 검출 센서; 및 배수부를 통하여 현상액 검출 탱크로 보내진 현상액을 배수하기 위한 검출 배수부로서, 검출 배수부는 현상액 검출 탱크와 연결된 검출 배수관 및 검출 배수관에 설치된 배수 밸브로 구성된 검출 배수부;를 포함하며, 배수부를 통하여 정상적으로 배수되는 현상액은 배수 밸브가 열여진 현상액 검출 탱크로 유입되고, 유입된 현상액은 검출 배수관을 통하여 외부로 배수되며, 배수부를 통하여 비정상적으로 배수되는 현상액은 배수 밸브가 닫혀진 현상액 검출 탱크로 보내지고 소정양의 현상액이 현상액 검출 탱크에 채워진 경우 현상액 검출 센서는 이를 감지하는 것을 특징으로 하는 현상액 이상 흐름 검출 시스템을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a developer supplied from the developer main supply unit to the nozzle through the auxiliary tank, the developer of the developer supply system provided with a plurality of drainage for draining the developer between the developer main supply and the nozzle A flow detection system, comprising: a developer detection tank connected to a plurality of drains; A developer detection sensor installed in the developer detection tank to detect when a predetermined amount of developer is filled into the developer detection tank; And a detection drainage for draining the developer sent to the developer detection tank through the drainage, wherein the detection drainage comprises a detection drainage pipe connected to the developer detection tank and a drain valve installed at the detection drainage pipe. The developer to be drained flows into the developer detection tank in which the drain valve is opened, the developer is drained out through the detection drain pipe, and the developer that is abnormally drained through the drain is sent to the developer detection tank in which the drain valve is closed, When the developer is filled in the developer detection tank, the developer detection sensor provides a developer abnormal flow detection system, characterized in that for detecting it.
현상액 주 공급부와 보조 탱크 사이에 개폐용 밸브가 설치되며, 현상액 검출 센서가 현상액의 이상 흐름 감지시 개폐용 밸브를 닫아 현상액의 추가적인 누수를 막는다.An opening and closing valve is installed between the developer main supply part and the auxiliary tank, and the developer detection sensor closes the opening and closing valve when detecting abnormal flow of the developer to prevent further leakage of the developer.
본 발명에 따른 현상액 검출 센서로 부력 센서를 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use a buoyancy sensor as the developer detection sensor according to the present invention.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of the present invention.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 현상액 이상 흐름 검출 시스템을 포함하는 현상액 공급 시스템을 나타내는 도면이다.1 is a view showing a developer supply system including a developer abnormal flow detection system according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면 현상액 공급 시스템(100)은 현상액 주 공급부(61)로부터 현상액을 공급받아 최종단인 노즐(69)로 공급하여 현상 공정을 진행하는 시스템으로, 중간 부분은 많은 종류의 부품과 배관 등으로 연결되어 있다. 그리고, 본 발명의 현상액 공급 시스템(100)은 현상액의 이상 흐름 발생시 이를 검출할 수 있는 현상액 이상 흐름 검출 시스템(50)을 더 포함하고 있다.Referring to FIG. 1, the developer supply system 100 receives a developer from a developer main supply unit 61 and supplies the developer to a nozzle 69, which is a final stage, to perform a developing process. It is connected by the back. In addition, the developer supply system 100 of the present invention further includes a developer abnormal flow detection system 50 capable of detecting the abnormal flow of the developer.
통상적으로 현상액 공급 시스템(100)은 현상액 주 공급부(61), 버퍼 탱크(63), 유량계(65; flowmeter), 온조기(67) 및 노즐(69)로 구성된다. 그리고, 각 구성요소를 연결하는 배관(68) 사이에 여과기(71, 77), 밸브(57, 72, 74, 78, 81, 83), 역류 방지기(59, 73, 75, 79) 등이 설치되어 있다.Typically, the developer supply system 100 includes a developer main supply 61, a buffer tank 63, a flowmeter 65, a temperature controller 67, and a nozzle 69. In addition, a filter (71, 77), valves (57, 72, 74, 78, 81, 83), the backflow preventers (59, 73, 75, 79), etc. are installed between the pipes 68 connecting the respective components. It is.
