KR100495208B1 - Epoxy resin composition and method of manufacturing multilayer printed-wiring boards using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 에폭시수지; 약 10 ∼ 80wt%, 고무성분; 약 1 ∼ 50wt%, 충진제; 0.1 ∼ 40wt%, 상기 에폭시수지의 당량에 대응하는 양의 에폭시경화제를 포함하며, 상기 충진제는 적어도 에폭시수지보다 내약품성이 약한 성분으로 표면이 코팅된 절연수지 조성물을 제공한다. 다층인쇄회로기판의 절연층을 본 발명에 따른 절연수지 조성물로 제조하는 경우에는, 절연층 표면에 있는 충진제에 도포된 코팅막은 화학적 조면처리공정시에 산화제에 의해 용해/분해되어 그 충진제가 절연층 표면으로부터 원활하게 배출되도록 할 수 있다. 따라서, 후속공정에서 형성될 전도층과의 접착강도를 획기적으로 증대시킬 수 있다.The present invention, epoxy resin; About 10 to 80 wt% of a rubber component; About 1-50 wt%, filler; 0.1 to 40wt%, an epoxy curing agent in an amount corresponding to the equivalent of the epoxy resin, the filler provides an insulating resin composition coated with a surface at least a weak chemical resistance component than the epoxy resin. When the insulating layer of the multilayer printed circuit board is manufactured with the insulating resin composition according to the present invention, the coating film applied to the filler on the surface of the insulating layer is dissolved / decomposed by an oxidizing agent during the chemical roughening process, and the filler is insulated from the insulating layer. It can be discharged smoothly from the surface. Therefore, the adhesive strength with the conductive layer to be formed in a subsequent step can be significantly increased.

Description

절연수지 조성물 및 그 조성물을 이용한 다층인쇄회로기판제조방법{EPOXY RESIN COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING MULTILAYER PRINTED-WIRING BOARDS USING THE SAME} Insulation resin composition and manufacturing method of multilayer printed circuit board using the composition {EPOXY RESIN COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING MULTILAYER PRINTED-WIRING BOARDS USING THE SAME}

본 발명은 일반적으로 다층인쇄회로기판을 위한 절연조성물에 관한 것으로, 특히 다층인쇄회로기판에서 도금층과 접착강도를 향상시키기 위해 적합한 미세조면을 형성할 수 있는 절연수지 조성물 및 이 조성물을 이용한 다층인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention generally relates to an insulation composition for a multilayer printed circuit board. In particular, an insulating resin composition capable of forming a fine surface for improving adhesion strength with a plating layer in a multilayer printed circuit board and a multilayer printed circuit using the composition It relates to a method for manufacturing a substrate.

최근 전자기기의 경박단소화 및 고성능화 추세에 따라, 전자기기에 사용되는 인쇄회로기판의 소형화 및 고집적화도 더불어 강하게 요구되고 있다. BACKGROUND With the recent trend toward lighter, shorter, and higher performance of electronic devices, miniaturization and high integration of printed circuit boards used in electronic devices are also strongly demanded.

이를 위하여, 기판 위에 절연층과 배선을 위한 도전층을 번걸아 적층하여 기판을 제조하는 빌드업방식의 다층기판이 출현하여 고집적된 배선을 구현하면서 소형화에 기여하고 있다.To this end, a build-up multi-layer substrate, which manufactures a substrate by alternately stacking an insulating layer and a conductive layer for wiring, has appeared, contributing to miniaturization while implementing highly integrated wiring.

일반적인 다층 인쇄회로기판의 제조방법에서는, 절연층면에 동박(cupper foil)과 같은 전도성 박판을 적층하고, 그 전도성 박판을 패터닝하여 회로를 형성한다. 이어, 추가적인 절연층을 적층하고 앞서 설명된 방식으로 그 적층된 절연층 위에 회로를 형성하여 원하는 다층인쇄회로기판을 제조한다.In a general method for manufacturing a multilayer printed circuit board, a conductive thin plate such as a cupper foil is laminated on an insulating layer surface, and the conductive thin plate is patterned to form a circuit. Subsequently, an additional insulating layer is laminated and a circuit is formed on the laminated insulating layer in the manner described above to produce the desired multilayer printed circuit board.

이러한 절연층으로 유리직물(glass croth)에 에폭시 수지등의 절연재료를 함침시킨 프리프레그(prepreg)를 사용하거나, RCC(resin coated copper foil) 또는 감광성 절연물질을 이용할 수도 있으나, 프리프레그나 감광성 절연수지를 이용하는 경우에는, 적층시 프레스를 이용하여 가열 가압하에 성형하기 위해, 대규모 설비가 요구되어 비용이 증가할 뿐만 아니라, 성형시 단차가 발생되어 불균일한 막이 형성되기 쉽고, 양산공정 적용시 비아홀 크기를 소형화시키는데 한계(80㎛)가 있다는 문제가 있다. The insulating layer may be a prepreg impregnated with an insulating material such as epoxy resin in the glass croth, or a resin coated copper foil (RCC) or a photosensitive insulating material may be used, but prepreg or photosensitive insulating resin may be used. In the case of lamination, in order to mold under heat and pressure using a press during lamination, a large-scale facility is required and not only increases the cost, but also a step occurs during molding, making a non-uniform film easily formed, There is a problem that there is a limit (80 µm) in downsizing.

따라서, 최근에는 반고상 절연물질인 드라이필름이 공정효율 및 균일한 두께의 박판화에 유리하여 적극적으로 선호되고 있다. 이는 절연층의 두께를 비교적 정확하게 조절할 수 있어 박판화에 용이하며, 레이저 가공기술을 적용하여 비아홀을 50㎛이하의 크기로 형성할 수 있다는 잇점이 있다. 그러나, 이러한 드라이필름형 절연층 위에 전해도금층을 형성하기 위해 무전해도금층을 형성할 때에, 그 무전해도금층과 절연층 사이에 접착력이 약하므로, 최종적인 전도층(소정의 회로가 형성될 전도층)과 절연층 사이에 접착강도가 낮다는 문제도 있다. Therefore, in recent years, a dry film, which is a semi-solid insulating material, is favored for being advantageous in terms of process efficiency and uniform thickness. This allows the thickness of the insulating layer to be adjusted relatively accurately, which facilitates thinness, and has the advantage that via holes can be formed to a size of 50 μm or less by applying laser processing technology. However, when the electroless plating layer is formed to form an electroplating layer on the dry film type insulating layer, the adhesion between the electroless plating layer and the insulating layer is weak, so that the final conductive layer (conductive layer on which a predetermined circuit is to be formed) is formed. ), There is also a problem that the adhesive strength between the and the insulating layer is low.

이를 개선하기 위해, 열경화시 미세조면을 갖도록 절연수지 조성물을 사용하여 절연층을 형성하거나 별도의 조면처리(roughening)공정을 통해 표면의 미세조도를 형성하여 절연층과 전도층간에 접착강도를 개선한다. In order to improve this, an insulating layer is formed using an insulating resin composition to have a fine rough surface during thermal curing, or a fine roughness of the surface is formed through a separate roughening process to improve adhesive strength between the insulating layer and the conductive layer. do.

이러한 방법 중 적절한 절연수지 조성물를 사용하는 방법에서는, 소정의 충진제(filler) 및/또는 고무성분을 포함된 절연수지 조성물를 경화시켜 절연층을 형성하고, 도1과 같이, 열경화시에 상기 절연층(10)에 포함된 충진제(15) 및 고무성분을 그 표면으로부터 배출되도록 화학적 조면처리하여 미세한 홀 또는 돌기를 형성한다. 도1을 참조하면, 조면처리된 절연층(10) 표면상에는 충진제(15)가 제거된 홀영역(a)과 고무성분이 제거된 영역이 형성되어 거친 표면(b)을 이루어고 있다. 특히, 충진제(15)는 배출된 영역(a)에서 추가적으로 고무성분이 제거되어 보다 깊은 홀이 형성될 수 있다. 이러한 홀을 앵커(anchor)라고 하는데, 이는 후속공정에서 형성된 전도층(특히, 무전해도금층)이 홀에 채워지면서 표면에 형성되어 최종적 제품에서 절연층과 전도층사이의 접착강도를 증가시킬 수 있게 된다. In such a method using an appropriate insulating resin composition, the insulating resin composition containing a predetermined filler and / or rubber component is cured to form an insulating layer, and as shown in Figure 1, the insulating layer ( The filler 15 and the rubber component included in 10) are chemically roughened to be discharged from the surface thereof to form fine holes or protrusions. Referring to FIG. 1, a hole region a from which the filler 15 is removed and a region from which a rubber component is removed are formed on the roughened surface of the insulating layer 10 to form a rough surface b. In particular, the filler 15 may further remove the rubber component in the discharged region (a) to form a deeper hole. These holes are called anchors, which are formed on the surface as the conductive layer (especially the electroless plating layer) formed in the subsequent process is filled in the hole to increase the adhesive strength between the insulating layer and the conductive layer in the final product. do.

하지만, 이 방법에서도 충진제(15)가 비교적 큰 입자를 갖고 있으므로, 경화된 절연층으로부터 원활한 배출이 이루어지 못하고 표면상에 잔류한 충진제(c)가 빈번히 발생된다. 이러한 현상으로 인해, 조면처리를 행하더라도 충진제 함유량에 따른 원하는 표면조도를 얻기가 사실상 곤란해진다. 결국, 이러한 문제는 절연층과 전도층의 접착강도를 증가시키는데 큰 장애가 된다.However, also in this method, since the filler 15 has relatively large particles, the filler (c) remaining on the surface is frequently generated without smooth discharge from the cured insulating layer. This phenomenon makes it difficult to obtain desired surface roughness according to the filler content even when the roughening treatment is performed. As a result, this problem is a great obstacle to increasing the adhesive strength of the insulating layer and the conductive layer.

이와 같이, 당 기술분야에서는, 절연층과 전도층의 접착강도를 증가시키기 위해, 조면처리공정시에 절연층에 함유된 충진제의 원활한 작용(배출에 의한 홀형성)이 보장되는 새로운 절연수지 조성물과 이를 이용한 다층 인쇄회로기판의 제조방법이 강하게 요구되어 왔다.As such, in the art, in order to increase the adhesive strength between the insulating layer and the conductive layer, a new insulating resin composition which ensures the smooth action (hole formation by discharge) of the filler contained in the insulating layer during the roughening process; There has been a strong demand for a method of manufacturing a multilayer printed circuit board using the same.

상기 문제를 해결하기 위해, 본 발명의 목적은 경화된 절연층에 화학적 조면처리 공정시에 그 절연층에 함유된 충진제가 원활하게 배출되어 미세한 홀(또는 앵커)을 형성될 수 있도록 적절히 코팅된 충진제를 포함한 절연수지 조성물을 제공함으로써 전도층과의 접착강도를 획기적으로 개선하는데 있다.In order to solve the above problems, an object of the present invention is to properly fill the cured insulating layer in the chemical roughening process, the filler contained in the insulating layer is properly coated to form fine holes (or anchors) It is to significantly improve the adhesive strength with the conductive layer by providing an insulating resin composition comprising a.

본 발명의 다른 목적은 조면처리공정에서 배출이 용이하도록 코팅된 충진제를 포함한 절연수지 조성물을 이용하여 다층인쇄회로기판을 제조하는 방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer printed circuit board using an insulating resin composition including a filler coated to facilitate discharge in a roughening process.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은, 에폭시수지; 약 10 ∼ 80wt%, 고무성분; 약 1 ∼ 50wt%, 충진제; 0.1 ∼ 40wt%, 상기 에폭시수지의 당량에 대응하는 양의 에폭시경화제를 포함하며, 상기 충진제는 적어도 에폭시수지보다 내약품성이 약한 성분으로 표면이 코팅된 절연수지 조성물을 제공한다.In order to solve the said subject, this invention is an epoxy resin; About 10 to 80 wt% of a rubber component; About 1-50 wt%, filler; 0.1 to 40wt%, an epoxy curing agent in an amount corresponding to the equivalent of the epoxy resin, the filler provides an insulating resin composition coated with a surface at least a weak chemical resistance component than the epoxy resin.

나아가, 본 발명은 상기 절연수지 조성물을 이용한 다층인쇄회로기판의 제조방법을 제공한다. 상기 방법은, 에폭시수지; 약 10 ∼ 80wt%, 고무성분; 약 1 ∼ 50wt%, 충진제; 0.1 ∼ 40wt%, 상기 에폭시수지의 당량에 대응하는 양의 에폭시경화제를 포함하며, 상기 충진제는 적어도 에폭시수지보다 내약품성이 약한 성분으로 표면이 코팅된 절연수지 조성물로 절연층을 형성하는 단계와, 상기 절연층의 표면 중 전도층이 형성될 면에 산화제를 적용하여 조면처리를 실행하는 단계와, 상기 조면처리가 실행된 상기 절연층의 표면에 전도층을 형성하는 단계와, 상기 전도층을 패터닝하여 소정의 회로를 형성하는 단계와, 상기 단계들을 원하는 인쇄회로기판의 적층 수에 따른 횟수로 반복수행하는 단계를 포함하는 다층 인쇄회로기판 제조방법을 제공한다.Furthermore, the present invention provides a method of manufacturing a multilayer printed circuit board using the insulating resin composition. The method includes an epoxy resin; About 10 to 80 wt% of a rubber component; About 1-50 wt%, filler; 0.1 to 40 wt%, an epoxy curing agent in an amount corresponding to the equivalent of the epoxy resin, wherein the filler is at least a chemical resistance than the epoxy resin, the step of forming an insulating layer with an insulating resin composition coated with a surface, Performing a roughening treatment by applying an oxidant to a surface of the insulating layer on which the conductive layer is to be formed, forming a conductive layer on the surface of the insulating layer on which the roughening treatment is performed, and patterning the conductive layer To form a predetermined circuit, and repeating the above steps a number of times depending on the number of stacks of the desired printed circuit board.

또한, 본 발명의 바람직한 실시형태에서는, 절연층의 내열성을 향상시키고 그 유전율을 개선하기 위해, 시안계 수지; 약 1 ∼ 80wt% 및, 상기 시안계수지 당량에 대응하는 양의 시안계 수지용 금속촉매제를 더 포함할 수도 있다.Moreover, in preferable embodiment of this invention, in order to improve the heat resistance of an insulating layer and the dielectric constant, it is cyan-type resin; The metal catalyst for the cyan-based resin may be further included in an amount corresponding to about 1 to 80 wt% and the cyan-based resin equivalent.

본 발명에서 사용되는 충진제는 바륨 설페이트 파우더, 바륨 티타네이트 파우더, 산화실리콘 파우더, 비정질 실리콘, 활석, 점토 및 마이카 파우더로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 하나를 선택하여 사용하는 것이 바람직하며, 충진제를 코팅하는 물질로는, 고무성분 및 그 유도체, 가소성수지류, 비반응성희석제 및 그 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된 물질을 사용하는 것이 바람직하다. The filler used in the present invention is preferably used by selecting at least one selected from the group consisting of barium sulfate powder, barium titanate powder, silicon oxide powder, amorphous silicon, talc, clay and mica powder, and the material for coating the filler As the furnace, it is preferable to use a substance selected from the group consisting of rubber components and derivatives thereof, plastic resins, non-reactive diluents and mixtures thereof.

바람직하게는, 충진제를 코팅하는 물질인 고무성분은 폴리부타티엔 고무, 개질된 폴리부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-폴리부타디엔 고무 및, 아크릴로니트릴-개질된 폴리부타디엔 고무로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 하나일 수 있고, 상기 가소성 수지류는 스티렌-아크릴로니트릴(SAN), 아크로니트릴-부타디엔- 스티렌(ABS), 로진(rosin) 및, 왁스로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 하나일 수 있으며, 상기 비반응성 희석제는 디옥틸 프탈레이트(DOP), 디부틸 프탈레이트(DBP), DAP 또는 그 혼합물을 사용할 수 있다.Preferably, the rubber component which is the material for coating the filler is at least one selected from the group consisting of polybutadiene rubber, modified polybutadiene rubber, acrylonitrile-polybutadiene rubber, and acrylonitrile-modified polybutadiene rubber. The plastic resin may be at least one selected from the group consisting of styrene-acrylonitrile (SAN), acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS), rosin, and wax, and the non-reactive diluent Dioctyl phthalate (DOP), dibutyl phthalate (DBP), DAP or mixtures thereof can be used.

본 발명의 주요한 특징은 절연층을 형성하기 위한 절연수지 조성물에 포함되는 충진제의 표면을 주성분인 에폭시수지보다 낮은 내화학성을 갖는 물질로 코팅함으로써 화학적 조면처리공정에서 충진제가 절연층 표면으로부터 원활하게 배출되도록 하여 후속공정에서 형성될 전도층과의 접착강도를 증대시킨다는데 있다.The main feature of the present invention is to smoothly discharge the filler from the surface of the insulating layer in the chemical roughening process by coating the surface of the filler included in the insulating resin composition for forming the insulating layer with a material having a lower chemical resistance than the epoxy resin as a main component In order to increase the adhesive strength with the conductive layer to be formed in a subsequent step.

본 발명에서 사용되는 에폭시 수지는 절연수지 조성물의 실질적인 주성분으로서 전기적 절연성 및 열적/화학적 안정성을 우수한 절연층을 얻기 위해 채택된 성분이다. 이러한 에폭시수지로는 당 기술분야에 공지된 일반적인 에폭시수지가 사용될 수 있으나, 바람직하게는, 비스페놀 A형 에폭시수지 및 비스페놀 F형 에폭시수지를 포함한 비스페놀 에폭시와 페놀 노블락계 에폭시 수지 등은 물론, 난연을 부여하기 위한 할로겐화물(halide)를 포함하는 에폭시 수지 등이 사용될 수 있다. The epoxy resin used in the present invention is a component adopted to obtain an insulating layer having excellent electrical insulation and thermal / chemical stability as a substantial main component of the insulating resin composition. As the epoxy resin, a general epoxy resin known in the art may be used. Preferably, bisphenol epoxy and bisphenol F epoxy resin including bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin, as well as phenolic noblock type epoxy resin, may be used. Epoxy resins containing halides for imparting may be used.

또한, 상기 에폭시 수지가 경화시키기 위해, 첨가되는 에폭시 수지의 당량에 대응하는 양으로 에폭시 수지 경화제를 첨가시킨다. 이러한 경화제는 아민 화합물, 이미다졸 화합물, 산무수물 화합물 등이 사용될 수 있으며, 구체적으로는 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-페닐이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-하이드록시메틸이디다졸, 2-페닐-4,5-디하이드록시메틸이미다졸, 트리아진 첨가형 이미다졸, 프탈릭 안하이드라이드계 등이 사용될 수 있다.Moreover, in order to harden the said epoxy resin, an epoxy resin hardening | curing agent is added in the quantity corresponding to the equivalent of the epoxy resin added. Such a curing agent may be an amine compound, an imidazole compound, an acid anhydride compound and the like, specifically 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-phenylimidazole, 2-ethyl 4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, triazine-added imidazole, phthalic an Hydride-based and the like can be used.

또한, 추가적으로 시안계 수지(cyanate ester resin)을 첨가시켜 절연층의 내열성 및 유전율을 향상시킬 수도 있다. 이러한 시안계 수지는 구체적으로 스위스 론자(Lonza)사에서 제조된 PT-15, PT-30, PT-30S, PT-60, PT-60S, CT-90 및 BA-230S 등이 사용될 수 있다. 시안계 수지를 사용하는 경우에는, 시안계 수지를 낮은 온도에서 반응시키거나 경화온도를 낮추기 위해 시안계 수지용 금속 촉매가 사용되어야 한다. 이러한 금속촉매로는 마그네슘 나프타네이트, 징크 나프타네이트, 코발트, 니켈 나프타네이트, 세륨 나프타네이트, 마그네슘 옥테트, 징크 옥테트, 코발트 옥테트, 니켈 옥테트, 세륨 옥테드 등이 있다.In addition, cyanate ester resin may be added to improve heat resistance and permittivity of the insulating layer. Specifically, the cyan-based resin may be PT-15, PT-30, PT-30S, PT-60, PT-60S, CT-90 and BA-230S manufactured by Lonza, Switzerland. In the case of using a cyan-based resin, a metal catalyst for the cyan-based resin should be used to react the cyan-based resin at a low temperature or to lower the curing temperature. Such metal catalysts include magnesium naphtanate, zinc naphtanate, cobalt, nickel naphtanate, cerium naphtanate, magnesium octet, zinc octet, cobalt octet, nickel octet, cerium octet, and the like.

또한, 충진제는 절연층(재료) 표면의 미세조면처리공정에서 제거되어 미세한 홀(또는 앵커)을 형성하여 절연층과 도금층의 접착 강도를 증가시키기 위해 첨가된다. 이러한 충진제로는 바륨설페이트, 바륨 티타네이트, 실리콘 옥사이드 파우더, 실리카 파우더, 활석, 점토, 마이카 파우더 등이 사용될 수 있다.In addition, the filler is added to remove the fine roughening process on the surface of the insulating layer (material) to form fine holes (or anchors) to increase the adhesive strength of the insulating layer and the plating layer. Such fillers may include barium sulfate, barium titanate, silicon oxide powder, silica powder, talc, clay, mica powder, and the like.

본 발명에서 적용되는 충진제는 상기 설명한 바와 같이, 표면처리공정시 원활한 배출을 도모하기 위해서, 적어도 에폭시수지보다 내화학성이 낮은 물질로 표면을 코팅한다. 본 발명에 적용되는 코팅용 물질로는 고무성분 및 그 유도체, 가소성수지류 및 비반응성희석제 등이 바람직하다. 구체적으로, 고무성분인 경우에는, 폴리부타티엔 고무, 개질된 폴리부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-폴리부타디엔 고무 및, 아크릴로니트릴-개질된 폴리부타디엔 고무로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 하나의 물질일 수 있으며, 상기 가소성 수지류의 경우에는, 스티렌-아크릴로니트릴(SAN), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS), 로진(rosin) 및, 왁스로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 하나의 물질일 수 있다. 또한, 상기 비반응성 희석제로는 당 기술분야에 잘 알려진, 디옥틸 프탈레이트(DOP), 디부틸 프탈레이트(DBP), 디부틸 프탈레이트(DBP), DAP 또는 그 혼합물을 사용할 수 있다.As described above, the filler applied in the present invention is coated with a material having a lower chemical resistance than at least an epoxy resin in order to facilitate smooth discharge during the surface treatment process. The coating material applied to the present invention is preferably a rubber component and its derivatives, plastic resins and non-reactive diluents. Specifically, in the case of a rubber component, it may be at least one material selected from the group consisting of polybutadiene rubber, modified polybutadiene rubber, acrylonitrile-polybutadiene rubber, and acrylonitrile-modified polybutadiene rubber, In the case of the plastic resins, the resin may be at least one material selected from the group consisting of styrene-acrylonitrile (SAN), acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS), rosin, and wax. In addition, as the non-reactive diluent, dioctyl phthalate (DOP), dibutyl phthalate (DBP), dibutyl phthalate (DBP), DAP or mixtures thereof, which are well known in the art, may be used.

또한, 본 발명에 사용되는 용제는 당기술분야에 잘 알려진 바와 같이 수지 또는 다른 성분의 종류에 따라 적절한 용제를 선택하여 사용될 수 있다. 상기 용제는 에폭시수지, 고무성분 및 충진제를 포함한 기본 조성물의 잔부로서 사용된다.In addition, the solvent used in the present invention may be used by selecting a suitable solvent according to the type of resin or other components as is well known in the art. The solvent is used as the remainder of the base composition containing the epoxy resin, rubber component and filler.

