KR100498729B1

KR100498729B1 - Method for displaying shot size in reticle ppd check

Info

Publication number: KR100498729B1
Application number: KR10-2003-0006925A
Authority: KR
Inventors: 임병진
Original assignee: 동부아남반도체 주식회사
Priority date: 2003-02-04
Filing date: 2003-02-04
Publication date: 2005-07-01
Also published as: KR20040070742A

Abstract

본 발명은 반도체 소자 제조 공정 중 스텝퍼 노광시의 PPD 검사 방법에 관한 것이다. 즉, 본 발명에서는 파티클 맵 화면에 파티클의 위치 및 크기와 함께 유효 패턴영역이 표시되도록 구현함으로써, 패턴 영역 디스플레이를 통하여 누구나 파티클 위치의 패턴 영역 인/아웃 여부를 판단할 수 있어 레티클 조사 기구를 통하여 작업자가 확인하는 시간을 줄일 수 있으며, 육안 확인으로 인한 오판단을 줄일 수 있어 줄성 디펙 과 같은 레티클로 인해 발생할 수 있는 위험요소를 사전방지 할 수 있다.The present invention relates to a PPD inspection method during stepper exposure during a semiconductor device manufacturing process. That is, in the present invention, by implementing the effective pattern area is displayed on the particle map screen with the position and size of the particle, anyone can determine whether the pattern area of the particle position in / out through the pattern area display through the reticle irradiation mechanism It can reduce the time for the operator to check and reduce the misjudgment caused by the visual inspection, thus preventing the risk factors caused by the reticle such as Jusung Defect.

Description

Pattern area display method during reticle PD inspection {METHOD FOR DISPLAYING SHOT SIZE IN RETICLE PPD CHECK}

본 발명은 반도체 소자 제조 공정에 관한 것으로, 특히 반도체 소자 제조 공정 중 스텝퍼 노광(Stepper expose)시의 PPD(Pellicle Particle Detector) 검사 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device manufacturing process, and more particularly, to a method for inspecting a PPD (Pellicle Particle Detector) during stepper exposure during a semiconductor device manufacturing process.

통상적으로, 반도체 공정 중, 포토레지스트 패턴을 구현하는 포토 공정에서는 스텝퍼 노광시 광원에 의해 발생한 빛을 레티클/프로젝션 렌즈(Reticle/Projection lens)를 통하여 웨이퍼에 조사하는 작업을 수행하게되며, 이때 레티클이 파티클(Particle)에 의해 오염되었는지의 여부를 확인하는 PPD 검사를 거치게 된다. In general, in a semiconductor process, a photo process for implementing a photoresist pattern is performed to irradiate a wafer with light generated by a light source during a stepper exposure to a wafer through a reticle / projection lens. PPD tests are performed to determine whether or not particles are contaminated.

도 1은 종래 레티클 로딩후 PPD 검사시 파티클이 검출되는 경우 PPD 검사장치에서의 PPD 검사 맵(Map) 디스플레이 예시도를 도시한 것으로, 상기 도 1에서와 같이 검출된 파티클(102)은 크기(Size)와 위치가 맵(100) 상에 표시되어 나타난다. FIG. 1 is a diagram illustrating an example of displaying a PPD inspection map in a PPD inspection apparatus when particles are detected during a PPD inspection after loading a conventional reticle. As illustrated in FIG. ) And location are displayed on the map 100.

그러나 종래에는 상기 맵 화면에 패턴 영역이 표시되지 않아 파티클이 맵화면 가장자리에 위치하는 경우 파티클의 위치와 패턴의 존재 여부를 따져 공격 가능성을 확인해야하며 육안으로 파티클의 위치를 직접 확인하지 않는 한 제거 여부를 결정하기 어려운 문제점이 있었다.However, in the past, when the pattern area is not displayed on the map screen, and the particle is located at the edge of the map screen, it is necessary to check the possibility of attack based on the location of the particle and the existence of the pattern. There was a problem that was difficult to determine.

