JP2005317986A - Process for producing printed wiring board by use of liquid thermosetting resin composition - Google Patents

Process for producing printed wiring board by use of liquid thermosetting resin composition Download PDF

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理恵子 高橋
Norio Kimura
紀雄 木村
Kyoichi Yoda
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Yasukazu Watanabe
靖一 渡辺
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process for producing a reliable printed wiring board which is excellent in various properties such as insulating reliability, resistance to heat, resistance to moisture, and PCT resistance without suffering from such defects as the occurrence of cracks and deterioration of insulation reliability during the course of heat cycle, and the ply separation of the insulating resin layer or cover plating formed on cured products filled in hole parts. <P>SOLUTION: In the process for the production of a printed wiring board by stacking an interlaminar resin insulating layer and a conductive circuit on a surface of a wiring board having a conductive circuit pattern including a hole part, a hole filling process is performed by filling the hole parts with a liquid thermosetting resin composition which comprises liquid epoxy resin, a curing catalyst, and a filler, and is characterized by exhibiting a viscosity at 25°C of not more than 1,500 dPas, a gel time of not less than 300 seconds at a temperature at which the composition exhibits a melt viscosity of not more than 10 dPas, and a gel time at 130°C of not more than 600 seconds, and effecting precure of the composition by heating at a temperature in the range of 90 to 130 °C in which the reaction rate of epoxy group is in the range of from 80 to 97%, then polishing and removing parts of the precured composition protruding from a surface defining the hole parts, and further heating the precured composition till final curing which is carried out at a temperature in the range of 140 to 180°C. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液状熱硬化性樹脂組成物を用いたプリント配線板の製造方法に関し、さらに詳しくは、多層基板や両面基板等のプリント配線板におけるバイアホール、スルーホール等の永久穴埋めを作業性良く行なうことができるプリント配線板の製造方法に関する。
なお、本明細書において、「穴部」とは、プリント配線板の製造過程で形成されるバイアホールやスルーホール等を総称する用語である。
The present invention relates to a method for producing a printed wiring board using a liquid thermosetting resin composition. More specifically, the present invention relates to permanent filling such as via holes and through holes in printed wiring boards such as multilayer boards and double-sided boards with good workability. The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board.
In the present specification, the “hole” is a general term for a via hole, a through hole, or the like formed in the manufacturing process of the printed wiring board.

近年、プリント配線板のパターンの細線化と実装面積の縮小化が進んでおり、さらにプリント配線板を備える機器の小型化・高機能化に対応すべく、プリント配線板のさらなる軽薄短小化が望まれている。そのため、プリント配線板は、コア基板の上下に樹脂絶縁層を形成し、必要な導体回路を形成してからさらに樹脂絶縁層を形成し、導体回路を形成していく方式のビルドアップ工法へ、また実装部品はBGA(ボール・グリッド・アレイ)、LGA(ランド・グリッド・アレイ)等のエリアアレイ型への進化が進んでいる。このような状況下において、スルーホールやバイアホール等の穴部に充填するための充填性、研磨性、硬化物特性等に優れた永久穴埋め用組成物の開発が望まれている。   In recent years, the pattern of printed wiring boards has been made thinner and the mounting area has been reduced, and further reductions in the size and functionality of printed wiring boards are expected in order to respond to the downsizing and enhancement of functionality of devices equipped with printed wiring boards. It is rare. Therefore, the printed wiring board forms a resin insulation layer on the top and bottom of the core substrate, and after forming the necessary conductor circuit, further forms the resin insulation layer, to the build-up method of the method of forming the conductor circuit, In addition, the mounting components are evolving into area array types such as BGA (ball grid array) and LGA (land grid array). Under such circumstances, it is desired to develop a permanent hole filling composition excellent in filling properties, polishing properties, cured product characteristics, and the like for filling holes such as through holes and via holes.

一般に、プリント配線板の永久穴埋め用組成物としては、その硬化物が機械的、電気的、化学的性質に優れ、接着性も良好であることから、熱硬化型のエポキシ樹脂組成物が広く用いられている。
また、かかるエポキシ樹脂組成物を用いるプリント配線板の永久穴埋め加工は、一般に、エポキシ樹脂組成物をプリント配線板の穴部に充填する工程、該充填された組成物を加熱して研磨可能な状態に予備硬化する工程、予備硬化した組成物の穴部表面からはみ出している部分を研磨・除去する工程、及び予備硬化した組成物をさらに加熱して本硬化する工程からなる。
In general, thermosetting epoxy resin compositions are widely used as permanent hole filling compositions for printed wiring boards because their cured products have excellent mechanical, electrical, and chemical properties and good adhesion. It has been.
In addition, permanent hole filling of a printed wiring board using such an epoxy resin composition is generally a step of filling the hole portion of the printed wiring board with the epoxy resin composition, a state where the filled composition can be heated and polished And a step of polishing and removing a portion protruding from the surface of the hole of the precured composition, and a step of further heating the precured composition to perform main curing.

このプリント配線板の永久穴埋め加工では、エポキシ樹脂組成物をスルーホールやバイアホール等の穴部に充填する際に、空気の巻き込み等によりどうしてもボイドが発生してしまう。かかるボイドは、予備硬化や本硬化を行なっても完全に除去することは困難であり、なくすことはできなかった。このような現象は、穴部の深さが深い程(スルーホールの場合はコア基板の厚さが厚くなる程)、またエポキシ樹脂組成物の粘度が高い程顕著であった。また、前記プリント配線板の永久穴埋め加工では、予備硬化時にクラックが発生するという問題があった。
さらに、加熱硬化時の収縮が大きく、本硬化後にスルーホール壁との間に隙間が生じるという問題もあった。
In the permanent hole filling process of the printed wiring board, voids are inevitably generated due to air entrainment or the like when filling the hole portion such as a through hole or a via hole with the epoxy resin composition. Such voids are difficult to remove completely even after preliminary curing or main curing, and cannot be eliminated. Such a phenomenon becomes more prominent as the depth of the hole is deeper (in the case of a through hole, the thicker the core substrate), and the higher the viscosity of the epoxy resin composition. Further, in the permanent hole filling process of the printed wiring board, there is a problem that cracks occur during preliminary curing.
Furthermore, there is a problem that the shrinkage at the time of heat curing is large, and a gap is generated between the through hole wall after the main curing.

このようにプリント配線板の穴部に充填された樹脂組成物の硬化物にボイドやクラック等が発生すると、この部分によって吸湿性を呈し、高温高湿下でのPCT耐性(プレッシャー・クッカー耐性)が低下し、また、プリント配線板のヒートサイクル時のクラック発生や絶縁信頼性の悪化を招いてしまう。さらに、穴部に充填された硬化物の上に形成される絶縁樹脂層や蓋メッキの層間剥離の要因ともなる。   When voids, cracks, etc. occur in the cured resin composition filled in the hole of the printed wiring board in this way, this part exhibits hygroscopicity, and PCT resistance under high temperature and high humidity (pressure cooker resistance) In addition, cracks during the heat cycle of the printed wiring board and deterioration of insulation reliability are caused. Furthermore, it becomes a factor of delamination of the insulating resin layer and the lid plating formed on the cured material filled in the hole.

そこで、本発明は、前記したような事情に鑑みてなされたものであり、プリント配線板のバイアホール、スルーホール等の穴埋めを作業性良く行なうことができ、ヒートサイクル時のクラック発生や、絶縁信頼性の悪化、穴部に充填された硬化物の上に形成される絶縁樹脂層や蓋メッキの層間剥離等がなく、絶縁信頼性や耐熱性、耐湿性、PCT耐性等の特性に優れる高信頼性のプリント配線板の製造方法を提供することにある。   Therefore, the present invention has been made in view of the circumstances as described above, and can fill a via hole, a through hole, etc. of a printed wiring board with good workability, generation of cracks during heat cycle, and insulation. High reliability with excellent insulation reliability, heat resistance, moisture resistance, PCT resistance, etc. without deterioration of reliability, delamination of insulating resin layer and lid plating formed on the cured material filled in the hole An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a reliable printed wiring board.

前記目的を達成するために、本発明によれば、穴部を含む導体回路パターンを形成した配線基板の表面に、層間樹脂絶縁層と導体回路を積層してプリント配線板を製造するにあたり、
(a)(A)液状のエポキシ樹脂、(B)硬化触媒、及び(C)フィラーを含有する液状熱硬化性樹脂組成物であって、25℃での粘度が1500dPa・s以下、溶融粘度10dPa・s以下の温度でのゲルタイムが300秒以上、130℃でのゲルタイムが600秒以下の液状熱硬化性樹脂組成物を上記穴部に充填する工程、
(b)該充填された組成物を90〜130℃に加熱して、エポキシ基の反応率が80〜97%となるように予備硬化する工程、
(c)予備硬化した組成物の穴部表面からはみ出している部分を研磨・除去する工程、及び
(d)予備硬化した組成物をさらに140〜180℃に加熱して本硬化する工程
を含む穴埋め加工を含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法が提供される。
In order to achieve the above object, according to the present invention, in manufacturing a printed wiring board by laminating an interlayer resin insulation layer and a conductor circuit on the surface of a wiring board on which a conductor circuit pattern including a hole is formed,
(A) A liquid thermosetting resin composition comprising (A) a liquid epoxy resin, (B) a curing catalyst, and (C) a filler, having a viscosity at 25 ° C. of 1500 dPa · s or less and a melt viscosity of 10 dPa A step of filling the hole with a liquid thermosetting resin composition having a gel time at a temperature of s or less of 300 seconds or more and a gel time at 130 ° C. of 600 seconds or less;
(B) heating the filled composition to 90 to 130 ° C. and pre-curing so that the reaction rate of epoxy groups is 80 to 97%;
(C) Polishing and removing the portion of the precured composition protruding from the surface of the hole, and (d) Filling the hole including a step of further curing the precured composition at 140 to 180 ° C. A method of manufacturing a printed wiring board including processing is provided.

