KR100506502B1 - 정수 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 저수조 내에 저장된 용수 중의 미생물 살균, 소독, 악취제거 유기물질 분해 등을 위한 정수 처리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 포집된 오존을 저수조 심층까지 이동시킴과 아울러 광촉매를 이용하여 충분한 산화물질을 생성함으로써, 정수효율을 극대화 하고, 설비비와 운전 경비를 절감할 수 있는 정수 처리 장치에 관한 것이다.
본 발명에서는, 저수조의 용수에 잠기는 하부가 개구된 케이싱과; 상기 케이싱의 상단에 결합되며 격벽에 의해 상기 케이싱과 격리되는 부력 조절통과; 상기 케이싱의 내부에 상기 케이싱과 일정 간격을 유지하여 배치되며 하단이 개구된 내통과; 상기 내통의 하단에 설치되어 오존 발생기로부터 공급되는 오존혼합공기를 미세 기포 상태로 상기 내통 내부의 용수중으로 분출하여 부상시키는 디퓨저와; 상기 내통의 내부에 설치되어 자외선을 조사하는 자외선 램프와; 외부의 공기압축기로부터 공급되는 고압의 공기를 토출하여 상기 내통의 상부로 부상되어 체류하는 오존혼합공기를 저수조 아래로 강제분출시키는 복수개의 고압토출기를 포함하는 정수 처리 장치가 제공된다.

Description

정수 처리 장치{Water purifying treatment apparatus}
본 발명은 저수조 내에 저장된 용수 중의 미생물 살균, 소독, 악취제거 유기물질 분해 등을 위한 정수 처리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 포집된 오존을 저수조 심층까지 이동시킴과 아울러 광촉매를 이용하여 충분한 산화물질을 생성함으로써, 정수효율을 극대화 하고, 설비비와 운전 경비를 절감할 수 있는 정수 처리 장치에 관한 것이다.
저수조에 저장된 음용수, 식물재배용수, 가공 처리수 등의 용수는 통상적으로 일정한 정체 상태를 유지하게 됨으로써 바이러스, 세균, 곰팡이 등의 미생물이 번식되고, 정체되지 않더라도 급수로부터 유해 물질이 유입됨으로써 반드시 정수처리과정을 거쳐야만 소정의 목적에 사용할 수 있다.
저수조 내의 용수를 정화하는데 있어서는 주로 오존을 많이 사용하는데, 이 오존은 염소 소독에 비해 약3000배에 달하는 해소포자 및 세균, 바이러스에 대한 강력한 살균작용을 가지고 있으며, 철, 망간, 암모니아, 시안 등의 무기 물질의 산화 제거, 악취 제거, 페놀 및 농약류 등의 유기 물질 제거, 상수도 정수 소독제인 잔류 염소가 원인이 되는 발암 물질인 트리할로메탄까지 제거하는 등 그 효과가 좋다.
이러한 오존을 이용한 종래의 다양한 정수처리 장치중 하나로서는 대한민국 등록실용신안 제0137236호 공보(1998.11.21)에 개시된 수처리 시스템이 있다.
상기 공보에 개시된 수처리 시스템은 저수조의 내부에 오존을 이용하여 저수조 상부의 용수를 정화하기 위한 부유식 정수 장치와, 저수조 바닥부에 체류하는 용수를 정화하기 위한 침몰식(필터식) 정수 장치를 가진다.
상기한 부유식 정수 장치는, 종래의 대부분의 오존을 이용한 처리 장치와 마찬가지로, 오존발생기로부터 발생된 오존혼합공기가 디퓨저를 통해 자외선 조사관이 있는 터널을 통해 부상하면서 정화 작용을 하도록 한 것이다. 이와 같이, 오존과 자외선을 이용한 정수처리 기술을 'AOP법(Advanced Oxidation Process)'이라고 하는데, 이는 오존이 분해하는 과정에서 OH-라디칼 이라고 하는 강력한 살균 및 산화력을 가지는 중간생성물질을 생성하여 수중 오염물질인 유기물 및 독성물질을 산화처리하고, 여기에 자외선을 조사하여 오존의 분해속도를 증가시켜 산화력이 극대화되도록 하는 방법을 말한다.
