KR100490316B1 - 편광 유리의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 유리제품을 유리 연화점 이상의 적어도 76℃의 온도인 시간-온도 싸이클하에 두어 과량의 할라이드 결정체를 열적으로 형성하고 침전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 복사선 스펙트럼의 적외선 영역에서 광대역의 높은 콘트라스트 편광 특성을 나타내고, 위상-분리되거나 200∼5000Å의 크기를 가지며 유리에 침전된 은, 구리, 구리-카드뮴 할라이드 결정체 또는 이들의 혼합물에 기초하여 광변색성 특성을 나타내며, 신장된 은, 구리 또는 구리-카드뮴 금속 입자 또는 이들의 혼합물을 함유하는 표면층을 갖는 편광 유리제품의 제조방법에 관한 것이다. 도 1은 psi의 응력 수준 대 nm의 중심파장(CWLs)의 그래프이며, 여기서 중심파장은 편광능의 주어진 범위의 중심으로서 정의된다. 특히, 주어진 중심 파장을 달성하기 위해 요구되는 응력 수준은 두 단계의 열처리 싸이클에서 대조된다. 상선(A)는 편광 유리의 표준 열처리에 있어서의 데이터를 나타낸다; 4시간동안 710℃. 하선(B)은 8시간동안 750℃의 새로운 고온 열처리에 있어서의 데이터를 나타낸다.

Description

편광 유리의 제조방법{Method of making a polarizing glass}

본 발명은 은(silver), 구리(copper) 또는 구리-카드뮴(copper-cadmium) 할라이드 결정체(halide crystals)을 함유하는 위상-분리 유리(phase-separated glass)로부터 편광 유리(polarizing glass)를 제조하는 방법에 관한 것이다.

지시금속(indicated metal), 및 플루오르 이외의 할로겐을 적당한 양으로 함유하는 조성물을 갖는 유리를 열처리하여 은, 구리, 또는 구리-카드뮴 할라이드 결정체의 침전을 유도하는 것은 공지이다. 일반적으로, 이렇게 제조된 유리는 단파장의 복사선을 적용하고 제거함에 따라 어두워지고 흐려지는 광변색성 성질을 나타낸다. 그러나, 광변색성은 아니지만 지시 결정체를 함유하는 유리들도 제조할 수 있다.

또한 특정 점도 범위내에서 상기 유리를 늘림으로해서, 상기 결정-함유 유리들에 복굴절 효과를 생성할 수 있다. 상기 유리는 유리 변형점(strain point) 온도이상의 온도에서 응력(stress)하에 놓인다. 이것은 상기 유리를 신장시켜 상기 결정체를 신장시키고 일정한 방향을 갖게 한다. 그리고나서 이렇게 신장된 제품은 250℃이상의 온도에서 환원기체에 노출되지만, 처리온도는 유리의 어닐링점(glass annealing point)에서 25℃ 높은 온도를 초과하지 않는다. 이렇게 하여 할라이드 결정체의 적어도 한 부분이 기본금속(elemental metal)으로 환원된 표면층을 생성한다. 신장된 기본 결정체는 투사광(incident light)의 전기장 벡터와 우선적으로 상호작용하는 전기 쌍극자(electric dipole)의 배열을 제공한다. 이것으로 전송된 광파(light wave)를 편광시키는 방법을 제공한다.

그리하여, 편광 유리의 제조방법은 하기 4단계를 광범위하게 수반한다:

1. 은, 구리, 또는 구리-카드뮴 및 플루오르 이외의 할로겐의 소스(source)를 함유하는 유리 뱃치(glass batch)를 융해시키는 단계, 및 상기 융해물에서 바디(body)를 형성하는 단계,

2. 200∼5000Å의 크기를 갖는 할라이드 결정체를 생성하기 위해 상기 유리의 변형점 이상의 온도에서 상기 유리바디를 열처리하는 단계,

3. 상기 바디를 신장시켜 결정체를 신장시키고 일정한 방향을 갖게 하기 위해 유리 변형점 이상의 온도에서 상기 결정-함유 유리바디에 응력을 가하는 단계, 및

4. 적어도 2:1의 종횡비(aspect ratio)를 갖는 금속 입자를 함유하는 상기 바디의 환원된 표면층을 생성하기 위해 250℃ 이상의 온도의 환원분위기에서 상기 신장된 바디를 노출시키는 단계.