현상액 주 공급부(61)는 현상액 공급원으로 보조 탱크인 버퍼 탱크(63)에 배관(68a)으로 연결되어 있다. 현상액 주 공급부(61)와 버퍼 탱크(63) 사이의 배관(68a)에는 현상액 주 공급부(61)에서 버퍼 탱크(63)로 보내지는 현상액의 양을 조절하기 위한 제 1 개폐용 밸브(57)가 설치되고, 다음으로 역류를 방지하기 위한 제 1 역류 방지기(59)가 차례로 설치되어 있다. 다음으로 현상액 주 공급부(61)에서 공급된 현상액에 잔존하는 찌꺼기를 일차적으로 여과하기 위한 제 1 여과기(71)와, 제 2 개폐용 밸브(72) 및 제 2 역류 방지기(73)가 차례로 설치되어 있다. 그리고, 제 1 여과기에 연결된 배수관(68b)에는 배수 밸브(81)가 설치되고, 배수관(68b)은 현상액 검출 탱크(55)에 연결되어 있다.The developer main supply portion 61 is connected to the buffer tank 63, which is an auxiliary tank, by a pipe 68a as a developer supply source. In the pipe 68a between the developer main supply portion 61 and the buffer tank 63, a first opening / closing valve 57 for adjusting the amount of developer sent from the developer main supply portion 61 to the buffer tank 63 is provided. Next, a first backflow preventer 59 is installed in order to prevent backflow. Next, a first filter 71 for first filtering the residue remaining in the developer supplied from the developer main supply part 61, a second opening / closing valve 72 and a second backflow preventer 73 are installed in this order. have. In addition, a drain valve 81 is provided in the drain pipe 68b connected to the first filter, and the drain pipe 68b is connected to the developer detection tank 55.
버퍼 탱크(63)는 현상액 주 공급부(61)에서 공급받은 현상액을 복수의 노즐(69; 도 1에는 하나의 노즐만 도시되어 있지만)로 현상액을 공급하는 부분으로서, 버퍼 탱크(63)로 공급되는 현상액의 양을 감지하기 위한 제 1 현상액 검출 센서(66)가 버퍼 탱크(63)에 설치되어 있다. 제 1 현상액 검출 센서(66)는 버퍼 탱크(63)로 공급된 현상액의 양을 감지하기 위해서 버퍼 탱크(63)의 아래쪽에 소정의 간격을 두고 2개(64a, 64b)가 설치되고, 위쪽에 소정의 간격을 두고 2개(62a, 62b)가 설치된다. 제 1 현상액 검출 센서(66) 중에서 맨 아래와 맨 위에 설치된 센서(62b, 64b; 이하, '한계 센서'라 하자)는 버퍼 탱크(63)에 채워질 수 있는 현상액의 하한(下限)과 상한(上限)을 나타내며, 중간의 두 개의 센서(62a, 64a; 이하, '적정 센서'라 하자)는 적정량의 현상액이 공급된 상태를 감지하게 된다. 즉, 버퍼 탱크(63)에서 노즐(69)로의 현상액의 공급은 현상액이 적정 센서(62a, 64a) 사이에 있을 때 이루어지며, 현상액이 하한의 한계 센서(64b)로 내려갈 때는 현상액의 노즐(69)로의 공급을 중단시키고, 상한의 한계 센서(62b)로 올라올 때는 현상액의 버퍼 탱크(63)로의 공급을 중단시킨다.The buffer tank 63 is a portion for supplying the developer from the developer main supply part 61 to the plurality of nozzles 69 (although only one nozzle is shown in FIG. 1), and is supplied to the buffer tank 63. A first developer detection sensor 66 for sensing the amount of developer is provided in the buffer tank 63. In order to detect the amount of the developer supplied to the buffer tank 63, the first developer detection sensor 66 is provided with two 64a and 64b at predetermined intervals below the buffer tank 63, Two 62a and 62b are provided at predetermined intervals. Among the first developer detection sensors 66, the sensors 62b and 64b (hereinafter, referred to as “limit sensors”) provided at the bottom and the top are the lower limit and the upper limit of the developer that can be filled in the buffer tank 63. The middle two sensors 62a and 64a (hereinafter, referred to as 'titration sensors') detect a state in which an appropriate amount of developer is supplied. That is, the supply of the developing solution from the buffer tank 63 to the nozzle 69 is made when the developing solution is between the appropriate sensors 62a and 64a, and when the developing solution goes down to the lower limit sensor 64b, the developing solution nozzle 69 ), The supply to the buffer tank 63 is stopped when the supply to the upper limit limit sensor 62b is stopped.