그러나, 상기한 공보에 개시된 부유식 정수 장치는, 해당 공보의 내용 중에도 기재되어 있는 바와 같이, 수면 부근의 용수는 처리할 수 있으나, 오존혼합공기가 저수조 하부까지는 미치지 못하여 저수조 바닥 부분의 정수가 제대로 이루어지기 어렵다는 단점이 있다.
즉, 상기한 공보에 개시된 부유식 정수 장치를 포함하여 종래의 수면 부상식 또는 반침적식 정수 처리 장치는, 그의 장치 구조상 오존이 분출되는 디퓨저에서 저수조 수면까지의 거리가 약40cm∼1m 이내로 비교적 짧아(길이가 길면 장치가 길어져서 장치 인양시 매우 불편하다) 공급되는 오존이 용수와 접촉하는 거리와 시간이 극히 짧기 때문에 오존의 정화 작용과 용해율이 낮아 오존 이용 효율이 현저히 떨어질 수 밖에 없다는 치명적인 단점을 가지는 것이다.
다시 말해서, 오존 발생기에서 공급되어 디퓨저에서 분출 및 자연부상되는 미세 오존혼합공기가 정수에 충분히 이용되지 못하고 곧바로 기포형태로 대기중으로 분출되어 버림으로써, 오존 공기가 용수중에 전량 용해되지 못할 뿐만 아니라. 광화학 반응에도 이용되지 못해 정화 효율이 미미할 수 밖에 없다.
또한, 사각형태의 저수조에서는 본래 용수의 유동이 적으므로 저수조 하부나, 저수조 하부의 구석진 곳으로는 오존이 미치지 못하기 때문에 정화 작용이 저수조 전체에 걸쳐 균일하게 이루어지기 어렵다. 따라서, 저수조 바닥 부분을 정화하기 위하여는, 상기한 공보에 개시된 바와 같이, 저수조의 바닥부에 침몰식 정수장치를 더 설치하여야 함으로써 설비비와 운전비용이 막대해진다는 단점이 있다.
또한, 상기와 같이 오존이 용수중에 용해되지 못하고 곧바로 대기중으로 분출되어 버리면, 고비용을 들여 만든 오존이 낭비되고, 이와 더불어 저수조 외부로 빠져나가는 오존의 배출 농도가 환경기준과 산업안전보건법에 따른 규정 농도(대한민국의 경우 1시간 평균 0.1ppm) 이상으로 될 염려가 있어, 과용량의 배출 오존 파괴설비가 필수적으로 더 설치되어야 함으로써 오존 발생 장치의 설치비와 운전경비가 막대해진다는 단점이 발생케 된다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제를 해결하기 위하여 개발된 것으로서, 본 발명의 목적은 디퓨저로부터 부상되어 상층에 체류하는 오존 혼합 공기를 다시 저수조의 심층까지 이동시켰다가 심층으로부터 서서히 자연부상되도록 하여 충분한 수중 이동거리와 수중 체류 시간을 제공함으로써, 오존의 정화 효율과 재용해율을 극대화하여 적은 량의 오존으로도 충분한 효과를 얻을 수 있으며, 저수조 바닥이나 구석등 전체에 걸쳐 균일하게 정화처리할 수 있도록 하는데 있다.
