KR100478951B1 - 클로로알킬이소시아누레이트, 그 제조방법 및 이를포함하는 접착 활성 조성물 - Google Patents
클로로알킬이소시아누레이트, 그 제조방법 및 이를포함하는 접착 활성 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100478951B1 KR100478951B1 KR10-2002-0075295A KR20020075295A KR100478951B1 KR 100478951 B1 KR100478951 B1 KR 100478951B1 KR 20020075295 A KR20020075295 A KR 20020075295A KR 100478951 B1 KR100478951 B1 KR 100478951B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- formula
- group
- represented
- isocyanurate
- chloroalkyl
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
- C07D251/30—Only oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
- C07D251/30—Only oxygen atoms
- C07D251/32—Cyanuric acid; Isocyanuric acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
- C09J11/02—Non-macromolecular additives
- C09J11/06—Non-macromolecular additives organic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
본 발명은 클로로알킬이소시아누레이트와 이의 제조방법 및 상기 클로로알킬이소시아누레이트를 포함하는 수용성 접착 활성 조성물을 제공한다. 상기 클로로알킬이소시아누레이트와 이를 함유한 접착 활성 조성물을 이용하면, 수성 접착제의 사용을 용이하게 하여 신발의 아웃솔과, 미드솔간의 접착력을 개선시킬 수 있고, 이와 같은 신발 산업이외에 폐수의 산화제, 살균제, 소독제, 폴리머의 염소화 반응 등의 다양한 분야에 유용하게 적용가능하다.
Description
본 발명은 신규한 클로로알킬이소시아누레이트와, 이의 제조방법과, 상기 클로로알킬이소시아누레이트를 포함하는 수용성 접착 활성 조성물에 관한 것이다.
신발은 일반적으로 크게 밑창과, 상기 밑창의 상부에 결합된 갑피로 구성된다. 상기 밑창은 신발의 바닥창을 이루는 아웃솔(outsole)과, 대개 신발의 중창을 이루는 미드솔(midsole)로 구성된다. 상기 아웃솔은 일반적으로 NR(니트릴 고무), SBR(스티렌-부타디엔 러버), BR(부타디엔 러버) 등과 같은 비극성 고무를 이용하여 제조되며, 상기 미드솔 역시 비극성 성질이 강한 EVA 폼(foam)으로 이루어진다. 따라서, 이와 같은 비극성 고무로 이루어진 아웃솔과 미드솔을 접착시키고자 할 때, 폴리우레탄계, CR(클로로프렌 고무)계 화합물과 같은 접착제만을 사용해서는 아웃솔과 미드솔을 강하게 접착시킬 수 없다. 따라서, 이들의 접착을 보완해주는 접착활성제의 사용이 필수적이다.
현재 신발의 고무용 접착 활성제로는 트리클로로이소시아누레산 (trichloroisocyanuric acid: TCIA)이 주로 사용된다. 이 물질을 비극성 고무 표면에 코팅하면, 염소(Cl2) 가스를 발생시키고 발생된 Cl2 가스는 고무 표면과 반응하여 접착제가 공유결합할 수 있는 자리를 마련하는 것으로 알려져 있다.
그러나 TCIA는 물에 거의 용해되지 않고 아세톤, 메틸 에틸 케톤 등과 같은 휘발성 유기용매에 반드시 용해하여 사용해야 한다. 따라서, 이를 이용하는 경우, 유기용매의 냄새 및 인화성 등의 작업성이 불량하다는 문제점이 있다. 또한, 근래에 환경 친화적 요인으로 수성 접착제의 개발과 사용이 급격히 늘고있기 때문에 TCIA를 대체할 수 있는 수용성 접착활성제에 대한 개발이 매우 시급한 과제이다.
이에 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 문제점을 해결할 수 있는 클로로알킬이소시아누레이트와, 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 클로로알킬이소시아누레이트를 포함하여 접착력이 우수하며, 이를 이용한 작업성이 우수한 수용성 접착 활성 조성물을 제공하는 것이다.
