KR100503265B1 - Ｃｍｐ 장비의 언로드 스테이션 - Google Patents

Ｃｍｐ 장비의 언로드 스테이션 Download PDF

Info

Publication number
KR100503265B1
KR100503265B1 KR10-2003-0028569A KR20030028569A KR100503265B1 KR 100503265 B1 KR100503265 B1 KR 100503265B1 KR 20030028569 A KR20030028569 A KR 20030028569A KR 100503265 B1 KR100503265 B1 KR 100503265B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
cassette
wafer cassette
motor
guide
Prior art date
Application number
KR10-2003-0028569A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20040094983A (ko
Inventor
정제덕
Original Assignee
동부아남반도체 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동부아남반도체 주식회사 filed Critical 동부아남반도체 주식회사
Priority to KR10-2003-0028569A priority Critical patent/KR100503265B1/ko
Publication of KR20040094983A publication Critical patent/KR20040094983A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100503265B1 publication Critical patent/KR100503265B1/ko

Links

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23N—MACHINES OR APPARATUS FOR TREATING HARVESTED FRUIT, VEGETABLES OR FLOWER BULBS IN BULK, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; PEELING VEGETABLES OR FRUIT IN BULK; APPARATUS FOR PREPARING ANIMAL FEEDING- STUFFS
    • A23N12/00—Machines for cleaning, blanching, drying or roasting fruits or vegetables, e.g. coffee, cocoa, nuts
    • A23N12/02—Machines for cleaning, blanching, drying or roasting fruits or vegetables, e.g. coffee, cocoa, nuts for washing or blanching
    • A23N12/023—Machines for cleaning, blanching, drying or roasting fruits or vegetables, e.g. coffee, cocoa, nuts for washing or blanching for washing potatoes, apples or similarly shaped vegetables or fruit
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/025—Ultrasonics
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/08—Radiation

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 CMP 장비의 언로드 스테이션에 관한 것으로서, 승강판(120)에서 웨이퍼카세트(1)의 웨이퍼출입구(1a)에 인접함과 아울러 웨이퍼(W)의 이송방향에 직교하는 방향으로 형성되는 가이드홀(150)과; 가이드홀(150)의 양측에 상측으로 돌출되도록 각각 삽입되는 한 쌍의 웨이퍼지지로드(160)와; 기어(171)가 형성된 면이 서로 마주보면서 나란하게 위치하도록 웨이퍼지지로드(160) 각각의 하단에 수평되게 형성되는 한 쌍의 래크(170)와; 래크(170)사이에 기어결합되는 피니언(181)이 회전축(182)에 결합되는 모터(180)와; 래크(170)의 수평이동을 가이드함과 아울러 모터(180)를 고정시키도록 내측에 래크(170) 및 모터(180)가 장착되어 승강판(120)의 하측에 결합되는 하우징(190)과; 웨이퍼카세트(1)에 웨이퍼(W)가 장착시 웨이퍼지지로드(160)가 웨이퍼(W)를 통과시킬 수 있는 간격을 유지하도록 함과 아울러 웨이퍼카세트(1)에 정해진 개수의 웨이퍼(W) 장착이 완료되면 웨이퍼지지로드(160)가 웨이퍼카세트(1)의 웨이퍼출입구(1a) 중심을 향해 이동하여 서로 인접하여 위치하도록 모터(180)를 제어하는 제어부(200)를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명은, 승강판의 상측면에 안착된 웨이퍼카세트로부터 미끄러져 돌출된 웨이퍼를 정상위치로 푸싱함과 아울러 웨이퍼카세트로부터 웨이퍼가 미끄러져 돌출되지 않도록 하여 웨이퍼가 파손되는 것을 방지하는 효과를 가지고 있다.