상술한 본 발명의 목적은, 저수조에 저장된 용수를 정화 처리하기 위한 정수 처리 장치에 있어서, 저수조의 용수에 잠기는 하부가 개구된 케이싱과; 상기 케이싱의 상단에 결합되며 격벽에 의해 상기 케이싱과 격리되는 부력 조절통과; 상기 케이싱의 내부에 상기 케이싱과 일정 간격을 유지하여 배치되며 하단이 개구된 내통과; 상기 내통의 하단에 설치되어 오존 발생기로부터 공급되는 오존혼합공기를 미세 기포 상태로 상기 내통 내부의 용수중으로 분출하여 부상시키는 디퓨저와; 상기 내통의 내부에 설치되어 자외선을 조사하는 자외선 램프와; 외부의 공기압축기로부터 공급되는 고압의 공기를 토출하여 상기 내통의 상부로 부상되어 체류하는 오존혼합공기를 저수조 아래로 강제분출시키는 복수개의 고압토출기를 포함하는 정수 처리 장치를 제공함으로써 달성된다.
여기서, 상기 고압토출기는 상기 케이싱과 내통 사이에 배치되어 그의 토출구가 저수조 바닥을 향하도록 설치되며, 상기 고압토출기에 인접한 내통에는 상기 내통내부로부터 상기 케이싱과 내통 사이의 공간으로 통하는 유통로를 형성하는 것이 바람직하다.
상기한 본 발명의 정수 처리 장치에 있어서, 상기 오존혼합공기의 부상을 안내하는 내통의 내벽면은 광촉매를 코팅처리하는 것이 바람직하다.
상기 광촉매로서는, 이산화티타늄(TiO2)이 바람직하다.
상기한 본 발명의 정수 처리 장치에 있어서, 상기 내통의 유통로와 상기 고압토출기는 가강 가까운 위치에 일대일 대응되는 개수로 설치되는 것이 바람직하다.
이하, 첨부된 예시도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.
도 1에는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 정수 처리 장치의 구성을 보여주는 반단면도가 도시되어 있고, 도 2에는 도 1의 A-A 단면도가 도시되어 있다.
도 1 및 도 2에 도시된 것과 같이, 본 발명에 따른 정수 처리 장치(2)는, 저수조의 용수에 잠기는 하부가 개구된 케이싱(10)과, 상기 케이싱(10)의 상단에 결합되는 부력 조절통(20)을 포함한다. 상기 부력 조절통(20)은 상기 케이싱(10)과 격벽(30)에 의해 격리되어 있다. 따라서, 상기 케이싱(10) 내부에는 용수가 차있게 되고, 상기 부력 조절통(20)에는 공기가 차있어 상기 부력조절통(20) 부분이 수면위에 떠 있게 된다.
상기한 케이싱(10)의 내부에는 내통(40)이 구비된다. 상기 내통(40)은 상기 케이싱(10)보다 직경이 작아 케이싱(10)의 내벽으로부터 일정한 간격을 유지하여 배치된다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 내통(40)의 상단은 상기 격벽(30)에 용접 등의 방법에 의해 결합되어 있고, 내통(40)의 하단은 개구되어 있어 내통(40)의 내부로도 용수가 차있게 되며, 내통(40)의 하부에는 디퓨저(50)가 설치되어 있다.
상기 디퓨저(50)는 상기 내통(40)의 하면 둘레에 관설된 오존 공급관(51,52)을 통하여 오존 발생기로부터 공급되는 오존혼합공기를 미세 기포 상태로 만들어 상기 내통(40) 내부의 용수중으로 분출하여 부상시킨다.
상기 내통(40)의 내부에는 자외선을 조사하는 자외선 램프(60)가 설치된다. 상기 자외선 램프(60)는 2개이상 복수개가 설치되는 것이 바람직하다. 상기 자외선 램프(60)는 외부가 2중 석영관으로 이루어지며, 도면에 도시된 바와 같이, 정수 처리시스템으로부터 전력공급선(61)을 통해 전기를 공급받는다. 이러한 자외선 램프(60)의 둘레에는 보호 프레임(62)을 설치하는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 내통(40)의 내벽면은 광촉매 코팅처리를 하는 것이 바람직하다. 상기 광촉매로서는 이산화티타늄(TiO2), 삼산화텅스텐(WO3), 산화아연(ZnO), 탄화규소(SiC), 황화카드뮴(CdS), 갈륨비소(GaAs)등이 사용될 수 있으며, 가장 바람직하기로는 이산화티타늄(TiO2)을 사용하는 것이다.