상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명에서는, 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트를 제공한다.
상기식중, R은 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기이고, M은 리튬(Li) 또는 나트륨(Na)이다.
본 발명의 다른 기술적 과제는 화학식 2로 표시되는 알킬이소시아누레이트와 화학식 3으로 표시되는 트리클로로이소시아누르산을 반응시키는 것을 특징으로 하는 상술한 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트의 제조방법에 의하여 이루어진다.
상기식중, R 및 M은 상술한 바와 같다.
본 발명의 또 다른 기술적 과제는 상술한 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트와, 화학식 5로 표시되는 디클로로이소시아누레이트를 포함하는 접착 활성 조성물에 의하여 이루어진다.
상기식중, M은 상술한 바와 같다.
본 발명의 클로로알킬이소시아누르산염은 하기 화학식 1로 표시된다.
<화학식 1>
상기식중, R은 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기이고, M은 리튬(Li) 또는 나트륨(Na)이다.
본 발명에서 사용되는 치환기인 비치환된 C1-C20의 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 펜틸기, iso-아밀기, 헥실기, 헵틸기 등을 들 수 있고, 특히 헥실기 또는 헵틸기인 것이 바람직하다. 그리고 상기 알킬기중 하나 이상의 수소 원자는 할로겐 원자, 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기, 아미디노기, 히드라진, 히드라존, 카르복실기, 술폰산기, 인산기 등으로 치환될 수 있다.
상기 화학식 1의 클로로알킬이소시아누레이트는 하기 반응식 1에 나타난 바와 같이 화학식 2의 알킬이소시아누레이트와, 화학식 3의 트리클로로이소시아누르산을 반응시켜 얻을 수 있다.
상기식중, R 및 M은 상술한 바와 같다.
상기 반응시, 반응용매로는 물을 사용하며, 물의 함량은 화학식 2의 알킬이소시아누레이트 100중량부에 대하여 500 내지 2000 중량부이다.
상기 반응에 있어서, 화학식 3의 트리클로로이소시아누르산의 함량은 화학식 2의 알킬이소시아누레이트 1몰을 기준으로 하여 0.8 내지 1.2몰이며, 특히 약 1몰을 사용한다.
상기 반응온도는 0 내지 50 ℃이며, 특히 25 내지 30℃인 것이 바람직하다. 만약 반응온도가 상기 범위 미만이면, 반응물의 용해도면에서 바람직하지 못하고, 상기 범위를 초과하면 반응이 너무 격렬하여 바람직하지 못하다.
상기 반응이 완결된 후에는 워크-업(work-up) 과정을 거쳐 화학식 1로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.
상기 화학식 2의 이소시아누레이트는 하기 반응식 2에 나타난 바와 같이 화학식 4로 표시되는 알킬이소시아누르산을 수산화리튬(LiOH) 또는 수산화나트륨(NaOH)과 반응하여 얻을 수 있다.
상기식중, R 및 M은 상술한 바와 같다.
상기 반응식 4의 알킬이소시아누르산은 하기 반응식 3으로부터 알 수 있듯이 화합물 (B)를 1-브로모헥산 등과 같은 C1-C20 알킬할라이드와 반응하여 제조된다. 그리고 상기 화합물 (B)는 상기 화합물 (A)를 수산화리튬(LiOH)과 반응하여 얻을 수 있다.
상기식중, R은 상술한 바와 같다.
상술한 화학식 2의 알킬이소시아누레이트와 화학식 3의 트리클로로이소시아누르산간의 반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 동결건조하면 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트와, 화학식 5로 표시되는 디클로로이소시아누레이트를 포함하는 조성물을 고체 상태로 얻을 수 있다. 여기에서 상기 조성물에서 화학식 1로 표시되는 알킬 이소시아누르산염과, 화학식 5로 표시되는 디클로로이소시아누레이트의 혼합몰비는 1:2 내지 1:1 이고, 특히 1:1인 것이 접착 활성이 우수하다.