이러한 방법의 실시로 복사선 스펙트럼의 적외선 부분, 바람직하게는 600∼2000nm(6000∼20,000Å)의 영역내에서 우수한 편광특성을 나타내는 유리제품을 제조한다.

할라이드 입자들의 성장은 유리의 점도가 너무 높기 때문에 유리의 변형점이하의 온도에서는 일어날 수 없다. 따라서, 결정체의 침전을 위해서는 어닐링점이상의 온도가 바람직하다. 유리바디에 물리적 지지(support)가 제공되는 경우에는, 상기 유리의 연화점에서 50℃까지 높은 온도를 사용할 수 있다.

할라이드 결정체가 적어도 5:1의 종횡비로, 신장(elongation)되기 위해서는 적어도 약 200Å의 직경을 가져야 함이 입증되었다. 기본 입자(elemental particle)들로 환원이 일어날 때, 적어도 5:1의 종횡비를 갖는 입자들이 2:1 이상의 종횡비를 나타낼 것이다. 이는 계속적인 신장단계동안 심각한 파손(breakage)문제를 피하는 반면, 복사선 스펙트럼의 적외선 영역의 가장 인접한 모서리에 긴 파장의 피크를 위치시킨다. 반대로, 초기 할라이드 입자의 직경은 약 5000Å을 초과하지 않는다. 이것은 복사선 분산으로부터 초래되어 디크로익비(dichroic ratio)를 감소시킨 유리에 상당한 흐릿함(haze)을 생성하는 것을 미리 막는다.

디크로익비란 유리의 편극화능(polarizing capability)의 측정값이다. 이것은 신장의 방향에 평행하는 복사선의 흡수 및 신장의 방향에 수직인 복사선의 흡수 사이에 존재하는 비로서 정의된다. 적당한 비를 얻기 위해서는, 환원된 금속입자가 적어도 2:1의 종횡비를 갖도록 신장된 할라이드 결정체의 종횡비는 적어도 5:1이어야 한다.

작은 직경을 갖는 결정체는 필요한 종횡비를 얻기 위해서 매우 높은 신장 응력을 요구한다. 또한, 늘림-타입 신장 공정(stretching-type elongation process)동안의 유리바디의 파손의 가능성은 응력하에서의 바디의 표면적에 직접 비례한다. 이것은 유리 시트, 또는 상당한 질량의 다른 바디에 적용될 수 있는 응력수준에 대한 매우 실질적인 한계를 생성한다. 일반적으로, 몇 천psi의 응력수준은 실질적인 한계를 포함한다고 생각되어져 왔다. 약 3000psi이상의 응력수준이 통상적으로 사용된다.

환원분위기에서 신장된 바디는 약 250℃ 이상의 온도에서 소성되지만, 유리의 어닐링점에서 25℃이상 높은 온도에서는 실시하지 않는다. 바람직하게, 상기 소성온도는 입자의 모든 기질이 리스페리오다이즈(respheriodize)되는 것을 방지하기 위해 유리의 어닐링점이하의 온도이다.

따라서, 환원단계의 온도 또는 신장단계 후에 계속되는 모든 다른 열처리 단계의 온도가 증가됨에 따라, 신장된 입자들이 그들의 원래 상태로 되돌아가거나, 작은 입자들로 분쇄되려는 경향이 있다. 이 경향을 리스페리오다이징(respherio-dizing)이라고 부른다. 이 경향은 상기 계속되는 열처리가 실시되는 온도에 심각한 한계를 나타낸다.

편광 유리바디의 효과를 측정하기 위한 수단의 하나로 유리의 콘트라스트 비(contrast ratio), 또는 종래에는 콘트라스트라고 불리었던 것을 들 수 있다. 콘트라스트는 신장축에 수직인 편극화의 평면에 전송된 복사선의 양 대 신장축에 평행하는 편극화의 평면으로 전송된 복사선의 양의 비를 포함한다. 일반적으로, 상기 콘트라스트가 커질수록, 더욱 유용하고 가치있는 편극화 바디를 얻을 수 있다. 편극화 바디의 또 다른 중요한 특징은 상기 바디가 효과적인 대역폭이다. 이러한 특징은 콘트라스트의 정도 뿐만 아니라, 그 콘트라스트가 유용하기에 충분히 높은 스펙트럼의 부분도 고려한다.

편광 유리 바디에서 얻을 수 있는 콘트라스트의 수준은 환원분위기에서의 소성단계동안 일어나는 환원량에 의존한다. 통상적으로, 환원양이 커질수록 콘트라스트의 수준도 커진다. 따라서, 콘트라스트의 정도는 더 높은 온도, 더 긴 시간 또는 더 높은 압력의 어느 하나의 환원용 환원기체종을 사용하여 증가될 수 있다.

그러나, 금속 할라이드 입자가 리스페리오다이즈되는 경향에 의해 상기 실시는 제한된다. 또한 이러한 경향은 소성의 더 높은 온도 및 더 긴 시간에 의해 증가된다. 리스페리오디제이션(respheriodization)은 콘트라스트의 감소를 초래할 수 있고, 또는 피크흡수 대역을 협소시키거나 더 짧은 파장의 방향으로 상기 피크 흡수 대역을 전이시킬 수 있다. 예를 들어, 종래기술에 따라 편극화 유리 제품을 제조하는 방법은 425℃에서 4시간동안 수소분위기하에서 소성하는 단계를 활용하였다. 상기 소성시간이 7시간으로 신장될 때, 콘트라스트는 약간 증가하였지만 높은 콘트라스트의 대역폭에서 동반 환원(concurrent reduction)을 갖는다.

미국특허 제 4,908,054호(Jones et al.)는 환원단계와 같은 열처리동안 리스페리오다이제이션의 효과를 없애는 편극화 유리 바디의 제조방법을 제안하고 있다. 이러한 방법은 적어도 2회 대기압의 압력하에서 열적 환원처리를 실시한다. 압력의 효과는 리스페리오디제이션을 억제하고, 적외선 영역에서 상대적으로 광범위한 높은 콘트라스트 편극화 특성을 나타내는 편극화 유리 제품을 제조하는 것이다. 이 방법은 본 발명에서 요구되지는 않지만 사용될 수는 있다.

본 발명의 목적은 광범위한 복사선 스펙트럼에 걸쳐서 우수한 편광특성을 갖는 유리제품을 제공하는데 있다. 또 다른 목적은 증가된 압력의 Jones et al.의 방법을 사용하거나 사용하지 않거나 이를 달성하는데 있다. 또 다른 목적은 상대적으로 낮은 응력 수준에서 신장된 위상-분리 유리를 제공하는데 있다. 또한 또 다른 그 이상의 목적은 넓은 파장대역에 걸쳐서 상대적으로 평평한 콘트라스트 흡수 곡선을 갖는 편광 유리 제품을 생산하는데 있다.

발명의 요약

본 발명은 복사선 스펙트럼의 적외선 영역에서 광대역의 높은 콘트라스트 편광 특성을 나타내고, 위상-분리되거나 200∼5000Å의 크기를 가지며 유리에 침전된 은, 구리, 구리-카드뮴 할라이드 결정체에 기초하여 광변색성 특성을 나타내며, 신장된 은, 구리 또는 구리-카드뮴 금속 입자들을 함유하는 유리제품을 제조하는 방법에 관한 것이며, 상기 방법은 유리 연화점보다 적어도 76℃, 바람직하게는 그 이상 높은 온도 및 결정체를 형성하기에 충분한 시간, 바람직하게는 1시간의 시간-온도 싸이클하에 유리제품을 두어 유리제품의 과량의 할라이드 결정체를 열적으로 형성하고, 침전시키는 단계, 및 상기 유리의 연화점 및 변형점 사이의 온도에서 상기 유리제품을 신장시키는 단계를 포함한다.

본 발명은 위상-분리가능하거나, 은, 구리, 또는 구리-카드뮴 할라이드 결정체의 존재하에서, 광변색성 특성을 나타내는 유리로부터 복사선 스펙트럼의 적외선 영역에서 비교적 광대역의 높은 콘트라스트 편광 특성을 나타내는 유리제품의 제조방법에 관한 것이고, 상기 방법은 하기 단계를 포함한다.

(a) 은, 구리, 또는 구리-카드뮴 및 플루오르외의 적어도 하나의 할로겐, 또는 이들의 혼합물의 소스를 함유하는 유리용 뱃치를 융해시키는 단계,

(b) 원하는 구조의 유리제품으로 상기 융해물을 냉각 및 성형시키는 단계,

(c) 상기 결정체의 크기가 약 200∼5000Å사이의 범위이며, 유리에 은, 구리, 또는 구리-카드뮴 결정체를 생성 및 침전시키기 위해, 상기 유리 제품을 유리의 연화점보다 적어도 76℃ 이상 높은 온도하에 두는 단계,

(d) 적어도 5:1의 신장된 종횡비를 갖고, 응력의 방향으로 배열되는 결정체를 제공하기 위해 상기 유리의 연화점 이상의 온도 및 약 3000psi미만의 응력하에서 상기 유리제품을 신장시키는 단계, 및

(e) 신장된 할라이드 결정체의 적어도 한 부분이 상기 신장된 결정체 상 및/또는 내에 위치하는 2:1 이상의 종횡비를 갖는 기본적인 은, 구리 또는 구리-카드뮴 입자들로 환원되어 상기 유리제품이 복사선 스펙트럼의 적외선 영역에서 비교적 광범위한 높은 콘트라스트 편광 특성을 나타내는 상기 유리제품상에 환원된 표면층을 생성하기에 충분한 시간동안 약 250℃이상이지만, 유리의 어닐링점에서 약 25℃이상까지 높지 않은 온도의 환원분위기에서 상기 신장된 유리제품을 노출시키는 단계.

도 1은 편광유리에서 주어진 중심파장을 달성하기 위해, 종래기술과 본 발명에 따라 요구되는 응력 수준을 비교하는 그래프이며,

도 2는 종래의 방법으로 실시하여 얻어진 유사곡선과 본 발명에 따라 얻어진 전형적인 콘트라스트 곡선을 나타내는 그래프이고,

도 3은 종래 방법에 따라 생산된 편광유리제품과 본 발명에 따라 생산된 편광유리제품에 있어서 최대 전송값을 비교한 그래프이다.

종래기술

종래 기술 문헌은 첨부된 서류에 리스트되고 설명되어 있다.

본 발명은 편광유리바디를 생산하는 공지의 방법을 사용하고 그것을 더욱 향상시킨 방법이다. 기본적으로, 이것은 융해단계, 및 은, 구리, 또는 구리-카드뮴 및 할로겐 또는 플루오르를 제외한 이들의 혼합물의 소스를 함유하는 유리로부터 제품을 형성하는 단계로 구체화된다. 상기 제품은 냉각후 열처리되어 은, 구리, 또는 구리-카드뮴의 할라이드 결정체를 형성 및 침전시킨다. 그 후 상기 제품은 열처리되고 응력하에 두어 할라이드 결정체를 신장시키기게 된다. 그리고나서, 상기 유리는 열적 환원단계, 바람직하게는 수소분위기하에 두어 제품의 표면층에서 은 또는 구리 할라이드 결정체의 한 부분을 신장된 금속입자들로 환원시킨다.

사용되는 유리는 유리에 은, 구리 또는 구리-카드뮴 결정체를 형성하기 위해 위상-분리될 수 있는 모든 유리일 수 있다. 예를 들어, 상기 유리에 대해서는 광변색성 유리에 관한 미국 특허 제 4,190,451호(Hares et al.) 및 제 3,325,299호 (Araujo) 및 비광변색성 유리에 기재된 제 5,281,562호(Araujo et al.)에 기재되어 있다. 이러한 각 특허들은 본원의 참고로 포함되며, 특히 유리 조성물의 범위 및 그들의 제조의 지침용이다. 바람직한 유리는 Hares et al. 특허에 기재된 것들이다. 본 발명은 유리가 열처리되어 할라이드 결정 위상을 형성하고 침전시키는 단계의 변형에 관계된다. 이러한 단계는 500∼900℃의 범위의 모든 온도에서 실시됨은 상기 문헌들에서 제시되어 있다. 그러나, Jones et al. 특허는 좋은 실시예로서 허용되는 것이 명시되어 있다. 상기 온도는 유리 변형점 이상으로 명시되었지만, 유리 연화점에서 75℃를 초과하지 않는다. 유리 연화점에서 75℃ 이하로 간주되는 온도가 예를 들어 설명되어 있다. 시간은 할라이드 결정체를 생성하기 위한 충분한 시간으로 설명되었다.

최대 온도는 유리의 점도 특성에 의존한다. 일반적으로, 유리가 바람직하지 않게 부드러운 실질적인 한계인 약 10⁵ poise의 점성도를 나타내기 때문에 상기 온도는 너무 높지 않아야 한다.

유리에서 할라이드 결정체를 제조하기 위해 변형된 열처리를 함으로써 새롭고 예상치 못한 잇점이 달성됨을 발견하였다. 특히, 상기 유리는 일반적으로 적어도 약 1시간 이상 결정체를 생성하기에 충분한 시간동안 연화점보다 적어도 76℃, 예를 들어 77∼80℃ 높은 온도에서 열처리한다.

이러한 보다 높은 열처리 온도는 더 크고 더 광범위한 결정체 크기로 채워지는 유리를 제조하였다. 금속 할라이드 결정체 크기의 증가는 훨씬 낮은 응력 수준, 바람직하게 3000psi를 넘지 않는 응력수준에서 상기 유리를 신장시켰다. 이것은 작업을 향상시키고, 늘림공정 동안 파손기회를 줄인다. 요구된 인력(pulling force)의 환상적인 감소는 도 1에 도시되어 있다.

도 1은 응력수준은 세로축상에 psi로서 플럿하고, nm의 중심파장(CWLs)은 가로축상에 플럿하여 그래프를 도시한다. 상기 중심파장은 주어진 범위의 편광능의 중심 또는 피크에서의 파장이다. 처리 조건은 특정적용을 위해 바람직한 파장에서 타겟화될 것이다.

도 1에서, 주어진 중심 파장을 달성하기 위해 요구되는 응력 수준은 두 열처리 싸이클로 비교된다. 상선 A는 4시간동안 710℃의 온도에서의 표준 열처리하여 얻은 데이터를 나타낸다. 이러한 싸이클은 몇몇 시판 편광 유리 제품에 있어서 사용되는 통상적인 싸이클이다. 1310nm에서의 중심파장을 갖는 제품이 약 3400psi의 응력 수준을 요구함이 관찰될 것이다. 하선 B는 8시간동안 750℃의 새로운 고온 열처리를 위한 데이터를 나타낸다. 이 싸이클은 본 발명에 따른다. 이러한 경우에, 1310nm 중심파장을 달성하는데 필요로 되는 응력수준은 단지 약 1600psi이다.

새로운 열처리 공정에 의해 달성되는 두번째 잇점은 더 넓은 분산의 결정 크기이다. 따라서, 더 넓은 파장 대역에 있어서의 더욱 평평한 콘트라스트 흡수 곡선은 종래의 더 낮은 온도의 열처리 공정에서 일반적으로 얻어지는 것보다 더 평평하다. 이러한 관계는 도 2에 그래프로서 도시되었다.

도 2는 콘트라스트 비가 세로축에 플럿되고, 파장이 가로축상에 nm로 플럿된 그래프이다. 상선 C는 시판 편광 유리 제품에 있어서 콘트라스트 비 대 파장의 관계를 도시한 것이다. 이러한 제품은 할라이드 결정체를 침전시키기 위해 4시간동안 710℃의 스케줄상에서 진행되었다. 하선 D는 상기 유리로부터 제조된 동일한 제품에 있어서의 동일한 관계를 나타내지만, 본 발명의 방법에 따라 할라이드 결정을 생성하기 위해 8시간동안 750℃에서 열처리되었다. 곡선 D가 더욱 넓으며 더욱 평평한 곡선임이 명백하다.

할라이드 결정화의 크기 및 함량, 광투과의 정도 및 광산란(탁함)의 간접적 측정은 특정 열처리 효과를 조절하는데 사용된다. 이러한 유리조성물은 연화점보다 50℃이상 높은 온도에서 처리된다면 10∼20%의 탁함의 범위로 일반적으로 하락될 것이다. 연화점보다 대략적으로 90℃ 이상 높은 온도에서의 처리는 100%에 도달되는 탁함판독에 관계된다. 유사한 방법으로, 연화점보다 50℃ 이상 높은 온도에서의 열처리는 이러한 유리에 있어서 대략적으로 91% 내지 93%의 전송(T_max)을 산출한다. 연화점 이상의 90℃의 휠씬 높은 온도에서의 열처리는 84∼88%로 T_max를 더욱 낮춘다. 더 높은 온도에서의 열처리는 더 낮은 전송을 일으킨다.

보다 높은 온도에서의 열처리 공정으로 제조된 편광 유리 제품에 있어서 보다 낮은 전송에서의 불리한 조건은 전송된 파장이 높은 (보다 긴 파장) 만큼 작다. 이러한 효과는 도 3에 나타나 있고, 이것은 일반적인 710℃/4시간 처리에 있어서의 전송에 의존하는 파장, 상선 E와, 750℃/8시간동안 새롭게 고온 처리인 하선 F를 비교한다.

도 3은 최대 전송(T_max)이 %로서 세로축에 플럿되는 그래프이다. 파장은 가로축에 nm로 플럿된다. 도시된 바와 같이, 전송손실의 차이는 약 800nm이상의 파장에서 10%보다 적으며, 약 1100nm이상에서 덜 중요하게 된다.

본 발명의 도면에서 나타내는 데이터로부터 얻기 위해 테스트 피스를 제조하는데 사용되는 유리는 산화물 기준으로 뱃치로부터 계산되는 중량%로 하기 조성을 갖는다:

SiO₂ 56.3 ZnO₂ 5.0

B₂O₃ 18.2 TiO₂ 2.3

Al₂O₃ 6.2 Ag 0.24

Na₂O 5.5 CuO 0.01

Li₂O 1.8 Cl 0.16

K₂O 5.7 Br 0.16

Claims (13)