버퍼 탱크(63)와 노즐(69) 사이의 배관(68c)에는 버퍼 탱크(63)에서 노즐(69)로 공급되는 현상액의 양을 채크하기 위한 유량계(65)가 설치되고, 다음으로 노즐(69)로 공급되는 현상액을 작업 온도로 맞추어 주기 위한 온조기(67)가 차례로 설치되어 있다. 통상적으로 현상 공정을 진행하기 위한 현상액의 작업 온도는 23±0.5℃ 정도이다. 버퍼 탱크(63)와 유량계(65) 사이의 배관(68c)에 노즐(69)로 공급되는 현상액의 양을 조절하기 위한 제 3 개폐용 밸브(74)와, 제 3 역류 방지기(75) 및 제 2 여과기(77)가 차례로 설치되어 있다.In the pipe 68c between the buffer tank 63 and the nozzle 69, a flow meter 65 for checking the amount of the developer supplied from the buffer tank 63 to the nozzle 69 is provided, and then the nozzle 69 ), A thermostat 67 is provided in order to match the developer supplied to the working temperature to the working temperature. Usually, the working temperature of the developing solution for advancing a developing process is about 23 +/- 0.5 degreeC. A third opening / closing valve 74 for adjusting the amount of the developer supplied to the nozzle 69 to the pipe 68c between the buffer tank 63 and the flowmeter 65, the third backflow preventer 75, and the third 2 filter 77 is provided one by one.
버퍼 탱크(63)와 연결된 배수관(68b)에는 제 2 배수 밸브(78) 및 제 4 역류 방지기(79)가 설치되어 있고, 제 2 여과기와 연결된 배수관(68b)에는 제 3 배수 밸브(83)가 설치되어 있다. 한편, 버퍼 탱크(63) 및 제 2 여과기(77)과 연결된 배수관(68b) 또한 현상액 검출 탱크(55)에 연결되어 있다.A second drain valve 78 and a fourth backflow preventer 79 are installed in the drain pipe 68b connected to the buffer tank 63, and a third drain valve 83 is provided in the drain pipe 68b connected to the second filter. It is installed. On the other hand, the drain pipe 68b connected to the buffer tank 63 and the second filter 77 is also connected to the developer detection tank 55.
그리고, 본 발명에 따른 현상액 이상 흐름 검출 시스템(50)은 현상액 검출 탱크(55)와, 제 2 현상액 검출 센서(51) 및 검출 배수부(57)로 구성된다.The developer abnormal flow detection system 50 according to the present invention is composed of a developer detection tank 55, a second developer detection sensor 51, and a detection drain 57.
현상액 검출 탱크(55)는 제 1 여과기(71), 제 2 여과기(77) 및 버퍼 탱크(63)과 연결된 배수관(68b)이 연결되는 부분으로서, 배수관(68b)을 통하여 배수되는 현상액이 보내지는 곳으로 용량이 약 50ml 정도이다.The developer detection tank 55 is a portion to which the first filter 71, the second filter 77, and the drain pipe 68b connected to the buffer tank 63 are connected. The developer to be drained through the drain pipe 68b is sent. The capacity is about 50ml.
제 2 현상액 검출 센서(51)는 현상액 검출 탱크(55) 내부에 설치되어 현상액 검출 탱크(55)로 보내지는 현상액의 양을 감지하여 현상액 공급 시스템(100)에서 현상액이 누수되고 있는지의 여부를 알리는 전기적인 신호를 출력하는 센서이다. 본 발명에 현상액 검출 센서(51)는 마그네트 센서로서, 현상액 검출 탱크(55)에 수직으로 설치된 센서 라인(54)과, 센서 라인(54)의 상부와 하부에 삽입 설치된 마그네트 블록(52, 53)으로 구성되며, 마스네트 블록(52, 53)은 현상액 검출 탱크(55)내로 유입되는 현상액에 밀려 센서 라인(54)을 타고 상승하거나 하강하게 된다. 특히, 센서 라인(54)은 마그네트 블록(52, 53)이 센서 라인(54)의 특정 지점에 올라간 상태를 감지하여 현상액 공급 시스템(100)에서 현상액이 누수됨을 감지하게 된다.The second developer detection sensor 51 is installed inside the developer detection tank 55 to detect an amount of the developer sent to the developer detection tank 55 to indicate whether the developer is leaking in the developer supply system 100. It is a sensor that outputs an electrical signal. In the present invention, the developer detection sensor 51 is a magnet sensor, and the sensor line 54 perpendicular to the developer detection tank 55 and the magnet blocks 52 and 53 inserted into the upper and lower portions of the sensor line 54. The masnet blocks 52 and 53 are pushed up or down by the sensor line 54 by being pushed into the developer flowing into the developer detection tank 55. In particular, the sensor line 54 detects a state in which the magnet blocks 52 and 53 are raised to a specific point of the sensor line 54 to detect that the developer is leaked from the developer supply system 100.