상기 과정에서 동결 건조하기 이전의 반응 혼합물의 pH는 7.4 내지 7.7 정도인 것이 바람직하다. 만약 반응 혼합물의 pH가 상기 범위를 초과하면, 생성물이 불안정하여 바람직하지 못하다.
본 발명의 접착 활성 조성물의 구체적인 예로서, 본 발명자에 의하여 명명된 화학식 6로 표시되는 리클로로-6(Lichloro-6), 화학식 7로 표시되는 리클로로-7(Lichloro-7) 및 화학식 8로 표시되는 나클로로-8(Nachloro-8)가 있다.
이하, 본 발명을 하기 실시예를 들어 예시하기로 하되, 본 발명이 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.
합성예 1: 헥실이소시아누르산의 제조
물 300 mL에 이소시아누르산(38.7 g, 0.3 mol)을 현탁시킨 용액에 LiOH·H2O (12.6 g, 0.3 mol)를 부가하고 100oC에서 3 시간 동안 반응시켰다. 상기 반응 혼합물을 실온으로 식힌 후, 침전된 생성물을 여과하고 물로 세척하였다.
상기 과정에 따라 얻어진 결과물을 110oC에서 24시간동안 건조하여 흰색 결정 형태로 리튬 이소시아누레이트(40.3 g, 77%)를 얻었다.
상기 리튬 이소시아누레이트(10 g, 74.1 mmol)을 50oC에서 메탄올(500 mL)에 녹이고 1-브로모헥산(13.5 g, 81.5 mmol)을 서서히 가하였다. 24 시간 환류 후 반응물을 감압하에 농축하였다. 잔유물을 에틸 아세테이트와 물로 추출하고, 유기층을 감압하에 용매를 제거하였다. 잔유물을 벤젠으로 여러번 씻어 미반응 1-브로모헥산을 제거한 후, 흰색 고체 형태로 헥실이소시아누르산(4.66 g, 31%)를 얻었다.
mp 221-222oC; IR: 3210, 3090, 2950, 2855, 1756, 1485 cm-1; 1H NMR(500 MHz, DMSO-d6): δ= 11.37(s, 2H, NH), 3.62(t, J= 7.3, 2H, NCH
2
CH2), 1.51-1.48 (m, 2H, NCH2CH
2), 1.28-1.24(m, 6H, CH
2CH
2
CH
2), 0.85(t, J= 6.5, 3H, CH2CH
3);
13C NMR(125 MHz, DMSO-d6): δ= 150.9, 149.7, 41.5, 32.0, 28.4, 26.9, 23.1, 15.0.
합성예 2: 헵틸이소시아누르산의 제조
1-브로모헥산 대신 1-브로모헵탄을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 실시하여 헵틸이소시아누르산을 얻었다(수율: 30%).
mp 217-219oC; IR: 3210, 3088, 2953, 2919, 2856, 1755, 1480cm-1; 1H NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ= 11.37(s, 2H), 3.61(t, J= 7.3, 2H), 1.52-1.48(m, 2H), 1.27-1.24(m, 8H), 0.85(t, J= 6.6, 3H); 13C NMR(125 MHz, DMSO-d6): δ= 150.9, 149.7, 41.5, 32.3, 29.5, 28.4, 27.2, 23.1, 15.0.
합성예 3-6: 옥틸이소시아누르산, 데실이소시아누르산, 도데실이소시아누르산 및 헥사데실이소시아누르산의 제조
1-브로모헥산 대신 1-브로모옥탄, 1-브로모데칸, 1-브로모도데칸, 1-브로모헥사데칸을 각각 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 실시하여 옥틸이소시아누르산, 데실이소시아누르산, 도데실이소시아누르산 및 헥사데실이소시아누르산을 얻었다.