1. (a) 구리 또는 구리-카드뮴 및 할로겐의 소스(source)를 함유하는 유리를 제공하는 단계,

   (b) 상기 유리내에 200∼5000Å의 크기를 갖는 할라이드 결정체를 열적으로 형성하고 침전시키는 단계,

   (c) 상기 유리를 상기 유리의 연화점보다 적어도 76℃ 이상 높은 온도하에 두는 단계,

   (d) 상기 유리의 변형점 및 연화점 사이의 온도에서 응력을 가하여 상기 유리를 신장시키는 단계, 및

   (e) 상기 유리로부터 전자기 스펙트럼의 적외선 영역에서 광대역의 콘트라스트를 갖는 편광 제품으로 성형시키는 단계

   를 포함하는 것을 특징으로 하는 편광 제품의 제조방법.
2. 제 1항에 있어서, 상기 방법은 유리가 10⁵ poise이상의 점도를 갖도록 유리제품을 20시간을 초과하지 않는 시간의 시간-온도 싸이클하에 두는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제 1항에 있어서, 상기 방법이 결정체에 적어도 5:1의 종횡비에 영향을 주기에 충분한 신장 응력수준하에 할라이드 결정체를 함유하는 상기 유리제품을 두는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
4. 제 3항에 있어서, 상기 방법은 상기 제품의 표면층에 은, 구리, 또는 구리-카드뮴 금속 입자를 형성하기 위해 250℃이상이고 유리 어닐링점에서 25℃를 초과하지 않는 온도의 환원분위기에서 상기 신장된 유리제품을 노출시키는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제 4항에 있어서, 상기 방법이 상승된 압력하에서 환원기체를 사용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
6. (a) 은, 구리, 또는 구리-카드뮴 및 플루오르외의 할로겐, 또는 이들의 혼합물의 소스를 함유하는 유리로부터 제품을 융해 및 형성하는 단계,

   (b) 상기 유리제품을 할라이드 결정체를 형성하기에 충분한 시간동안 유리 연화점보다 적어도 76℃ 이상 높은 온도의 시간-온도 싸이클하에 두어 상기 유리제품내에 과량의 할라이드 결정체를 열적으로 형성하는 단계,

   (c) 유리 변형점 이상의 온도에서 상기 유리제품에 응력을 가하여 상기 제품 및 할라이드 결정체를 신장시키는 단계, 및

   (d) 상기 신장된 유리제품을 250℃ 이상의 온도에서 환원분위기에 노출시켜 상기 제품상의 표면층의 할라이드 결정체 입자들의 일부 또는 그 전체를 환원시켜 신장된 금속입자들을 형성하는 단계

   를 포함하며, 복사선 스펙트럼의 적외선 영역에서 광대역의 높은 콘트라스트 편광 특성을 나타내고, 위상-분리되거나 200∼5000Å의 크기를 가지며 유리에 침전된 은, 구리, 구리-카드뮴 할라이드 결정체에 기초하여 광변색성 특성을 나타내며, 신장된 은, 구리 또는 구리-카드뮴 금속 입자들을 함유하는 표면층을 갖는 편광 유리제품의 제조방법.
7. 제 6항에 있어서, 상기 방법이 은의 소스를 함유하는 유리를 융해시키는 단계, 및 상기 유리에서 과량의 은 할라이드 결정체를 열적으로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
8. 제 6항에 있어서, 상기 방법이 구리의 소스를 함유하는 유리를 융해시키는 단계, 및 상기 유리에서 과량의 구리 할라이드 결정체를 열적으로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
9. 제 6항에 있어서, 상기 방법이 유리 연화점보다 적어도 76℃ 이상 높은 온도 및 1∼20시간의 시간-온도 싸이클 조건하에 상기 유리를 두어 과량의 할라이드 결정체를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
10. 제 6항에 있어서, 상기 방법이 결정체에 적어도 5:1의 종횡비를 주기에 충분한 신장된 응력 수준을 상기 결정체-함유 제품에 적용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 제 10항에 있어서, 상기 신장된 응력 수준이 3000psi를 넘지 않음을 특징으로 하는 방법.
12. 제 6항에 있어서, 상기 방법은 상기 제품의 표면층에 은, 구리, 또는 구리-카드뮴 금속 입자를 형성하기 위해 250℃이상이고 유리 어닐링점에서 25℃를 초과하지 않는 온도의 환원분위기에서 상기 신장된 유리제품을 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
13. 제1항에 따른 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 편광 유리 제품.