KR100488410B1 - The method of manufacturing of hybrid type chemical filter - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 산업이나 일반 산업분야의 공조기 등에서 발생하는 염기성 가스인 NH3, Amine, NMP와 산성가스인 SOx, NOx를 동시에 제거하기위한 조합형 케미칼 필터 및 이의 제작 방법에 관한 것이다. 조합형 케미칼 필터의 구성은 NH3, Amine과 같은 염기성 가스를 제거할 수 있는 제 1 흡착층과 SOx, NO2와 같은 산성가스를 제거할 수 있는 제 2 흡착층 그리고 중간에 이온교환수지를 이용한 필터 메디아를 삽입하는 구조로 되어 있다. 본 발명의 특징은 단일가스만 제거하는 것이 아니라 복합 가스를 동시에 제거할 수 있기 때문에 한정된 좁은 공간내에서 낮은 압력강하와 소규모 크기로 설치할 수 있기 때문에 설치비 및 유지관리비가 절감된다. 또한 대응하는 가스에 대한 흡착제의 흡착특성을 고려하여 흡착층을 구분하여 배열하기 때문에 조합형 케미칼 필터의 유해가스 제거효율을 극대화시킬 수 있다.The present invention relates to a combined chemical filter and a method of manufacturing the same for the simultaneous removal of basic gases NH 3 , Amine, NMP and acidic gases SOx, NOx generated in the air conditioner of the semiconductor industry or general industry. Combination chemical filter is composed of a first adsorption layer capable of removing basic gases such as NH 3 and Amine, a second adsorption layer capable of removing acid gases such as SOx and NO 2, and an ion exchange resin in the middle. It is structured to insert media. The feature of the present invention is that not only a single gas but also a complex gas can be removed at the same time, because it can be installed at a low pressure drop and a small size in a limited narrow space, installation and maintenance costs are reduced. In addition, since the adsorption layers are arranged in consideration of the adsorption characteristics of the adsorbent to the corresponding gas, the toxic gas removal efficiency of the combined chemical filter can be maximized.

Description

조합형 케미칼 필터의 제작 방법{The method of manufacturing of hybrid type chemical filter}The method of manufacturing of hybrid type chemical filter

본 발명은 일반 반도체 분야에서 케미칼 가스를 극저농도까지 제거할 수 있을 뿐만 아니라 NH3, Amine, SOx, NO2. NMP를 동시에 제거할 수 있는 조합형 케미칼 필터 제작 방법에 관한 것이다.The present invention can remove chemical gases to extremely low concentrations in general semiconductor field, as well as NH 3 , Amine, SOx, NO 2 . The present invention relates to a combination chemical filter manufacturing method capable of removing NMP at the same time.

반도체에서 사용되어지고 있는 장치와 같은 정밀 제품은 일반적으로 규정 크기 이상의 오염 물질들이 제거된 클린룸 내에서 제조된다. 특히 반도체 제조를 위한 클린룸의 오염은 반도체 제조 수율에 직결되는 중요한 요소이다. 최근의 반도체 장치는 고집적화되고 있는 추세이며, 상기와 같은 반도체를 제조하기 위해서는 오염 물질의 제거는 필수적이다. 클린룸내의 미세한 오염 물질에 의해서 반도체 장치에는 불량률이 유발될 수 있기 때문에 클린룸내의 청정지수를 더욱 엄격히 관리하고 있다. 클린룸을 관리하기 위한 오염 물질은 미세한 먼지와 같은 입자상 물질과 산성, 염기성 가스와 같은 가스상 물질로 구분한다.Precision products, such as devices used in semiconductors, are typically manufactured in clean rooms that are free of contaminants larger than specified sizes. In particular, contamination of clean rooms for semiconductor manufacturing is an important factor directly affecting semiconductor manufacturing yield. In recent years, semiconductor devices have become highly integrated, and in order to manufacture such a semiconductor, removal of contaminants is essential. Since the defect rate can be caused to the semiconductor device by the minute contaminants in the clean room, the clean index in the clean room is more strictly managed. Pollutants to manage clean rooms are divided into particulate matter such as fine dust and gaseous substances such as acidic and basic gases.