이러한 광촉매 코팅층은 상기 자외선 램프(60)로부터 조사되는 자외선이 가해지면 전자가 가전자대에서 전자대로 여기된다. 이때 전도대에는 전자(e-)들이 형성되고 가전자대에는 정공(h+)이 형성되고 이렇게 형성된 전자와 정공은 강력한 산화 또는 환원작용에 의해 상기 오존살균수내에 용존된 고농도의 오존을 슈퍼옥사이드음이온(O2-)의 활성산소로 생산하여 더욱 강력한 산화수로 활성화시킴으로써, 각종 유기물, 용존오염물질 및 악취 등을 쉽게 산화처리하는 역할을 한다.
특히, 본 발명에 있어서는, 오존혼합공기를 저수조 아래로 강제분출시키는 복수개의 고압토출기(70, 제트믹서, 이젝터, 또는 노즐)를 포함한다. 상기 고압토출기(70)는 외부의 공기압축기로부터 공급되는 고압의 공기를 저수조 바닥을 향하여 토출함으로써 상기 내통(40)의 상부로 부상되어 체류하는 오존혼합공기를 저수조 아래로 강제분출시킴으로써, 오존혼합공기가 저수조 아래, 그리고 저수조 바닥까지 골고루 분산되도록 하여 정화효율을 극대화하는 역할을 한다. 상기 고압토출기(70)는 공기공급관(71)에 의해 정수 처리 시스템의 공기압축기로부터 압축공기를 공급받는다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 고압토출기(70)는 상기 케이싱(10)과 내통(40) 사이에 배치되어 그의 토출구가 저수조 바닥을 향하도록 설치된다. 그리고, 상기 고압토출기(70)에 인접한 상기 내통(40)에는 상기 내통(40)내부로부터 상기 케이싱(10)과 내통(40) 사이의 공간으로 연통하는 유통로(41)가 형성된다. 따라서, 상기 고압토출기(70)로부터 고압의 공기가 저수조 바닥을 향하여 토출되면, 토출되는 고압의 공기에 의해 상기 케이싱(10)과 내통(40) 사이의 공간에 있는 용수가 저수조 바닥을 향하여 이동하게 됨에 따라 부압(負壓)이 발생하고, 그에 따라 상기 내통(40) 상부에는 체류하고 있는 오존혼합공기는 용수와 함께 유통로(41)를 통해 흡인되어 고압토출기(70)에서 토출되는 공기와 함께 저수조 바닥으로 세차게 뿜어져 내려가게 된다.
본 실시예에서, 상기 고압토출기(70)는 4개소에 설치되어 있으나, 그의 설치 개수에 대해서는 특별한 한정이 없다. 그리고 상기 유통로(41)는 상기 고압토출기(70)에 가장 가까운 위치에 설치되는 것이 바람직하며, 하나의 고압토출기(70)마다 하나의 유통로(41)를 형성하는 것이 바람직하다.
그리고, 상기 정수 처리 장치의 상단에는 인양용 고리(21)가 설치되어 있어, 여기에 로프나 체인 또는 와이어를 걸어 운반 및 설치에 이용할 수 있다.
첨부도면 도 3은 본 발명에 따른 정수 처리 장치가 용수 저장조에 실제적으로 설치된 상태를 설명하기 위한 수처리 시스템을 보여주는 도면이다. 도 1 및 도 2를 병행참조한다.