그리고, 검출 배수부(57)는 현상액 검출 탱크(55)에 채워진 현상액 또는 현상액 탱크(55) 내로 유입되는 현상액을 밖으로 배수시키는 부분으로, 현상액 검출 탱크(55)와 연결된 검출 배수관(58)에 제 4 배수 밸브(59)가 설치된 구조를 갖는다.In addition, the detection drainage part 57 is a portion for draining out the developer filled in the developer detection tank 55 or the developer flowing into the developer tank 55, and is provided to the detection drain pipe 58 connected to the developer detection tank 55. 4 has a structure in which the drain valve 59 is installed.
이와 같은 현상액 검출 시스템(50)의 구동 관계를 설명하면, 현상액 공급 시스템(100)에서 현상액을 공급하는 정상적인 구동 상태를 유지할 경우 제 4 배수 밸브(59)는 닫혀진 상태를 유지하고, 현상액 공급 시스템(100)에서 현상액을 배수하는 정상적인 구동 상태를 유지하는 경우 제 4 배수 밸브(59)는 열여진 상태를 유지하여 복수의 배수관(68b)을 통하여 배수되는 현상액은 현상액 검출 탱크(55)를 통과하여 검출 배수관(58)을 통하여 외부로 배수된다. 이때, 현상액이 현상액 검출 탱크(55)로 유입되지만 제 2 현상액 검출 센서(51)는 현상액의 이상 흐름이라고 인식하지 않는다. 왜냐하면, 제 4 배수 밸브(59)가 열여 있어 현상액 검출 탱크(55)로 보내지는 현상액은 바로 제 4 배수 밸브(59)가 설치된 검출 배수관(58)을 통하여 외부로 배출되기 때문에, 제 2 현상액 검출 센서(51)가 인식할 정도로 현상액이 현상액 검출 탱크(55)에 채워지지 않는다.Referring to the driving relationship of the developer detection system 50 as described above, when the developer supplying system 100 maintains a normal driving state in which the developer is supplied, the fourth drain valve 59 is closed and the developer supply system ( In the case of maintaining a normal driving state in which the developer is drained at 100, the fourth drain valve 59 is kept open so that the developer drained through the plurality of drain pipes 68b passes through the developer detection tank 55 to detect the developer. It is drained to the outside through the drain pipe 58. At this time, the developer flows into the developer detection tank 55, but the second developer detection sensor 51 does not recognize that the developer flows abnormally. Because the fourth drain valve 59 is opened and the developer sent to the developer detection tank 55 is immediately discharged to the outside through the detection drain pipe 58 in which the fourth drain valve 59 is installed, the second developer is detected. The developer is not filled in the developer detection tank 55 to the extent that the sensor 51 recognizes it.
하지만, 현상액 공급 시스템(100)에서 현상액 공급되는 상태에서 현상액 공급 시스템(100)이 비정상적으로 구동할 때, 예를 들면 현상액 주 공급부(61)를 통하여 현상액은 공급되지만, 제 1 배수 밸브(81), 제 2 배수 밸브(78) 및 제 3 배수 밸브(83) 중에서 적어도 하나의 배수 밸브가 열여 있는 경우 열여진 특정의 배수 밸브와 연결된 배수관(68b)을 통하여 현상액이 누수되는 현상이 발생한다. 종래에는 현상액이 누수되는 것을 현상액 공급 시스템으로서는 감지할 수 없었다. 하지만, 본 발명에서는 누수되는 현상액이 제 4 배수 밸브(59)가 닫혀진 현상액 검출 탱크(55)로 유입되어 채워지고, 유입된 현상액의 부력을 받아 마그네트 블록(52, 53)은 상승하게 된다. 마그네트 블록(52, 53)이 센서 라인(54)의 특정 지점까지 상승한 경우 센서 라인(54)은 마그네트 블록(52, 53)을 감지하여 현상액 검출 시스템(100)에서의 현상액 누수를 감지하게 되며, 이 사실을 전기적 신호를 통하여 현상액의 누수 상태를 작업자에게 알림과 동시에 현상액 공급 시스템(100)의 작동을 정지시킨다. 물론, 현상액 공급 시스템(100)의 작동을 중단시키기 전에 제 1 개폐용 밸브(57)를 닫아 현상액의 추가적인 누수를 막게 된다.However, when the developer supply system 100 is abnormally driven in the state in which the developer is supplied from the developer supply system 100, for example, the developer is supplied through the developer main supply 61, but the first drain valve 81 When the at least one drain valve among the second drain valve 78 and the third drain valve 83 is opened, a phenomenon in which the developer is leaked through the drain pipe 68b connected to the specific drain valve opened is generated. In the past, leakage of developer was undetectable by the developer supply system. However, in the present invention, the leaking developer enters and fills the developer detection tank 55 in which the fourth drain valve 59 is closed, and the magnet blocks 52 and 53 are raised by the buoyancy of the developer. When the magnet blocks 52 and 53 rise to a specific point of the sensor line 54, the sensor line 54 detects the magnet blocks 52 and 53 to detect a developer leak in the developer detection system 100. This fact is notified to the operator of the leakage state of the developer through an electrical signal and at the same time stops the operation of the developer supply system 100. Of course, before the operation of the developer supply system 100 is stopped, the first opening / closing valve 57 is closed to prevent further leakage of the developer.
한편, 이와 같은 불량이 발생한 경우 작업자는 현상액 공급 시스템(100)의 배수 밸브(81, 78, 83)를 점검하고, 열려진 배수 밸브를 닫는 작업을 진행한다. 현상액 검출 탱크(55)에 채워진 현상액은 제 4 배수 밸브(59)를 열어 검출 배수관(58)을 통하여 외부로 배수시킨다. 그리고, 현상액 검출 탱크(55) 내에 있던 현상액이 모두 배수되고 난 이후에 제 4 배수 밸브(59)를 닫고 제 1 개폐용 밸브(57)를 열어 현상액을 다시 공급하여 현상액 공급 시스템(100)을 다시 가동시키게 된다.On the other hand, when such a failure occurs, the operator checks the drain valves (81, 78, 83) of the developer supply system 100, and proceeds to close the open drain valve. The developer filled in the developer detection tank 55 opens the fourth drain valve 59 and is drained to the outside through the detection drain pipe 58. Then, after all of the developer in the developer detection tank 55 has been drained, the fourth drain valve 59 is closed and the first opening / closing valve 57 is opened to supply the developer again to supply the developer supply system 100 again. It is activated.
따라서, 본 발명의 구조를 따르면 현상액 공급 시스템의 오동작 또는 작업자의 실수로 인하여 발생되는 비정상적인 현상액의 누수를 현상액 이상 흐름 검출 시스템으로 감지하여 현상액의 누수를 방지할 수 있다.Therefore, according to the structure of the present invention it is possible to prevent the leakage of the developer by detecting the abnormal leakage of the developer caused by the malfunction of the developer supply system or the operator's mistake by the developer abnormal flow detection system.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 현상액 이상 흐름 검출 시스템을 포함하는 현상액 공급 시스템을 나타내는 도면이다.1 is a view showing a developer supply system including a developer abnormal flow detection system according to an embodiment of the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 설명 *Description of the main parts of the drawing
50 : 현상액 이상 흐름 검출 시스템50: developer abnormal flow detection system
51, 66 : 현상액 검출 센서 55 : 현상액 검출 탱크51, 66: developer detection sensor 55: developer detection tank
57 : 검출 배수부 61 : 현상액 주 공급부57: detection drain 61: developer main supply
63 : 버퍼 탱크 65 : 유량계63: buffer tank 65: flow meter
67 : 온조기 69 : 노즐67: temperature controller 69: nozzle
71, 77 : 여과기 100 : 현상액 공급 시스템71, 77: filter 100: developer supply system
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