일반적으로 반도체의 클린룸 내부의 오염물들은 케미칼 필터에 의해 제어된다. 상기 설명한 케미칼 필터는 일반적으로 첨착활성탄, 이온교환수지, 이온교환부직포를 메디아로서 사용하여 케미칼 가스를 포집하는 방식을 사용하고 있다. 케미칼 가스를 제거하기 위한 메디아로서 사용되는 첨착활성탄은 활성탄의 표면 또는 세공내에 특정한 금속염을 첨착시킨 것이며, 이온교환수지와 이온교환부직포는 stylene계의 고분자 수지에 관능기(SO3H, OH)를 부착시킴으로서 특정한 가스를 제거할 수 있도록 하였다.In general, contaminants in the clean room of semiconductors are controlled by chemical filters. The chemical filter described above generally employs a method of collecting chemical gas using impregnated activated carbon, ion exchange resins, and ion exchange nonwoven fabrics as media. Impregnated activated carbon, which is used as a media for removing chemical gases, is a metal salt impregnated on the surface or pores of activated carbon. The ion exchange resin and the ion exchange nonwoven fabric attach specific functional groups (SO3H, OH) to the polymer resin of the stylene. It was possible to remove the gas.

종래의 케미칼 필터는 하나의 오염물 또는 동일한 종류의 오염물만을 제거하 수 있도록 구성되어 있다. 그런데, 상기 클린룸 내에 유입되는 공기 중에는 다양한 종류의 오염물이 혼재하기 때문에 다양한 종류의 오염물들을 제어하기 위해 오염물들을 제어할 수 있는 각각의 케미칼 필터들을 다단으로 설치하여 사용하고 있다. 그러나, 상기와 같은 케미칼 필터들을 각각 설치하는 경우 상기 케미칼 필터들을 설치하기 위한 넓은 공간이 필요하다. 또한 상기 케미칼 필터들의 구입비용, 설치비용과 운전비용 등이 증가하게 된다. Conventional chemical filters are configured to remove only one contaminant or the same kind of contaminant. However, since various kinds of contaminants are mixed in the air introduced into the clean room, in order to control various kinds of contaminants, each chemical filter capable of controlling contaminants is installed and used in multiple stages. However, when installing each of the chemical filters as described above, a large space for installing the chemical filters is required. In addition, the purchase cost, installation cost and operating cost of the chemical filters are increased.

이러한 문제점을 해소하기 위하여는 케미칼 필터는 2가지 또는 3가지 이상의 오염물질을 동시에 제거할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다. In order to solve this problem, the chemical filter is preferably configured to remove two or three or more contaminants at the same time.

이러한 메디아들은 단일 가스 또는 같은 성질의 가스 제거에 사용이 용이하며, 복합가스에는 적용하기가 어렵다. 또한 성질이 다른 복합가스를 제거하기 위해서는 산성 가스를 제거할 있는 케미칼 필터와 염기성 가스를 제거할 수 있는 케미칼 필터를 직렬로 사용하여야 하기 때문에 공간을 많이 차지하는 불편함이 있으며, 케미칼 필터가 추가로 설치되기 때문에 관리하기가 어렵다. These media are easy to use for removing a single gas or gas of the same nature, and are difficult to apply to complex gases. In addition, in order to remove complex gases having different properties, a chemical filter capable of removing acidic gas and a chemical filter capable of removing basic gas must be used in series. Difficult to manage.

본 발명자에 의해 이미 첨착활성탄과, 이온교환수지를 바인더를 이용하여 금속망체에 부착시키는 방법(국내특허 No. 54198, 1999.12.01, 국내특허 No. 12618, 2001,03,12))은 단일가스에 대하여 제거효율 및 성능을 향상시키는 방법이다. The present inventors have already attached the impregnated activated carbon and the ion exchange resin to the metal mesh using a binder (Domestic Patent No. 54198, 1999.12.01, Domestic Patent No. 12618, 2001,03,12). It is a method to improve the removal efficiency and performance.

본 발명은 상기와 같은 방법으로 이루어진 것이다. 본 발명은 반도체 제조 공정 등에서 성질이 다른 복합가스를 효율적으로 제거하는데 목적이 있다. 본 발명에 의한 조합형 케미칼 필터는 다양한 유해가스를 효율적으로 처리가 가능하기 때문에 필터의 다단 설치에 의한 설치비 및 운전비를 절감할 수 있으며, 공간을 최소화 할 수 있기 때문에 공간을 효율적으로 사용이 가능하다. The present invention is made in the above manner. An object of the present invention is to efficiently remove a complex gas having different properties in a semiconductor manufacturing process or the like. Since the combined chemical filter according to the present invention can efficiently handle various harmful gases, it is possible to reduce installation and operating costs due to the multi-stage installation of the filter, and to minimize space, thus enabling efficient use of space.

본 발명에 의한 조합형 케미칼 필터는 NH3와 같은 염기성 가스를 제거할 수 있는 제 1 흡착층과, SOx와 같은 산성가스를 제거할 수 있는 제 2 흡착층과 중간에 이온교환방식을 이용한 흡착 메디아를 삽입함으로서 달성한다.The combined chemical filter according to the present invention comprises an adsorption medium using an ion exchange method between a first adsorption layer capable of removing basic gases such as NH 3 and a second adsorption layer capable of removing acid gases such as SOx. By inserting.

본 발명에 의한 조합형 케미칼 필터는 반도체 공정의 클린룸의 유해가스를 제어하기 위하여 사용되며, 유해가스를 복합적으로 제거할 수 있는 특징을 지니고 있다는데 그 유용성이 있다. Combination chemical filter according to the present invention is used to control the harmful gas of the clean room of the semiconductor process, and has the characteristics that can remove the harmful gas complex has its usefulness.

본 발명에 따른 복합가스를 제거하기 위한 조합형 케미칼 필터의 구성과 그 작용에 대한 실시예를 첨부 도면에 의거하여 상세하게 설명하면 다음과 같다. Exemplary embodiments of the combined chemical filter for removing the composite gas according to the present invention and its operation will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

그림 1은 복합가스를 제거하기 위한 메디아의 구성도이다. 조합형 케미칼 필터(1)의 구성은 NH3와 같은 염기성 가스를 제거할 수 있는 제 1흡착층(2)과 SOx와 같은 산성 가스를 제거할 수 있는 제 2 흡착층(3)으로 구성되어있다. 복합가스를 제거하기 위해서는 제 1 흡착층(2) 위에 제 2 흡착층(3)이 적층되며, 흡착 성능을 향상시키기 위하여 제 1 흡착층(2)과 제 2 흡착층(3) 사이에 본 발명자에 의해 특허 출원된 이온교환수지(4)를 메쉬에 부착시키는 방법(국내특허 No. 12618, 2001. 3. 12)으로 제조된 메디아를 삽입한다.Figure 1 is a schematic diagram of media for removing complex gas. The combined chemical filter 1 is composed of a first adsorption layer 2 capable of removing basic gases such as NH 3 and a second adsorption layer 3 capable of removing acid gases such as SOx. In order to remove the composite gas, the second adsorption layer 3 is stacked on the first adsorption layer 2, and the present inventors are provided between the first adsorption layer 2 and the second adsorption layer 3 to improve the adsorption performance. The media produced by the method of attaching the ion exchange resin 4 (patent pending) to the mesh (Domestic Patent No. 12618, Mar. 12, 2001) is inserted.

제 1 흡착층(2)은 NH3와 같은 염기성 가스를 제거할 수 있는 첨착활성탄으로 일반 활성탄에 H3PO4, H2SO4와 같은 산 물질 중에서 어느 한 물질을 사용한 것으로서, NH3와 같은 염기성 가스를 제거하는 메카니즘은 아래와 같다.A first adsorption layer (2) as with any of the substances from the acid material, such as H 3 PO 4, H 2 SO 4 in the general activated carbon impregnated activated carbon to remove a basic gas such as NH 3, such as NH 3 The mechanism for removing basic gas is as follows.

NH3 + H3PO4 ---> (NH4)2HPO4 NH 3 + H 3 PO 4 ---> (NH 4 ) 2 HPO 4

NH3 + H2SO4 ---> (NH4)2SO4 NH 3 + H 2 SO 4 ---> (NH 4 ) 2 SO 4

제 1 흡착층(2)으로 사용되는 첨착활성탄의 첨착물인 H3PO4, H2SO4의 양은 중량비로 5-40%정도가 첨착되어 사용된다.The amount of H 3 PO 4 , H 2 SO 4 , which is an impregnation of the impregnated activated carbon used as the first adsorption layer 2, is impregnated by about 5-40% by weight.

제 2 흡착층(3)은 SO2와 같은 산성가스를 제거할 수 있는 첨착활성탄으로 일반활성탄에 KOH, K2CO3, KI와 같은 염기성 물질 중에서 어느 한 물질을 사용한 것으로서, SO2, NO2와 같은 산성가스를 제거하는 메카니즘은 아래와 같다.The second adsorption layer 3 is an impregnated activated carbon capable of removing acidic gases such as SO 2, and any one of basic materials such as KOH, K 2 CO 3 , and KI is used for general activated carbon. SO 2 , NO 2 Mechanism for removing acid gas such as

SO2 + 2KOH ---> K2SO4 + H2 SO 2 + 2 KOH ---> K 2 SO 4 + H 2

SO2 + K2CO3 ---> K2SO4 + CO2 SO 2 + K 2 CO 3 ---> K 2 SO 4 + CO 2

SO2 + 2KI + O2 ---> K2SO4 + I2 SO 2 + 2KI + O 2 ---> K 2 SO 4 + I 2

2NO2 + 2KOH ---> 2KNO3 +H2 2NO 2 + 2KOH ---> 2KNO 3 + H 2

제 2 흡착층(3)으로 사용되는 첨착활성탄의 첨착물인 KOH, K2CO3, KI의 양은 중량비로 5-20% 정도가 첨착되어 사용된다.The amount of KOH, K 2 CO 3 , and KI, which are the impregnations of the impregnated activated carbon used as the second adsorption layer 3 , is impregnated by 5-20% by weight.

또한 유해가스에 대한 흡착성능을 증가시키기 위하여 제 1 흡착층(2)과 제 2 흡착층(3) 사이에 음이온교환수지(4-1)와 양이온교환수지(4-2)를 삽입하기도 한다. 이온교환수지(4)는 단일가스에 대하여 선택성이 우수하기 때문에 어느 한 가스에 대하여 흡착성능을 향상시킬 수 있다. In addition, an anion exchange resin (4-1) and a cation exchange resin (4-2) may be inserted between the first adsorption layer (2) and the second adsorption layer (3) in order to increase the adsorption performance for harmful gases. Since the ion exchange resin 4 has excellent selectivity with respect to a single gas, adsorption performance can be improved with respect to any one gas.

그림 2는 V-Bed 형태의 조합형 케미칼 필터(1)를 구성하는 Tray(5)를 나타낸 단면도이다. Tray의 재질은 SUS 또는 알루미늄으로 되어 있으며, 양면은 직경 5 mm의 타공판(6)으로 되어 있다. Tray(5)에 흡착제를 충전 및 조립하는 방법은 다음과 같다. Figure 2 is a cross-sectional view showing the tray (5) constituting the combination chemical filter (1) of the V-Bed type. The material of the tray is made of SUS or aluminum, and both sides are perforated plates 6 having a diameter of 5 mm. The method of filling and assembling the adsorbent in the tray 5 is as follows.

1) Tray(5)는 상부와 하부케이스로 분리되어 있으며, 물 또는 알콜을 이용하여 깨끗이 세척한 후 100℃ 이상에서 건조한다. 1) Tray (5) is separated into upper and lower cases, and it is washed with water or alcohol and dried at over 100 ℃.

2) 유해가스 제거용 첨착활성탄을 준비한다. 2) Prepare impregnated activated carbon for removing harmful gas.

3) 하부케이스에 먼저 제 1 흡착층(2)을 충전한다. 3) The first adsorption layer 2 is first filled in the lower case.

4) 제 1 흡착층(2)을 충전한 후 그 위에 양이온교환수지(4-2)와 음이온교환수지(4-1)가 부착되어 있는 망체를 적층한다. 4) After the first adsorption layer 2 is filled, a network on which the cation exchange resin 4-2 and the anion exchange resin 4-1 are attached is laminated.

5) 다시 그위에 제 2 흡착층(3)을 적층한다. 5) The second adsorption layer 3 is again laminated thereon.

6) 하부케이스에 충전이 완료되면 상부케이스의 씌워 리벳으로 고정시킨다. 6) When charging is completed in the lower case, cover the upper case and fix it with rivets.

그림 3은 Tray(5)를 이용하여 조립된 조합형 케미칼 필터(1)의 조립도이다. 조합형 케미칼 필터(1)는 유해가스의 제거효율을 높이고, 압력손실을 줄이기 위하여 V-bed 형태로 제작되어 있다.Figure 3 is an assembly diagram of the combined chemical filter (1) assembled using the tray (5). Combination chemical filter (1) is manufactured in the form of V-bed in order to increase the removal efficiency of harmful gases, and to reduce the pressure loss.

실시예 1Example 1

NH3, SOx, NMP를 제거할 수 있는 조합형 케미칼 필터(1)의 구성을 표 1에 나타내었다. 이와 같은 방법으로 구성된 조합형 케미칼 필터(1)의 여재를 이용하여 NH3와 SO2 가스에 대한 흡착성능 시험을 수행하였다. NH3와 SO2 가스에 대한 흡착성능 시험 조건을 표 2에 나타내었다.NH 3, SOx, shows the configuration of the combination-type chemical filter 1 is to remove the NMP in Table 1. Adsorption performance test for NH 3 and SO 2 gas was carried out using the media of the combined chemical filter (1) configured in this way. Table 2 shows the adsorption performance test conditions for NH 3 and SO 2 gas.

표 1. 실시예 1에 의한 조합형 케미칼 필터의 적층 구조Table 1. Laminated Structure of Combination Chemical Filter according to Example 1

구분division 적층구조Laminated structure 실시예 1Example 1 첨착활성탄 + 음이온교환수지 + 양이온교환수지 + 음이온교환수지 + 양이온교환수지 + 첨착활성탄Impregnated activated carbon + Anion exchange resin + Cation exchange resin + Anion exchange resin + Cation exchange resin + Impregnated activated carbon

표 2 실시예 1에 의한 NH3, SO2 가스에 대한 흡착성능 시험 조건Table 2 Adsorption performance test conditions for NH 3 , SO 2 gas according to Example 1

구분division 수치shame Air Flow(L/min)Air Flow (L / min) 1717 Linear Velocity(m/s)Linear Velocity (m / s) 0.150.15 Column Dia(mm)Column Dia (mm) 5050 Bed Depth(mm)Bed Depth (mm) 2020 Target GasTarget Gas NH3, SO2 NH 3 , SO 2 Concentration(ppm)Concentration (ppm) 2020 Temperature(℃)Temperature (℃) 2323 Humidity(%-RH)Humidity (% -RH) 4545

실시예 1에 의한 NH3와 SO2 가스에 대한 흡착성능 결과를 그림 1과 그림 2에 나타내었다. 그림에서 보는바와 같이 NH3와 SO2 가스에 대한 흡착성능이 우수하게 나타나는 것을 볼 수 있다.Adsorption performance results for NH 3 and SO 2 gases according to Example 1 are shown in Figure 1 and Figure 2. As shown in the figure, the adsorption performance of NH 3 and SO 2 gas is excellent.

그림 1. 실시예 1에 대한 NH3 흡착성능Figure 1. NH 3 adsorption performance for Example 1

그림 2. 실시예 1에 대한 SO2 흡착성능Figure 2. SO 2 Adsorption Performance for Example 1

실시예 2, 3, 4Examples 2, 3, 4

실시예 2, 3, 4에 대한 조합형 케미칼 필터(1)의 구성을 표 3에 나타내었으며, 실시예 1에서 나타낸 적층 방법이 아닌 제 1 흡착층(2)과 제 2 흡착층(3)을 비율로 혼합하여 충전하였다. 혼합비율은 Vol %로 하여 혼합하였다. The configuration of the combined chemical filter 1 for Examples 2, 3, and 4 is shown in Table 3, and the ratio of the first adsorption layer 2 and the second adsorption layer 3 is different from the lamination method shown in Example 1. Was mixed by charging. The mixing ratio was mixed as Vol%.

표 3 조합형 케미칼 필터의 구성Table 3 Composition of Combination Chemical Filter

구분division 구성Configuration 실시예 2Example 2 H3PO4-첨착활성탄(40 Vol%) + KOH-첨착활성탄(60 Vol%)H 3 PO 4 -Impregnated activated carbon (40 Vol%) + KOH-impregnated activated carbon (60 Vol%) 실시예 3Example 3 H3PO4-첨착활성탄(40 Vol%) + KI-첨착활성탄(60 Vol%)H 3 PO 4 -Impregnated Activated Carbon (40 Vol%) + KI- Impregnated Activated Carbon (60 Vol%) 실시예 4Example 4 H3PO4-첨착활성탄(60 Vol%) + KI-첨착활성탄(40 Vol%)H 3 PO 4 -Impregnated activated carbon (60 Vol%) + KI-impregnated activated carbon (40 Vol%)

조합형 케미칼 필터(1)의 구성에 따른 NH3와 SO2에 대한 흡착성능 시험을 수행하였으며, 이에 대한 시험 조건은 표 4에 나타내었다.Adsorption performance tests for NH 3 and SO 2 according to the configuration of the combined chemical filter (1) were carried out, and the test conditions thereof are shown in Table 4.

표 4 가스 흡착성능 시험 조건Table 4 Gas Adsorption Performance Test Conditions

구분division 수치shame Air Flow(L/min)Air Flow (L / min) 1717 Linear Velocity(m/s)Linear Velocity (m / s) 0.150.15 Column Dia(mm)Column Dia (mm) 5050 Bed Depth(mm)Bed Depth (mm) 3030 Target GasTarget Gas NH3, SO2 NH 3 , SO 2 Concentration(ppm)Concentration (ppm) NH3(20), SO2(150)NH 3 (20), SO 2 (150) Temperature(℃)Temperature (℃) 2323 Humidity(%-RH)Humidity (% -RH) 4545

조합형 케미칼 필터의 NH3 가스 흡착성능에 대한 그래프를 그림 3과 4에 나타내었다. 실시예 2와 실시예 3에 대한 NH3 흡착 성능 실험 결과 거의 유사한 흡착 특성을 나타내었다.Graphs of NH 3 gas adsorption performance of the combined chemical filter are shown in Figs. NH 3 adsorption performance experiments for Examples 2 and 3 showed nearly similar adsorption characteristics.

조합형 케미칼 필터의 SO2 가스 흡착성능에 대한 그래프를 그림 5과 6에 나타내었다. 실시예 2와 실시예 3에 대한 SO2 흡착 성능 실험 결과 KOH 첨착활성탄 보다 KI 첨착활성탄의 흡착성능이 약 4배이상 증가하였다Graphs of SO 2 gas adsorption performance of the combined chemical filter are shown in Figs. As a result of SO 2 adsorption performance test for Examples 2 and 3, the adsorption performance of KI impregnated activated carbon was more than 4 times higher than that of KOH impregnated activated carbon.

그림 3 NH3 흡착성능(KOH-KI 첨착물질 변화)Figure 3 NH 3 adsorption performance (change of KOH-KI impregnated substance)

그림 4 NH3 흡착성능(혼합비율 변화)Figure 4 NH 3 adsorption performance (mixed ratio change)

그림 5 SO2 흡착성능(KOH-KI 첨착물질 변화)Figure 5 SO 2 Adsorption Performance (Change of KOH-KI Impregnated Material)

그림 6 SO2 흡착성능(혼합비율 변화)Figure 6 SO 2 Adsorption Performance (Mixed Ratio Variation)

본 발명에 의한 조합형 케미칼 필터는 NH3, SOx를 동시에 제거할 수 있으며, 각각의 가스를 제거하기 위하여 다단으로 필터를 설치하지 않기 때문에 설치비 및 운전비를 절감할 수 있으며, 유해가스의 제거효율 또한 90% 이상의 높은 효율을 보이고 있다. 또한 설치면적을 최소화 할 수 있기 때문에 공간을 효과적으로 활용할 수 있다.Combination chemical filter according to the present invention can remove NH 3 , SOx at the same time, and because it does not install the filter in multiple stages to remove each gas, it is possible to reduce the installation cost and operating cost, and also to remove the harmful gas 90 It shows high efficiency over%. In addition, since the installation area can be minimized, the space can be effectively utilized.

본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.      The present invention is not limited to the above-described specific preferred embodiments, and various modifications can be made by those skilled in the art without departing from the gist of the present invention as claimed in the claims. Of course, such changes will fall within the scope of the claims.

도 1은 본 발명에 의한 조합형 케미칼 필터 여재의 구성도이다.1 is a block diagram of a combination chemical filter media according to the present invention.

도 2는 본 발명에 의한 조합형 케미칼 필터를 구성하는 Tray의 단면도이다. 2 is a cross-sectional view of a tray constituting a combination chemical filter according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 조합형 케미칼 필터의 조립도이다. 3 is an assembly view of the combination chemical filter according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

(1) : 조합형 케미칼 필터 (2) : 제 1 흡착층(1): Combination Chemical Filter (2): First Adsorption Layer

(3) : 제 2 흡착층 (4) : 이온교환수지(3): second adsorption layer (4): ion exchange resin

(5) : Tray (6) : 타공판(5): Tray (6): Perforated Plate

Claims (10)

염기성 가스를 제거할 수 있는 인산 또는 황산으로부터 선택되어지는 산 물질을 구비하는 첨착활성탄으로 이루어진 제 1 흡착층과, 산성 가스를 제거할 수 있는 염기성 물질인 KI를 구비하는 첨착활성탄으로 이루어지는 제 2 흡착층과, 상기 제 1 흡착층과 제 2 흡착층 사이에 하나 이상의 양이온 또는 음이온 교환수지로 이루어지는 이온교환수지 망체를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 조합형 케미칼 필터. 2nd adsorption | suction which consists of the 1st adsorption layer which consists of impregnated activated carbon which has an acid substance selected from phosphoric acid or sulfuric acid which can remove a basic gas, and the impregnated activated carbon which has KI which is a basic substance which can remove an acidic gas. And a ion exchange resin network comprising at least one cation or anion exchange resin between the bed and the first adsorption layer and the second adsorption layer. 제 1 항에 있어서, 상기 산 물질은 인산이며 인산과 상기 염기성 물질 KI의 체적비는 60 : 40인 것을 특징으로 하는 조합형 케미칼 필터.      The combination chemical filter of claim 1, wherein the acid material is phosphoric acid and a volume ratio of phosphoric acid and the basic material KI is 60:40. 제 1 항 또는 제 2 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이온교환수지 망체는 음이온 교환수지과 양이온 교환수지를 모두 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 조합형 케미칼 필터.      The combination chemical filter according to any one of claims 1 to 3, wherein the ion exchange resin network comprises both an anion exchange resin and a cation exchange resin. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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