도 3에 도시된 것과 같이, 정수 처리 장치는 저수조(100)의 중간에 반침지상태로 직립하여 설치된다. 상기 저수조(100)는 용수가 공급되는 용수입구(101)와 용수가 배출되는 용수출구(102)를 가지며, 상부에는 맨홀(103)을 가진다.
상기 정수 처리 장치의 인양용 고리(21)에는 체인(80) 또는 와이어나 로프가 설치되어 상기 맨홀(100) 외부로 노출되도록 되어 있다.
그리고, 상기 디퓨저(50)에 오존을 공급하기 위한 오존발생기(90)가 설치되어 있고, 상기 고압토출기(70)에 압축공기를 공급하기 위한 공기압축기(CP)가 설치되어 있다.
이와 같은 본 발명에서, 상기 오존 발생기(90)로부터 상기 내통(40) 하단의 디퓨저(50)에 오존혼합공기가 공급되면, 디퓨저(50)에서는 오존혼합공기를 용수중으로 미세기포상태로 토출시키게 되고, 토출된 미세 오존공기는 내통(40)의 내부를 따라 서서히 부상하면서, 앞서 설명한 그 고유의 기능에 의해 정화작용을 시작한다.
이때, 자외선 램프(60)에서는 자외선이 조사되고, 조사된 자외선에 의해 각종 미생물 등이 직접 살균된다. 또한, 자외선은 부상하는 오존에 조사되어 오존의 분해속도를 증가시킨다. 상기 오존이 분해하는 과정에서는 수산화 라디칼(OH radical)이라는 강력한 산화력을 지닌 중간생성물을 생성시켜 용수중의 바이러스, 세균, 곰팡이 등의 미생물 살균과 염소성분 및 유기물 등의 유해 오염물질을 산화분해제거하게 된다.
이와 같은 작용을 가지는 오존혼합공기는 상기 내통(40) 내부에서 부상하여 내통의 상단인 격벽(30) 부근에 체류하게 된다.
상기한 상태에서, 상기 고압토출기(70)로부터 고압의 공기가 토출되면, 상기 내통(40)의 상부 체류 공간에 있는 오존혼합공기가 용수와 함께 상기 내통(40)의 유통공(41)을 통하여 내통(40)과 외통이 이루는 공간으로 흡인되고, 그에 따라 상기 고압토출기(70)에서 토출되는 고압의 공기에 의해 미세 기포로 만들어지면서 저수조(100) 바닥부까지 세차게 분출된다.
저수조(100) 바닥부분으로 분출된 오존혼합공기 기포들은 저수조(100)의 심층까지 내려가서 저수조(100) 바닥으로부터 서서히 자연부상되고, 이러한 유동에 의해 저수조(100) 구석부분에는 소용돌이 등의 용수 유동이 유도됨으로써, 오존혼합공기는 자연적으로 저수조(100)의 전체에 걸쳐 골고루 분산되어 저수조(100) 전체에 걸쳐 균일한 정화 작용을 하게 됨과 아울러, 충분한 수중 이동 거리와 충분한 수중 체류시간을 제공하여 오존의 용수용해율(재용해율)을 향상시켜 오존 이용율이 현저히 증가되게 된다.
또한, 앞서 설명한 바와 같이, 오존 혼합공기가 디퓨저(50)로부터 미세 기포로 만들어져 부상할 때에는, 상기 자외선 램프(60)로부터 조사되는 자외선에 노출되어 오존의 분해 속도가 증가되고, 분해 과정에서 수산화 라디칼이라는 강력한 산화력을 지닌 중간 생성물을 생성시켜 오염물질을 산화분해제거한다.
그러면서도 본 발명에 의하면, 상기 오존혼합공기의 부상을 안내하는 상기 내통(40)의 내벽면에 이산화티타늄 광촉매가 코팅되어 있다. 상기 이산화티타늄 광촉매는 가전자대(Valence Band)와 전도대(Conduction Band)를 가지고 있고, 상기 자와선 램프(60)로부터 400nm이하의 파장의 자외선이 가해지면 전자가 가전자대로 여기된다.
이때 전도대에는 전자(e-)들이 형성되고 가전자대에는 정공(h+)이 형성되는데, 이렇게 형성된 전자와 정공은 강력한 산화 또는 환원작용에 의해 상기 오존살균수 내에 용존된 고농도의 오존을 슈퍼옥사이드 음이온(O2-)의 활성산소로 생산하여 더욱 강력한 산화수로 활성화시켜 용수중의 각종 유기물, 용존 오염 물질 및 악취 등을 제거하게 된다. 특히 정공은 물과 용존산소 등과 반응하여 OH 라디칼과 활성산소를 발생시켜 더욱 더 강력한 산화수로 활성화시켜, 오존 보다도 수십배에서 수천배 이상의 강력한 산화력을 지니게 된다. OH 라디칼 에너지는 유기물을 구성하는 분자중에서 C-C 결합, C-N 결합, C-H 결합, O-H 결합, N-H 결합 등의 결합에너지 보다 높아 상기 결합고리를 쉽게 절단하기 때문에 용해성 유해물질 및 유기물, 악취물질, 색도 등을 분해 및 제거하게 되는 것이다.
이상 살펴본 바와 같이, 본 발명은 수면으로 방출되는 오존혼합공기가 일정시간 체류할수 있는 공간이 장치내부에 확보되고, 외부에 설치된 공기압축기에서 공급되는 고압공기의 강한 토출압을 원동력으로 하는 고압토출기(70)가 부상오존 체류 공간의 오존혼합공기를 흡인하여 저수조 바닥 방향으로 세차게 토출시킴으로써, 오존혼합공기를 미세기포로 만들고, 만들어진 미세입자를 저수조(2)의 심층부까지 이동시켰다가 심층부로부터 서서히 자연부상되도록 함으로써, 충분한 수중이동거리와 체류시간을 제공하게 되고, 오존의 재용해율이 현저히 높아져 오존의 이용율이 배가되므로 적은량의 오존으로 충분한 효과를 얻을 수 있다. 나아가서는, 광촉매를 적용하여 오존을 더욱 활성화시켜 더욱 더 강력한 정화 효율을 얻을 수 있다.
즉, OH 라디칼(산화물질) 발생정도라는 측면에서, 종래의 장치는 수면부유식이므로 오존발생 디퓨저와 수면과의 거리가 가깝고 오존부상시간도 짧으며 광촉매가 없으므로 상대적으로 산화물질의 발생이 적다.
그러나, 본 발명에 의하면, 장치가 반침지식이므로 오존발생디퓨저와 수면과의 거리만큼 자외선램프도 길어지므로 오존의 부상체류시간이 충분하고 광촉매 존재하에서 신속하고 충분한 산화물질이 발생된다.
또한, 용수내 오존 분출이라는 측면에서, 종래에는 디퓨저에서 발생된 오존혼합공기는 수면으로 자연부상되면서 상호간 충돌과 결합으로 점차 커다란 기포로 바뀌고 곧바로 짧은 용수층을 이동하여 대기중으로 곧바로 배출되는 구조를 가지므로 오존의 이용율 및 흡수율이 낮다(기포가 커질수록 비표면적은 작아져서 오존의 용수용해율이 낮아지고 이동거리마저 짧으므로 흡수율이 저조하다).
그러나, 본 발명에 의하면, 디퓨저에서 발생된 미세 오존혼합공기는 수면으로 부상하면서 광촉매와 자와선 반응기의 광화학 반응을 거치면서 충분한 OH 라디칼과 활성산소 등을 생성하고, 이들은 상호간 충돌과 결합으로 커다란 기포로 바뀌고 장치의 상부로 이동하여 오존 포집 공간에 모이게 되면, 장치 상단부에 장착된 여러개의 고압토출기의 강한 토출압에 기인한 강한 흡인력이 오존포집공간에 발생되어 포집된 오존은 토출공기의 힘에 의해 흡인되어 미세 기포상태로 다시 분할되어 저수조 심층부까지 이동되고, 이후 서서히 자연부상하면서 오존 및 활성산소를 재용해함으로써 최소한의 오존발생으로 최대의 오존 이용율을 얻을 수 있게 된다.
또한, 저수조의 용수 혼합이라는 측면에서, 종래에는 디퓨저에서 공급된 오존혼합공기는 토출후 곧바로 부상되어 대기중으로 배출되므로 저수조 용수의 혼합,교반력이 약하여 저수조의 구석부분 등에 오존이 미치지 못하는 사영역이 발생하여 완전한 정수가 어렵다.
그러나, 본 발명에 의하면, 고압토출기에 의해 강력한 토출력으로 미세기포를 용수 심층부까지 이동시키므로 저수조내의 용수가 자연스럽게 순환이동하고 용해된 오존과 OH 라디칼을 구석구석 전달하게 되므로 완전한 정수처리가 가능한 것이다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 정수 처리 장치의 구성을 보여주는 반단면도이다.
도 2는 도 1의 A-A 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 정수 처리 장치를 용수 저수조에 설치한 바람직한 수처리 시스템을 보여주는 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 외통 20 : 부력 조절통
30 : 격벽 40 : 내통
41 : 유통공 50 : 디퓨저
60 : 자외선 램프 70 : 고압토출기

Claims (5)

  1. 저수조에 저장된 용수를 정화 처리하기 위한 정수 처리 장치에 있어서,
    저수조의 용수에 잠기는 하부가 개구된 케이싱과;
    상기 케이싱의 상단에 결합되며 격벽에 의해 상기 케이싱과 격리되는 부력 조절통과;
    상기 케이싱의 내부에 상기 케이싱과 일정 간격을 유지하여 배치되며 하단이 개구된 내통과;
    상기 내통의 하단에 설치되어 오존 발생기로부터 공급되는 오존혼합공기를 미세 기포 상태로 상기 내통 내부의 용수중으로 분출하여 부상시키는 디퓨저와;
    상기 내통의 내부에 설치되어 자외선을 조사하는 자외선 램프와;
    외부의 공기압축기로부터 공급되는 고압의 공기를 토출하여 상기 내통의 상부로 부상되어 체류하는 오존혼합공기를 저수조 아래로 강제분출시키는 복수개의 고압토출기를 포함하는 것을 특징으로 하는 정수 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 고압토출기는 상기 케이싱과 내통 사이에 배치되어 그의 토출구가 저수조 바닥을 향하도록 설치되며, 상기 고압토출기에 인접한 내통에는 상기 내통내부로부터 상기 케이싱과 내통 사이의 공간으로 통하는 유통로가 형성되는 것을 특징으로 하는 정수 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 내통의 유통로와 상기 고압토출기는 가강 가까운 위치에 일대일 대응되는 개수로 설치되는 것을 특징으로 하는 정수 처리 장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 오존혼합공기의 부상을 안내하는 내통의 내벽면은 광촉매가 코팅처리된 것을 특징으로 하는 정수 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 광촉매는 이산화티타늄(TiO2)인 것을 특징으로 하는 정수 처리 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100597072B1 (ko) * 2006-04-13 2006-07-04 주식회사 건화엔지니어링 자외선과 미세기포를 이용한 유브이하수 소독 시스템
KR200449869Y1 (ko) * 2010-04-12 2010-08-16 주식회사두합크린텍 고도산화공정을 이용한 부유식 물정화장치
KR101388159B1 (ko) 2013-09-09 2014-04-23 녹스 코리아(주) 조류유래 악취독소 저감장치

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100597072B1 (ko) * 2006-04-13 2006-07-04 주식회사 건화엔지니어링 자외선과 미세기포를 이용한 유브이하수 소독 시스템
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