前記「ゲルタイム」とは、JIS C 2105 18.2の熱板法に準拠してゲル化試験機により測定し、測定温度に保持した試料0.4ml中で回転棒を回転させたときのトルクが最大トルクの30%に達するまでの時間をいう。
さらに、前記「溶融粘度」とは、測定温度に保持した試料2mlを予熱5分後、ピストンにより荷重1kgをかけながらフローテスタ(ダイ穴径:1.0mm、ダイ長さ:10mm)で測定した粘度をいう。
前記した液状熱硬化性樹脂組成物は、25℃での粘度が1500dPa・s以下、溶融粘度10dPa・s以下の温度でのゲルタイムが300秒以上、130℃でのゲルタイムが600秒以下であるため、プリント配線板のバイアホールやスルーホール等の穴部への充填性(作業性)に優れると共に、ボイドの残留やクラックの発生がないという特有の効果を奏する。また、フィラーの高配合化が可能であり、硬化収縮が少ないと共に、得られる硬化物は、低吸湿性で密着性に優れ、高温高湿下での体積膨張が少なく、絶縁信頼性や耐熱性、耐湿性、PCT耐性等に優れている。
The “gel time” is measured by a gelation tester based on the hot plate method of JIS C 2105 18.2, and the torque when rotating the rotating rod in 0.4 ml of the sample held at the measurement temperature. Time to reach 30% of maximum torque.
Further, the “melt viscosity” was measured with a flow tester (die hole diameter: 1.0 mm, die length: 10 mm) while applying a load of 1 kg with a piston after 5 minutes of preheating a 2 ml sample held at the measurement temperature. Viscosity.
The liquid thermosetting resin composition described above has a gel time at 25 ° C. of 1500 dPa · s or less and a melt viscosity of 10 dPa · s or less at a temperature of 300 seconds or more and a gel time at 130 ° C. of 600 seconds or less. In addition to being excellent in filling (workability) of hole portions such as via holes and through holes in a printed wiring board, there are specific effects that voids remain and cracks do not occur. In addition, high filler content is possible, cure shrinkage is small, and the resulting cured product has low hygroscopicity and excellent adhesion, low volume expansion under high temperature and high humidity, insulation reliability and heat resistance Excellent in moisture resistance, PCT resistance and the like.

好適な態様においては、前記予備硬化工程を、先の段階よりも後の段階の加熱温度が高くなるように少なくとも二段階に分けて行なう。
なお、本明細書中でいう「予備硬化」又は「予備硬化物」とは、エポキシ基の反応率が80%〜97%の状態のものをいう。
In a preferred embodiment, the pre-curing step is performed in at least two stages so that the heating temperature in the subsequent stage is higher than the previous stage.
In addition, the term “precured” or “precured product” in the present specification refers to a state where the reaction rate of the epoxy group is 80% to 97%.

前記のような方法により、プリント配線板のバイアホール、スルーホール等の穴埋めを作業性良く行なうことができ、ヒートサイクル時のクラック発生や、絶縁信頼性の悪化、穴部に充填された硬化物の上に形成される絶縁樹脂層や蓋メッキの層間剥離等がなく、絶縁信頼性や耐熱性、耐湿性、PCT耐性等の特性に優れる高信頼性のプリント配線板を生産性良く製造することができる。   By such a method, filling of via holes, through holes, etc. of printed wiring boards can be performed with good workability, crack generation during heat cycle, deterioration of insulation reliability, hardened material filled in holes. A highly reliable printed wiring board with excellent insulation reliability, heat resistance, moisture resistance, PCT resistance, and other characteristics is produced with good productivity without the insulating resin layer or lid plating delamination formed on the substrate. Can do.

本発明の液状熱硬化性樹脂組成物を用いたプリント配線板の製造方法の特徴は、スルーホールやバイアホール等の穴埋め加工を、予備硬化と本硬化( 仕上げ硬化)の二段階硬化により行なうため、予備硬化後に研磨可能な状態となり、予備硬化物の不要部分を物理研磨により極めて容易に研磨・除去することができる点にある。
また、エポキシ樹脂の予備硬化物は、本硬化時の収縮が少なく、また最終硬化物が絶縁信頼性や耐熱性、耐湿性に優れ、線膨張係数や、高温高湿条件下での吸水率や体積膨張が小さい点で有利であり、高信頼性の多層プリント配線板を製造することができる。
The feature of the method for producing a printed wiring board using the liquid thermosetting resin composition of the present invention is that the filling process of through holes and via holes is performed by two-stage curing of pre-curing and main curing (finish curing). It is in a state where it can be polished after pre-curing, and unnecessary portions of the pre-cured product can be polished and removed very easily by physical polishing.
In addition, the epoxy resin precured product has little shrinkage during the main curing, and the final cured product has excellent insulation reliability, heat resistance and moisture resistance, linear expansion coefficient, water absorption rate under high temperature and high humidity conditions, etc. It is advantageous in that the volume expansion is small, and a highly reliable multilayer printed wiring board can be manufactured.

さらに本発明のプリント配線板の製造方法の好適な態様においては、前記予備硬化工程を、先の段階よりも後の段階の加熱温度が高くなるように少なくとも二段階に分けて行なう。即ち、一次予備硬化として、まずエポキシ樹脂の架橋反応が生起せず、かつ溶融粘度が10dPa・s以下となる温度でボイドが除去されるまで加熱処理し、次いで、二次予備硬化として、エポキシ樹脂の架橋反応が生じる温度で、研磨可能な状態となるまで(エポキシ反応率80%〜97%)加熱処理する。例えば、通常の予備硬化温度である130℃での予備硬化(二次予備硬化)に先立って、これよりも低い温度、例えば100℃前後の温度で一次予備硬化を行なう。このように多段階予備硬化を行なうことにより、気泡を確実に除去し、ボイドの残留や予備硬化時のクラックの発生を抑制し易くなる。   Furthermore, in a preferred aspect of the method for producing a printed wiring board of the present invention, the preliminary curing step is performed in at least two stages so that the heating temperature in the subsequent stage is higher than the previous stage. That is, as the primary pre-curing, first, the epoxy resin is not subjected to a crosslinking reaction, and heat treatment is performed at a temperature at which the melt viscosity is 10 dPa · s or less until the voids are removed. Heat treatment is performed at a temperature at which the cross-linking reaction occurs until polishing is possible (epoxy reaction rate 80% to 97%). For example, prior to pre-curing (secondary pre-curing) at 130 ° C., which is a normal pre-curing temperature, primary pre-curing is performed at a temperature lower than this, for example, around 100 ° C. By performing multi-stage pre-curing in this way, it is easy to remove bubbles and suppress the occurrence of voids and cracks during pre-curing.

また、本発明のプリント配線板の製造方法に用いる液状熱硬化性樹脂組成物の第一の特徴は、25℃での粘度が1500dPa・s以下である点にある。これにより、プリント配線板のスルーホールやバイアホール等の穴部への充填性に優れたものとなり、スクリーン印刷法やロールコーティング法などの従来公知・慣用の技術でプリント配線板のバイアホール等の穴部に組成物を作業性良く充填することができる。
また、該組成物の第二の特徴は、溶融粘度10dPa・s以下の温度でのゲルタイムが300秒以上である点にある。溶融粘度10dPa・s以下の温度でのゲルタイムを300秒以上とすることにより、ボイドを確実に除去することができる。
さらに、該組成物の第三の特徴は、130℃でのゲルタイムが600秒以下である点にある。ゲルタイムが600秒を超えて遅くなると、予備硬化時にクラックが発生し易くなる。
なお、上記ゲルタイムが早くなるとボイドが残留し易くなるが、溶融粘度10dPa・s以下の温度でのゲルタイムを300秒以上に規制することにより、ボイドの残留を防止することができる。すなわち、130℃でのゲルタイムの上限と溶融粘度10dPa・s以下の温度でのゲルタイムの下限の両方を規制することによって、適度の予備硬化速度を達成し、ボイドの残留及びクラックの発生を防止することができる。
The first feature of the liquid thermosetting resin composition used in the method for producing a printed wiring board of the present invention is that the viscosity at 25 ° C. is 1500 dPa · s or less. As a result, the printed wiring board has excellent fillability in holes such as through-holes and via holes. Conventionally known and commonly used techniques such as screen printing methods and roll coating methods can be used for printed wiring board via holes and the like. The hole can be filled with the composition with good workability.
The second feature of the composition is that the gel time at a temperature of a melt viscosity of 10 dPa · s or less is 300 seconds or more. By setting the gel time at a melt viscosity of 10 dPa · s or less to 300 seconds or more, voids can be reliably removed.
Furthermore, the third characteristic of the composition is that the gel time at 130 ° C. is 600 seconds or less. If the gel time is over 600 seconds, cracks are likely to occur during preliminary curing.
In addition, although the void tends to remain as the gel time becomes earlier, the remaining of the void can be prevented by regulating the gel time at a temperature of melt viscosity of 10 dPa · s or less to 300 seconds or more. That is, by regulating both the upper limit of the gel time at 130 ° C. and the lower limit of the gel time at a temperature of melt viscosity of 10 dPa · s or less, an appropriate pre-curing speed is achieved, and void remaining and cracking are prevented. be able to.

以下、本発明のプリント配線板の製造方法に用いられる液状熱硬化性樹脂組成物の各構成成分について詳しく説明する。
まず、前記エポキシ樹脂(A)としては、周知のものであれば全て使用できる。具体的な例としては、例えばビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型などの各種エポキシ樹脂が挙げられる。これらは、塗膜の特性向上の要求に合わせて、単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。但し、組成物としての粘度は、25 ℃での粘度が1500dPa・s以下であることが必要である。
なお、フェノール樹脂等の他の熱硬化性樹脂を、上記粘度範囲内で併用することができる。
Hereinafter, each component of the liquid thermosetting resin composition used in the method for producing a printed wiring board of the present invention will be described in detail.
First, as the epoxy resin (A), any known resin can be used. Specific examples include various epoxy resins such as bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, phenol novolac type, and cresol novolac type. These can be used singly or in combination of two or more according to the demand for improving the properties of the coating. However, the viscosity of the composition needs to be 1500 dPa · s or less at 25 ° C.
In addition, other thermosetting resins, such as a phenol resin, can be used together within the said viscosity range.

前記硬化触媒(B)としては、前記したように、用いるエポキシ樹脂に応じて130℃でのゲルタイムが600秒以下となるように、エポキシ樹脂の硬化反応を促進する効果があれば何れのものも使用でき、特定のものには限定されない。それらのなかでも、130℃でのゲルタイムが600秒以下となるように調整しやすい点でイミダゾール誘導体が好ましく、例えば2−メチルイミダゾール、4−メチル−2−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、4−メチル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾールなどが挙げられる。市販されているものの具体例としては、商品名2E4MZ、C11Z、C17Z、2PZ等のイミダゾール類や、商品名2MZ−A、2E4MZ−A等のイミダゾールのAZ INE化合物、商品名2MZ−OK、2PZ−OK等のイミダゾールのイソシアヌル酸塩、商品名2PHZ、2P4MHZ等のイミダゾールヒドロキシメチル体(前記商品名はいずれも四国化成工業(株)製)などが挙げられる。   Any curing catalyst (B) may be used as long as it has the effect of promoting the curing reaction of the epoxy resin so that the gel time at 130 ° C. is 600 seconds or less depending on the epoxy resin used, as described above. It can be used and is not limited to a specific one. Among these, an imidazole derivative is preferable in that the gel time at 130 ° C. is easily adjusted to 600 seconds or less, and examples thereof include 2-methylimidazole, 4-methyl-2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, 4- Methyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-isopropylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1- And cyanoethyl-2-undecylimidazole. Specific examples of commercially available products include imidazoles such as trade names 2E4MZ, C11Z, C17Z, and 2PZ, and AZ INE compounds of imidazoles such as trade names 2MZ-A and 2E4MZ-A, and trade names 2MZ-OK and 2PZ-. Examples thereof include isocyanurate of imidazole such as OK, and imidazole hydroxymethyl compounds such as trade names 2PHZ and 2P4MHZ (the trade names are all manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.).

前記イミダゾール以外にも、ジシアンジアミドとその誘導体、メラミンとその誘導体、ジアミノマレオニトリルとその誘導体、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラメチレンペンタミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエタノーアミン、ジアミノジフェニルメタン、有機酸ヒドラジッド等のアミン類、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(商品名DBU、サンアプロ(株)製)、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン(商品名ATU、味の素(株)製)、又は、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン等の有機ホスフィン化合物などを、用いるエポキシ樹脂に応じて130℃でのゲルタイムが600秒以下となるように、単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。しかし、芳香族アミン類を用いた場合には加熱硬化後の樹脂組成物の収縮が大きく、硬化後にスルーホール壁との間に隙間が生じたり、穴埋め部の硬化物にボイドが生じ易いので好ましくない。これらの硬化触媒の中でも、ジシアンジアミド、メラミンや、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、3,9−ビス[2−(3,5−ジアミノ−2,4,6−トリアザフェニル)エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン等のグアナミン及びその誘導体、及びこれらの有機酸塩やエポキシアダクトなどは、銅との密着性や防錆性を有することが知られており、エポキシ樹脂の硬化触媒として働くばかりでなく、プリント配線板の銅の変色防止に寄与することができる。   Besides imidazole, dicyandiamide and its derivatives, melamine and its derivatives, diaminomaleonitrile and its derivatives, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetramethylenepentamine, bis (hexamethylene) triamine, triethanolamine, diaminodiphenylmethane, organic acid Amines such as hydrazide, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (trade name DBU, manufactured by San Apro), 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8 , 10-tetraoxaspiro [5.5] undecane (trade name ATU, manufactured by Ajinomoto Co., Inc.), or an epoxy using an organic phosphine compound such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, tributylphosphine, or methyldiphenylphosphine As gel time at 130 ° C. Depending on the fat is less than or equal to 600 seconds, can be used alone or in combination of two or more. However, when aromatic amines are used, the resin composition after heat-curing shrinks greatly, and it is preferable because voids are likely to form between the through-hole walls after curing and voids in the cured product in the hole filling portion. Absent. Among these curing catalysts, dicyandiamide, melamine, acetoguanamine, benzoguanamine, 3,9-bis [2- (3,5-diamino-2,4,6-triazaphenyl) ethyl] -2,4,8 , 10-tetraoxaspiro [5.5] undecane and derivatives thereof, and their organic acid salts and epoxy adducts are known to have adhesion and rust prevention properties with copper. In addition to acting as a curing catalyst for the resin, it can contribute to the prevention of discoloration of copper in the printed wiring board.

前記したような硬化触媒(B)の配合量は、用いるエポキシ樹脂に応じて130℃でのゲルタイムが600秒以下となるような量的割合であればよく、一般に、前記エポキシ樹脂(A)100質量部当り3質量部以上、20質量部以下、好ましくは5質量部以上、15質量部以下が適当である。硬化触媒(B)の配合量が3質量部未満の場合、一般にゲルタイムが600秒を超えるほど樹脂組成物の予備硬化速度が遅くなり、ボイドの残留とクラックの発生を生じ易くなるので好ましくない。一方、硬化触媒(B)の配合量が20質量部を超えて多量に配合すると、一般に樹脂組成物の予備硬化速度が早くなり過ぎ、ボイドが残留し易くなるので好ましくない。   The blending amount of the curing catalyst (B) as described above may be a quantitative ratio such that the gel time at 130 ° C. is 600 seconds or less depending on the epoxy resin used. In general, the epoxy resin (A) 100 3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or more and 15 parts by mass or less are appropriate per part by mass. When the blending amount of the curing catalyst (B) is less than 3 parts by mass, the pre-curing rate of the resin composition generally decreases as the gel time exceeds 600 seconds, and voids and cracks are likely to occur. On the other hand, when the blending amount of the curing catalyst (B) exceeds 20 parts by mass, generally the preliminary curing rate of the resin composition becomes too fast and voids are likely to remain, which is not preferable.

前記フィラー(C)としては従来公知の全ての無機充填剤及び有機充填剤が使用でき、特定のものに限定されないが、特に本発明の液状熱硬化性樹脂組成物では、スルーホール等への充填性(作業性)を損なうことなくフィラーの高配合化を可能にするために、フィラー(C)として、球状フィラーと粉砕フィラーを含むことが好ましい。また、特に好ましい態様においては、球状フィラーとして、球状微細フィラー及び球状粗フィラーが含まれる。
これらのフィラーのうち、球状微細フィラーと球状粗フィラーがフィラーの高配合化の役割を担い、一方、粉砕フィラーは粘度やチキソトロピーの変化による充填性の低下を防止する役割を担っている。特に、かかる役割を有効に発揮させるためには、前記球状微細フィラーの平均粒径は0.1μm以上、3μm未満、より好ましくは1.0〜2.0μm、前記球状粗フィラーの平均粒径は3μm以上、25μm未満、より好ましくは4〜10μm、前記粉砕フィラーの平均粒径は25μm以下、より好ましくは10μm以下であることが好ましい。なお、球状微細フィラーと球状粗フィラーの平均粒径差は、2〜12μmであることが好ましい。
As the filler (C), all conventionally known inorganic fillers and organic fillers can be used, and the filler (C) is not limited to a specific one. Especially, in the liquid thermosetting resin composition of the present invention, filling into a through hole or the like is possible. In order to enable high filler blending without impairing the workability (workability), it is preferable to include a spherical filler and a pulverized filler as the filler (C). In a particularly preferred embodiment, spherical fillers include spherical fine fillers and spherical coarse fillers.
Among these fillers, the spherical fine filler and the spherical coarse filler play a role of increasing the filler content, while the pulverized filler plays a role of preventing a decrease in filling property due to a change in viscosity and thixotropy. In particular, in order to effectively exert such a role, the average particle size of the spherical fine filler is 0.1 μm or more and less than 3 μm, more preferably 1.0 to 2.0 μm, and the average particle size of the spherical coarse filler is 3 μm or more and less than 25 μm, more preferably 4 to 10 μm, and the average particle size of the pulverized filler is preferably 25 μm or less, more preferably 10 μm or less. In addition, it is preferable that the average particle diameter difference of a spherical fine filler and a spherical coarse filler is 2-12 micrometers.

このような形態のフィラー(C)としては、通常の樹脂充填剤として使用されているものであればいかなるものであってもよい。例えば、シリカ、沈降性硫酸バリウム、タルク、炭酸カルシウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム等の体質顔料や、銅、錫、亜鉛、ニッケル、銀、パラジウム、アルミニウム、鉄、コバルト、金、白金等の金属粉体が挙げられる。
このようなフィラーは、その形状によって球状フィラーと球状以外の他の形状の粉砕フィラーに分類されるが、球状フィラーはその平均粒径によって上記のように球状微細フィラーと球状粗フィラーに分類される。球状微細フィラーと球状粗フィラーとしては球状シリカが好ましい。上記フィラー(無機充填剤)の中でも、低吸湿性、低体積膨張性に特に優れるのは、シリカである。シリカは溶融、結晶性を問わず、これらの混合物であってもかまわない。
なお、粉砕フィラーの形状は、球状以外の形状、例えば針状、板状、鱗片状、中空状、不定形、六角状、キュービック状、薄片状等が挙げられる。
Any filler (C) having such a form may be used as long as it is used as a normal resin filler. For example, extender pigments such as silica, precipitated barium sulfate, talc, calcium carbonate, silicon nitride and aluminum nitride, and metal powders such as copper, tin, zinc, nickel, silver, palladium, aluminum, iron, cobalt, gold and platinum The body is mentioned.
Such fillers are classified into spherical fillers and pulverized fillers other than spherical shapes depending on their shapes, but spherical fillers are classified into spherical fine fillers and spherical coarse fillers as described above according to their average particle size. . As the spherical fine filler and the spherical coarse filler, spherical silica is preferable. Among the fillers (inorganic fillers), silica is particularly excellent in low hygroscopicity and low volume expansion. Silica may be a mixture thereof regardless of melting or crystallinity.
The shape of the pulverized filler includes shapes other than spherical shapes, such as needle shape, plate shape, scale shape, hollow shape, indefinite shape, hexagonal shape, cubic shape, and flake shape.

このようなフィラーにおいて、球状微細フィラーと球状粗フィラーの配合比率は、質量比で、40〜10:60〜90であることが好ましい。より好ましくは30〜20:70〜80である。
また、粉砕フィラーの配合量は、フィラー全体量の5〜20質量%であることが好ましい。5質量%未満では組成物の流動性が大きくなりすぎ、一方20質量%を超えると、組成物の流動性が悪くなり、いずれの場合も充填性の低下を招くからである。
この混合フィラーの総配合量は、組成物全体量の40〜95質量%が好ましい。40質量%未満では、得られる硬化物が充分な低膨張性を示すことができず、さらに研磨性や密着性も不充分となる。一方、95質量%を超えると、液状ペースト化が難しく、印刷性、穴埋め充填性などが得られなくなる。
In such a filler, the mixing ratio of the spherical fine filler and the spherical coarse filler is preferably 40 to 10:60 to 90 in terms of mass ratio. More preferably, it is 30-20: 70-80.
Moreover, it is preferable that the compounding quantity of a grinding | pulverization filler is 5-20 mass% of the filler whole quantity. If the amount is less than 5% by mass, the fluidity of the composition becomes too high. On the other hand, if the amount exceeds 20% by mass, the fluidity of the composition deteriorates, and in any case, the filling property is lowered.
The total amount of the mixed filler is preferably 40 to 95% by mass of the total amount of the composition. If it is less than 40% by mass, the obtained cured product cannot exhibit sufficient low expansibility, and further, the polishing properties and adhesion are insufficient. On the other hand, when it exceeds 95% by mass, it is difficult to form a liquid paste, and printability, hole filling and filling properties cannot be obtained.

本発明の液状熱硬化性樹脂組成物では、前記した各成分に加えて、チタネート系カップリング剤、シラン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等のカップリング剤(D)を添加することが好ましい。これらのカップリング剤の添加方法は、組成物中に直に添加する方法、あるいは前記のようなフィラー(C)を予めカップリング剤で前処理したものを加える方法のいずれの方法でもよい。これらのカップリング剤の中でも、チタネート系カップリング剤を用いることが好ましい。
液状熱硬化性樹脂組成物中にカップリング剤が存在することにより、樹脂とフィラーの濡れ性が向上し、組成物の粘度が低下するために、本発明で規定する粘度及びゲルタイムの特性を維持しつつフィラーの高配合化が可能となる。また、フィラーを多量に配合しても粘度調整が容易であり、かつボイドの残留やクラック発生を大幅に低減できる。
In the liquid thermosetting resin composition of the present invention, a coupling agent (D) such as a titanate coupling agent, a silane coupling agent, or an aluminum coupling agent may be added in addition to the above-described components. preferable. The method of adding these coupling agents may be either a method of adding directly to the composition or a method of adding a filler (C) pretreated with a coupling agent in advance. Among these coupling agents, it is preferable to use a titanate coupling agent.
The presence of the coupling agent in the liquid thermosetting resin composition improves the wettability of the resin and filler, and lowers the viscosity of the composition. Therefore, the viscosity and gel time characteristics defined in the present invention are maintained. However, the filler can be highly compounded. Further, even when a large amount of filler is blended, the viscosity can be easily adjusted, and voids remaining and cracks can be greatly reduced.

チタネート系カップリング剤としては、テトラノルマルブチルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルピロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリ−n−ドデシルベンゼンスルホニルチタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジ−トリデシル)ホスファイトチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス(ジオクチルピロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルピロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート等が挙げられる。
シランカップリング剤としては、一方の端部に少なくとも2個以上のメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基が結合したアルコキシシラン基を有し、他方の端部にアミノ基、尿素基等のアミン系末端基を有する公知の化合物は全て使用できる。具体例としては、例えばγ−ウレイドプロピル トリエトキシシラン、γ−アミノプロピル トリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピル トリエトキシシラン等が挙げられる。
また、アルミニウム系カップリング剤としては、(アルキルアセトアセタト)アルミニウムジイソプロピレート等が挙げられる。
これらのカップリング剤(D)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は前記フィラー(C)100質量部当り0.1〜5質量部の割合が好ましい。
Examples of titanate coupling agents include tetranormal butyl titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, isopropyl tri-n-dodecylbenzenesulfonyl titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (di-). Tridecyl) phosphite titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate, isopropyl triisostearoyl titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) ethylene Examples thereof include titanate and isopropyltri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate.
The silane coupling agent has an alkoxysilane group to which at least two methoxy groups, ethoxy groups, propoxy groups, butoxy groups and the like are bonded at one end, and an amino group at the other end. Any known compound having an amine-based end group such as a urea group can be used. Specific examples include γ-ureidopropyl triethoxysilane, γ-aminopropyl triethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyl triethoxysilane, and the like.
Examples of the aluminum coupling agent include (alkyl acetoacetate) aluminum diisopropylate.
These coupling agents (D) can be used alone or in combination of two or more, and the blending amount thereof is preferably 0.1 to 5 parts by mass per 100 parts by mass of the filler (C).

本発明の液状熱硬化性樹脂組成物では、粘度が1500dPa・s以下となるようにエポキシ樹脂を適宜選定して用いているため、必ずしも希釈溶剤を用いる必要はないが、組成物の粘度を調整するために、ボイドが発生しない程度に希釈溶剤を添加してもよい。
希釈溶剤としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、及び上記グリコールエーテル類の酢酸エステル化物などのエステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類;オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤などが挙げられる。
In the liquid thermosetting resin composition of the present invention, since an epoxy resin is appropriately selected and used so that the viscosity is 1500 dPa · s or less, it is not always necessary to use a diluting solvent, but the viscosity of the composition is adjusted. In order to do so, a diluent solvent may be added to such an extent that no voids are generated.
Diluting solvents include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol mono Glycol ethers such as ethyl ether and triethylene glycol monoethyl ether; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate and acetic acid ester of the above glycol ethers; Alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol and propylene glycol; Octane And aliphatic hydrocarbons such as decane; petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha.

さらに本発明の液状熱硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラックなどの公知慣用の着色剤、保管時の保存安定性を付与するためにハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、tert−ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジンなどの公知慣用の熱重合禁止剤、クレー、カオリン、有機ベントナイト、モンモリロナイトなどの公知慣用の増粘剤もしくはチキソトロピー剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系などの消泡剤及び/又はレベリング剤、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤などの密着性付与剤のような公知慣用の添加剤類を配合することができる。特に、有機ベントナイトを用いた場合、穴部表面からはみ出る予備硬化物部分が研磨・除去し易い突出した状態に形成され易く、研磨性に優れたものとなるので好ましい。   Further, the liquid thermosetting resin composition of the present invention may be a known and commonly used phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodin green, disazo yellow, crystal violet, titanium oxide, carbon black, naphthalene black or the like. Coloring agents, known conventional thermal polymerization inhibitors such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butylcatechol, pyrogallol, phenothiazine, clay, kaolin, organic bentonite, montmorillonite, etc. Thickeners or thixotropic agents, antifoaming and / or leveling agents such as silicones, fluorines and polymers, imidazole, thiazoles, triazoles, silane coupling agents, etc. Una can be blended additives such conventionally known. In particular, when organic bentonite is used, a precured product portion protruding from the surface of the hole portion is easily formed in a protruding state that can be easily polished and removed, and is excellent in polishing properties.

かくして得られる本発明の液状熱硬化性充填用組成物は、従来より使用されている方法、例えばスクリーン印刷法、ロールコーティング法、ダイコーティング法等を利用してプリント配線板のバイアホールやスルーホール等の穴部に容易に充填することができる。
次いで、例えば約90〜130℃で約30〜90分程度加熱して予備硬化させる。好ましくは、前記したように約90〜110℃で一次予備硬化させた後、約110〜130℃で二次予備硬化させる。このようにして予備硬化された硬化物の硬度は比較的に低いため、基板表面からはみ出している不必要部分を物理研磨により容易に除去でき、平坦面とすることができる。
The liquid thermosetting filling composition of the present invention thus obtained is a via hole or through hole of a printed wiring board using a conventionally used method such as a screen printing method, a roll coating method, a die coating method or the like. It is possible to easily fill the holes such as.
Next, for example, the film is preliminarily cured by heating at about 90 to 130 ° C. for about 30 to 90 minutes. Preferably, the primary preliminary curing is performed at about 90 to 110 ° C. as described above, and then the second preliminary curing is performed at about 110 to 130 ° C. Since the hardness of the cured product preliminarily cured in this manner is relatively low, unnecessary portions protruding from the substrate surface can be easily removed by physical polishing, and a flat surface can be obtained.

その後、再度約140〜180℃で約30〜90分程度加熱して本硬化(仕上げ硬化)する。この際、本発明の液状熱硬化性樹脂組成物は低膨張性のために硬化物は殆ど膨張も収縮もせず、寸法安定性良く低吸湿性、密着性、電気絶縁性等に優れた最終硬化物となる。これにより得られる硬化物は、熱的信頼性や耐熱性、耐湿性に優れ、また高温高湿下においても体積膨張がほとんどなくPCT耐性に優れる。なお、上記予備硬化物の硬度は、予備硬化の加熱時間、加熱温度を変えることによってコントロールすることができる。
このように本発明の液状熱硬化性樹脂組成物を用いたプリント配線板の永久穴埋め加工によれば、作業性及び生産性よくプリント配線板の穴部の充填を行なうことができ、しかも穴埋め後の硬化物の特性・物性にも優れるものとなる。
なお、本発明の液状熱硬化性樹脂組成物は、プリント配線板の永久穴埋め用組成物としてのみでなく、上記のような優れた特性の故に、ソルダーレジストや層間絶縁材、ICパッケージの封止材等、他の用途にも好適に用いることができる。
Thereafter, the film is again heated at about 140 to 180 ° C. for about 30 to 90 minutes to be fully cured (finish cured). At this time, since the liquid thermosetting resin composition of the present invention has low expansibility, the cured product hardly expands or contracts, and the final curing excellent in dimensional stability, low hygroscopicity, adhesion, electrical insulation, etc. It becomes a thing. The cured product thus obtained is excellent in thermal reliability, heat resistance and moisture resistance, and has almost no volume expansion even under high temperature and high humidity, and is excellent in PCT resistance. The hardness of the precured product can be controlled by changing the precuring heating time and heating temperature.
As described above, according to the permanent hole filling process of the printed wiring board using the liquid thermosetting resin composition of the present invention, the hole of the printed wiring board can be filled with good workability and productivity, and after filling the hole. The cured product has excellent properties and physical properties.
Note that the liquid thermosetting resin composition of the present invention is not only used as a permanent hole filling composition for printed wiring boards, but also because of the excellent characteristics as described above, solder resists, interlayer insulating materials, and IC package sealing. It can use suitably also for other uses, such as a material.

以下、本発明のプリント配線板を製造する方法について、添付図面を参照しながら具体的に説明する。なお、以下に述べる方法は、セミアディティブ法による多層プリント配線板の製造方法の一例であるが、本発明におけるプリント配線板の製造方法では、フルアディティブ法やマルチラミネーション法、ピンラミネーション法など、従来公知の各種方法を採用することができる。   Hereinafter, a method for producing a printed wiring board of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings. The method described below is an example of a method for producing a multilayer printed wiring board by a semi-additive method. However, in the method for producing a printed wiring board in the present invention, a conventional method such as a full additive method, a multi-lamination method, a pin lamination method, etc. Various known methods can be employed.

(1)スルーホールの形成
まず、図1(a)に示すように銅箔2をラミネートした基板1にドリルで貫通孔を明け、貫通孔の壁面及び銅箔表面に無電解めっきを施してスルーホール3を形成する。基板としては、ガラスエポキシ基板やポリイミド基板、ビスマレイミド−トリアジン樹脂基板、フッ素樹脂基板などの樹脂基板、あるいはこれらの樹脂基板の銅張積層板、セラミック基板、金属基板などを用いることができる。フッ素樹脂基板のようにめっきのつきまわりが悪い基板の場合は、有機金属ナトリウムからなる前処理剤、プラズマ処理などの表面改質を行なう。
次に、厚付けのために電解めっきを行ない、図1(b)に示すように基板表面及びスルーホール3内壁にめっき膜4を形成する。この電解めっきとしては銅めっきが好ましい。
(1) Formation of a through hole First, as shown in FIG. 1 (a), a through hole is drilled in a substrate 1 laminated with a copper foil 2, and electroless plating is applied to the wall surface of the through hole and the surface of the copper foil. Hole 3 is formed. As the substrate, a glass epoxy substrate, a polyimide substrate, a bismaleimide-triazine resin substrate, a fluororesin substrate, or a resin substrate, a copper-clad laminate of these resin substrates, a ceramic substrate, a metal substrate, or the like can be used. In the case of a substrate with poor plating, such as a fluororesin substrate, surface modification such as a pretreatment agent made of organometallic sodium or plasma treatment is performed.
Next, electrolytic plating is performed for thickening, and a plating film 4 is formed on the substrate surface and the inner wall of the through hole 3 as shown in FIG. As this electrolytic plating, copper plating is preferable.

(2)穴埋め
前記(1)で形成したスルーホール3内に、図1(c)に示すように本発明の液状熱硬化性樹脂組成物を充填する。具体的には、スルーホール部分に開口を設けたマスクを基板上に載置し、印刷法等により塗布したり、ドット印刷法などにより、スルーホール3内に容易に充填できる。
次に、充填物を先に説明したような方法で予備硬化した後、図1(d)に示すように、スルーホールからはみ出した予備硬化物5の不要部分を研磨により除去して平坦化する。研磨は、ベルトサンダーやバフ研磨等により好適に行なうことができる。その後、さらに加熱して本硬化し、硬化物5の露出表面を必要に応じて粗化処理する。硬化物中に、粗化処理液に可溶の粒子が分散している場合、この粗化処理により溶解除去され、アンカー効果に優れた粗化面が形成されるので、その後施されるめっき膜との密着性に優れたものとなる。
(2) Filling the hole The liquid thermosetting resin composition of the present invention is filled into the through hole 3 formed in (1) as shown in FIG. Specifically, a mask having an opening in the through hole portion can be placed on the substrate and applied by a printing method or the like, or can be easily filled into the through hole 3 by a dot printing method or the like.
Next, after pre-curing the filler by the method as described above, unnecessary portions of the pre-cured product 5 protruding from the through holes are removed by polishing and flattened as shown in FIG. . Polishing can be suitably performed by belt sander, buffing or the like. Then, it further heats and carries out a main hardening and roughens the exposed surface of the hardened | cured material 5 as needed. When soluble particles are dispersed in the roughening solution in the cured product, the roughened surface is dissolved and removed, and a roughened surface with an excellent anchor effect is formed. It will be excellent in adhesion.

(3)導体回路層の形成
前記(2)でスルーホールの穴埋めを行なった基板の表面に触媒核を付与した後、無電解めっき、電解めっきを施し、図1(e)に示すようにめっき膜6を形成する。その後、図1(f)に示すようにエッチングレジスト7を形成し、レジスト非形成部分をエッチングする。次いで、エッチングレジスト7を剥離することにより、図1(g)に示すように、導体回路層8を形成する。エッチング液としては、硫酸一酸化水素の水溶液、過硫酸アンモニウムや過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウムなどの過硫酸塩水溶液、塩化第二鉄や塩化第二銅の水溶液など、従来公知のものを使用できる。
(3) Formation of conductor circuit layer After providing a catalyst nucleus on the surface of the substrate in which the through hole was filled in (2), electroless plating and electrolytic plating were performed, and plating was performed as shown in FIG. A film 6 is formed. Thereafter, an etching resist 7 is formed as shown in FIG. 1F, and the non-resist forming portion is etched. Next, the etching resist 7 is peeled to form the conductor circuit layer 8 as shown in FIG. As the etchant, conventionally known ones such as an aqueous solution of hydrogen sulfate, an aqueous solution of persulfate such as ammonium persulfate, sodium persulfate and potassium persulfate, and an aqueous solution of ferric chloride and cupric chloride can be used.

(4)層間樹脂絶縁層の形成
その後、導体回路層の表面を必要に応じて黒化(酸化)一還元処理等の方法により処理した後、図2(a)に示すように、層間樹脂絶縁層10を形成する。層間樹脂絶縁層としては、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、あるいはこれらの樹脂の複合体や混合物、ガラスクロス含浸樹脂複合体、無電解めっき用接着剤を用いることができる。層間樹脂絶縁層10は、これらの樹脂組成物の未硬化液を塗布したり、フィルム状の樹脂を熱圧着してラミネートすることにより形成される。
(4) Formation of Interlayer Resin Insulating Layer After that, the surface of the conductor circuit layer is treated by a method such as blackening (oxidation) or reduction treatment as necessary, and then, as shown in FIG. Layer 10 is formed. As the interlayer resin insulating layer, a thermosetting resin, a photocurable resin, a thermoplastic resin, or a composite or mixture of these resins, a glass cloth impregnated resin composite, or an electroless plating adhesive can be used. The interlayer resin insulation layer 10 is formed by applying an uncured liquid of these resin compositions or laminating a film-like resin by thermocompression bonding.

(5)バイアホールの形成
次に、図2(a)に示されるように層間樹脂絶縁層10に開口11を設ける。この開口11の穿孔は、層間樹脂絶縁層10が感光性樹脂からなる場合は、露光、現像処理にて行ない、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂からなる場合は、レーザ光にて行なう。このとき使用されるレーザ光としては、炭酸ガスレーザ、紫外線レーザ、エキシマレーザなどがある。レーザ光にて孔明けした場合は、デスミア処理を行なってもよい。このデスミア処理は、クロム酸、過マンガン酸塩などの水溶液からなる酸化剤を使用して行なうことができ、また酸素プラズマなどで処理してもよい。
開口11を形成した後、必要に応じて層間樹脂絶縁層10の表面を粗化処理する。
次に、層間樹脂絶縁層10の表面に無電解めっき用の触媒核を付与した後、無電解めっきを施し、図2(b)に示すように、全面にめっき膜12を形成する。
そして、図2(c)に示すように、めっき膜12上にめっきレジスト層13を形成する。めっきレジスト層は、好適には感光性ドライフィルムをラミネートして露光、現像処理して形成される。
さらに、電解めっきを行ない、導体回路部分を厚付けし、図2(c)に示すように電解めっき膜14を形成する。
次いで、めっきレジスト層13を剥離した後、そのめっきレジスト下の無電解めっき膜12をエッチングにて溶解除去し、図2(d)に示すように、独立した導体回路(バイアホール15を含む)を形成する。エッチング液としては、硫酸一過酸化水素の水溶液、過硫酸アンモニウムや過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウムなどの過硫酸塩水溶液、塩化第二鉄や塩化第二銅の水溶液などを好適に用いることができる。
(5) Formation of Via Hole Next, an opening 11 is provided in the interlayer resin insulation layer 10 as shown in FIG. The perforation of the opening 11 is performed by exposure and development processing when the interlayer resin insulating layer 10 is made of a photosensitive resin, and laser light is used when the interlayer resin insulating layer 10 is made of a thermosetting resin or a thermoplastic resin. Examples of the laser light used at this time include a carbon dioxide laser, an ultraviolet laser, and an excimer laser. In the case of drilling with laser light, desmear treatment may be performed. This desmear treatment can be performed by using an oxidizing agent made of an aqueous solution such as chromic acid or permanganate, or may be treated with oxygen plasma or the like.
After the opening 11 is formed, the surface of the interlayer resin insulation layer 10 is roughened as necessary.
Next, after providing a catalyst nucleus for electroless plating on the surface of the interlayer resin insulation layer 10, electroless plating is performed to form a plating film 12 on the entire surface as shown in FIG.
Then, as shown in FIG. 2C, a plating resist layer 13 is formed on the plating film 12. The plating resist layer is preferably formed by laminating a photosensitive dry film, exposing and developing.
Further, electrolytic plating is performed to thicken the conductor circuit portion, and an electrolytic plating film 14 is formed as shown in FIG.
Next, after the plating resist layer 13 is peeled off, the electroless plating film 12 under the plating resist is dissolved and removed by etching, and as shown in FIG. 2D, an independent conductor circuit (including via holes 15) is obtained. Form. As an etchant, an aqueous solution of sulfuric acid monohydrogen peroxide, an aqueous solution of persulfate such as ammonium persulfate, sodium persulfate, or potassium persulfate, an aqueous solution of ferric chloride or cupric chloride, and the like can be suitably used.

図3は、プリント配線板の製造方法の他の例の概略工程を示しており、前記図1(d)に示すようなコア基板作製工程まで終えた後、コア基板20の両面の導体層に対し所定パターン通りにエッチングを施すと、図3(a)に示すように、基板20の両面に所定パターンを有する第1の導体回路層21が形成されると共に、スルーホール22に接続する導体回路層の一部にはランド23が同時に形成される。この際、前記硬化物5の研磨工程において、導体層も同時に研磨されてその厚みが均一で平坦性を有しているため、エッチングのバラツキやエッチングムラが生じ難く均一な厚みの導体回路層を得ることができる。
次いで、基板20の上下両面の上に、図3(b)に示すように、層間樹脂絶縁層24を形成する。さらに、上記ランド23の真上に位置する樹脂絶縁層に対し、図3(c)に示すように、公知のフォトリソグラフィー技術によりバイアホール25を形成する。次いで、バイアホール内と層間樹脂絶縁層の上に銅めっきにより銅めっき層を形成し、これらの上にエッチングレジストを形成した後で、エッチングを施す。これにより、図3(c)に示すように、層間樹脂絶縁層24の上に第2の導体回路層26が形成される。第1、第2の各導体回路層21、26はバイアホール25を介して互いに導通すると共に、基板両面の各導体回路層21、21もスルーホール22を介して互いに導通する。
そして、図3(c)に示すように、各樹脂絶縁層24と第2の導体回路層26の上にソルダーレジスト層27を形成し、上方のレジスト層には、これを貫通し且つ導体回路層の表面から立設するはんだバンプ28を形成する。また、下方のレジスト層の間に形成した開口部29から露出する導体回路層30には、その表面にAu及びNiメッキを施して、接続端子として用いる多層の配線基板を得ることができる。上記はんだバンプ28は、配線基板の主表面上に配置されるIC素子等の電子部品との接続に使用される。
FIG. 3 shows a schematic process of another example of the method for producing a printed wiring board. After finishing the core substrate manufacturing process as shown in FIG. 1D, the conductor layers on both surfaces of the core substrate 20 are formed. When etching is performed in accordance with a predetermined pattern, a first conductor circuit layer 21 having a predetermined pattern is formed on both surfaces of the substrate 20 as shown in FIG. 3A, and a conductor circuit connected to the through hole 22 is formed. A land 23 is simultaneously formed on a part of the layer. At this time, in the polishing step of the cured product 5, the conductor layer is also polished at the same time, and the thickness thereof is uniform and flat. Can be obtained.
Next, an interlayer resin insulation layer 24 is formed on both the upper and lower surfaces of the substrate 20 as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 3C, via holes 25 are formed in the resin insulating layer located immediately above the lands 23 by a known photolithography technique. Next, a copper plating layer is formed by copper plating in the via hole and on the interlayer resin insulating layer, and an etching resist is formed thereon, and then etching is performed. As a result, a second conductor circuit layer 26 is formed on the interlayer resin insulation layer 24 as shown in FIG. The first and second conductor circuit layers 21 and 26 are electrically connected to each other through the via hole 25, and the conductor circuit layers 21 and 21 on both surfaces of the substrate are also electrically connected to each other via the through hole 22.
Then, as shown in FIG. 3C, a solder resist layer 27 is formed on each resin insulating layer 24 and the second conductor circuit layer 26, and the upper resist layer penetrates through this and forms a conductor circuit. A solder bump 28 standing from the surface of the layer is formed. The conductor circuit layer 30 exposed from the opening 29 formed between the lower resist layers can be plated with Au and Ni to obtain a multilayer wiring board used as a connection terminal. The solder bump 28 is used for connection with an electronic component such as an IC element disposed on the main surface of the wiring board.

以下に実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるものでないことはもとよりである。なお、以下において「部」とあるのは、特に断りのない限り全て質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. In the following description, “parts” are all based on mass unless otherwise specified.

実施例1〜12及び比較例1〜5
室温で液状のエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ(株)製、商品名エピコート828及びエピコート807)に下記表1に列挙した各成分を表1に示す割合で配合し、予備混合した後、3 本ロールミルで練肉分散させて熱硬化性樹脂組成物を得た。
Examples 1-12 and Comparative Examples 1-5
Each component listed in Table 1 below was blended at room temperature with a liquid epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., trade name Epicoat 828 and Epicoat 807) in the proportions shown in Table 1, and after preliminary mixing, three A thermosetting resin composition was obtained by dispersing the meat in a roll mill.

Figure 2005317986
Figure 2005317986

このようにして得られた実施例1〜12及び比較例1〜5の液状熱硬化性樹脂組成物の25℃での粘度、100℃での溶融粘度、及び100℃と130℃でのゲルタイムについて下記の方法で測定し、そして配線基板の穴部に充填した硬化物のクラック、ボイドの残留、充填性、研磨性、硬化収縮及び体積膨張について以下の方法で評価した。その試験結果を表2 に示す。   About the viscosity at 25 degreeC of the liquid thermosetting resin composition of Examples 1-12 obtained in this way and Comparative Examples 1-5, the melt viscosity at 100 degreeC, and the gel time at 100 degreeC and 130 degreeC Measurement was performed by the following method, and cracks, voids remaining, filling properties, polishing properties, curing shrinkage, and volume expansion of the cured product filled in the hole of the wiring board were evaluated by the following methods. The test results are shown in Table 2.

25℃での粘度:
試料を0.2ml採取し、コーンプレート型粘度計(東機産業(株)製)を用いて、25℃、回転数5rpmの30秒値を粘度とした。
Viscosity at 25 ° C:
A sample of 0.2 ml was collected, and a 30 second value at 25 ° C. and a rotation speed of 5 rpm was defined as a viscosity using a cone plate viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).

溶融粘度測定:
測定装置:島津フローテスタ CFT−100D(島津製作所(株)製)
測定方法:
(i)試料台を測定温度(100℃)に設定する。
(ii)シリンジで試料を2ml計り取る。
(iii)試料台に試料を注入し、予熱5分後、ピストンで荷重をかける。
測定条件:
荷重:1kg
ダイ穴径:1.0mm
ダイ長さ:10mm
Melt viscosity measurement:
Measuring device: Shimadzu flow tester CFT-100D (manufactured by Shimadzu Corporation)
Measuring method:
(I) Set the sample stage to the measurement temperature (100 ° C.).
(Ii) Weigh 2 ml of sample with a syringe.
(Iii) The sample is poured into the sample stage, and after 5 minutes of preheating, a load is applied with the piston.
Measurement condition:
Load: 1kg
Die hole diameter: 1.0mm
Die length: 10mm

ゲルタイム測定:
測定装置:自動ゲル化試験機
測定方法:試料を0.4ml計り取り、測定温度(100℃、130℃)に保たれた鉄板上にのせる。ポリテトラフルオロエチレン製の棒をサンプル上で回転させ、試料のトルクが最大トルクの30%に達するまでの時間を測定し、ゲルタイムとした。
Gel time measurement:
Measuring apparatus: automatic gelation tester Measuring method: 0.4 ml of a sample is weighed and placed on an iron plate maintained at a measuring temperature (100 ° C., 130 ° C.). A polytetrafluoroethylene rod was rotated on the sample, and the time until the sample torque reached 30% of the maximum torque was measured and used as the gel time.

クラック:
予めパネルめっきによりスルーホールを形成したガラスエポキシ基板(板厚1.6mm、スルーホール径0.3mm)に、各組成物をスクリーン印刷法でスルーホール内に充填した。これを熱風循環式乾燥炉に入れ、100℃で20分間保持した後に、130℃に昇温し、45分間予備硬化を行ない、評価サンプル(I)を得た。その後、この評価サンプル(I)をスルーホール部で切断し、断面を光学顕微鏡にて観察し、試料にクラック(割れ)が生じているスルーホールをNGとし、観察した穴数に対するNGの割合を計算した。判定基準は以下の通りである。
○:クラック発生率 0%
△:クラック発生率 50%以下
×:クラック発生率 50%超
crack:
Each composition was filled in the through holes by a screen printing method on a glass epoxy substrate (plate thickness 1.6 mm, through hole diameter 0.3 mm) on which through holes had been formed in advance by panel plating. This was put into a hot-air circulating drying furnace, held at 100 ° C. for 20 minutes, then heated to 130 ° C. and pre-cured for 45 minutes to obtain an evaluation sample (I). Thereafter, this evaluation sample (I) is cut at the through-hole portion, the cross section is observed with an optical microscope, the through-hole in which a crack is generated in the sample is NG, and the ratio of NG to the number of holes observed is Calculated. Judgment criteria are as follows.
○: Crack occurrence rate 0%
Δ: Crack generation rate 50% or less ×: Crack generation rate over 50%

ボイドの残留:
前記評価サンプル(I)をスルーホール部で切断し、断面を光学顕微鏡にて観察し、スルーホール中のボイドの有無を確認した。ボイドが残留しているスルーホールをNGとし、観察した穴数に対するNGの割合を計算した。
○:ボイド残留率 0%
△:ボイド残留率 50%以下
×:ボイド残留率 50%超
Void residue:
The said evaluation sample (I) was cut | disconnected by the through hole part, the cross section was observed with the optical microscope, and the presence or absence of the void in a through hole was confirmed. The through hole in which the void remained was defined as NG, and the ratio of NG to the observed number of holes was calculated.
○: Void residual rate 0%
Δ: Void residual ratio 50% or less ×: Void residual ratio more than 50%

充填性:
予めパネルめっきによりスルーホールを形成したガラスエポキシ基板(板厚1.6mm、スルーホール径0.3mm)に、各組成物をスクリーン印刷法により下記の条件でスルーホール内に充填した。これを熱風循環式乾燥炉に入れ、100℃で20分間保持した後に、130℃に昇温し、45分間予備硬化を行なった。その後、スルーホール部で切断し、断面を光学顕微鏡にて観察し、スルーホール中の組成物の充填具合を確認した。
版:メタルマスク(メタル厚:0.1mm)
スキージ取付角度:75°
印刷スピード:3.0cm/sec
落とし込み量:2.5mm
判定基準は以下の通りである。
○:スルーホール中に完全に充填されている。
×:充填不足
Fillability:
Each composition was filled in the through hole under the following conditions by a screen printing method on a glass epoxy substrate (plate thickness 1.6 mm, through hole diameter 0.3 mm) on which a through hole had been formed in advance by panel plating. This was put into a hot-air circulation type drying furnace, held at 100 ° C. for 20 minutes, then heated to 130 ° C. and pre-cured for 45 minutes. Then, it cut | disconnected in the through hole part, the cross section was observed with the optical microscope, and the filling condition of the composition in a through hole was confirmed.
Version: Metal mask (Metal thickness: 0.1mm)
Squeegee mounting angle: 75 °
Printing speed: 3.0cm / sec
Dropping amount: 2.5mm
Judgment criteria are as follows.
○: The through hole is completely filled.
×: Insufficient filling

研磨性:
前記評価サンプル(I)をバフ研磨機で#320相当の樹脂研磨用バフ1軸により物理研磨を行ない、予備硬化後の不要硬化部分の硬化物除去を行なった。その際に完全に除去されるまでのパス回数により、研磨除去のし易さを評価した。判定基準は以下の通りである。
○:2パス以下
△:3又は4パス
×:5パス以上
Abrasiveness:
The evaluation sample (I) was physically polished with a buffing uniaxial shaft corresponding to # 320 with a buffing machine, and the cured product was removed from the unnecessary cured portion after preliminary curing. The ease of polishing removal was evaluated by the number of passes until complete removal at that time. Judgment criteria are as follows.
○: 2 passes or less △: 3 or 4 passes ×: 5 passes or more

硬化収縮:
前記評価サンプル(I)をバフ研磨機で#320相当の樹脂研磨用バフ1軸により物理研磨を行ない、予備硬化後の不要硬化部分の硬化物除去し、平滑化した。この後、熱風循環式乾燥炉に入れ、150℃で1時間本硬化を行ない、評価サンプル(II)を得た。この評価サンプル(II)をスルーホール部で切断し、断面を光学顕微鏡にて観察した。その際に充填されている組成物の凹みによる基板表面との段差を硬化収縮とし、硬化収縮の有無を評価した。
Curing shrinkage:
The evaluation sample (I) was physically polished with a buffing uniaxial shaft corresponding to # 320 with a buffing machine to remove a cured product from an unnecessary cured portion after preliminary curing, and smoothed. Then, it put into the hot-air circulation type drying furnace, main curing was performed at 150 degreeC for 1 hour, and evaluation sample (II) was obtained. This evaluation sample (II) was cut at the through-hole portion, and the cross section was observed with an optical microscope. At that time, the level difference from the substrate surface due to the dent of the composition filled in was regarded as curing shrinkage, and the presence or absence of curing shrinkage was evaluated.

体積膨張:
前記評価サンプル(II)の両表面にソルダーレジストを全面塗布し、塗膜を形成した後、PCT(121℃、100%R.H.で96時間 の条件で処理を行なった。その際にスルーホール中の組成物の体積膨張が大きい場合は、スルーホール上のソルダーレジストが押し上げられ、ソルダーレジストが基板から剥がれる。その剥がれ度合いを光学顕微鏡にて観察し、評価した。判定基準は以下の通りである。
○:ソルダーレジストの剥がれ無し
×:ソルダーレジストの剥がれ有り
Volume expansion:
A solder resist was applied over both surfaces of the evaluation sample (II) to form a coating film, and then treated under conditions of PCT (121 ° C., 100% RH) for 96 hours. When the volume expansion of the composition in the hole is large, the solder resist on the through hole is pushed up, and the solder resist is peeled off from the substrate, and the degree of peeling is observed and evaluated with an optical microscope. It is.
○: Solder resist does not peel off ×: Solder resist peels off

Figure 2005317986
表2に示す結果から明らかなように、本発明の実施例1〜12の液状熱硬化性樹脂組成物によれば、ボイドの残留を生じることなく、穴部への充填性や予備硬化物の研磨性に優れ、また得られる硬化物にはクラックや硬化収縮は発生せず、体積膨張も生じなかった。
これに対し、溶融粘度10dPa・s以下の温度(100℃)でのゲルタイムが300秒未満の比較例1及び130℃でのゲルタイムが600秒を超える比較例2、4、5の液状熱硬化性樹脂組成物では、いずれも硬化物にクラックが発生するか、又はボイドの残留を生じた。一方、25℃での粘度が1500dPa・sを超える比較例3の組成物は、穴部への充填性に劣っており、またボイドの残留も生じた。また、有機ベントナイトを用いた比較例1〜3では研磨性は優れていたが、フィラーを添加しなかった比較例4では、研磨性が劣り、また硬化収縮が生じた。
また、実施例11と比較例3を比較すれば明らかなように、カップリング剤の添加により、樹脂とフィラーの濡れ性が向上し、液状熱硬化性樹脂組成物の粘度が低下するため、フィラーを多量に配合しても本発明で規定する粘度及びゲルタイムの特性が維持され、ボイドの残留やクラックを全く生じることなく、穴部への充填性や予備硬化物の研磨性に優れていた。
Figure 2005317986
As is apparent from the results shown in Table 2, according to the liquid thermosetting resin compositions of Examples 1 to 12 of the present invention, the filling property to the hole portion and the precured material can be obtained without leaving voids. It was excellent in abrasiveness, and cracks and shrinkage did not occur in the obtained cured product, and volume expansion did not occur.
On the other hand, the liquid thermosetting properties of Comparative Example 1 in which the gel time at a melt viscosity of 10 dPa · s or less (100 ° C.) is less than 300 seconds and Comparative Examples 2, 4, and 5 in which the gel time at 130 ° C. exceeds 600 seconds. In the resin compositions, cracks occurred in the cured product or voids remained. On the other hand, the composition of Comparative Example 3 having a viscosity at 25 ° C. exceeding 1500 dPa · s was inferior in the filling property into the hole, and voids remained. Further, in Comparative Examples 1 to 3 using organic bentonite, the polishing property was excellent, but in Comparative Example 4 in which no filler was added, the polishing property was inferior and curing shrinkage occurred.
Further, as apparent from a comparison between Example 11 and Comparative Example 3, the addition of the coupling agent improves the wettability of the resin and the filler and decreases the viscosity of the liquid thermosetting resin composition. Even when a large amount of is added, the viscosity and gel time characteristics defined in the present invention are maintained, and void filling and cracking are not generated at all, and the hole filling property and pre-cured product polishing property are excellent.

以上説明したように、本発明の液状熱硬化性樹脂組成物を用いることにより、プリント配線板のバイアホール、スルーホール等の穴埋めを作業性良く行なうことができ、ヒートサイクル時のクラック発生や、絶縁信頼性の悪化、穴部に充填された硬化物の上に形成される絶縁樹脂層や蓋メッキの層間剥離等がなく、絶縁信頼性や耐熱性、耐湿性、PCT耐性等の特性に優れる高信頼性のプリント配線板を生産性良く製造することができる。   As described above, by using the liquid thermosetting resin composition of the present invention, it is possible to perform filling of via holes, through holes, etc. of the printed wiring board with good workability, generation of cracks during heat cycle, There is no deterioration in insulation reliability, there is no insulation resin layer formed on the cured material filled in the hole or delamination of the lid plating, etc., and the insulation reliability, heat resistance, moisture resistance, PCT resistance, etc. are excellent. A highly reliable printed wiring board can be manufactured with high productivity.

本発明による多層プリント配線板の製造方法の一例を途中工程まで示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the multilayer printed wiring board by this invention to an intermediate process. 図1に示す本発明による多層プリント配線板の製造方法の一例の後の工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the process after an example of the manufacturing method of the multilayer printed wiring board by this invention shown in FIG. 本発明による多層プリント配線板の製造方法の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the manufacturing method of the multilayer printed wiring board by this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,20 基板
2 銅箔
3,22 スルーホール
4,6,12,14 めっき膜
5 硬化物(予備硬化物)
7 エッチングレジスト
8,21,26,30 導体回路層
10,24 層間樹脂絶縁層
11 開口
13 めっきレジスト層
23 ランド
25 バイアホール
27 ソルダーレジスト層
28 はんだバンプ
29 開口部
1,20 Substrate 2 Copper foil 3,22 Through hole 4, 6, 12, 14 Plating film 5 Cured product (precured product)
7 Etching resist 8, 21, 26, 30 Conductor circuit layer 10, 24 Interlayer resin insulation layer 11 Opening 13 Plating resist layer 23 Land 25 Via hole 27 Solder resist layer 28 Solder bump 29 Opening

Claims (2)

穴部を含む導体回路パターンを形成した配線基板の表面に、層間樹脂絶縁層と導体回路を積層してプリント配線板を製造するにあたり、
(a)(A)液状のエポキシ樹脂、(B)硬化触媒、及び(C)フィラーを含有する液状熱硬化性樹脂組成物であって、25℃での粘度が1500dPa・s以下、溶融粘度10dPa・s以下の温度でのゲルタイムが300秒以上、130℃でのゲルタイムが600秒以下の液状熱硬化性樹脂組成物を上記穴部に充填する工程、
(b)該充填された組成物を90〜130℃に加熱して、エポキシ基の反応率が80〜97%となるように予備硬化する工程、
(c)予備硬化した組成物の穴部表面からはみ出している部分を研磨・除去する工程、及び
(d)予備硬化した組成物をさらに140〜180℃に加熱して本硬化する工程
を含む穴埋め加工を含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法。
In manufacturing a printed wiring board by laminating an interlayer resin insulation layer and a conductor circuit on the surface of a wiring board on which a conductor circuit pattern including a hole is formed,
(A) A liquid thermosetting resin composition comprising (A) a liquid epoxy resin, (B) a curing catalyst, and (C) a filler, having a viscosity at 25 ° C. of 1500 dPa · s or less and a melt viscosity of 10 dPa A step of filling the hole with a liquid thermosetting resin composition having a gel time at a temperature of s or less of 300 seconds or more and a gel time at 130 ° C. of 600 seconds or less;
(B) heating the filled composition to 90 to 130 ° C. and pre-curing so that the reaction rate of epoxy groups is 80 to 97%;
(C) Polishing and removing the portion of the precured composition protruding from the surface of the hole, and (d) Filling the hole including the step of further curing the precured composition at 140 to 180 ° C. A method for producing a printed wiring board comprising processing.
前記予備硬化工程(b)を、90〜110℃での一次予備硬化、110〜130℃の二次予備硬化の二段階に分けて行なうことを特徴とする請求項1に記載の方法。
The method according to claim 1, wherein the pre-curing step (b) is performed in two stages of primary pre-curing at 90 to 110 ° C and secondary pre-curing at 110 to 130 ° C.
JP2005149800A 2000-11-29 2005-05-23 Process for producing printed wiring board by use of liquid thermosetting resin composition Withdrawn JP2005317986A (en)

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