따라서, 본 발명의 목적은 파티클 맵 화면에 파티클의 위치 및 크기와 함께 유효 패턴영역이 표시되도록 구현함으로써, 패턴 영역 디스플레이를 통하여 누구나 파티클 위치의 패턴 영역 인/아웃 여부를 판단하여 해당 파티클의 제거 여부를 보다 용이하게 판단할 수 있도록 하는 레티클 PPD 검사시 패턴 영역 표시방법을 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to implement an effective pattern region to be displayed on the particle map screen together with the position and size of the particle, so that anyone can determine whether to remove the particle by determining whether the pattern region is in or out of the particle position through the pattern region display. The present invention provides a method for displaying a pattern region during reticle PPD inspection, which makes it possible to more easily determine.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 레티클 PPD 검사시 패턴 영역 표시 방법에 있어서, (a)레티클 표면에 대한 레이저빔 스캔을 통해 레티클 상 파티클 존재 여부를 검사하는 단계와; (b)검출된 파티클을 PPD 검사 맵화면에 상기 레티클상 위치와 크기가 표시되도록 하는 단계와; (c)상기 PPD 검사 맵화면 구현 파라미터값의 조절을 통해 레티클상 유효 패턴 영역을 표시시키는 단계와; (d)상기 PPD 검사 맵화면상 가장자리에 위치한 파티클의 패턴 영역내 존재여부를 확인하여 해당 파티클에 대한 제거 여부를 결정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method for displaying a pattern area during a reticle PPD inspection, the method comprising: (a) inspecting particle presence on a reticle through a laser beam scan of a surface of the reticle; (b) displaying the detected particles on the PPD inspection map screen with the position and size on the reticle; (c) displaying an effective pattern area on the reticle by adjusting the PPD inspection map screen implementation parameter value; (d) determining whether the particles are removed by checking whether the particles are present in the pattern area of the particles located at the edges of the PPD inspection map screen.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예의 동작을 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the operation of the preferred embodiment according to the present invention.

도 2는 본 발명의 실시 예가 적용되는 PPD 검사장치의 개략적인 블록 구성을 도시한 것으로, 상기 도 2를 참조하여 종래 PPD 동작을 설명하면, 먼저 레이저 다이오드(200)로부터 방사된 레이저 빔(201)이 프리즘(Prism)(202)을 통해 레티클(204) 표면에 거의 수평방향으로 주사되어 파티클에 의하여 산란되고 산란된 빛은 미러(Mirror)(205)를 통해 수광렌즈(206)로 수광된 후, 이미지 센서(Image sensor)(208)를 통하여 전기적인 신호로 변환되고, 이신호로부터 정보를 인식하게 된다. FIG. 2 is a schematic block diagram of a PPD inspection apparatus to which an embodiment of the present invention is applied. Referring to FIG. 2, a conventional PPD operation will be described. First, a laser beam 201 radiated from the laser diode 200 will be described. After the prism 202 is almost horizontally scanned on the surface of the reticle 204 and scattered by the particles, the scattered light is received by the light receiving lens 206 through the mirror 205. The image sensor 208 is converted into an electrical signal, and information is recognized from the signal.

이어 상기와 같은 방법으로 검출된 파티클은 크기별로 알람과 함께 상기 도 2에서와 같이 파티클의 크기와 위치가 맵을 통하여 화면에 표시되게 되는데, 이때 종래에는 맵화면에 패턴 영역이 표시되지 않아 파티클이 맵화면의 가장자리에 위치하는 경우 파티클의 위치와 패턴의 존재 여부를 따져 공격 가능성을 확인해야하며 육안으로 파티클의 위치를 직접 확인하지 않는 한 제거 여부를 결정하기 어렸웠던 문제점은 전술한 바와 같다.Subsequently, the particles detected by the method as described above are displayed on the screen with the size and position of the particles as shown in FIG. 2 along with an alarm for each size. In this case, the particle area is not displayed on the map screen. If the position of the map screen is located on the edge of the particle and the presence of the pattern to determine the possibility of attack, it is difficult to determine whether or not to remove the particle unless you directly check the position of the particle as described above.

이에 따라 본 발명에서는 도 3에 도시된 바와 같은 PPD 검사장치의 스텝퍼 레서피(Recipe) 기본 파라미터(Parameter) 작성 화면에서 스텝 피치(Step pitch) x, y의 파라미터 데이터 값을 조절하여 패턴 영역의 크기를 설정한다. Accordingly, in the present invention, the size of the pattern area is adjusted by adjusting the parameter data values of step pitch x and y in the stepper recipe basic parameter creation screen of the PPD inspection apparatus as shown in FIG. 3. Set it.

도 4는 본 발명의 실시 예에 따라 상기 도 3의 화면에서 레서피의 데이터를 이용하여 파티클 검출시 패턴 영역을 디스플레이한 맵 화면(300) 예시도로써, 상기 도 4에서 보여지는 바와 같이 본 발명에서는 파티클 맵 화면에 파티클(402,404)의 위치 및 크기(Size)와 함께 패턴영역(Shot size)(401)이 표시됨으로써 가장자리에 위치한 파티클(402)의 패턴영역(401)내 포함여부를 쉽게 구분할 수 있어 실제 노광시 파티클에 의한 공격이 발생할 수 있는지 여부를 판단할 수 있고, 이의 제거여부도 쉽게 결정할 수 있게 된다.4 is an exemplary diagram of a map screen 300 displaying a pattern area when detecting particles using data of a recipe on the screen of FIG. 3 according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. The pattern area (Shot size) 401 is displayed along with the location and size of the particles 402 and 404 on the particle map screen, making it easy to distinguish whether the particle 402 is included in the pattern area 401. It is possible to determine whether an attack by particles may occur during the actual exposure, and it is easy to determine whether to remove it.

즉, 본 발명을 통하여 실제 동작에서 에러 발생시 패턴 영역 디스플레이를 통하여 누구나 파티클 위치의 패턴 영역 인/아웃(In/Out) 여부를 판단할 수 있으므로 레티클 조사 기구를 통하여 작업자가 확인하는 시간을 줄일 수 있고 육안 확인으로 인한 오판단을 줄일 수 있어 줄성 디펙 과 같은 레티클로 인해 발생할 수 있는 위험요소를 사전방지 할 수 있다.That is, according to the present invention, when an error occurs in the actual operation, anyone can determine whether the pattern area is in / out of the particle position through the pattern area display, so that the time for the operator to check through the reticle irradiation mechanism can be reduced. The misjudgment caused by visual confirmation can be reduced, thus preventing the risks caused by the reticle such as Jusung Defect.

한편 상술한 본 발명의 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 여러 가지 변형이 본 발명의 범위에서 벗어나지 않고 실시될 수 있다. 따라서 발명의 범위는 설명된 실시 예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위에 의해 정하여져야 한다.Meanwhile, in the above description of the present invention, specific embodiments have been described, but various modifications may be made without departing from the scope of the present invention. Therefore, the scope of the invention should be determined by the claims rather than by the described embodiments.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에서는 파티클 맵 화면에 파티클의 위치 및 크기와 함께 유효 패턴영역이 표시되도록 구현함으로써, 패턴 영역 디스플레이를 통하여 누구나 파티클 위치의 패턴 영역 인/아웃 여부를 판단할 수 있어 레티클 조사 기구를 통하여 작업자가 확인하는 시간을 줄일 수 있는 이점이 있으며, 육안 확인으로 인한 오판단을 줄일 수 있어 줄성 디펙 과 같은 레티클로 인해 발생할 수 있는 위험요소를 사전방지 할 수 있는 이점이 있다.As described above, in the present invention, by implementing the effective pattern region to be displayed on the particle map screen together with the position and size of the particle, anyone can determine whether the pattern region of the particle position in / out through the pattern region display reticle There is an advantage that can reduce the time that the operator checks through the inspection mechanism, and it is possible to reduce the misjudgment caused by the naked eye check, there is an advantage that can prevent the risk factors caused by the reticle, such as Juseong Defect.

도 1은 종래 PPD 검사시 파티클 맵 화면 예시도,1 is a diagram illustrating a particle map screen during a conventional PPD inspection;

도 2는 본 발명의 실시 예가 적용되는 PPD 검사장치의 개략적인 블록 구성도,2 is a schematic block diagram of a PPD inspection apparatus to which an embodiment of the present invention is applied;

도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 스텝퍼 레서피 기본 파라미터 작성화면,3 is a stepper recipe basic parameter creation screen according to an embodiment of the present invention,

도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 PPD 검사시 파티클 맵 화면 예시도.4 is an exemplary view of a particle map screen during PPD inspection according to an embodiment of the present invention.

Claims

In the reticle PPD inspection pattern area display method,

(a) checking for the presence of particles on the reticle by laser beam scanning of the reticle surface;

(b) displaying the detected particles on the PPD inspection map screen with the position and size on the reticle;

(c) displaying an effective pattern area on the reticle by adjusting the PPD inspection map screen implementation parameter value;

(d) determining whether particles are removed by checking whether they exist in a pattern area of particles located at edges on the PPD inspection map screen.

The method of claim 1,

In the step (c), the pattern area is set by adjusting the values of step pitches x and y among the basic parameter values to be input when creating the stepper recipe for implementing the map screen. Way.

The method of claim 1,

In step (d), (d1) removing the particles located at the edge on the map screen if present in the effective pattern area;

(d2) if the particles exist outside the effective pattern region, not removing them separately;