합성예 7: 디리튬 헥실이소시아누레이트의 제조
헥실이소시아누르산(1.00 g, 4.97 mmol)을 녹인 에탄올(30 mL) 용액에 60 oC에서 물 5 mL에 녹인 LiOH·H2O(417 mg, 9.94 mmol)를 서서히 부가하였다.
상기 혼합물을 실온으로 식힌 후 이를 여과하여 디리튬 헥실이소시아누레이트를 정량적인 수율로 얻었다.
1H NMR(500 MHz, DMSO-d6): δ= 3.59(t, J= 7.1, 2H), 1.47-1.43(m, 2H), 1.25-1.20(m, 6H), 0.83(brs, 3H); 13C NMR(125 MHz, DMSO-d6): δ= 156.3, 154.6, 79.1, 31.0, 27.8, 26.0, 22.0, 13.8.
합성예 8: 디리튬 헵틸이소시아누레이트의 제조
헥실이소시아누르산 대신 헵틸이소시아누르산을 사용한 것을 제외하고는, 합성예 7과 동일한 방법에 따라 실시하여 디리튬 헵틸이소시아누레이트를 합성하였다.
합성예 9: 디소듐 헥실이소시아누레이트의 제조
LiOH·H2O 대신 NaOH(9.94mmol)을 각각 사용한 것을 제외하고는, 합성예 7과 동일한 방법에 따라 실시하여 디소듐 헥실이소시아누레이트을 합성하였다.
합성예 10: 디소듐 헵틸이소시아누레이트의 제조
LiOH·H2O 대신 NaOH(9.94mmol) 및 KOH(9.94mmol)을 각각 사용한 것을 제외하고는, 합성예 8과 동일한 방법에 따라 실시하여 디소듐 헵틸이소시아누레이트을 합성하였다.
합성예 11: 리클로로-6의 제조
비이커에 pH 미터를 장착하고 물 18 mL를 부은 후 디리튬 헵틸이소시아누레이트(1.0 g, 4.18 mmol)를 용해하였다. 그리고 나서, 상기 비이커에 트리클로로이소시아누르산(0.97 g, 4.18 mmol)를 서서히 부가하며 격렬하게 교반하면서 반응을
30분 동안 실시하였다.
상기 반응이 완결됨에 따라 반응 혼합물은 맑은 용액 상태로 변화되며, pH는 11.7에서 7.6으로 낮아졌다. 상기 반응 혼합물을 동결건조하여 흰색 고체 상태의 리클로로-6(1.95g)을 얻었다.
합성예 12: 리클로로-7의 제조
비이커에 pH 미터를 장착하고 물 18 mL를 부은 후, 여기에 디리튬 헥실이소시아누레이트(1.0 g, 4.43 mmol)를 부가하여 용해하였다. 상기 혼합물에 TCIA (1.03 g, 4.43 mmol)를 서서히 부가한 후, 격렬하게 교반하면서 반응을 20분 동안 실시하였다.
상기 반응이 완결됨에 따라, 반응 혼합물은 맑은 용액 상태로 변화되며, pH는 12.1에서 7.7로 낮아졌다. 상기 반응 혼합물을 동결건조하여 흰색 고체 상태의 리클로로-7(1.96 g)을 얻었다.
합성예 13: 나클로로-6의 제조
비이커에 pH 미터를 장착하고 물 18 mL를 부은 후 여기에 디소듐 헥실이소시아누레이트(1.0 g, 4.14 mmol)를 부가하여 용해하였다. 상기 혼합물에 TCIA(0.96 g, 4.14 mmol)를 서서히 부가하며 격렬하게 교반하면서 반응을 실시하였다.
상기 반응이 완결됨에 따라, 반응 혼합물은 맑은 용액 상태로 변화되며, pH는 12.2에서 7.4로 낮아졌다. 상기 반응 혼합물을 동결건조하여 흰색 고체 상태의 나클로로-6(1.82g)을 얻었다.
실시예 1
아조 화합물과 스테아르산 아연을 포함하는 EVA 폼(foam)으로 이루어진 미드솔의 표면을 메틸 에틸 케톤으로 세척하고, 이를 60℃에서 30분동안 건조하였다.