Description

ＣＭＰ 장비의 언로드 스테이션{UNLOAD STATION OF A CHEMICAL-MECHANICAL POLISHER}
본 발명은 CMP 장비의 언로드 스테이션에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼카세트에 정해진 개수의 웨이퍼가 장착되면 웨이퍼카세트로부터 미끄러져 돌출된 웨이퍼를 정상위치로 푸싱함과 아울러 웨이퍼카세트로부터 웨이퍼가 미끄러져 돌출되지 않도록 하는 CMP 장비의 언로드 스테이션에 관한 것이다.
최근에는 웨이퍼가 대구경화됨에 따라 웨이퍼의 넓어진 면을 평탄화하기 위해서 화학적인 제거가공과 기계적인 제거가공을 하나의 가공방법으로 혼합한 화학적 기계적 연마(Chemical-Mechanical Polishing; 이하 "CMP"라 함) 공정이 널리 이용되고 있다.
CMP 공정이란 단차를 가진 웨이퍼 표면을 폴리싱 패드 위에 밀착시킨 후 연마제와 화학물질이 포함된 슬러리(slurry)를 웨이퍼와 폴리싱 패드 사이에 주입시켜 웨이퍼의 표면을 평탄화시키는 방식이다.
CMP 공정을 실시하는 장비에는 폴리싱을 마친 웨이퍼를 후속공정을 위해 운반되도록 웨이퍼카세트에 장착시키는 언로드 스테이션(unload station)이 구비된다.
종래의 CMP 장비의 언로드 스테이션을 첨부된 도면을 이용하여 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래의 CMP 장비의 언로드 스테이션을 도시한 사시도이다. 도시된 바와 같이, 종래의 CMP 장비의 언로드 스테이션(10)은 폴리싱을 마친 웨이퍼의 폴리싱 정도를 측정하는 노바 스테이션(nova station: 20)의 검사면(21) 일측에 개구(11)가 형성되고, 개구(11)의 하측에 승강구동수단(미도시)에 의해 수직이동하는 승강판(12)이 설치되며, 노바 스테이션(20)의 검사면(21)으로부터 개구(11)측으로 이동하는 웨이퍼를 감지하는 웨이퍼감지부(13)가 검사면(21)에 설치된다.
노바 스테이션(20)의 검사면(21)중 개구(11)의 반대측에는 검사면(21)에 놓여진 웨이퍼(W)를 개구(11)로 이동하도록 초순수를 분사하는 복수의 초순수분사노즐(30)이 설치된다.
이와 같은 종래의 CMP 장비의 언로드 스테이션(10)은 승강판(12)의 상측면에 웨이퍼가 장착되지 않은 웨이퍼카세트(1)를 안착시키면 폴리싱을 마치고 검사면(21)에 놓여진 웨이퍼의 폴리싱 정도를 노바 스테이션(20)에 의해 측정한 후 측정을 마친 웨이퍼는 초순수분사노즐(30)로부터 분사되는 초순수에 의해 개구(11)측으로 이동하여 웨이퍼카세트(1)의 최하단의 슬롯으로 삽입 장착된다.
이 때, 웨이퍼가 웨이퍼감지부(13)를 통과하게 되어 웨이퍼감지부(13)가 웨이퍼카세트(1)의 슬롯에 웨이퍼가 장착됨을 감지함으로써 승강구동수단(미도시)은 웨이퍼카세트(1)에서 웨이퍼가 장착된 슬롯의 바로 위에 위치하는 슬롯과 노바 스테이션(20)의 검사면(21)이 수평을 유지하도록 승강판(12)을 하강시킨다.
상기한 바와 같은 동작을 반복 수행함으로써 웨이퍼카세트(1)의 슬롯마다 정해진 개수의 웨이퍼가 모두 장착되면, 작업자가 폴리싱을 마친 웨이퍼가 장착된 웨이퍼카세트(1)를 후속공정을 위해 이동시킬 수 있도록 승강구동수단(미도시)이 승강판(12)을 상승시켜 웨이퍼카세트(1)가 개구(11) 상측으로 돌출되도록 한다.
그러나, 이러한 종래의 CMP 장비의 언로드 스테이션(10)은 폴리싱을 마친 웨이퍼가 장착된 웨이퍼카세트(1)가 승강판(12)과 함께 하강 및 상승시 승강판(12)의 이동에 따른 진동 등에 의해 웨이퍼가 웨이퍼카세트(1)의 슬롯으로부터 미끄러져 돌출됨으로써 돌출된 웨이퍼가 노바 스테이션(20)의 검사면(21)의 끝단과 충돌하여 파손되는 문제점을 가지고 있었다.
특히, 웨이퍼카세트(1)에 웨이퍼가 삽입되도록 웨이퍼분사노즐(30)에 의해 분사되는 초순수는 웨이퍼카세트(1)의 슬롯으로부터 웨이퍼가 미끄러져서 돌출되는 것을 가중시킴으로써 상기한 문제점을 해결할 필요성이 더욱 중요하게 되었다.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 웨이퍼카세트에 정해진 개수의 웨이퍼가 장착되면 승강판의 수직이동으로 인해 승강판의 상측면에 안착된 웨이퍼카세트로부터 미끄러져 돌출된 웨이퍼를 정상위치로 푸싱함과 아울러 웨이퍼카세트로부터 웨이퍼가 미끄러져 돌출되지 않도록 함으로써 웨이퍼의 파손을 방지하여 웨이퍼의 수율을 향상시키는 CMP 장비의 언로드 스테이션을 제공하는데 있다.
