KR100473817B1 - A process for producing glass frit powder for pdp pastes - Google Patents

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Abstract

본 발명은 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 PbO, SiO2, B2O3, Al2O3, ZnO, BaO, TiO2, ZrO2, Bi2O3, CaO, MgO, CeO2, Sb2O3로 이루어진 유리 원료를 백금 용융로에 투입하여 1,000 내지 1,300℃의 온도 범위에서 가열하여 파유리로 제조하는 단계; 볼 밀 또는 디스크 밀을 이용하여 파유리의 평균 입경을 10 내지 15㎛의 범위로 1차 건식 분쇄하는 단계; 상기에서 얻어진 유리 입자를 건식 미분쇄기로 1.5 내지 2.5㎛의 입도로 2차 건식 분쇄하는 단계; 2차 분쇄 단계에서 얻어진 유리 입자를 0.5 내지 1.5㎛의 입도로 3차 습식 분쇄하는 단계; 및 건조시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법인 것이다.The present invention relates to a method for producing a glass frit powder for PDP paste, more specifically PbO, SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , ZnO, BaO, TiO 2 , ZrO 2 , Bi 2 O 3 , Injecting a glass raw material consisting of CaO, MgO, CeO 2 , Sb 2 O 3 into the platinum melting furnace to heat in a temperature range of 1,000 to 1,300 ℃ to produce a cullet; Primary dry grinding of the average particle diameter of the cullet using a ball mill or a disk mill in the range of 10 to 15 μm; Secondary dry grinding of the glass particles obtained above into a particle size of 1.5 to 2.5 μm with a dry grinding machine; Tertiary wet grinding of the glass particles obtained in the second grinding step to a particle size of 0.5 to 1.5 mu m; And it is a method for producing a glass frit powder for PDP paste, characterized in that it comprises a step of drying.

본 발명의 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말을 제조하는 방법에 따르면 0.5㎛ 이하의 미립자와 10㎛ 이상의 최대 입도를 효과적으로 제어할 수 있어서 PDP 페이스트로서 제조시 분산 및 유동도가 균일하게 되므로 격벽이나 유전체 형성후 소결상태가 균일하고 반사율 및 투과율을 증진할 수 있다.According to the method of manufacturing the glass frit powder for PDP paste of the present invention, it is possible to effectively control the particle size of 0.5 μm or less and the maximum particle size of 10 μm or more, so that the dispersion and the flow rate are uniform during manufacturing as the PDP paste, so that after formation of the partition or dielectric The sintered state is uniform and can improve the reflectance and transmittance.

Description

피디피 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법{A PROCESS FOR PRODUCING GLASS FRIT POWDER FOR PDP PASTES}Manufacturing method of glass frit powder for PD paste {A PROCESS FOR PRODUCING GLASS FRIT POWDER FOR PDP PASTES}

본 발명은 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 미립자와 최대 입도를 효과적으로 제어할 수 있어서 유리 프릿 분말을 PDP 페이스트로서 제조시 분산 및 유동도를 균일하게 하여 격벽이나 유전체 형성후 소결상태가 균일하고 반사율 및 투과율을 증진할 수 있는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a glass frit powder for PDP paste, and more particularly, to effectively control the fine particles and the maximum particle size. The present invention relates to a method for producing a glass frit powder for a PDP paste, in which the sintered state is uniform after formation and the reflectance and the transmittance can be enhanced.

PDP 페이스트 제조시 사용되는 유리 프릿 분말은 입자의 입도분포 범위가 넓고 미립자들이 많이 포함되어 있는 경우 분산 및 유동도 등이 불균일하고 격벽이나 유전체를 형성후 소결시 소결 상태가 불균일하거나 표면 조도가 거칠어져서 반사율이나 투과율을 떨어뜨리게 된다.The glass frit powder used in the production of PDP paste has a wide particle size distribution range and contains a large amount of fine particles, resulting in uneven dispersion and fluidity, and uneven sintering state or rough surface roughness during sintering after forming partitions or dielectrics. The reflectance or transmittance will drop.

즉, 유리 프릿 분말의 입도가 0.5㎛ 이하에서는 페이스트 제조시 산화물 충진제를 첨가할 때 충진제와 유리 프릿 분말의 혼합이나 분산이 균일하게 되기 어렵고, 산화물 충진제를 첨가하지 않을 때에는 유리 프릿 분말 간의 균일한 혼합이나 분산이 어려워서 소결 상태가 불균일하고 소결 조건의 범위가 상당히 좁아져 양산조건에 부적합하게 된다. 또한, 유리 프릿 분말의 입도가 10㎛ 이상일 경우는 페이스트 제조하여 소성한 후 표면 조도가 거칠어지기 때문에 반사율이나 투과율을 떨어뜨리거나 소결 온도 조건이 높아져야 하는 문제점이 있다.That is, when the particle size of the glass frit powder is 0.5 μm or less, it is difficult to uniformly mix or disperse the filler and the glass frit powder when the oxide filler is added during paste production, and evenly mix the glass frit powder when the oxide filler is not added. However, due to the difficulty in dispersion, the sintered state is uneven and the range of the sintering conditions is considerably narrowed, making it unsuitable for mass production conditions. In addition, when the particle size of the glass frit powder is 10 µm or more, since the surface roughness is rough after the paste is manufactured and fired, there is a problem in that the reflectance or transmittance is decreased or the sintering temperature condition must be increased.

한편, 최근에는 유리 분말이 PDP 품질에 영향을 미치는 특성 중 반사율 및 투과율 향상, 내전압 특성 증진, 휘도 특성 향상 등을 위하여 유리 입자의 형상을 구형화하여 충진 밀도를 높이고 입도를 1.5㎛ 이하의 범위로 제조하여 유리를 소성한 후 기포의 수와 기포의 크기를 최소화하려는 노력이 있어 왔다. 그러나, 입도를 1.5㎛ 이하의 범위로 제조하기 위해서는 필연적으로 습식 분쇄를 해야 하는데, 장시간 습식 분쇄를 행할 경우 PDP용 유리 조성 중 특히 Pb나 B 성분의 용출에 의한 유리 분말의 물성변화로 인하여 소결시 생성된 이상 거대기포에 의한 내전압 특성 저하와 기포가 터짐으로 인하여 발생하는 셀 결함 등에 의한 투과율 저하에 따라 휘도 특성이 불량해지는 요인이 되므로 최대한 단시간 내에 분쇄를 해야 하는 단점이 있으며 이에 따른 다른 기술적인 부분이 보완되어야 하는 실정이다.On the other hand, in recent years, the glass powder is spherical in shape to increase the filling density and the particle size in the range of 1.5 μm or less in order to improve the reflectance and transmittance, withstand voltage characteristics, and improve the luminance characteristics among the characteristics that affect the PDP quality. Efforts have been made to minimize the number of bubbles and the size of bubbles after manufacturing and firing the glass. However, in order to manufacture the particle size in the range of 1.5 μm or less, it is inevitable to wet grind. When wet grind for a long time, during sintering due to the change of physical properties of the glass powder due to the elution of Pb or B component in the glass composition for PDP Since the luminance characteristics are deteriorated due to the decrease in the breakdown voltage characteristics due to the abnormally generated giant bubbles and the decrease in transmittance due to cell defects caused by bubbles bursting, there is a disadvantage in that grinding should be performed in the shortest time possible. This situation needs to be complemented.

그러므로, 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 극복하기 위하여는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조에 있어서 0.5㎛ 이하의 미립자와 10㎛ 이상의 최대 입도를 제어하고 최종 분말의 품질을 좌우하게 되는 소성시 기포제어를 위한 공정간 기능성 처리 기술이 시급히 요구된다.Therefore, in order to overcome the problems of the prior art as described above, in the production of glass frit powder for PDP paste, bubbles during firing that control the particle size of 0.5 μm or less and the maximum particle size of 10 μm or more and influence the quality of the final powder There is an urgent need for interprocess functional processing techniques for control.

본 발명자들은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 극복하기 위하여 예의 연구한 결과, PDP 페이스트용 유리 원료 분말의 입도를 일정 범위로 제어할 수 있는 방법을 개발하여 본 발명에 이르게 되었다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly researching in order to overcome the problem of the prior art as mentioned above, the present inventors developed the method which can control the particle size of the glass raw material powder for PDP paste to a certain range, and came to this invention.

본 발명의 목적은 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말을 제조하는데 있어서 0.5㎛ 이하의 미립자와 10㎛ 이상의 최대 입도를 제어하고 평균 입도를 1.5㎛ 이하로 조절할 수 있는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing a glass frit powder for PDP paste, which can control particles having a particle size of 0.5 μm or less and a maximum particle size of 10 μm or more and control an average particle size of 1.5 μm or less in manufacturing the glass frit powder for PDP paste. It is.

또한, 본 발명의 목적은 PDP 페이스트용 유리 조성중 Pb나 B 성분의 용출로 인한 유리 분말의 물성변화를 최소화하는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법을 제공하는데 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a method for producing a glass frit powder for PDP paste to minimize the physical properties of the glass powder due to the elution of Pb or B component in the glass composition for PDP paste.

이하, 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말을 제조하는데 있어서, PbO, SiO2, B2O3, Al2O3, ZnO, BaO, TiO2, ZrO2, Bi2O3, CaO, MgO, CeO2, 또는 Sb2O3로 이루어진 유리 원료를 백금 용융로에 투입하여 1,000 내지 1,300℃의 온도 범위에서 가열하여 파유리로 제조하는 단계; 볼 밀 또는 디스크 밀을 이용하여 파유리의 평균 입경을 10 내지 15㎛의 범위로 1차 건식 분쇄하는 단계; 상기에서 얻어진 유리 입자를 건식 미분쇄기로 1.5 내지 2.5㎛의 입도로 2차 건식 분쇄하는 단계; 2차 분쇄 단계에서 얻어진 유리 입자를 0.5 내지 1.5㎛의 입도로 3차 습식 분쇄하는 단계; 및 건조시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법인 것이다.The present invention is to prepare a glass frit powder for PDP paste, PbO, SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , ZnO, BaO, TiO 2 , ZrO 2 , Bi 2 O 3 , CaO, MgO, CeO 2 Or, by adding a glass raw material consisting of Sb 2 O 3 to the platinum melting furnace and heating in a temperature range of 1,000 to 1,300 ℃ to produce a cullet; Primary dry grinding of the average particle diameter of the cullet using a ball mill or a disk mill in the range of 10 to 15 μm; Secondary dry grinding of the glass particles obtained above into a particle size of 1.5 to 2.5 μm with a dry grinding machine; Tertiary wet grinding of the glass particles obtained in the second grinding step to a particle size of 0.5 to 1.5 mu m; And it is a method for producing a glass frit powder for PDP paste, characterized in that it comprises a step of drying.

이하, 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에서는 PbO, SiO2, B2O3의 3성분계를 기본 조성으로 하는 유리 전이점이 350 내지 550℃이고 연화점이 400 내지 600℃인 저온 소성이 가능한 영역의 유리이고 PDP 기판유리와 유사한 열팽창 계수를 가지는 유리를 사용할 수 있다. 특히 이 유리는 조성 중 PbO를 다량 함유하고 있으므로 납성분의 휘발이나 납성분에 의한 백금의 부식을 감소하고 내수성 및 내산성을 증진하기 위하여 Al2O3, ZnO, BaO, TiO2, ZrO2, Bi2O3, CaO, MgO, CeO2, 또는 Sb2O3 등의 성분 중 1 또는 2 이상의 성분을 적정량 첨가할 수 있다.In the present invention, the glass transition point, which is based on the three-component system of PbO, SiO 2 , B 2 O 3 , is 350-550 ° C. and the softening point is 400-600 ° C., which is a low-temperature sinterable glass. It is possible to use a glass having. In particular, since the glass contains a large amount of PbO in its composition, Al 2 O 3 , ZnO, BaO, TiO 2 , ZrO 2 , Bi in order to reduce the corrosion of platinum by lead volatilization or lead, and to improve the water resistance and acid resistance 2 O 3, an appropriate amount can be added to CaO, MgO, CeO 2, or Sb 2 O 3, such as 1 or 2 or more of the ingredients of the components.

본 발명에 따른 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법에 있어서는 먼저 원료 혼합 공정에서 PbO, SiO2, B2O3를 주성분으로 하는 유리 원료와 휘발이나 백금의 부식을 감소하고 내수성 및 내산성을 증진하기 위한 상기한 첨가제 적량을 평량하여 V-혼합기, 텀블링 혼합기 또는 무중력 혼합기 등을 이용하여 골고루 혼합한다.In the method for producing a glass frit powder for PDP paste according to the present invention, first, in the raw material mixing step, the corrosion of glass raw material and volatilization or platinum and the water resistance and acid resistance, which are mainly composed of PbO, SiO 2 and B 2 O 3 , The additive amount for the basis weight is equally mixed by using a V-mixer, a tumbling mixer, or a gravity-free mixer.

다음으로 유리의 용융 공정에서는 잘 혼합된 원료를 백금도가니에 투입하고 1000 내지 1,300℃의 온도 범위에서 30 내지 60분 동안 용융한다. 용융물 내에 납성분이 다량 포함되어 발생할 수 있는 불혼화 영역에 의한 조성 편차를 방지하기 위하여 백금도가니 내에 교반기를 장치하였다. 상기 용융공정에서 용융된 용융물은 롤 분쇄기에 의해 파유리(CULLET)를 두께 1mm 이하로 만들어 낸다.Next, in the melting process of glass, the well-mixed raw material is put into a platinum crucible and melted for 30 to 60 minutes in the temperature range of 1000-1,300 degreeC. A stirrer was installed in the platinum crucible in order to prevent compositional variation due to an immiscible region which may occur due to a large amount of lead in the melt. The melt melted in the melting process produces a cullet (CULLET) to a thickness of 1mm or less by a roll mill.

상기에서 얻어진 파유리는 볼 밀이나 디스크 밀에 의하여 1차적으로 조분쇄된다. 1차 조분쇄 공정에서는 파유리를 약 10 내지 30㎛, 바람직하기로는 10 내지 15㎛의 평균입경(D50)으로 분쇄하여 60메쉬 체로 분체를 실시한다.The cullet obtained above is pulverized primarily by a ball mill or a disk mill. In the first coarse grinding process, the cullet is pulverized to an average particle diameter (D50) of about 10 to 30 µm, preferably 10 to 15 µm, and powdered into a 60 mesh sieve.

본 발명에 따르면, 상기에서 1차적으로 조분쇄된 유리 입자는 건식 분쇄와 습식 분쇄공정을 거쳐 미분쇄된다. 건식 분쇄 방법으로는 예를들면 볼 밀, 진동식 밀, 제트 밀 등이 있는데, 불순물 유입을 줄이고 입도 분포의 범위를 최소화하기 위하여 본 발명에서는 제트 밀을 이용하여 2차 건식 분쇄를 실시한다. 제트 밀은 다른 분쇄 방법과 비교하여 입도 분포를 0.5 내지 10㎛ 크기의 좁은 범위로 조절할 수 있어서 10㎛ 이상의 최대 입도를 제어하여 생산수율을 향상시키고 0.5㎛ 이하의 미립자 발생을 억제할 수 있다. 2차 건식 분쇄단계에서 얻어진 유리 입자의 평균입도는 1.5 내지 2.5㎛의 범위 내에 분포한다. 이 단계에서는 유리 조성에 따라 최종 한계 분쇄입도의 차이가 발생되는데 2차 건식 분쇄로서 최대한 분쇄할 수 있는 입도까지 분쇄하는 것이 중요하다.According to the present invention, the primary coarsely pulverized glass particles are finely pulverized through a dry grinding and a wet grinding process. Dry milling methods include, for example, ball mills, vibratory mills, jet mills, and the like. In the present invention, secondary dry milling is performed using a jet mill in order to reduce impurities and minimize a range of particle size distribution. Compared with other grinding methods, the jet mill can adjust the particle size distribution to a narrow range of 0.5 to 10 μm in size, thereby controlling the maximum particle size of 10 μm or more to improve the production yield and suppress the generation of fine particles of 0.5 μm or less. The average particle size of the glass particles obtained in the second dry grinding step is distributed in the range of 1.5 to 2.5 μm. In this step, the final marginal particle size difference occurs according to the glass composition, and it is important to grind to the particle size that can be pulverized as much as the second dry grinding.

2차 건식 분쇄단계에서 얻어진 유리 입자는 3차 습식 분쇄에 의해 미분쇄된다. 습식 분쇄 방법으로는 예를들면 볼 밀, 마모 밀, 비드 밀 등이 있는데, 습식 분쇄과정에서는 납 성분이나 붕소 성분이 용출되어 유리의 조성 편차나 수질 환경 문제(Pb 함유 환경 기준 :0.1mg/ℓ)등을 유발할 수 있으므로 가능한 짧은 시간 내에 분쇄하는 것이 유리하고 소결 조건을 일정하게 유지하기 위해서 좁은 범위의 입도 분포로 분쇄하는 것이 필요하다. 상기한 습식 분쇄 방법들은 볼 밀, 마모 밀, 비드 밀 순으로 분쇄 시간을 줄일 수 있고 입도 분포의 범위를 최소화할 수 있다. 본 발명에서는 바람직하기로는 비드 밀에 의하여 2차 건식 분쇄된 유리 입자를 0.5 내지 1.5㎛의 입도로 습식 분쇄한다.The glass particles obtained in the second dry grinding step are pulverized by the third wet grinding. Wet grinding methods include, for example, ball mills, wear mills, and bead mills. In the wet grinding process, lead and boron components are eluted, causing variations in glass composition and water quality problems (Pb-containing environmental standards: 0.1 mg / l). It is advantageous to grind in the shortest possible time, as it may cause the grinding process, and it is necessary to grind with a narrow range of particle size distribution in order to keep the sintering conditions constant. The wet grinding methods can reduce grinding time in order of ball mill, wear mill, bead mill and minimize the range of particle size distribution. In the present invention, it is preferable that the second dry-pulverized glass particles by a bead mill are wet-pulverized to a particle size of 0.5 to 1.5㎛.

3차 습식 분쇄시 2% 이하의 질산 용액 분위기 하에서 분쇄를 실시하면 거친 유리 입자의 활성화 에너지를 감소시키고 입자의 구형화를 촉진시켜 충진 밀도를 높혀 한층 더 기능성 처리 부분의 효과를 증진시킬 수 있다. 여기에서 분쇄시 온도가 50℃ 이상이 되면 유리의 산세효과가 너무 커서 유리 입자 자체의 손상 때문에유리 소결시 이상기포 발생의 역효과를 가져올 수 있다. When the third wet grinding is performed in a nitric acid solution atmosphere of 2% or less, the grinding energy can be reduced, and the sphericalization of the particles can be reduced, thereby increasing the packing density, thereby further enhancing the effect of the functional treated portion. Here, when the temperature is 50 ° C. or more during grinding, the pickling effect of the glass is so great that it may cause an adverse effect of abnormal bubble generation during glass sintering due to damage of the glass particles themselves.

본 발명에 따르면, 3차 습식 분쇄된 유리 입자의 건조 단계에서는 고온 건조에 의한 Pb나 B 성분의 용출을 최소화하기 위하여 저온에서 건조할 수 있는 감압 진공 건조의 방법을 실시한다.According to the present invention, in the drying step of the third wet pulverized glass particles, a method of vacuum drying, which can be dried at low temperature, is performed in order to minimize elution of Pb or B components by high temperature drying.

추가로, 본 발명에 있어서는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 유리 전이점 영역 온도, 즉 350 내지 550℃의 온도 범위 내에서 2시간 이상, 대기 분위기 하에 하소 공정을 실시하므로써 소결시 기포 제어에 영향을 미치는 분말 입자를 안정화하고, 습윤성 증진, 잔류 유기질 이물의 제거, 수분 제거 등의 효과를 얻게 되어 이상 기포 제어를 통한 투과율 증진 및 기포 터짐에 의한 셀 결함을 향상시킬 수 있다.In addition, in the present invention, the calcination process is effected by performing a calcination process in an air atmosphere for at least 2 hours in a glass transition point region temperature of the glass frit powder for PDP paste, that is, in a temperature range of 350 to 550 ° C., to influence bubble control during sintering. Stabilize the powder particles, and the effect of improving the wettability, removal of residual organic foreign matter, water removal, etc. can be improved to improve the permeability through abnormal bubble control and to improve the cell defects due to bubble burst.

하소 공정은 알루미나 용기에 건조된 유리 분말을 1㎝ 이하로 적층하고 연속식 가열로 또는 배치식 가열로에서 유리 전이점 영역 온도로 2시간 이상 대기 분위기 하에서 실시된다.The calcination process is carried out in an atmosphere of at least 2 hours at a glass transition point temperature in a continuous heating furnace or batch heating furnace by laminating the dried glass powder in an alumina container to 1 cm or less.

이하, 실시예에 의하여 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples.

제조예Production Example

PbO 65중량%, SiO2 15중량%, B2O3 5중량%, Al2O3 5중량%, ZnO 2중량%, BaO 2중량%, ZrO2 1중량%와 소량의 TiO2, Bi2O3, CaO, MgO, CeO2 , Sb2O3로 이루어진 PDP 페이스트용 유리 프릿 원료 조성물을 백금 용융로에 투입하여 1300℃에서 1시간 가열하여 파유리를 제조하고 이하의 실시예에서 사용하였다.65% PbO, 15% SiO 2 , 5% B 2 O 3, 5% Al 2 O 3 , 2% ZnO, 2% BaO, 1% ZrO 2 and a small amount of TiO 2 , Bi 2 A glass frit raw material composition for PDP paste consisting of O 3 , CaO, MgO, CeO 2 , and Sb 2 O 3 was added to a platinum melting furnace and heated at 1300 ° C. for 1 hour to prepare a cullet, which was used in the following examples.

실시예 1Example 1

상기 제조예의 파유리를 10ø알루미나 볼을 사용하는 1.5ℓ볼 밀을 이용하여 2시간 동안 분쇄하여 평균 입경이 10 내지 15㎛인 유리 입자로 제조한 다음, 이 유리 입자를 건식 제트 밀에 투입하여 제트 밀의 노즐 압력을 7kg/㎠로 하고 사용 풍량을 8㎥/분으로 하여 30분 동안 분쇄한 후 원료 평균 입도에 대한 회수율을 표 1에 기재하였다.The cullet of the above production example was pulverized for 2 hours using a 1.5 L ball mill using a 10 ° alumina ball to prepare glass particles having an average particle diameter of 10 to 15 μm, and then the glass particles were injected into a dry jet mill and jetted. Table 1 shows the recovery rate for the average particle size of the raw material after grinding for 30 minutes at a nozzle pressure of 7 kg / cm 2 and an air flow rate of 8 m 3 / min.

표 1에서 보이는 바와 같이, 1차 조분쇄 후의 원료 입도가 30㎛ 이상에서는 회수율이 매우 저조한 것으로 나타났으며 15㎛ 이하에서는 회수율에 큰 변화가 없는 것으로 나타났다. 그러므로, 1차 조분쇄에 있어서 입도는 10 내지 15㎛의 범위로 제어하는 것이 효율적임을 알 수 있다.As shown in Table 1, the recovery rate was very low when the raw material particle size after the first coarse pulverization is 30㎛ or more, and there was no significant change in the recovery rate below 15㎛. Therefore, it can be seen that it is efficient to control the particle size in the range of 10 to 15 µm in the first coarse grinding.

원료 입도에 따른 건식 제트 밀의 회수율Recovery Rate of Dry Jet Mill According to Raw Material Size 분쇄방법Grinding method 원료 평균입도(㎛)Raw Material Average Grain Size (㎛) 제트 밀 1시간 후평균입도(㎛)Average particle size after 1 hour of jet mill (㎛) 회수율(%)% Recovery 건식 제트 밀 Dry jet mill 3030 2.32.3 6565 1515 2.22.2 9494 1010 2.12.1 9595 55 2.12.1 9595

실시예 2Example 2

상기 실시예 1에서 얻어진 2차 건식 분쇄된 유리 입자를 1.2ℓ용량의 비드 밀에서 1ø지르코니아 비드를 이용하여 주속 13m/초로 3차 습식 분쇄를 실시하였다.The secondary dry pulverized glass particles obtained in Example 1 were subjected to third wet pulverization at a speed of 13 m / sec using 1 ° zirconia beads in a 1.2 L bead mill.

3차 습식 분쇄에 의해 제조된 슬러리를 다음 표 2의 방법에 따라 각각 건조하였다. 건조방법에 있어서, 오븐 건조는 150℃에서 24시간 실시하였고, 분무 건조는 260℃에서 아트마이즈 방식으로 실시하였으며 진공 감압 건조는 101 내지 102 torr의 압력 하에서 50℃에서 2시간 동안 실시하였다.The slurry prepared by the third wet grinding was dried in accordance with the method of the following Table 2, respectively. In the drying method, oven drying was carried out at 150 ° C. for 24 hours, spray drying was carried out at 260 ° C. in an atomize manner, and vacuum vacuum drying was performed at 50 ° C. for 2 hours at a pressure of 10 1 to 10 2 torr.

건조방법 별로 건조된 각각의 분말은 유리 분말과 비히컬을 혼합하여 10시간 이상 열교반하여 페이스트로 제조하였다. 상기에서 비히컬은 결합제(에틸셀룰로즈)와 유기용매(터피네올, 텍사네올)를 혼합하여 제조하였다.Each powder dried according to the drying method was prepared as a paste by thermal stirring for 10 hours or more by mixing the glass powder and the vehicle. The vehicle was prepared by mixing a binder (ethyl cellulose) and an organic solvent (terpineol, texaneol).

이렇게 제조된 페이스트로 6" 유리 기판에 스크린 인쇄를 실시하고 170℃에서 10분 간 건조한 후 560℃에서 30분 간 소성하였다. 소성 후 유리 후막 두께를 20㎛로 형성하여 건조 방법별로 투과율과 유리 기포 상태를 평가하여 그 결과를 표 2에 기재하였다.The paste thus prepared was screen printed on a 6 "glass substrate, dried at 170 ° C. for 10 minutes, and calcined at 560 ° C. for 30 minutes. After baking, the glass thick film was formed to have a thickness of 20 μm. The state was evaluated and the results are shown in Table 2.

건조 방법별 투과율 및 기포 발생 빈도Permeability and bubble occurrence frequency by drying method 오븐건조Oven drying 분무건조Spray drying 진공감압 건조Vacuum drying 평가방법Assessment Methods 비고Remarks 수분 함량(%)Moisture content (%) 0.40.4 0.30.3 0.10.1 수분측정기Moisture Meter 분말 시료 10g200℃에서 5분후 측정5 minutes at 10 g 투과율(%) Transmittance (%) 6969 7777 8282 UV-VisUV-Vis 20㎛ 후막 형성투과율 80% 이상20㎛ thick film formation transmittance of 80% or more 기포 빈도(개/㎜3)Bubble frequency (piece / mm 3 ) >400> 400 2020 00 광학현미경사진(X400)Optical micrograph (X400) 기공빈도:0.03개/mm3 이하기포크기:3~10㎛Pore frequency: 0.03 pieces / mm 3 or less Pore size: 3 ~ 10㎛ 이상 기포발생Abnormal bubble U radish radish 광학현미경사진(X400)Optical micrograph (X400) 기포크기:10㎛초과Bubble size: more than 10㎛

상기 표 2에 나타난 바와 같이, 고온 건조 방법에서는 Pb 및 B 용출에 의한 영향 때문에 기포 발생 빈도가 높은 반면, 저온 건조 방법인 진공 감압 건조 방법은 기포 빈도가 거의 없으며 이상 기포 또한 발생하지 않아서 우수한 결과를 보이는 것을 알 수 있다.As shown in Table 2, in the high temperature drying method, the bubble generation frequency is high due to the effect of Pb and B elution, while the vacuum pressure drying method, which is a low temperature drying method, has almost no bubble frequency and no abnormal bubbles are generated. I can see it.

실시예 3Example 3

상기 실시예 1에서 얻어진 2차 건식 분쇄된 유리 입자를 1.2ℓ용량의 비드 밀에서 1ø지르코니아 비드를 이용하여 주속 13m/초로 3차 습식 분쇄를 실시하여 평균 입경 1㎛로 슬러리를 제조하였다.The secondary dry pulverized glass particles obtained in Example 1 were subjected to third wet pulverization at a circumferential speed of 13 m / sec using 1 zirconia beads in a 1.2 L bead mill to prepare a slurry having an average particle diameter of 1 탆.

3차 습식 분쇄에 의해 제조된 슬러리를 상기 실시예 2의 건조방법으로 건조하여 각각의 시료를 준비하였다. 건조된 시료에 대하여 다음 표 3에 제시된 조건에 따라 하소 공정을 실시하고 각각의 시료를 시료 A 내지 시료 E로 하였다. 하소 공정은 알루미나 용기에 건조 완료된 유리 분말을 1㎝ 이하로 적층하고 배치식 용융로에서 440℃의 온도로 2시간 동안 대기 분위기 하에서 실시하였다. 산처리는 질산 2%의 용액 분위기에서 3차 습식 분쇄를 상기의 조건으로 실시하였다.Each sample was prepared by drying the slurry prepared by the third wet grinding by the drying method of Example 2. The dried samples were subjected to a calcination process according to the conditions shown in Table 3 below, and each sample was designated as Samples A to E. The calcining process was carried out in an alumina container laminated with the dried glass powder to 1cm or less and in a batch furnace for 2 hours at atmospheric temperature at 440 ℃. In the acid treatment, the third wet grinding was performed under the above conditions in a 2% nitric acid solution atmosphere.

구 분division 시료 ASample A 시료 BSample B 시료 CSample C 시료 DSample D 시료 ESample E 실시조건Execution condition 산처리Acid treatment ×× O ×× O O 건조방법Drying method 진공 감압 건조Vacuum reduced pressure drying 오븐 건조Oven drying 분무 건조Spray drying 하소처리Calcination O O ×× O O 결과 result 투과율(%)Transmittance (%) 8989 8585 6666 7272 8080 기포빈도Bubble frequency 00 00 >400> 400 >400> 400 1212 이상기포발생Abnormal bubble radish radish radish U radish

본 발명의 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말을 제조하는 방법에 따르면 0.5㎛ 이하의 미립자와 10㎛ 이상의 최대 입도를 효과적으로 제어할 수 있으며 가장 단시간 내의 습식 분쇄방법과 저온 건조방법으로서 Pb나 B 성분의 용출을 최소화할 수 있으므로 PDP 페이스트로서 제조시 분산 및 유동도가 균일하게 되므로 격벽이나 유전체 형성후 소결상태가 균일하고 반사율 및 투과율을 증진할 수 있다.According to the method of manufacturing the glass frit powder for PDP paste of the present invention, it is possible to effectively control the particle size of 0.5 μm or less and the maximum particle size of 10 μm or more. Since it can be minimized, the dispersion and the flow rate become uniform during manufacturing as a PDP paste, so that the sintered state is uniform after partitioning or dielectric formation, and the reflectance and transmittance can be enhanced.

또한, 본 발명에 따르면, 습식 미분쇄시 산처리와 더불어 하소처리를 실시함으로써 상기한 효과를 한층 더 증진시킬 수 있다. Further, according to the present invention, the above-described effect can be further enhanced by carrying out the calcination treatment in addition to the acid treatment during the wet grinding.

Claims (6)

PDP 페이스트용 유리 프릿 분말을 제조하는데 있어서, PbO, SiO2, B2O3, Al2O3, ZnO, BaO, TiO2, ZrO2, Bi2O3, CaO, MgO, CeO2, Sb2O3로 이루어진 유리 원료를 백금 용융로에 투입하여 1,000 내지 1,300℃의 온도 범위에서 가열하여 파유리로 제조하는 단계; 볼 밀 또는 디스크 밀을 이용하여 파유리의 평균 입경을 10 내지 15㎛의 범위로 1차 건식 분쇄하는 단계; 상기에서 얻어진 유리 입자를 건식 미분쇄기로 1.5 내지 2.5㎛의 입도로 2차 건식 분쇄하는 단계; 2차 분쇄 단계에서 얻어진 유리 입자를 0.5 내지 1.5㎛의 입도로 3차 습식 분쇄하는 단계; 및 건조시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법.In preparing glass frit powder for PDP paste, PbO, SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , ZnO, BaO, TiO 2 , ZrO 2 , Bi 2 O 3 , CaO, MgO, CeO 2 , Sb 2 Injecting a glass raw material consisting of O 3 into a platinum melting furnace and heating in a temperature range of 1,000 to 1,300 ℃ to produce a cullet; Primary dry grinding of the average particle diameter of the cullet using a ball mill or a disk mill in the range of 10 to 15 μm; Secondary dry grinding of the glass particles obtained above into a particle size of 1.5 to 2.5 μm with a dry grinding machine; Tertiary wet grinding of the glass particles obtained in the second grinding step to a particle size of 0.5 to 1.5 mu m; And drying the glass frit powder for PDP paste. 제 1항에 있어서, 상기 2차 건식 분쇄 단계에서 유리 입자는 제트 밀로 분쇄되는 것임을 특징으로 하는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법.The method of claim 1, wherein in the second dry grinding step, the glass particles are pulverized with a jet mill. 제 1항에 있어서, 상기 3차 습식 분쇄 단계는 비드 밀로 실시되는 것임을 특징으로 하는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법.The method for producing glass frit powder for PDP paste according to claim 1, wherein the third wet grinding step is performed with a bead mill. 제 1항에 있어서, 상기 건조시키는 단계는 진공 감압 건조로 이루어지는 것을 특징으로 하는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법.The method of claim 1, wherein the drying is carried out by vacuum drying under reduced pressure. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 3차 습식 분쇄 단계는 2% 이하의 질산 용액 분위기 하에서 실시되는 것을 특징으로 하는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법.The method for producing glass frit powder for PDP paste according to any one of claims 1 to 4, wherein the third wet grinding step is performed under a nitric acid solution atmosphere of 2% or less. 제 5항에 있어서, 추가로 350 내지 550℃의 유리 전이점 영역 온도로 2시간 이상 대기 분위기 하에서 하소 공정이 실시되는 것을 특징으로 하는 PDP 페이스트용 유리 프릿 분말의 제조방법.6. The method for producing glass frit powder for PDP paste according to claim 5, wherein the calcination step is further performed in an air atmosphere at a glass transition point region temperature of 350 to 550 캜 for at least 2 hours.
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