이와 별도로, 스티렌-부타디엔 러버로 이루어진 아웃솔의 표면을 톨루엔으로 세척하고, 이를 60℃에서 30분동안 건조하였다.
상기 과정에 따라 세정된 EVA 폼 표면과, 러버 표면 각각에 상기 합성예 11에 따라 얻어진 리클로로-6 분말 2g을 물 98g으로 용해하여 얻은 2 중량%의 리클로로-6 수용액을 브러시로 코팅처리한 다음, 이를 60℃에서 5분동안 건조하였다.
실시예 2-5
2 중량%의 리클로로-6 수용액 대신 5 중량%, 8 중량%, 12 중량% 및 16 중량%의 리클로로-6 수용액을 각각 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 실시하였다.
비교예 1
아조 화합물과 스테아르산 아연을 포함하는 EVA 폼(foam)으로 이루어진 미드솔과, 스티렌-부타디엔 러버로 이루어진 아웃솔의 표면 처리를 실시하지 않았다.
상기 실시예 1-5 및 비교예 1에 있어서, EVA 폼(foam)으로 이루어진 미드솔과, 스티렌-부타디엔 러버로 이루어진 아웃솔 표면상태를 하기 방법에 따라 평가하였다.
(1) 접촉각
상기 실시예 1-5에 따라 리클로로-6 수용액으로 표면처리된 러버 및 EVA 폼 시료 조각과, 비교예에 따라 표면처리되지 않은 러버 및 EVA 폼 시료 조각을 접촉각 측정 시스템 G 1O(Contact Angle Measuring System G 10)의 플레이트에 올려 놓았다. 이어서, 상기 시료의 표면에 증류수 10μl를 적하하였다. 상기 증류수를 매크로퓨어 프리트리트먼트(Macropure pretreatment)로 이루어진 씩스-카트리지 반스테드 나노퓨어 II 정제 트레인(six-catridge Barnstead Nanopure II purification train)을 통과하였다. 10분후, 물방울(drop)의 양면에서의 접촉각을 상온에서 측정하였다. 물방울 3개에 대한 접촉각을 측정하여 이들의 평균치를 계산하였다.
(2) FT-IR
퍼킨 엘머 FT-IR 분광기(Perkin Elmer FT-IR spectrometer)를 이용하여 상기 실시예 1-5 및 비교예에 따른 러버 및 EVA 폼 시료의 감쇠 토탈 멀티플 반사-IR 스펙트럼(attenuated total multiple reflection-IR spectrum: ATR-IR)을 얻었다. 상기 ATR-IR 스펙트럼으로부터, 표면처리된 시료 상부의 화학적 개질(chemical modification) 상태를 파악할 수 있다. 스캔이 50회 반복되었고, 분해능은 평균 1㎝-1이었다.
(3) 전자주사현미경(SEM)
상기 실시예 1, 3 및 비교예에 따른 러버 표면과, EVA 폼의 표면을 전자주사현미경을 이용하여 관찰하였다. 여기에서 전자주사현미경으로는 일본 히다치(Hitachi)사의 S-2400 SEM 시스템을 이용하였고, 가속전압은 약 20 kV였다. 러버 및 EVA 폼 시료 표면을 도금처리하여 SEM 현미경 사진의 콘트라스트를 양호한 상태로 조절하였다.
(4) 인열 저항(tear resistance)
상기 실시예 1-3에 따라 처리된 러버와 EVA 폼 스트립 테스트 조각(200 mm×20 mm)을 이용하여 러버/PU 접착제/EVA 폼 조인트(joint)를 만들었다. 브러시를 이용하여 수계 PU(폴리우레탄) 접착제를 러버 및 EVA 폼 조각의 표면에 코팅한 다음, 이를 60℃에서 5분동안 건조하였다. 두 개의 PU 코팅된 러버 및 EVA 폼 조각을 약 28kg/c㎡의 압력으로 가압착하였다. 접착제 조인트는 23℃, 상대습도 48%에서 48시간동안 유지한 후, 인열 저항을 측정하였다. 이 때 러버/PU 접착제/EVA 폼 조인트의 강도는 인장 강도 시험기(tensile strength instrument(216 YZ. TYPE))를 이용하여 측정하였고, 이 때 인열속도(tear rate)는 약 100mm/min이었다. 인장강도는 3회 반복하여 측정하여 그 평균치를 계산하였다.