도2a 및 2b를 본 발명의 절연수지 조성물로 형성된 절연층(10)에 대한 조면처리 공정을 설명하기로 한다. 본 발명에서 채택된 절연수지조성물을 도2a와 같이 원하는 절연층(10)을 형성한다. 상기 절연수지 조성물에 함유된 충진제(15)는 에폭시수지보다 내화학성이 약한 코팅용 물질에 함침되어 외부표면에 코팅막(17)이 형성되어 있으며, 경화된 절연층(10) 내부에 골고루 분포된다. 2A and 2B will be described a roughening process for the insulating layer 10 formed of the insulating resin composition of the present invention. The insulating resin composition adopted in the present invention forms the desired insulating layer 10 as shown in FIG. 2A. The filler 15 contained in the insulating resin composition is impregnated with a coating material having a weaker chemical resistance than the epoxy resin, and the coating film 17 is formed on the outer surface thereof, and is evenly distributed in the cured insulating layer 10.

도2a에 도시된 절연층(10)에서 전도층이 형성될 면(여기서 절연층상면임)에 대해 통상적인 방법으로 조면처리공정을 적용한다. 이러한 방법으로 과망간산염, 중크롬산염, 과산화소수 등의 산화제를 이용한다. 이 때의 반응은 스웰링(swelling)과정을 걸쳐 산화/환원반응의 순서로 발생된다. 이렇게 조면처리된 절연층은 도2b에 개략적으로 도시되어 있다. 도2b를 참조하면, 절연수지조성물의 성분이었던 고무성분 및/또는 그 유도체는 제거되어 홈(b)부분이 형성되며, 내화학성이 약한 수지가 코팅된 충진제(15)는 코팅막(17)이 분해/용해되어, 도1에 도시된 바와 달리, 절연층(10)으로부터 표면에 위치한 거의 대부분의 충진제(15)가 이탈될 수 있다. 이로써 전체 표면에 거쳐 충진제(15)가 배출된 공간(a)이 여러 홀형상으로 마련되며, 이어 계속되는 산화제의 작용으로 이탈된 부분 내에 고무성분 및/또는 그 유도체까지 추가적으로 제거되어, 보다 깊은 홀구조를 갖는 앵커로 효과적으로 형성될 수 있다. In the insulating layer 10 shown in FIG. 2A, a roughening process is applied in a conventional manner to the surface on which the conductive layer is to be formed (herein, the insulating layer upper surface). In this way, oxidizing agents such as permanganate, dichromate and hydrogen peroxide are used. At this time, the reaction occurs in the order of oxidation / reduction reaction through the swelling process. This roughened insulating layer is schematically shown in Fig. 2B. Referring to FIG. 2B, the rubber component and / or its derivative, which is a component of the insulating resin composition, is removed to form a groove (b), and the filler 15 coated with a weak chemical resistant resin is decomposed into a coating film 17. As dissolved / dissolved, as shown in FIG. 1, almost all of the fillers 15 located on the surface from the insulating layer 10 may be released. As a result, the space (a) from which the filler 15 is discharged through the entire surface is provided in a plurality of hole shapes, and further, rubber components and / or derivatives thereof are additionally removed in the portion separated by the action of the oxidant, thereby deepening the hole structure. It can be effectively formed with an anchor having a.

이와 같이, 본 발명에 따른 절연수지조성물은 미세조면처리를 효과적으로 수행될 수 있어, 후속공정에서 전도층을 형성할 때에 미세한 홀과 앵커구조 등에 의해 절연층과 전도층간의 접착강도를 크게 증가시킬 수 있다.In this way, the insulating resin composition according to the present invention can be effectively carried out a fine roughening treatment, it is possible to greatly increase the adhesive strength between the insulating layer and the conductive layer by a fine hole and anchor structure when forming the conductive layer in a subsequent process. have.

또한, 본 발명은 이러한 절연수지 조성물로 얻어진 절연층을 이용하는 다층인쇄회로기판의 제조방법을 포함한다. 본 발명에서 제공되는 절연수지조성물로 형성된 절연층의 표면에서 전도층이 형성될 면에 대해 산화제를 적용하여 조면처리를 실행하고, 이어 상기 조면처리가 실행된 상기 절연층의 표면에 전도층을 형성한다. 여기서 보다 양질의 전도층을 형성하기 위해서는 무전해도금층을 형성한 후에 전해도금을 실행하여 전도층을 형성하는 것이 바람직하다. 이렇게 얻어진 전도층을 패터닝하여 소정의 회로를 형성하고, 이러한 공정들을 원하는 인쇄회로기판의 적층 수에 따른 횟수로 반복수행하여 회로를 형성하는 전도층과 절연층간에 접착강도가 우수한 다층인쇄회로기판을 제조할 수 있다.The present invention also includes a method of manufacturing a multilayer printed circuit board using an insulating layer obtained from such an insulating resin composition. On the surface of the insulating layer formed of the insulating resin composition provided in the present invention, an oxidizing agent is applied to the surface on which the conductive layer is to be formed, and then a roughening treatment is formed on the surface of the insulating layer on which the roughening treatment is performed. do. In order to form a higher quality conductive layer, it is preferable to form the conductive layer by performing electroplating after the electroless plating layer is formed. The conductive layer thus obtained is patterned to form a predetermined circuit, and these processes are repeatedly performed according to the number of stacks of the desired printed circuit board to form a multilayer printed circuit board having excellent adhesive strength between the conductive layer and the insulating layer forming the circuit. It can manufacture.

이하, 본 발명에 따른 절연수지 조성물로 형성된 절연층의 효과를 실시예를 통해서 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the effect of the insulating layer formed of the insulating resin composition according to the present invention will be described in more detail through examples.

(실시예 1)(Example 1)

우선, 본 발명의 절연조성물을 얻기 위해, 비소페놀 A 형의 에폭시 수지 20%와 비소페놀 F형 에폭시 수지 25%, 페놀 노블락형 페놀수지 30%와 폴리부타디엔 고무 15%와 함께, 셀롤로우스로 코팅한 0.5~1㎛크기의 구형인 SiO2 충진제 5%를 적절하게 혼합하고, 이어 실리콘계열 소포제 및 기타 첨가제를 소량 추가적으로 첨가시킨 후에 다시 교반하였다. 다음으로, 경화제로 메틸부테닐테트라하이드로 프탈릭 안하이드라이드와 2-메틸이미다졸을 첨가시킨 후에 절연층을 제조하였다.First, in order to obtain the insulating composition of the present invention, with cellulose, together with 20% bisphenol A type epoxy resin, 25% bisphenol F type epoxy resin, 30% phenol noblock type phenol resin and 15% polybutadiene rubber, 5% of the coated 0.5-2 μm spherical SiO 2 filler was properly mixed, followed by additional addition of a small amount of silicone-based antifoaming agent and other additives, followed by stirring again. Next, methylbutenyltetrahydro phthalic anhydride and 2-methylimidazole were added as a hardening | curing agent, and the insulating layer was manufactured.

이와 같이 제조된 절연층 중 조면처리할 면을 스웰링 딥 P(Swelling Dip P :일본 아토텍사의 상품명)과 수산화나트륨용액을 이용하여 스웰링(swelling)시킨 후에, 컨센트레이트 컴팩 CP(Concentrate Compact CP:일본 아토텍사의 상품명), 중크롬산칼륨 및 수산화나트륨의 혼합용액으로 미세에칭공정을 적용하였다. 이어, 에칭된 표면을 세척한 후에 환원용액과 황산나트륨용액을 이용하여 환원처리함으로써 조면처리공정를 완료하였다The surface to be roughened among the insulating layers thus prepared is swelled using a swelling dip P (trade name of Atotech Co., Ltd.) and sodium hydroxide solution, followed by Concentrate Compact CP: A fine etching process was applied to a mixed solution of Japan Atotech Co., Ltd.), potassium dichromate and sodium hydroxide. Subsequently, after the etched surface was washed, a reduction treatment was performed using a reducing solution and sodium sulfate solution to complete the roughening process.

다음으로, 상기 조면처리된 절연층 표면에 오염된 유기물을 제거하고 세척한 후에, 팔라듐(Pd)을 이용하여 시드층을 형성하고, 그 Pd 시드층을 활성화시킨 후에 무전해도금공정을 행하여 구리로 이루어진 도금층을 형성하였다. Next, after removing and washing the contaminated organic material on the surface of the roughened insulating layer, a seed layer is formed using palladium (Pd), and after activating the Pd seed layer, the electroplating process is performed to copper. A plating layer was formed.

끝으로, 상기 무전해도금공정에 의해 얻어진 도금층 상에 애시드 크리너 FR(Acid Creaner FR: 일본 아토텍사의 상품명)과 황산나트륨의 혼합액을 이용하여 세척한 후에, 전해도금공정을 향해 최종적인 도금층을 형성하였다. Finally, after washing using a mixed solution of Acid Creaner FR (trademark of Atotech Japan) and sodium sulfate on the plating layer obtained by the electroless plating process, a final plating layer was formed toward the electroplating process. .

이와 같이 얻어진 절연층과 도금층의 접착강도는 JIS C 6481규격에 따른 박리강도(peeling strength)측정방법으로 평가하였다.The adhesion strength between the insulating layer and the plating layer thus obtained was evaluated by a method of measuring peeling strength according to JIS C 6481 standard.

(실시예 2)(Example 2)

본 실시예에서는 제1 실시예와 동일한 비로 비소페놀 A형 에폭시 수지, 비소페놀 F형 에폭시 수지, 페놀노블락형 수지와 페놀부타디엔 고무를 혼합한 후에, SAN으로 코팅된 1~2㎛크기인 구형 SiO2 충진제 10%를 넣은 후 교반한다. 이어 실리콘계열 소포제 및 기타 첨가제를 소량 첨가한 후 교반시키고, 제1 실시예의 경화제와 동일한 성분과 양의 경화제를 첨가하여 절연층을 제조하였다.In this embodiment, after mixing arsenic phenol A type epoxy resin, arsenic phenol F type epoxy resin, phenol noblock type resin and phenolbutadiene rubber in the same ratio as in the first embodiment, 1 to 2 μm sized spherical SiO coated with SAN 2 Add 10% filler and stir. Subsequently, a small amount of the silicone-based antifoaming agent and other additives were added, followed by stirring, and an insulating layer was prepared by adding the same components and amounts of curing agents as those of the first embodiment.

이 결과 얻어진 절연층을 제1 실시예와 동일한 조면처리공정과 도금공정을 실행하여 절연층 일면에 전도층을 형성하였으며, 그 전도층과 절연층 사이의 접착강도를 평가하기 위해 제1 실시예와 동일한 방법으로 박리강도를 측정하였다.The resulting insulating layer was subjected to the same roughening process and plating process as in the first embodiment to form a conductive layer on one surface of the insulating layer, and to evaluate the adhesive strength between the conductive layer and the insulating layer. Peel strength was measured in the same way.

(실시예 3)(Example 3)

본 실시예에서는 충진제와 그 충진제에 코팅된 물질만을 달리하여 제1 및 제2 실시예와 동일한 성분과 조건으로 얻은 절연수지 조성물을 이용하여 절연층을 형성하였다. 본 실시예에서 사용된 충진제는 3∼5㎜크기의 구형인 SiO2이며 그 표면은 로진(rosin)으로 코딩하고, 상기 절연수지 조성물에 약 20%를 첨가시켰다.In this embodiment, the insulating layer was formed by using the insulating resin composition obtained under the same components and conditions as those of the first and second embodiments, by changing only the filler and the material coated on the filler. The filler used in this example was a spherical SiO 2 having a size of 3 to 5 mm and its surface was coded with rosin, and about 20% was added to the insulating resin composition.

이 결과 얻어진 절연층을 제1 실시예와 동일한 조면처리공정과 도금공정을 실행하여 절연층 일면에 전도층을 형성하였으며, 그 전도층과 절연층 사이의 접착강도를 평가하기 위해 제1 및 제2 실시예와 동일한 방법으로 박리강도를 측정하였다.The resulting insulating layer was subjected to the same roughening process and plating process as in the first embodiment to form a conductive layer on one surface of the insulating layer, and to evaluate the adhesive strength between the conductive layer and the insulating layer. Peel strength was measured in the same manner as in Example.

(비교예)(Comparative Example)

본 비교예에서는 상기 실시예들과 동일한 방식으로 비소페놀 A 형의 에폭시 수지 20%와 비소페놀 F형 에폭시 수지 25%, 페놀 노블락형 페놀수지 30%와 폴리부타디엔 고무 15%와 함께, 셀롤로우스로 코팅한 0.5~1㎛크기의 구형인 SiO2 충진제 5%를 적절하게 혼합하고, 이어 실리콘계열 소포제 및 기타 첨가제를 소량 추가적으로 첨가시킨 후에 다시 교반하였다. 다만, 충진제로는 1~2㎛크기의 구형인 SiO2 를 코팅막을 형성하지 않고 종래 방식과 같이 그대로 전체 중량의 10%만을 첨가하여 교반시켰다.In this comparative example, cellulose is used together with 20% bisphenol A type epoxy resin, 25% bisphenol F type epoxy resin, 30% phenol noblock type phenol resin and 15% polybutadiene rubber in the same manner as the above embodiments. 5% of the SiO 2 filler having a spherical size of 0.5-1 μm coated with Si was properly mixed, and then a small amount of silicon-based antifoaming agent and other additives were added, followed by stirring again. However, the filler was stirred by adding only 10% of the total weight as it is in the conventional manner without forming a coating film of SiO 2 having a spherical size of 1 ~ 2㎛.

이 결과로 얻어진 절연층을 제1 실시예와 동일한 조면처리공정과 도금공정을 실행하여 절연층 일면에 전도층을 형성하고, 그 전도층과 절연층 사이의 접착강도를 평가하기 위해 박리강도를 측정하였다. The resulting insulating layer was subjected to the same roughening process and plating process as in the first embodiment to form a conductive layer on one surface of the insulating layer, and the peel strength was measured in order to evaluate the adhesive strength between the conductive layer and the insulating layer. It was.

이와 같이, 제1 내지 제3 실시예와 비교예를 통해 얻어진 각 절연층과 전도층의 접착강도를 아래 표1로 나타내었다.As such, the adhesion strengths of the insulating layers and the conductive layers obtained through the first to third embodiments and the comparative examples are shown in Table 1 below.

접착강도(kg·f/cm, Avg.)Adhesive Strength (kg · f / cm, Avg.) 비교예대비 접착강도 향상율Adhesion Strength Improvement Rate 실시예1Example 1 1.01.0 43%43% 실시예2Example 2 0.80.8 14%14% 실시예3Example 3 0.90.9 29%29% 비교예Comparative example 0.70.7 0%0%

상기 표1을 통해, 에폭시 수지보다 내화학성이 약한 물질로 코팅된 충진제를 포함한 절연층에서 전도층과의 접착강도가 14% 내지 43%까지 향상되었음을 알 수 있다. 이와 같이, 본 발명에 따른 절연수지 조성물을 이용하여 제조된 다층인쇄회로기판에서는 종래에 비해 절연층과 전도층 사이의 접착강도를 획기적으로 개선시킬 수 있다.Through Table 1, it can be seen that the adhesive strength with the conductive layer in the insulating layer including the filler coated with a material having a weaker chemical resistance than the epoxy resin is up to 14% to 43%. As described above, in the multilayer printed circuit board manufactured using the insulating resin composition according to the present invention, the adhesive strength between the insulating layer and the conductive layer can be significantly improved as compared with the conventional art.

본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 하며, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.The present invention is not limited by the above-described embodiment and the accompanying drawings, but is intended to be limited by the appended claims, and various forms of substitution, modification, and within the scope not departing from the technical spirit of the present invention described in the claims. It will be apparent to those skilled in the art that changes are possible.

본 발명에 따른 절연수지 조성물로 형성된 절연층은 조면처리공정시에 충진제가 원활하게 배출되어 미세한 홀(또는 앵커)을 형성될 수 있으므로, 전도층과의 접착강도를 획기적으로 개선할 수 있다.The insulating layer formed of the insulating resin composition according to the present invention may smoothly discharge the filler during the roughening process to form fine holes (or anchors), thereby significantly improving the adhesive strength with the conductive layer.

도1은 종래의 조면처리된 절연층을 나타내는 개략 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing a conventional roughened insulating layer.

도2a 및 2b는 본 발명에 따른 절연수지조성물로 제조된 절연층과 조면처리된 절연층을 나타내는 개략 단면도이다.2A and 2B are schematic cross-sectional views showing an insulating layer made of an insulating resin composition and a roughened insulating layer according to the present invention.

<도면의 주요한 부분에 대한 부호설명><Code Description of Main Parts of Drawing>

10: 절연층 15: 충진제10: insulating layer 15: filler

17: 충진제 코팅막17: filler coating film

Claims (11)

에폭시수지; 10 ∼ 80wt%, 고무성분; 1 ∼ 50wt%, 충진제; 0.1 ∼ 40wt%; 및 잔부로서 용제를 그 합이 100wt%가 되도록 함유하고, 상기 에폭시수지의 당량에 대응하는 양의 에폭시경화제가 첨가되며, 상기 충진제는 적어도 상기 에폭시수지보다 내화학성이 약한 물질로 표면이 코팅됨을 특징으로 하는 절연수지 조성물.Epoxy resins; 10 to 80 wt%, rubber component; 1-50 wt%, filler; 0.1-40 wt%; And as a remainder, the total amount of the solvent to be 100wt%, an epoxy curing agent in an amount corresponding to the equivalent of the epoxy resin is added, the filler is characterized in that the surface is coated with a material having a lower chemical resistance than at least the epoxy resin Insulation resin composition. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 시안계 수지; 1 ∼ 80wt%를 더 포함하며, 상기 에폭시수지, 상기 고무성분, 상기 충진제, 상기 시안계수지의 합이 100wt%가 되도록 함유하고, 상기 에폭시경화제와 함께 상기 시안계수지 당량에 대응하는 양의 시안계 수지용 금속촉매제가 더 첨가됨을 특징으로 하는 절연수지 조성물.Cyan resin; 1 to 80 wt%, wherein the epoxy resin, the rubber component, the filler, and the cyan-based resin are added so that the sum is 100 wt%, and together with the epoxy hardener, an amount corresponding to the cyan-based resin equivalent Insulating resin composition, characterized in that the metal catalyst for resin is further added. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 충진제는 바륨 설페이트 파우더, 바륨 티타네이트 파우더, 산화실리콘 파우더, 비정질 실리콘, 활석, 점토 및 마이카 파우더로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 하나로 이루어짐을 특징으로 하는 절연수지 조성물.The filler is an insulating resin composition, characterized in that made of at least one selected from the group consisting of barium sulfate powder, barium titanate powder, silicon oxide powder, amorphous silicon, talc, clay and mica powder. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 충진제의 표면을 코팅하는데 사용되는 물질은, 고무성분 및 그 유도체, 가소성수지류, 비반응성희석제 및 그 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된 물질임을 특징으로 하는 절연수지 조성물.Insulating resin composition, characterized in that the material used to coat the surface of the filler is selected from the group consisting of rubber components and derivatives thereof, plastic resins, non-reactive diluents and mixtures thereof. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 충진제의 표면을 코팅하는데 사용되는 고무성분은 폴리부타티엔 고무, 개질된 폴리부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-폴리부타디엔 고무 및, 아크릴로니트릴-개질된 폴리부타디엔 고무로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 하나로 이루어짐을 특징으로 하는 절연수지 조성물.The rubber component used to coat the surface of the filler is at least one selected from the group consisting of polybutadiene rubber, modified polybutadiene rubber, acrylonitrile-polybutadiene rubber, and acrylonitrile-modified polybutadiene rubber. Insulation resin composition, characterized in that. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 가소성 수지류는 스티렌-아크릴로니트릴(SAN), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS), 로진(rosin) 및, 왁스로 구성된 그룹에서 선택된 적어도 하나로 이루어짐을 특징으로 하는 절연수지 조성물.The plastic resin may be at least one selected from the group consisting of styrene-acrylonitrile (SAN), acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS), rosin, and wax. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 비반응성 희석제는 디옥틸 프탈레이트(DOP), 디부틸 프탈레이트(DBP), DAP 또는 그 혼합물로 이루어짐을 특징으로 하는 절연수지 조성물.The non-reactive diluent is an insulating resin composition, characterized in that consisting of dioctyl phthalate (DOP), dibutyl phthalate (DBP), DAP or mixtures thereof. 에폭시수지; 10 ∼ 80wt%, 고무성분; 1 ∼ 50wt%, 충진제; 0.1 ∼ 40wt%; 및 잔부로서 용제를 그 합이 100wt%가 되도록 함유하고, 상기 에폭시수지의 당량에 대응하는 양의 에폭시경화제가 첨가되며, 상기 충진제는 적어도 상기 에폭시수지보다 내화학성이 약한 물질로 표면이 코팅된 절연수지 조성물로부터 절연층을 형성하는 단계;Epoxy resins; 10 to 80 wt%, rubber component; 1-50 wt%, filler; 0.1-40 wt%; And as a balance, the solvent is added so that the sum is 100wt%, and an epoxy curing agent in an amount corresponding to the equivalent of the epoxy resin is added, and the filler is at least coated with a material having a lower chemical resistance than the epoxy resin. Forming an insulating layer from the resin composition; 상기 절연층의 표면 중 전도층이 형성될 면에 산화제를 적용하여 조면처리를 실행하는 단계;Performing a roughening treatment by applying an oxidizing agent to a surface of the insulating layer on which a conductive layer is to be formed; 상기 조면처리가 실행된 상기 절연층의 표면에 전도층을 형성하는 단계;Forming a conductive layer on a surface of the insulating layer on which the roughening treatment has been performed; 상기 전도층을 패터닝하여 소정의 회로를 형성하는 단계; 및,Patterning the conductive layer to form a circuit; And, 상기 단계들을 원하는 인쇄회로기판의 적층 수에 따라 반복수행하는 단계를 포함하는 다층 인쇄회로기판 제조방법.And repeating the steps according to the number of stacks of the desired printed circuit board. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 시안계 수지; 1 ∼ 80wt%를 더 포함하며, 상기 에폭시수지, 상기 고무성분, 상기 충진제, 상기 시안계수지의 합이 100wt%가 되도록 함유하고, 상기 에폭시경화제와 함께 상기 시안계수지 당량에 대응하는 양의 시안계 수지용 금속촉매제가 더 첨가됨을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판 제조방법.Cyan resin; 1 to 80 wt%, wherein the epoxy resin, the rubber component, the filler, and the cyan-based resin are added so that the sum is 100 wt%, and together with the epoxy hardener, an amount corresponding to the cyan-based resin equivalent A method of manufacturing a multilayer printed circuit board, wherein a metal catalyst for resin is further added. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 충진제의 표면을 코팅하는데 사용되는 물질은, 고무성분 및 그 유도체, 가소성수지류, 비반응성희석제 및 그 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된 물질임을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판 제조방법.The material used to coat the surface of the filler is a material selected from the group consisting of rubber components and derivatives thereof, plastic resins, non-reactive diluents and mixtures thereof. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 전도층을 형성하는 단계는 무전해도금층을 형성한 후에 전해도금을 적용하여 전도층을 형성하는 단계임을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판 제조방법.The forming of the conductive layer is a method of manufacturing a multilayer printed circuit board, characterized in that after forming the electroless plating layer to form a conductive layer by applying electroplating.
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