이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은, 웨이퍼카세트가 상측면에 안착된 승강판을 승강구동수단에 의해 수직이동시켜서 폴리싱을 마친 웨이퍼를 웨이퍼카세트의 슬롯마다 순차적으로 장착되도록 하는 CMP 장비의 언로드 스테이션에 있어서, 승강판에서 웨이퍼카세트의 웨이퍼출입구에 인접함과 아울러 웨이퍼의 이송방향에 직교하는 방향으로 형성되는 가이드홀과; 가이드홀의 양측에 상측으로 돌출되도록 각각 삽입되는 한 쌍의 웨이퍼지지로드와; 기어가 형성된 면이 서로 마주보면서 나란하게 위치하도록 웨이퍼지지로드 각각의 하단에 수평되게 형성되는 한 쌍의 래크와; 래크사이에 기어결합되는 피니언이 회전축에 결합되는 모터와; 래크의 수평이동을 가이드함과 아울러 모터를 고정시키도록 내측에 래크 및 모터가 장착되어 승강판의 하측에 결합되는 하우징과; 웨이퍼카세트에 웨이퍼가 장착시 웨이퍼지지로드가 웨이퍼를 통과시킬 수 있는 간격을 유지하도록 함과 아울러 웨이퍼카세트에 정해진 개수의 웨이퍼 장착이 완료되면 웨이퍼지지로드가 웨이퍼카세트의 웨이퍼출입구 중심을 향해 이동하여 서로 인접하여 위치하도록 모터를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 더욱 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션을 도시한 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션의 요부를 도시한 분해사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션의 제어를 위한 구성도이고, 도 5는 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션의 요부의 작동상태를 도시한 평면도로서, 도 5a는 웨이퍼카세트에 웨이퍼를 장착시, 도 5b는 웨이퍼카세트에 웨이퍼의 장착 완료후 웨이퍼카세트로부터 돌출된 웨이퍼를 푸싱시를 각각 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션을 도시한 평면도이다.
도시된 바와 같이 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션은 노바 스테이션(nova station;20)의 검사면(21) 일측에 형성되는 개구(110)와, 개구(110)의 하측에 수직이동가능하게 설치되는 승강판(120)과, 승강판(120)을 수직이동시키는 승강구동수단(130)과, 노바 스테이션(20)의 검사면(21)상에 설치되어 통과하는 웨이퍼를 감지하는 웨이퍼감지부(140)와, 승강판(120)에 형성되는 가이드홀(150)과, 가이드홀(150)에 양측에 삽입되는 한 쌍의 웨이퍼지지로드(160)와, 웨이퍼지지로드(160) 각각의 하단에 형성되는 한 쌍의 래크(170)와, 래크(170)사이에 나사결합되는 피니언(181)이 회전축(182)에 결합되는 모터(180)와, 래크(170)를 가이드함과 아울러 모터(180)를 고정시키는 하우징(190)과, 모터(180)를 제어하는 제어부(200)를 포함한다.
개구(110)는 폴리싱을 마친 웨이퍼(W)의 폴리싱 정도를 측정하는 노바 스테이션(nova station: 20)의 검사면(21) 일측에 형성된다.
승강판(120)은 승강구동수단(130)에 의해 수직방향으로 왕복이동하도록 개구(110)의 하측에 설치되며, 일측에 가이드홀(150)이 형성된다.
승강구동수단(130)은 승강판(120)에 기계적으로 연결되며, 모터와, 모터에 의해 회전하는 리드스크루와, 리드스크루에 나사결합되는 볼너트로 이루어질 수 있으며, 이 밖에도 모터의 회전력을 수직이동으로 변환시키거나 공압 또는 유압에 의해 구동하는 실린더 등 다양한 구성을 가질 수 있다.
웨이퍼감지부(140)는 노바 스테이션(20)의 검사면(21)중 개구(110)의 반대측에 설치된 복수의 초순수분사노즐(30)로부터 분사되는 초순수에 의해 검사면(21)에 놓여져 개구(110)측으로 이동하는 웨이퍼(W)를 감지하여 웨이퍼 감지신호를 제어부(200)로 출력하며, 상방향으로 일정 파장의 빛을 출력하여 웨이퍼(W)로부터 반사되는 빛을 수신받음으로써 웨이퍼를 감지한다.