상기 실시예 1-5 및 비교예 1에 따른 러버 및 EVA 폼에 있어서, 리클로로-6수용액의 농도에 따른 접촉각 변화를 측정하여 도 1에 나타내었다. 이를 참조하면, 비처리된 러버 및 EVA 폼은 물 접촉각이 각각 88도 및 89도로 거의 동일한 정도로 큰 편이며, 이러한 사실로부터 비처리된 러버 및 EVA 폼 표면은 소수성이라는 것을 알 수 있었다. 도 1로부터 알 수 있듯이, 표면처리시 사용되는 리클로로-6 수용액의 농도가 증가할수록 러버 및 EVA 폼 표면에서의 물 접촉각이 현저하게 감소되었다. 이와 같이 물 접촉각이 현저하게 감소하는 것은 리클로로-6으로 처리된 표면의 친수성이 증가하여 젖음성(wettability)이 향상된다는 것을 의미한다.
상기 실시예 1-5 및 비교예 1에 띠른 러버 및 EVA 폼의 ATR-IR 스펙트럼을 도 2 및 3에 각각 나타내었다.
도 2 및 3을 참조해볼 때, 리클로로-6 수용액의 농도가 증가될수록 이로 인한 C=O, C-Cl, N-C=O의 밴드의 상대적 세기는 증가하는 반면, 비처리에서 기인된 C-H, C=C, Si-O 밴드의 상대적 세기는 줄어든다는 것을 알 수 있었다. 이러한 사실로부터 리클로로-6의 처리에 의하여 러버 표면과 EVA-폼 표면에서 화학적 개질이 이루어진다는 것을 알 수 있었다.
상기 실시예 1-3 및 비교예에 따른 러버 표면과 EVA 폼 표면의 SEM 사진을 관찰하였고, 그 결과는 도 4 a-c 및 도 5 a-c과 같다. 도 4a 및 도 4b는 실시예 3 및 1에 따라 처리된 러버 표면에 대한 것이고, 도 4c는 비교예 1에서 비처리된 러버 표면에 대한 것이고, 도 5a 및 도 5b는 실시예 3 및 1에 따라 처리된 EVA 폼 표면에 대한 것이고, 도 5c는 비교예 1에서 비처리된 러버 표면에 대한 것이다.
비처리된 EVA 폼 표면(도 5c)은 비처리된 러버 표면(도 4c)과 비교하여 비교적 평탄한 표면 상태를 보여주고 있다. 이러한 EVA 폼과 러버를 리클로로-6 수용액으로 표면처리하면 이들 표면이 거칠어진다는 것을 알 수 있었고, 그 거칠기 정도는 리클로로-6의 농도에 비례하였다. 이와 같이 EVA 폼과 러버 표면이 거칠어지면 접착제와 고무의 결합력을 강화시켜 아웃-솔과 미드-솔의 접착력을 강하게 유지할 수 있게 한다.
상기 실시예 1-3에 따라 처리된 러버/PU 접착제/EVA 폼 조인트의 인열 저항을 측정하였고, 그 결과는 하기 표 1과 같다.
리클로로-6 수용액의 농도(중량%) | 2 | 5 | 8 |
인열강도(kgf/㎠) | 6.5 | 8.4 | 10.2 |
상기 표 1로부터 알 수 있듯이, 리클로로-6 수용액의 농도가 증가할 수도록 러버와 EVA 폼 사이의 인열저항은 증가하였다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트와 이를 함유한 접착 활성 조성물은, 신발의 비극성 고무로 이루어진 아웃솔과, 극성 합성 고무로 이루어진 미드솔의 접착시 수용성 접착 활성제로서 사용되어 상기 아웃솔과 미드솔의 접착력을 매우 개선시킬 수 있다.
상술한 화학식 1의 클로로알킬이소시아누레이트와 이를 함유한 접착 활성 조성물은 신발 산업이외에 폐수의 산화제, 살균제, 소독제, 폴리머의 염소화 반응 등의 다양한 분야에 유용하게 적용가능하다.
도 1은 본 발명의 실시예 1-5 및 비교예 1에 따른 러버 및 EVA 폼에 있어서, 리클로로-6 수용액의 농도에 따른 접촉각 변화를 나타낸 그래프이고,
도 2 및 3은 각각 상기 실시예 1-5 및 비교예 1에 따른 러버 및 EVA 폼의 ATR-IR(attenuated total multiple reflection-IR) 스펙트럼을 나타낸 것이고,
도 4a-c는 본 발명의 실시예 1-3 및 비교예 1에 따라 표면처리된 러버 표면의 전자 주사 현미경 사진들이고,
도 5a-c는 본 발명의 실시예 1-3 및 비교예 1에 따라 표면처리된 EVA 폼 표면의 전자 주사 현미경 사진들이다.
Claims (6)
- 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트:<화학식 1>상기식중, R은 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 데실기, 도데실기 또는 헥사데실기이고, M은 리튬(Li) 또는 나트륨(Na)이다.
- 제1항에 있어서, 상기 R은 헥실기 또는 헵틸기인 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트.
- 화학식 2로 표시되는 알킬이소시아누레이트와 화학식 3으로 표시되는 트리클로로이소시아누르산을 반응시키는 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트의 제조방법.<화학식 2><화학식 3><화학식 1>상기식중, R은 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 데실기, 도데실기 또는 헥사데실기이고, M은 리튬(Li) 또는 나트륨(Na)이다.
- 제3항에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 알킬이소시아누레이트는 화학식 4로 표시되는 알킬이소시아누르산을 수산화리튬 또는 수산화나트륨과 반응하여 형성되는 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트의 제조방법.<화학식 4>상기식중, R은 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 데실기, 도데실기 또는 헥사데실기이다.
- 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트와, 화학식 5로 표시되는 디클로로이소시아누레이트를 포함하는 접착 활성 조성물:<화학식 1><화학식 5>상기식중, R은 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 데실기, 도데실기 또는 헥사데실기이고, M은 리튬(Li) 또는 나트륨(Na)이다.
- 제5항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 클로로알킬이소시아누레이트와 화학식 5로 표시되는 디클로로이소시아누레이트의 혼합 몰비는 1:1인 것을 특징으로 하는 접착 활성 조성물.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2002-0075295A KR100478951B1 (ko) | 2002-11-29 | 2002-11-29 | 클로로알킬이소시아누레이트, 그 제조방법 및 이를포함하는 접착 활성 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2002-0075295A KR100478951B1 (ko) | 2002-11-29 | 2002-11-29 | 클로로알킬이소시아누레이트, 그 제조방법 및 이를포함하는 접착 활성 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040047176A KR20040047176A (ko) | 2004-06-05 |
KR100478951B1 true KR100478951B1 (ko) | 2005-03-28 |
Family
ID=37342613
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2002-0075295A KR100478951B1 (ko) | 2002-11-29 | 2002-11-29 | 클로로알킬이소시아누레이트, 그 제조방법 및 이를포함하는 접착 활성 조성물 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100478951B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101359343B1 (ko) * | 2010-09-08 | 2014-02-11 | 서울대학교산학협력단 | 알킬기가 도입된 이소시아누르산계 항균물질 및 이의 제조방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5669399A (en) * | 1979-11-06 | 1981-06-10 | Aikoo Rooko Kk | Treatment of cyanide plating liquid |
US4409117A (en) * | 1980-12-17 | 1983-10-11 | Eka Ab | Detergent compositions stable to chlorine separation, and agents for producing same |
US4663377A (en) * | 1985-06-15 | 1987-05-05 | Bayer Aktiengesellschaft | Polyisocyanate preparation dispersible in water and their use as an additive for aqueous adhesives |
US6171675B1 (en) * | 1999-05-20 | 2001-01-09 | Nagase-Ciba Ltd. | UV-curable adhesive composition, method of preparing optical disc and optical disc produced thereby |
-
2002
- 2002-11-29 KR KR10-2002-0075295A patent/KR100478951B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5669399A (en) * | 1979-11-06 | 1981-06-10 | Aikoo Rooko Kk | Treatment of cyanide plating liquid |
US4409117A (en) * | 1980-12-17 | 1983-10-11 | Eka Ab | Detergent compositions stable to chlorine separation, and agents for producing same |
US4663377A (en) * | 1985-06-15 | 1987-05-05 | Bayer Aktiengesellschaft | Polyisocyanate preparation dispersible in water and their use as an additive for aqueous adhesives |
US6171675B1 (en) * | 1999-05-20 | 2001-01-09 | Nagase-Ciba Ltd. | UV-curable adhesive composition, method of preparing optical disc and optical disc produced thereby |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101359343B1 (ko) * | 2010-09-08 | 2014-02-11 | 서울대학교산학협력단 | 알킬기가 도입된 이소시아누르산계 항균물질 및 이의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20040047176A (ko) | 2004-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1535260B (zh) | 全氟烷基取代的胺、酸、氨基酸和硫醚酸 | |
EP0971867B1 (en) | Af4 synthesis | |
EP3508489A1 (en) | A process for the preparation of acylphosphanes | |
JPH11171887A (ja) | 1,3,4,6−テトラアリルグリコールウリル化合物および該化合物の合成方法 | |
KR100478951B1 (ko) | 클로로알킬이소시아누레이트, 그 제조방법 및 이를포함하는 접착 활성 조성물 | |
CA1049180A (en) | Derivative of an unhydrogenated or hydrogenated block copolymer | |
US6156906A (en) | Process for the preparation of 5,5'-bi-1H-tetrazole salt | |
US3880798A (en) | Fluorocarbon compounds | |
JP2914733B2 (ja) | 複素環式チオール基を有するスルフェンイミド化合物及び該化合物を含むゴム組成物 | |
US5103048A (en) | Surface-active compounds having a perfluoroalkyl group and a nitrogen-containing aliphatic radical, a process for their preparation and their use | |
CA1056829A (en) | Triazine compositions | |
JPS6041660A (ja) | 劣化防止剤 | |
CN1169800C (zh) | 制备噻唑衍生物的方法 | |
CA1161048A (en) | Process for the preparation of n-(cyclohexylthio)- phthalimide | |
US4864064A (en) | Process for the preparation of tert. alkyl-tert. aralkyl peroxides | |
US6166214A (en) | Process for preparing pyridylmethyl isothiocyanates | |
SK168899A3 (en) | Process for the preparation of dithiazolyl disulfides | |
US20040167340A1 (en) | Process for preparing storage-stable benzothiazolyl sulfenamides | |
US4393238A (en) | Method for the production of blocked isocyanates | |
IL33885A (en) | Pyrimidine derivatives,their preparation and herbicidal compositions containing them | |
US4996346A (en) | Formation of acyclic bis (reissert compounds) | |
US5206304A (en) | Vulcanizable rubber mixtures containing bis-(2,4-organylthio-triazine-6-yl) polysulfides | |
US4478999A (en) | Process for the preparation of phenylpyridazine compounds | |
US4057638A (en) | Benzothiazole allophanate fungicides | |
US3017321A (en) | Trichloromethyl 2-methoxy-5-phosphono-benzenethiolsulfonate pesticides |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120309 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130311 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |