KR100464687B1 - Development Method and Developing Device of Resist - Google Patents
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Abstract
리소그래피에 있어서 레지스트의 현상의 패터닝 정밀도를 향상시키고 작업의 지연이나 번잡을 피할 수 있는 현상방법 및 현상장치를 제공하는 것을 과제로 한다. 현상액(22)을 저장하는 현상용기(20)와 포토레지스트의 도포 및 노광된 플렉시블 필름(12)을 현상액(22)에 잠기도록 현상용기(20)에 유도하는 가이드(14, 16)와 현상액(22)에 잠긴채로의 플렉시블 필름(12)에 토출구(28a)에서 현상액(22)에 의한 액압을 더하는 펌프(26)를 갖춘다.An object of the present invention is to provide a developing method and a developing apparatus which can improve the patterning accuracy of the development of a resist in lithography and can avoid the delay and the trouble of work. The developing container 20 storing the developing solution 22 and the guides 14 and 16 and the developing solution which guides the developing container 20 so as to immerse the flexible film 12 coated with the photoresist and exposed to the developing solution 22. The pump 26 which adds the liquid pressure by the developing solution 22 in the discharge port 28a to the flexible film 12 which is immersed in 22 is provided.
Description
본 발명은 리소그래피에 있어서 레지스트의 현상방법 및 현상장치에 관한 것이다.The present invention relates to a developing method and a developing apparatus of a resist in lithography.
반도체 소자의 실장 기술로서 TAB(Tape Automated Bonding) 기술이 실용화되어 있다. 이 기술에서는 플렉시블 회로기판에 반도체 소자가 실장되고 대량생산에 적TAB (Tape Automated Bonding) technology has been put into practical use as a technology for mounting semiconductor devices. In this technology, a semiconductor device is mounted on a flexible circuit board, which is suitable for mass production.
합한 소형화 할 수 있는 정밀한 패턴 형성이 가능하는 등 많은 특징을 갖는다.It has many features such as precise pattern formation that can be miniaturized.
여기에서 플렉시블 회로기판은 많은 공정을 거쳐서 제조된다. 즉 수지를 주재료로 하는 장척의 플렉시블 필름에 구리등의 금속박을 첨부시키는 공정, 포토레지스트를 도포하는 공정, 회로패턴을 노광하는 공정, 회로패턴을 현상하는 공정, 회로패턴이 남도록 에칭하는 공정, 포토레지스트를 제거하는 공정, 도금하는 공정등을 거쳐서 플렉시블 회로기판은 제조된다.Here, the flexible circuit board is manufactured through many processes. That is, a process of attaching a metal foil such as copper to a long flexible film made mainly of resin, a process of applying a photoresist, a process of exposing a circuit pattern, a process of developing a circuit pattern, a process of etching so that a circuit pattern remains, a photo A flexible circuit board is manufactured through a process of removing a resist, a process of plating and the like.
이들 공정중 회로패턴을 현상하는 공정을 도 3에 도시한다. 같은 도면에 있어서 릴(102)에 감겨있는 플렉시블 필름(104)은 포토레지스트(도시 아니함)가 도포되고 또한 회로패턴이 노광된 것이다. 플렉시블 필름(104)은 스프로킷(sprocket; 106, 112, 114)에 의해 안내되어서 현상용기(108)내를 통과한다. 현상용기(108)에는 현상액(110)이 저장되어 있고 플렉시블 필름(104)에 도포된 포토레지스트의 노광된 부분이 현상액(110)에 의해 용해되어 제거된다. 또한 여기에서는 포지티브형의 포토레지스트가 사용된다. 그래서 플렉시블 필름(104)은 스프로킷(116)를 거쳐서 세정기(118)에서 세정되고 건조기(120)에서 건조되어서 릴(122)에 감긴다.The process of developing a circuit pattern among these processes is shown in FIG. In the same figure, the flexible film 104 wound on the reel 102 is coated with a photoresist (not shown) and a circuit pattern is exposed. The flexible film 104 is guided by sprockets 106, 112, and 114 and passes through the developing container 108. The developing solution 110 is stored in the developing container 108, and the exposed portion of the photoresist applied to the flexible film 104 is dissolved and removed by the developing solution 110. In addition, a positive photoresist is used here. Thus, the flexible film 104 is cleaned in the cleaner 118 via the sprocket 116 and dried in the dryer 120 to be wound on the reel 122.
상기한 공정에 있어서 플렉시블 필름(104)의 현상이 진행됨에 따라서 현상액(110)이 특히 플렉시블 필름(104)부근에 있어서 열화하고 농도가 저하한다. 즉 예컨대 동일한 현상용기(108)내에 존재하고 있어도 현상액(110)은 그것이 농도가 부분적으로 다르고 현상의 정도에 분산이 생긴다. 특히 회로패턴의 핏치가 세밀한 경우에는 뒤의 에칭공정이 행해지면 그것이 분산의 원인으로 회로패턴의 단선이나 쇼트가 생긴다. 또 사용회수가 증가함에 따라 현상액(110)의 농도는 부분적 뿐만아니라 전체적으로 저하해서 현상농도가 늦어진다. 이것을 피하기 위해서는 플렉시블 필름(104)의 송출속도나 현상액의 온도 등의 조건을 조정할 필요가 있고 작업이 번잡해진다.As the development of the flexible film 104 proceeds in the above-described process, the developing solution 110 deteriorates particularly in the vicinity of the flexible film 104 and the concentration decreases. That is, for example, even if present in the same developing container 108, the developing solution 110 is partially different in concentration and dispersion occurs in the degree of development. Particularly, in the case where the pitch of the circuit pattern is fine, if the later etching step is performed, disconnection or short of the circuit pattern occurs as a cause of dispersion. In addition, as the number of times of use increases, the concentration of the developer 110 decreases not only in part but also overall, and thus the development concentration becomes slow. In order to avoid this, it is necessary to adjust conditions, such as the delivery speed of the flexible film 104, the temperature of a developing solution, and operation becomes complicated.
본 발명은 상기한 문제에 착안해서 이루어진 것이고 그 목적은 리소그래피에 있어서 레지스트의 현상의 패터닝 정밀도를 향상시키고 작업의 지연이나 번잡함을 피하는 현상방법 및 현상장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a developing method and a developing apparatus which improve the patterning accuracy of the development of resist in lithography and avoid the delay or the trouble of work.
도 1은 본 발명의 실시형태에 관한 현상장치를 도시하는 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The figure which shows the developing apparatus which concerns on embodiment of this invention.
도 2는 본 발명의 다른 실시형태에 관한 현상장치를 도시하는 도면.2 is a diagram showing a developing device according to another embodiment of the present invention.
도 3은 종래의 현상장치를 도시하는 도면.3 is a diagram showing a conventional developing apparatus.
본 발명은 리소그래피에 있어서 레지스트의 현상방법에 있어서 레지스트의 도포 및 조사된 현상대상물을 용기에 저장된 현상액에 침지시켜 동시에 상기한 현상액에 의한 액압을 현상대상물에 가하는 공정을 포함한다.The present invention includes a step of applying a resist in a developing method of a resist in lithography and immersing the developer to be irradiated in a developer stored in a container, and simultaneously applying a liquid pressure by the developer to the developer.
본 발명에 의하면 용기에 저장된 현상액에 현상 대상물이 침지되어 현상이 행해진다. 따라서 현상액이 공기에 접촉하는 것은 그것의 액면뿐이므로 면적이 작고 공기중의 이산화탄소가 현상액에 녹아들기 어렵다. 그러면 이산화탄소가 현상액에 녹아들어 생기는 탄산과 현상액의 주성분인 알카리와의 중화반응이 작고 현상액의 알카리 농도의 저하를 억제할 수가 있다.According to the present invention, the development object is immersed in the developer stored in the container, and development is performed. Therefore, since the developer contacts only air, its surface is small, and carbon dioxide in the air is difficult to dissolve in the developer. As a result, the neutralization reaction of carbonic acid dissolved in the developing solution with alkali, which is a main component of the developing solution, is small, and a decrease in the alkali concentration of the developing solution can be suppressed.
이 점, 현상액을 샤워한 경우에는 현상액이 작은 미스트로 되어 있기 때문에 현상액의 공기와의 접촉면적이 매우 커지고 훨씬 많은 공기중의 이산화탄소가 현상액에 녹아들어 빨리 현상액이 열화한다. 또한 본 발명에 의하면 현상액을 샤워로 한 때와 같은 거품이 생기지 아니한다.In this case, when the developer is showered, since the developer is a small mist, the contact area of the developer with the air becomes very large, and much more carbon dioxide in the air dissolves in the developer, causing the developer to deteriorate quickly. In addition, according to the present invention, bubbles do not occur as in the case where the developer is taken as a shower.
더욱 본 발명에 의하면, 현상액에 의한 액압이 현상대상물에 가해진다. 이 액압에 의해 현상속도를 빨리할 뿐만아니라 현상액을 교반해서 농도를 균일하게 해서 뒤의 에칭공정에서의 단선이나 쇼트등의 불량을 저감할 수 있다. 또 액압의 방향으로 현상이 진행하므로 이방성의 현상이 가능해지고 레지스트를 표면에서 거의 직각으로 현상해서 뛰어난 레지스트패턴을 얻을 수가 있다.Moreover, according to this invention, the hydraulic pressure by the developing solution is added to the developing object. This liquid pressure not only speeds up the development, but also stirs the developer to make the concentration uniform, thereby reducing defects such as disconnection and shorting in the subsequent etching process. In addition, since the development progresses in the direction of the hydraulic pressure, the anisotropy can be developed, and the resist can be developed almost perpendicular to the surface to obtain an excellent resist pattern.
상기한 현상 대상물은 금속박이 첨부되고 또한 회로패턴에 대응해서 레지스트가 조사되어 형성되는 플렉시블 필름이라도 좋다. 이와 같은 플렉시블 필름은 TAB기술에 있어서 사용된다.The above-mentioned developing object may be a flexible film in which a metal foil is attached and a resist is irradiated to form a circuit pattern. Such a flexible film is used in the TAB technique.
상기한 액압은 용기에 저장된 현상액이 순환해서 가해져도 좋다. 이와 같이 하므로써 현상액을 용기내에서 교반해서 농도를 균일하게 할 수가 있다.The above-mentioned liquid pressure may be applied by circulating the developer stored in the container. In this way, the developer can be stirred in the container to make the concentration uniform.
상기한 액압은 현상액의 농도에 의해 조정되는 것이 바람직하다. 이와 같이 현상액의 액압을 바꿀수 있도록 하면 현상속도의 조정을 할 수가 있다. 예를 들자면 현상액이 새롭고 알카리농도가 높을 때에는 대체로 현상속도가 빠르므로 액압을 작게하고 높을때에는 대체로 현상속도가 빠르므로 액압을 작게하고 현상을 함에 따라서 현상액이 열화될때 액압을 크게 하므로써 현상속도의 저하를 억제할 수가 있다. 이와 같이 해서 현상액의 상태에 관계없이 일정한 현상시간으로 현상을 할 수가 있다.It is preferable that said liquid pressure is adjusted by the density | concentration of a developing solution. In this way, if the hydraulic pressure of the developer can be changed, the developing speed can be adjusted. For example, when the developer is new and the alkali concentration is high, the developing speed is generally high. Therefore, the pressure is small and the developing speed is high when the developer is high. It can be suppressed. In this way, the development can be performed at a constant development time regardless of the state of the developer.
상기한 액압은 현상액의 농도가 저하함에 따라서 오르는 것이 바람직하다. 이와 같이 하므로써 현상액의 농도가 저하해도 액압이 올라가므로써 현상능력을 유지할 수가 있다.It is preferable that said liquid pressure rises as the density | concentration of a developing solution falls. In this way, even if the concentration of the developing solution decreases, the developing pressure can be maintained by increasing the hydraulic pressure.
본 발명은 리소그래피에 있어서 레지스트의 현상을 행하는 현상장치에 있어서 현상액을 저장하는 용기와,The present invention relates to a container for storing a developer in a developing apparatus for developing a resist in lithography;
레지스트의 도포 및 조사된 현상대상물을 현상액에 침지시키도록 용기내로 유도하는 가이드와,A guide for introducing the resist and the irradiated object to be developed into the container so as to be immersed in the developer;
현상액에 잠긴 그대로의 현상대상물에 현상액에 의한 액압을 가하는 펌프를 갖춘다.It is equipped with a pump which applies the hydraulic pressure by the developing solution to the developing object as it was immersed in the developing solution.
이 현상장치를 사용해서 현상방법을 실시할 수가 있다.The developing method can be implemented using this developing apparatus.
상기한 현상대상물은 금속박이 첨부되고 또한 회로패턴에 대응해서 레지스트가 조사되어 형성되는 플렉시블 필름이고,The developing object is a flexible film which is formed by attaching a metal foil and irradiating a resist in correspondence with a circuit pattern,
플렉시블 필름을 풀어내는 푸는 릴과 플렉시블 필름을 감아내는 감는 릴을 갖추어도 좋다.A reel for unwinding the flexible film and a reel for winding the flexible film may be provided.
이와 같이 하므로써 TAB 기술에서 사용되는 플렉시블 필름에 대한 레지스트의 현상을 효율적으로 행할 수가 있다.By doing in this way, development of the resist with respect to the flexible film used by TAB technique can be performed efficiently.
본 발명에 관한 현상장치는 현상액의 액압을 조정하는 밸브를 갖추어도 좋다. 이 밸브에 의해 현상액의 액압을 조정하고 일정한 현상시간을 유지할 수가 있다.The developing apparatus which concerns on this invention may be provided with the valve which adjusts the hydraulic pressure of a developing solution. This valve makes it possible to adjust the hydraulic pressure of the developing solution and maintain a constant developing time.
본 발명의 실시형태에 대해서 도면을 참조해서 설명을 한다.Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
도 1은 본 발명의 실시형태에 관한 현상장치를 도시하는 개략도이다. 이 현상장치는 감아내는 릴(10), 현상용기(20), 세정기(30), 건조기(40) 및 감는 릴(50)을 갖춘다.1 is a schematic view showing a developing apparatus according to an embodiment of the present invention. This developing apparatus is provided with a reel 10, a developing container 20, a washing machine 30, a dryer 40, and a reel 50.
감아내는 릴(10)에는 TAB 기술에 있어서 사용되는 플렉시블 필름(12)이 감겨있다. 플렉시블 필름(12)에는 금속박으로서 예를 들자면 구리박이 첨부되어 있고 이 구리박 위에는 포토레지스트가 도포되어 있다. 다시 포토레지스트는 회로 패턴에 대응해서 노광이 행해지고 있다. 따라서 플렉시블 필름(12)은 리소그래피에 있어서 현상공정을 갖는 상태로 되어 있고 도 1에 도시하는 현상장치에 의해 현상공정이 행해진다.The wound reel 10 is wound with a flexible film 12 used in the TAB technique. Copper foil is attached to the flexible film 12 as metal foil, for example, and the photoresist is apply | coated on this copper foil. Again, the photoresist is exposed to the circuit pattern. Therefore, the flexible film 12 is in the state which has a developing process in lithography, and a developing process is performed by the developing apparatus shown in FIG.
또한 플렉시블 필름(12)은 포토레지스트의 도포한 면이 외측으로 향하도록 감아내는 릴(10)에 감겨져 있다.Moreover, the flexible film 12 is wound by the reel 10 wound up so that the apply | coated surface of a photoresist may face outward.
현상용기(20)에는 현상액(22)이 저장되어 있고 플렉시블 필름(12)을 현상액(22)에 침지시켜 현상할 수 있도록 되어 있다. 즉, 푸는 릴(10)쪽에서 현상용기(20)의 위편에 가이드(14)가 설치되어서 플렉시블 필름(12)이 현상용기(20)의 내주면을 따라서 내부로 가이드된다. 또한 현상용기(20)의 저부에서 가이드(16)를 거쳐서 플렉시블 필름(12)은 가로방향으로 가이드된다. 다시 가이드(18)를 거쳐서 플렉시블 필름(12)은 위편으로 가이드되고 현상용기(20)밖으로 송출된다. 이같이 해서 플렉시블 필름(12)은 현상용기(20)에 저장된 현상액(22)에 침지되어서 현상이 행해진다.The developing solution 22 is stored in the developing container 20, and the flexible film 12 can be immersed in the developing solution 22 to develop. That is, the guide 14 is installed above the developing container 20 from the unwinding reel 10 so that the flexible film 12 is guided inward along the inner circumferential surface of the developing container 20. In addition, the flexible film 12 is guided in the horizontal direction through the guide 16 at the bottom of the developing container 20. Again, the flexible film 12 is guided upwards through the guide 18 and is sent out of the developing container 20. In this way, the flexible film 12 is immersed in the developing solution 22 stored in the developing container 20, and image development is performed.
본 실시형태에서는 현상용기(20)내에서 플렉시블 필름(12)에 현상액(22)의 액압을 가하도록 되어 있다. 즉 펌프(26)에 의해 현상용기(20)의 하부에 설치된 파이프(24)에서 현상액(22)이 흡입되고 파이프(28)의 선단에 설치된 토출구(28a)에서 현상액(22)이 토출된다. 이같이 해서 플렉시블 필름(12)에 액압을 가해서 현상능력을 높일 수가 있음과 함께 현상액(22)의 교반을 할 수도 있다.In this embodiment, the hydraulic pressure of the developing solution 22 is applied to the flexible film 12 in the developing container 20. That is, the developing solution 22 is sucked from the pipe 24 provided in the lower part of the developing container 20 by the pump 26, and the developing solution 22 is discharged from the discharge port 28a provided at the tip of the pipe 28. In this way, the developing ability can be improved by adding a hydraulic pressure to the flexible film 12, and the developing solution 22 can also be stirred.
또한 파이프(24)는 토출구(28a)보다도 위의 위치에서 현상액(22)을 흡입할 수 있도록 현상용기(20)에 대한 개구위치가 설정되어 있다. 이와 같이 하므로써 토출구(28a)보다도 위의 위치에 있어서도 파이프(24)에 의한 흡입에 의해 현상액(22)을 교반할 수가 있다.In addition, the opening position with respect to the developing container 20 is set so that the pipe 24 can inhale the developing solution 22 in the position above the discharge port 28a. In this way, the developing solution 22 can be stirred by suction by the pipe 24 also at the position above the discharge port 28a.
토출구(28a)는 플렉시블 필름(12)에 있어서 포토레지스트의 도포면을 향하고 있고 토출하는 현상액(22)이 포토레지스트에 닿도록 되어 있다. 상세하게는 플렉시블 필름(12)은 포토레지스트의 도포면이 현상용기(20)의 중앙쪽을 향하도록 가이드(14, 16)에 의해 가이드된다. 따라서 현상용기(20)의 저부에서는 도포면에 위를 향하므로 토출구(28a)는 아래를 향하도록 설치되어 있다.The discharge port 28a faces the application surface of the photoresist in the flexible film 12, and the developing solution 22 to be discharged is in contact with the photoresist. In detail, the flexible film 12 is guided by the guides 14 and 16 so that the application surface of the photoresist faces toward the center of the developing container 20. Therefore, at the bottom of the developing container 20, the discharge port 28a is provided to face downward on the application surface.
또한 파이프(28)에는 밸브(60)가 설치되어 있고 토출구(28a)에서 토출되는 현상액(22)의 액압을 조정할 수 있도록 되어 있다.In addition, the pipe 28 is provided with a valve 60 so that the hydraulic pressure of the developing solution 22 discharged from the discharge port 28a can be adjusted.
이와 같이 해서 현상용기(20)내를 통해서 온 플렉시블 필름(12)은 가이드(32)에 의해 세정기(30)의 아래로 보내진다. 세정기(30)는 플렉시블 필름(12)에 세정기를 샤워해서 현상액(22)을 씻어낸다.In this way, the flexible film 12 which came through the inside of the developing container 20 is sent below the washer 30 by the guide 32. The cleaner 30 washes the developer 22 by showering the cleaner on the flexible film 12.
다음으로 플렉시블 필름(12)은 가이드(42)를 거쳐서 건조기(40) 아래로 보내져서 건조되고 가이드(44)를 거쳐서 감는 릴(50)에 의해 감겨진다. 감는 릴(50)은 모터(52)에 의해 회전한다. 따라서 감는 릴(50)의 회전에 의해 푸는 릴(10)에서 현상용기(20)내를 거쳐서 플렉시블 필름(12)을 감도록 되어 있다.Next, the flexible film 12 is sent down the dryer 40 via the guide 42 to be dried and wound by a reel 50 which is wound through the guide 44. The reel 50 is rotated by the motor 52. Therefore, the flexible film 12 is wound around the developing container 20 in the reel 10 unwinded by the rotation of the reel 50.
본 실시형태는 상기한 바와 같이 구성이 되어 있고 이하 그 작용에 대해서 설명한다.This embodiment is comprised as mentioned above, and the effect | action is demonstrated below.
먼저 포토레지스트의 도포 및 노광까지가 완료된 플렉시블 필름(12)을 푸는 릴(10)에 감아두고 이 플렉시블 필름을 인출해서 가이드(14, 16, 18, 32, 42, 44)로 가이드시켜서 감는 릴(50)에 부착시킨다. 또한 현상용기(20)에는 현상액(22)을 가득 넣어 둔다.First, the flexible film 12 after application and exposure of the photoresist is completed is wound around the reel 10, and the flexible film is taken out and guided by the guides 14, 16, 18, 32, 42 and 44. 50). In addition, the developer 22 is filled with the developer 22.
그래서 감는 릴(50)을 회전시킴과 동시에 펌프(26)를 구동해서 플렉시블 필름(12)에 현상액(22)의 액압을 가한다. 이때에 펌프(26)는 현상용기(20)내의 현상액(22)을 흡입함과 함께 토출구(28a)에서 현상액(22)을 토출한다. 따라서 현상용기(20)내의 현상액은 교반되므로 그것의 알카리 농도가 균일하게 된다. 또한 현상액(22)의 액압은 플렉시블 필름(12)에 있어서 포토레지스트의 도포면에 가해지므로 현상의 효과를 높일 수가 있다. 이와 같이 하므로써 포토레지스트의 현상을 분산없이 균일하게 행할 수가 있다.Thus, the winding reel 50 is rotated and the pump 26 is driven to apply the hydraulic pressure of the developing solution 22 to the flexible film 12. At this time, the pump 26 sucks the developing solution 22 in the developing container 20 and discharges the developing solution 22 from the discharge port 28a. Therefore, the developer in the developing container 20 is stirred, so that its alkali concentration is uniform. Moreover, since the hydraulic pressure of the developing solution 22 is added to the application surface of the photoresist in the flexible film 12, the effect of image development can be heightened. In this way, the development of the photoresist can be performed uniformly without dispersion.
또한 현상의 진행에 따라 현상액(22)의 알카리 농도가 저하해지면 밸브(60)에 의해 현상액(22)의 액압을 크게 하므로써 현상속도를 빠르게 할 수가 있다. 역으로 현상액(22)이 새 것일 때에는 액압을 가하지 아니해도 충분한 현상속도가 확보되므로 밸브(60)에 의해 현상액(22)의 액압을 작게 해둔다. 이와 같이 토출하는 현상액(22)의 액압을 조정하므로써 현상액의 알카리농도에 관계없이 일정한 시간으로 현상으로 할 수가 있고 작업의 효율이 큰 폭으로 좋아진다.In addition, when the alkali concentration of the developing solution 22 decreases as the development progresses, the developing speed can be increased by increasing the liquid pressure of the developing solution 22 by the valve 60. On the contrary, when the developing solution 22 is new, a sufficient developing speed is ensured even if no hydraulic pressure is applied, so that the hydraulic pressure of the developing solution 22 is reduced by the valve 60. By adjusting the hydraulic pressure of the developer 22 to be discharged in this manner, the developer can be developed at a constant time regardless of the alkali concentration of the developer, and the work efficiency is greatly improved.
다음에 도 2는 본 발명의 다른 실시형태에 관한 현상장치를 도시하는 도면이다. 같은 도면에 도시하는 현상장치는 파이프(74)의 구성이외에 대해서는 도 1에 도시하는 현상장치와 마찬가지이므로 동일한 부호를 붙여서 설명을 생략한다.Next, FIG. 2 is a diagram showing a developing apparatus according to another embodiment of the present invention. Since the developing apparatus shown in the same drawing is the same as the developing apparatus shown in FIG. 1 except for the structure of the pipe 74, the same code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted.
도 2에 도시하는 바와 같이 파이프(74)는 토출구(28a)의 상방으로서 또한 현상액(22)의 액면에서 선단이 들어가도록 되어 있다. 이와 같이 하므로서 토출구(28a)에서 가장 먼 위치에서 현상액(22)을 흡입해서 교반하므로써 현상액(22)의 전체적인 교반이 가능해진다.As shown in FIG. 2, the pipe 74 enters the front end above the discharge port 28a and enters from the liquid level of the developing solution 22. As shown in FIG. In this way, the agitation and agitation of the developing solution 22 are possible by sucking and stirring the developing solution 22 at the position farthest from the discharge port 28a.
다음으로 현상장치를 사용해서 행한 실험결과에 대해서 설명을 한다. 현상액으로서 수산화나트륨(NaOH) 용액을 사용하고 액온을 27.0℃로 하여 포토레지스트의 두께를 4㎛로 하였다. 그래서 75초에서 노광의 마스크패턴 선폭과 같은 레지스트패턴 선폭을 얻을 때의 현상액의 알카리 농도가 토출되는 현상액의 액압과의 관계를 조사했다. 결과를 다음 표에 표시한다.Next, the experimental result performed using the developing apparatus is demonstrated. A sodium hydroxide (NaOH) solution was used as a developing solution, the liquid temperature was 27.0 degreeC, and the thickness of the photoresist was 4 micrometers. Therefore, the relationship between the alkali concentration of the developer at the time of obtaining the resist pattern line width equal to the mask pattern line width of the exposure at 75 seconds and the liquid pressure of the developer discharged was investigated. The results are shown in the following table.
[표 1]TABLE 1
위의 표 1에 표시하는 바와 같이 알카리농도가 0.140 ∼ 0.145mol/l인때는 새로운 현상액이 사용되고 있고 낮은 액압에서 충분한 현상이 가능했다. 한편 알카리 농도가 0.115 ∼ 0.120mol/l인때는 현상액의 열화가 진행되고 있으나 현상액의 액압을 2.0kgf/cm2로 올리므로써 새로운 현상액을 사용한 때와 동일한 시간에서 현상이 가능했다. 이와 같이 본 발명의 효과는 실험적으로도 확인되었다.As shown in Table 1 above, when the alkali concentration was 0.140 to 0.145 mol / l, a new developer was used, and sufficient development was possible at low liquid pressure. On the other hand, when the alkali concentration was 0.115 to 0.120 mol / l, deterioration of the developer was progressing, but the development was possible at the same time as when the new developer was used by raising the liquid pressure of the developer to 2.0 kgf / cm 2 . Thus, the effect of this invention was confirmed experimentally.
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