가이드홀(150)은 승강판(120)에서 웨이퍼카세트(1)의 웨이퍼출입구(1a)에 인접함과 아울러 웨이퍼(W)의 이송방향에 직교하는 방향으로 형성된다.
가이드홀(150)은 양측에 상방으로 돌출되도록 한 쌍의 웨이퍼지지로드(160)가 각각 삽입되며, 웨이퍼지지로드(160)가 최대 간격을 유지한 상태에서 이들 사이로 웨이퍼(W)가 통과할 수 있을 정도의 길이로 형성된다.
웨이퍼지지로드(160)는 상하 길이가 적어도 웨이퍼카세트(1)의 높이 정도여야 하며, 가이드홀(150)을 따라 인접하도록 수평방향으로 이동함으로써 웨이퍼카세트(1)로부터 돌출된 웨이퍼(W)의 가장자리를 푸싱하여 정상위치에 놓이도록 함과 아울러 웨이퍼카세트(1)로부터 웨이퍼(W)가 미끄러져 돌출되지 않도록 한다.
래크(170)는 기어(171)가 형성된 면이 서로 마주보면서 나란하게 위치하도록 웨이퍼지지로드(160) 각각의 하단에 수평되게 형성되며, 기어(171)가 형성된 면사이에는 모터(180)의 회전축(182)에 결합된 피니언(181)이 기어결합된다.
모터(180)는 구동함으로써 래크(170) 각각을 서로 반대방향으로 수평이동시킴으로써 웨이퍼지지로드(160)의 간격을 조절한다.
하우징(190)은 래크(170)의 수평이동을 가이드함과 아울러 모터(180)를 고정시키도록 내측에 래크(170) 및 모터(180)가 장착되어 승강판(120)의 하측에 결합된다.
하우징(190)은 내부 양측면 및 바닥면에 의해 래크(170)의 수평이동을 가이드하면서 래크(170)를 승강판(120)의 하측에 설치되도록 하며, 중심부에 모터(180)가 장착되어 고정되는 장착공간(191)이 형성된다.
하우징(190)의 내부 양측면에 래크(170)의 수평이동을 제한하는 스톱퍼(192)가 각각 형성되며, 양측에 볼트(B)에 의해 승강판(120)의 하측에 고정되도록 복수의 결합편(193)이 각각 형성된다.
래크(170) 각각은 하단에 하방으로 가이드돌기(172)가 각각 형성되며, 하우징(190)은 래크(170)와 함께 수평이동하는 가이드돌기(172)의 이동을 가이드하도록 바닥면에 가이드돌기(172)가 삽입되는 한 쌍의 가이드홈(194)이 형성됨이 바람직하다.
제어부(200)는 웨이퍼감지부(140)로부터 출력되는 웨이퍼 감지신호를 수신받으며, 승강구동수단(130) 및 모터(180)를 제어한다.
제어부(200)는 웨이퍼카세트(1)에 웨이퍼(W)가 장착시 웨이퍼지지로드(160)가 웨이퍼(W)를 통과시킬 수 있는 간격을 유지하도록 함과 아울러 웨이퍼카세트(1)에 정해진 개수의 웨이퍼(W) 장착이 완료되면 웨이퍼지지로드(160)가 웨이퍼카세트(1)의 웨이퍼출입구(1a) 중간에 서로 인접하여 위치하도록 모터(180)를 제어한다.
제어부(200)가 웨이퍼카세트(1)에 정해진 개수의 웨이퍼(W) 장착이 완료되었는지 여부를 인식하기 위하여 별도의 감지센서를 부착할 수도 있으나 바람직하게는 웨이퍼감지부(140)로부터 출력되는 웨이퍼 감지신호를 카운트하여 정해진 개수에 해당하는 웨이퍼 감지신호를 수신시 웨이퍼카세트(1)에 웨이퍼(W)의 장착완료를 인식한다.
제어부(200)가 모터(180)를 제어하여 웨이퍼지지로드(160)가 웨이퍼카세트(1)의 웨이퍼출입구(1a) 중간에 서로 인접하여 위치하도록 함으로써 웨이퍼지지로드(160)는 웨이퍼카세트(1)로부터 미끄러져 돌출된 웨이퍼(W)의 가장자리를 가압하여 웨이퍼(W)를 웨이퍼카세트(1)의 정상위치로 푸싱하며, 웨이퍼카세트(1)로부터 웨이퍼(W)가 돌출되는 것을 차단시킨다.
이와 같은 구조로 이루어진 CMP 장비의 언로드 스테이션의 동작은 다음과 같이 이루어진다.
가이드홀(150)의 양단에 웨이퍼지지로드(160)가 각각 위치하는 승강판(120)의 상측면에 웨이퍼(W)가 장착되지 않은 웨이퍼카세트(1)를 안착시키면 폴리싱을 마치고 노바 스테이션(20)의 검사면(21)에 놓여진 웨이퍼(W)의 폴리싱 정도를 노바 스테이션(20)에 의해 측정한 후 측정을 마친 웨이퍼(W)는 초순수분사노즐(30)로부터 분사되는 초순수에 의해 개구(110)측으로 이동하여 웨이퍼지지로드(160)사이를 통과하여 웨이퍼카세트(1)의 최하단의 슬롯으로 삽입 장착된다.
이 때, 웨이퍼(W)가 웨이퍼감지부(140)를 통과하게 됨으로써 웨이퍼감지부(140)로부터 출력된 웨이퍼 감지신호를 제어부(200)가 수신받아 승강구동수단(130)을 제어하여 웨이퍼카세트(1)에서 웨이퍼(W)가 장착된 슬롯의 바로 위에 위치하는 슬롯과 노바 스테이션(20)의 검사면(21)이 수평을 유지하도록 승강판(120)을 하강시킨다.
상기한 바와 같은 동작을 반복 수행함으로써 웨이퍼카세트(1)에 정해진 개수의 웨이퍼(W)를 장착시킨다.
제어부(200)는 웨이퍼감지부(140)로부터 출력되는 웨이퍼 감지신호를 카운트하여 웨이퍼 감지신호의 카운트값이 웨이퍼카세트(1)에 장착되고자 하는 웨이퍼(W)의 개수에 해당하게 되면 웨이퍼카세트(1)에 웨이퍼(W)가 모두 장착됨을 인식하여 모터(180)를 구동시켜 도 5b에서 나타낸 바와 같이, 래크(180)를 수평방향으로 이동시킴으로써 웨이퍼지지로드(160)가 웨이퍼카세트(1)의 웨이퍼출입구(1a) 중간에 서로 인접하여 위치하도록 이동시킨다.
웨이퍼지지로드(160)가 웨이퍼카세트(1)의 웨이퍼출입구(1a) 중간에 서로 인접하여 위치하도록 이동함으로써 도 6에서 나타낸 바와 같이, 웨이퍼카세트(1)로부터 미끄러져 돌출된 웨이퍼(W)의 가장자리를 가압하여 웨이퍼(W)를 웨이퍼카세트(1)의 정상위치로 푸싱하며, 웨이퍼카세트(1)로부터 웨이퍼(W)가 돌출되는 것을 차단시킨다.
래크(170)가 수평이동시 가이드돌기(172)가 하우징(190)의 가이드홈(194)을 따라 수평이동함으로써 래크(170)가 안정적으로 하우징(190)내를 수평이동한다.
제어부(200)는 웨이퍼지지로드(160)가 웨이퍼카세트(1)의 웨이퍼출입구(1a) 중간에 위치된 상태로 승강구동수단(130)을 제어하여 작업자가 폴리싱을 마친 웨이퍼가 장착된 웨이퍼카세트(1)를 후속공정을 위해 이동시킬 수 있도록 승강판(120)을 상승시켜 웨이퍼카세트(1)가 개구(110)의 상측으로 돌출되도록 한다.
제어부(200)는 웨이퍼카세트(1)가 개구의 상측으로 돌출되면 모터(180)를 제어하여 도 5a에서 나타낸 바와 같이 래크(170)를 수평이동시킴으로써 웨이퍼지지로드(160)가 가이드홀(150)의 양단에 위치하도록 하여 승강판(120)에 새로이 안착되는 웨이퍼카세트(1)로 폴리싱을 마친 웨이퍼(W)가 통과할 수 있도록 한다.
이상과 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 웨이퍼카세트에 정해진 개수의 웨이퍼가 장착되면 승강판의 수직이동으로 인해 승강판의 진동 등이나 초순수로 인해 승강판의 상측면에 안착된 웨이퍼카세트로부터 미끄러져 돌출된 웨이퍼를 정상위치로 푸싱함과 아울러 웨이퍼카세트로부터 웨이퍼가 미끄러져 돌출되지 않도록 함으로써 웨이퍼의 파손을 방지한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션은 웨이퍼카세트에 정해진 개수의 웨이퍼가 장착되면 승강판의 수직이동으로 인해 승강판의 상측면에 안착된 웨이퍼카세트로부터 미끄러져 돌출된 웨이퍼를 정상위치로 푸싱함과 아울러 웨이퍼카세트로부터 웨이퍼가 미끄러져 돌출되지 않도록 함으로써 웨이퍼의 파손을 방지하여 웨이퍼의 수율을 향상시키는 효과를 가지고 있다.
이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션을 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.
도 1은 종래의 CMP 장비의 언로드 스테이션을 도시한 사시도이고,
도 2는 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션을 도시한 사시도이고,
도 3은 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션의 요부를 도시한 분해사시도이고,
도 4는 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션의 제어를 위한 구성도이고,
도 5는 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션의 요부의 작동상태를 도시한 평면도로서, 도 5a는 웨이퍼카세트에 웨이퍼를 장착시, 도 5b는 웨이퍼카세트에 웨이퍼의 장착 완료후 웨이퍼카세트로부터 돌출된 웨이퍼를 푸싱시를 각각 도시한 도면이고,
도 6은 본 발명에 따른 CMP 장비의 언로드 스테이션을 도시한 평면도이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
110 : 개구 120 : 승강판
130 : 승강구동수단 140 : 웨이퍼감지부
150 : 가이드홀 160 : 웨이퍼지지로드
170 : 래크 180 : 모터
181 : 피니언 190 : 하우징
200 : 제어부

Claims (2)

  1. 웨이퍼카세트가 상측면에 안착된 승강판을 승강구동수단에 의해 수직이동시켜서 폴리싱을 마친 웨이퍼를 상기 웨이퍼카세트의 슬롯마다 순차적으로 장착되도록 하는 CMP 장비의 언로드 스테이션에 있어서,
    상기 승강판에서 상기 웨이퍼카세트의 웨이퍼출입구에 인접함과 아울러 상기 웨이퍼의 이송방향에 직교하는 방향으로 형성되는 가이드홀과;
    상기 가이드홀의 양측에 상측으로 돌출되도록 각각 삽입되는 한 쌍의 웨이퍼지지로드와;
    기어가 형성된 면이 서로 마주보면서 나란하게 위치하도록 상기 웨이퍼지지로드 각각의 하단에 수평되게 형성되는 한 쌍의 래크와;
    상기 래크사이에 기어결합되는 피니언이 회전축에 결합되는 모터와;
    상기 래크의 수평이동을 가이드함과 아울러 상기 모터를 고정시키도록 내측에 상기 래크 및 상기 모터가 장착되어 상기 승강판의 하측에 결합되는 하우징과;
    상기 웨이퍼카세트에 상기 웨이퍼가 장착시 상기 웨이퍼지지로드가 상기 웨이퍼를 통과시킬 수 있는 간격을 유지하도록 함과 아울러 상기 웨이퍼카세트에 정해진 개수의 웨이퍼 장착이 완료되면 상기 웨이퍼지지로드가 상기 웨이퍼카세트의 웨이퍼출입구 중심을 향해 이동하여 서로 인접하여 위치하도록 상기 모터를 제어하는 제어부;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 CMP 장비의 언로드 스테이션.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 래크 각각은 하단에 하방으로 가이드돌기가 각각 형성되며, 상기 하우징은 상기 래크와 함께 수평이동하는 상기 가이드돌기의 이동을 가이드하도록 바닥면에 상기 가이드돌기가 삽입되는 한 쌍의 가이드홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 CMP 장비의 언로드 스테이션.
KR10-2003-0028569A 2003-05-06 2003-05-06 Ｃｍｐ 장비의 언로드 스테이션 KR100503265B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2003-0028569A KR100503265B1 (ko) 2003-05-06 2003-05-06 Ｃｍｐ 장비의 언로드 스테이션

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2003-0028569A KR100503265B1 (ko) 2003-05-06 2003-05-06 Ｃｍｐ 장비의 언로드 스테이션

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040094983A KR20040094983A (ko) 2004-11-12
KR100503265B1 true KR100503265B1 (ko) 2005-07-22

Family

ID=37374231

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2003-0028569A KR100503265B1 (ko) 2003-05-06 2003-05-06 Ｃｍｐ 장비의 언로드 스테이션

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100503265B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108109672B (zh) * 2018-02-06 2024-08-16 京东方科技集团股份有限公司 调整装置和承载设备
CN110246792A (zh) * 2019-07-10 2019-09-17 江苏七维测试技术有限公司 一种晶圆盒

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040094983A (ko) 2004-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100602285B1 (ko) 웨이퍼 탈착 유니트 내부에 일체로 구성된 필름 두께 측정을 위한 장치 및 방법
KR100472959B1 (ko) 언로딩구조가 개선된 반도체 웨이퍼의 표면평탄화설비
US7850817B2 (en) Polishing device and substrate processing device
KR102304245B1 (ko) 가공 장치
JP2001326201A (ja) ポリッシング装置
KR102528131B1 (ko) 연마 장치
KR100503265B1 (ko) Ｃｍｐ 장비의 언로드 스테이션
KR100934761B1 (ko) 평판표시소자 제조장치
KR100470230B1 (ko) 화학기계적 연마장치
KR100697876B1 (ko) 폴리싱장치
KR20220161926A (ko) 웨이퍼 검사 및 세정 장치
KR101081902B1 (ko) 기판 처리 장치
KR101012253B1 (ko) Ｃｍｐ 장비의 로드스테이션
KR100551240B1 (ko) 자동 로드-언로드 장치
KR100503042B1 (ko) 기판지지장치 및 이에 사용되는 승강장치
KR100607759B1 (ko) 에스엠아이에프 장치
JP7328104B2 (ja) 研削装置
KR100607752B1 (ko) Ｓｍｉｆ 장치
KR200190798Y1 (ko) 반도체 웨이퍼 프로버의 웨이퍼 핸들링 장치
KR200267583Y1 (ko) 로드 락 챔버의 홈위치 감지장치
JPH10335429A (ja) 基板整列方法およびその装置
KR20060034901A (ko) 반도체 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 반도체 기판세정 설비
JP2024087307A (ja) 研削装置
KR100411798B1 (ko) 타이어 백테부의 오염방지액 분사장치
KR100503382B1 (ko) 로드 락 챔버의 센서 케이블 연결장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080630

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee