KR100455290B1 - 평판형 기화기 - Google Patents

Abstract

평판형 기화기에 관해 기술된다. 개시된 기화기는 냉매가 수용되는 소정 직경과 깊이를 가지는 기판의 공통챔버가 기화공동영역과 기화공동영역을 에워싸는 모세관 영역, 모세관 영역을 에워싸는 매니폴드영역으로 구분되어 있고, 상기 모세관 영역에는 모세관력 발생부가 마련되어 있고, 상기 상판에는 상기 기화공동영역에서 발생된 기상의 냉매를 외부로 배출하는 기체 배출부를 포함하는 배출수단이 마련되어 있고, 그리고 상기 상판과 기판의 사이에서 상기 기화공동영역의 중앙부 측으로 연장되는 연장부를 가지는 보조 모세관력 발생부가 마련되는 구조를 가진다. 상기 기화기에 의해 외부의 동력이 없이 냉각을 수행할 수 있는 소형 및 박형의 냉각장치를 얻을 수 있게 된다. 또한, 액체상태의 냉매와 증발된 기체 상태의 냉매가 윅영역에 의해 격리되기 때문에 기체와 액체의 혼재에 따른 유체 유동력의 저하를 효과적으로 억제할 수 있고, 결과적으로 열교환특성이 크게 향상된다.

Description

평판형 기화기{Flat evaporator}

본 발명은 모세관에 의한 작동유체 순환 구조를 가지는 기화기에 관한 것으로, 상세히는 증발 공동의 주위를 감싸는 방사형 윅 구조체를 가지는 평판형 기화기에 관한 것이다.

최근에 계속 발전되는 전자 기술은 전자장비의 모듈화, 소형화 및 고출력화를 이루었고 이에 따라 전자 장비에서의 단위 면적당 열발산율은 계속 증가하게 되었다. 이러한 전자 장비의 발생열에 대한 적절한 조절 능력이 설계 및 작동 중에서 고려되어야할 중요한 사항이다. 전자 장비에서의 온도 조절을 위한 방식으로는 열전도, 공기의 자연 대류/복사 또는 강제 대류, 액체에 의한 냉각, 잠수 냉각(immersion), 히트파이프(heat pipe) 형태가 있다.

최근에 연구되고 있는 CPL(capillary pumped loop)은 냉매가 상변화하는 경계면에서 생기는 표면장력을 냉매의 유동을 위한 구동원으로 적용하는 시스템이다. 이러한 CPL 을 응용한 냉각 시스템은 열원으로부터 냉매의 이상기체를 이용하여 열을 이송시키는 기화기와 기화기로부터 배출되는 이상기체를 액체로 응축하는 콘덴서를 포함한다.

CPL 기화기는 열원에서 방출되는 열이 냉매가 상변화되는데 효과적으로 기여할 수 있도록 구성되어야 하고, 또한 냉매의 상변화 부분에서 생기는 표면장력이 냉매를 이송하는 구동원이므로 상변화하는 경계면이 열원주변에 고르게 분포되어야 한다.

나사의 루이스 센터(NASA Lewis center)의 스텐져(Stenger)에 의한 냉각장치는 파이프 속으로 냉매가 유동하는 하나의 루우프를 구성하고, 파이프의 일부분에 냉매 유동 경로 상에 모세관 현상을 일으키는 다공체를 갖는 증발부가 마련되고, 그 다른 부분에서는 방열이 일어남으로써 냉매가 응측되는 구조를 가진다. 이러한 파이프 루우프의 구조는 소형화하기 어렵고 따라서 소형의 전자 응용기기 등에 적용되기 어렵다.

한편, 미국 특허 5,725,049호를 통해 스완슨 등(Swanson et al.)은 CPL이 적용된 평판형 열교환기를 개시한다.

스완슨이 제안한 열교환기는 증발기, 콘덴서 및 이들 사이의 액체과 및 기체관으로 구성되어 있고, 증발기는 상부 몸체와 하부 몸체의 사이에 그 상면에 상기 액체관과 연결되는 그루브가 형성되고 그 저면에는 상기 기체관에 연결되는 그루브가 형성된 다공성 물질이 위치하는 구조를 가진다.

이러한 스완슨의 열교환기는 냉매가 다공체 상부 그루브의 중앙부분으로 부터 공급된 후 그 주변 그루브로 퍼져나가면서 다공체의 몸체를 통과하면서 상변화 한 다음 그 하부의 그루브를 통해 기체관으로 빠져 나가는 구조를 채택하고 있다.

이러한 스완슨의 열교환기는 구조상으로 볼때, 면적이 적고, 고 열량이 나오는 열원의 냉각장치나 소형박막화한 장치로서는 한계가 있다.

본 발명의 제1의 목적은 소형 박형화가 가능한 평판형 기화기를 제공하는 것이다.

본 발명의 제2의 목적은 소형이면서도 냉각효율이 높은 평판형 기화기를 제공하는 것이다.

도 1은 본 발명에 따른 기화기의 제1실시예의 개략적 단면도이다.

도 2는 도 1에 도시된 본 발명에 따른 기화기에 적용된 기판의 개략적 평면도이다.

도 3은 도 1에 도시된 본 발명에 따른 기화기에 적용된 기판에 링형 보조윅 구조체가 설치된 상태를 보이는 개략적 평면도이다.

도 4는 본 발명에 따른 기화기의 제2실시예의 개략적 측단면도이다.

도 5는 도 4에 도시된 본 발명에 따른 기화기에서 다공질체가 설치된 기판의 개략적 평면도이다.

도 6은 도 4에 도시된 본 발명에 따른 기화기에서 상판을 제외한 기판, 다공질체 및 보조 윅구조체의 결합관계를 보인 분리 사시도이다.

도 7은 도 4와 도 1에 도시된 본 발명에 따른 기화기에 적용되는 상판의 저면도이다.

도 8은 도 5에 도시된 본 발명에 따른 기화기에서 기판

도 9는 본 발명에 따른 기화기에 적용되는 링형 보조윅 구조체의 개략적 평면도이다.

도 10은 본 발명에 따른 기화기의 다른 실시예에 적용되는 링형 보조윅 구조체의 개략적 평면도이다.

도 11은 본 발명에 따른 기화기의 또 다른 실시예에 적용되는 링형 보조윅 구조체의 개략적 평면도이다.

도 12 은 본 발명에 따른 기화기에 적용된 상판의 응용례를 보인 단면도이다.

도 13은 도 12에 도시된 상판의 개략적 사시도이다.

도 14은 본 발명에 따른 기화기에 적용된 상판의 다른 응용례를 보인 단면도이다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따르면,

냉매의 주된 증발이 일어 나는 중앙챔버를 형성하는 기화 공동영역, 상기 중앙챔버를 에워싸는 모세관 영역, 모세관 영역을 에워싸는 매니폴드 영역이 그 상면에 마련되어 있는 기판과;

상기 기판의 상부에 설치되는 상판과;

상기 윅영역에 마련되며, 모세관력에 의해 매니폴드영역으로부터 상기 기화 공동영역으로의 냉매 유동력을 발생하는 모세관력 발생부와;

상기 기화공동영역에서 발생된 기상의 냉매를 외부로 배출하는 기체 배출부를 포함하는 배출수단과;

상기 매니폴드영역으로 액상의 냉매를 외부로 부터 공급하는 액체 공급부를 포함하는 공급수단과;

상기 상판과 기판의 사이에서 상기 기화공동영역의 중앙부 측으로 연장되는 연장부를 가지는 보조 모세관력 발생부를; 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기가 제공된다.

상기 본 발명에 있어서, 본 발명의 한 실시예에 따르면 상기 모세관력 발생부는 다수의 공공부(cavity)를 가지는 다공질체(porous material body)에 의해 마련되며, 다른 실시예에 따르면 매니폴드 영역으로부터 상기 기화 공동영역으로의 냉매 유동갭을 제공하는 다수 밀집된 기둥들을 구비하는 윅구조체에 의해 마련된다.

상기 본 발명의 기화기의 실시예에 따르면, 상기 보조 모세관력 발생부는 링형 몸체를 가지며, 상기 모세관 영역의 상방에 위치한다. 본 발명의 한 실시예에 따르면, 상기 보조 모세관력 발생부에서 상기 기화공동영역으로 연장되는 부분은 모세관력을 발생할 수 있는 다공질체로 형성되며, 바람직하게는 상기 연장부를 포함해서 링형 몸체 전체가 다공질체로 형성된다.

한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상기 링형 몸체의 내측으로 부터 연장되는 부분은 다수의 핀에 의한 보조 윅 구조체이다. 상기 보조 윅구조체의 핀은 단순 사각형 및 그 선단부에 원형의 확장부가 마련되는 구조 중의 어느 하나를 가진다. 또한, 상기 보조 윅구조체의 링형 몸체는 소정 간격으로 분리되어 있고,상기 핀들에 의해 상호 연결되어 있는 구조를 가진다.

한편 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 상판의 기체포집부는 상방으로 갈수로 좁혀지는 원뿔형 구조를 가지며, 상기 원뿔형 구조의 기체포집부의 내벽에 적어도 하나의 계단형 에지부분이 형성되어 있다.

이하, 첨부된 도면을 참조하면서, 본 발명의 냉각장치의 실시예들을 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명에 따른 평판형 기화기의 제1실시예의 단면도이며, 도 2는 도 1에 도시된 기화기(1)에 적용되는 기판(10)의 평면도이며, 그리고 도 3은 도 2에 도시된 기판(10)에 모세관력 발생부인 링형 보조 윅 구조체(40)가 설치된 상태의 기판(10)의 개략적 평면도이다. 도 4는 도 1에 도시된 본 발명의 기화기에 적용되는 상판(20)의 저면도이다.

도 1과 도 2를 참조하면, 기화기(1)는 상하 적층되는 상판(20)과 기판(10)을 구비한다. 기판(10)의 상면에는 냉매의 주된 증발이 일어나는 중앙챔버(11)가 형성되는 기화 공동영역(A)과 상기 중앙챔버(11)를 에워싸는 환상의 윅영역(B) 및 윅영역(B)을 에워싸는 환상의 매니폴드영역(C)으로 구분된 공통 챔버가 소정직경과 깊이로 형성되어 있다.

상기 기화 공동영역(A)은 상기 윅영역(B)을 통해 유입된 냉매가 수용되는 것으로서 기판(10)의 저면의 열원(30)으로 부터 공급된 열에 의해 냉매가 증발하는 영역이다.

상기 기화공동영역(A)을 에워싸는 윅영역(B)은 냉매에 대해 모세관력을 발생하는 윅 구조체(12)이 다수 밀집되게 배치되어 있는 영역이다. 도 1과 도 2에 도시된 기화기의 실시예는 직사각 기둥형의 윅구조체(12)가 상기 기화공동영역을 중심으로 방사상으로 2열로 배치되고 그 상단은 상기 상판(20)의 저면에 접촉되는 구조를 가진다. 여기에서 윅 구조체는 상기와 같은 사각기둥형외에 모세관 현상을 일으킬 수 있는 다른 형태로의 변형도 가능하다.

상기 윅영역(B)을 에워싸는 매니폴드영역(C)은 상기 윅영역(B)으로 냉매를 골고루 공급하기 위한 액상의 냉매 진행경로로서 기판(10)의 일측에 형성된 냉매 유입 통로(14)에 연결되어 있다. 상기 냉매 유입통로 또는 냉매 공급통로는 기판(10) 외에 상판(20)측에 마련될 수 있다.

한편, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 기판(10)의 위에 고정되는 상판(20)의 내면에는 상기 기화공동영역(A)의 중앙챔버(11)에 대응하는 기체포집부(21)가 마련되어 있고, 이 기체포집부(21)의 기상의 냉매를 외부로 배출하는 배출통로(22)에 연결되어 있다.

도 1과 도 3을 참조하면, 윅영역(B)의 상부에 보조 모세관력 발생부인 보조 윅 구조체(40)가 설치된다. 보조 윅구조체(40)의 내측 가장자리에는 모세관력을 발생할 수 있는 다수의 핀(41)이 형성되어 있다. 상기 핀(41)은 중앙 챔버(11)의 중심을 향하여 소정 길이 연장되어 있다. 이와 같은 보조 윅 구조체는 기화공동영역(A) 즉 중앙챔버에 충분한 냉매가 공급될 수 있도록 하여 냉매 부족에 따른 드라이 아웃을 억제하고 특히 상기 윅영역(B)의 윅구조체(12)들과 함께 냉매의 피딩력을 증가시킨다.

도 4는 본 발명에 따른 평판형 기화기의 제2실시예의 단면도이며, 도 5는 도 4에 도시된 기화기(1)에 적용되는 기판(10)의 평면도이며, 그리고 도 6은 상판(20)을 제외한 기판(10), 주 모세관력 발생부로서의 다공질체(12a) 및 보조 모세관력 발생부로서의 보조 윅구조체(40)의 결합관계를 보인 분리 사시도이다. 도 7은 도 4와 도 1에 도시된 본 발명의 기화기에 적용되는 상판(20)의 저면도이다.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 본 발명에 따른 제2실시예의 기화기는 제1실시예에서의 윅구조체(12)가 링형 다공질체(12a)로 교체되었다. 이 링형 다공질체(12)는 전술한 윅구조체(12)와 동일한 기능을 가지는 모세관력 발생부로서 모세관 영역(B)에 마련되며, 모세관력에 의해 냉매를 매니폴드영역(C)으로 부터 기화공동영역(A)으로 이동시킨다. 다공질체(12)의 상면에는 보조 모세관력 발생부인 보조 윅구조체(40)가 설치되는 링형 리세스(recess, 122)가 형성되어 있다.

한편, 상기 기판(10)의 모세관 영역(B)의 바닥부에는 상기 링형 다공질체(12a)의 하단부가 삽입되는 링형 리세스(121)가 형성되어 있다. 상기 두 드레스(121, 122)는 기판(10)에 대한 다공질체(12a) 및 보조 윅구조체(40)의 안정적인 위치결정 및 유지를 위한 요소로서 선택적인 요소이다.

다른 실시예에 따르면, 상기 다공질체(12a)와 보조윅구조체(40)는 일체적으로 형성될 수 있다. 이와 같은 일체화된 다공질체-보조윅구조체는 금속분말의 성형 및 소결 과정을 수반하는 분말야금법에 의해 얻어질 수 있다. 즉, 다공질체(12a)와 보조 윅구조체(40)가 모두 모세관력을 발생할 수 있는 다공성 물질로 형성될 수 있다.

앞에서 설명된 본 발명에 따른 기화기의 실시예들의 특징은 기판(10) 중앙의 기화공동영역(A)에 그 주변으로 부터 냉매가 공급되는, 즉 냉매가 기판(10)의 평면방향으로 유동하되 기판(10)의 중앙 챔버(11)로 모일 수 있도록 된 점과, 냉매의 이동력을 제공하는 모세관 영역(B)이 기화공동영역(A)을 에워싸고 있는 점과, 그리고 모세관 영역(B) 전체적으로 냉매가 고루 공급될 수 있게 하기 위하여 매니폴드영역(C)이 상기 모세관 영역(B)을 감싸고 있는 점, 그리고, 모세관영역(B)의 상부에 보조 모세관력 발생부가 설치된 점이다.

여기에서 냉매의 유동력은 냉매의 상변화가 일어나는 부분, 특히 중앙챔버(11)에 접한 윅 영역(B)의 내단부에서 발생된다. 위의 구조에서 매니폴드영역(C)의 상부는 상기 상판(20)의 저면에 의해 밀폐되어 있고 따라서 매니폴드영역(C)으로 유입된 냉매는 모세관 영역(B)으로만 유동한다.

위의 구조에서 상기 중앙챔버(11)가 마련되는 기화공동영역(A)의 크기는 열원(2)의 크기(면적)에 대응하도록 하는 것이 바람직하며, 경우에 따라서는 기화공동영역(A) 및 모세관 영역(B)을 포함하는 영역이 열원(30)의 크기에 대응토록 할 수 있다.

한편, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 기판(10)의 위에 고정되는 상판(20)의 내면에는 상기 기화공동영역(A)의 중앙챔버(11)에 대응하는 기체포집부(21)가 마련되어 있고, 이 기체포집부(21)의 기상의 냉매를 외부로 배출하는 배출통로(22)에 연결되어 있다.

도 8 내지 도 11은 보조 모세관력 발생부 또는 보조 윅구조체(40)의 다양한변형례를 도시한다.

도 8에 도시된 보조 윅 구조체(40)는 링형 몸체(40a)의 대주면에 그 중앙으로 연장되는 단순 직사각형 형태의 핀(41)이 형성되어 있는 구조를 가진다. 이 윅 구조체(40)의 적용례는 도 1, 도 4, 도 6에 도시되어 있다.

도 9에 도시된 보조 윅 구조체(40)는 링형몸체(40b)의 내주면에 단순 직사각형의 선단부에 원형의 확장부를 가지는 핀(41a)이 형성되어 있는 구조를 가진다.

도 10에 도시된 보조 윅 구조체(40)는 링형몸체(40c)가 일정한 간격을 분리되어 있고, 이들은 냉매가 통과할 수 있고 관통공 및 만곡된 가장자리 부분을 가지는 A 형의 핀(41b)에 의해 연결되어 있는 구조를 가진다.

상기와 같은 보조 윅 구조체는(40)의 핀(41, 41a, 41b)들은 매니폴드영역(C)및 그 하부의 윅영역(B)으로 부터 냉매를 표면장력에 의해 중앙 챔버의 중심부분에 까지 전달될 수 있도록 한다. 이때에 상기 핀(41, 41a, 41b)들은 일정한 간격으로 배치되어 중앙챔버(11)에서 발생된 기체가 큰 유동저항을 받지 않고 상기 상판(20)의 기체포집부(21)로 상승할 수 있도록 한다.

한편, 도 11은 링형 몸체(40d)가 다공성 물질로 된 보조 모세관력 발생부를 보인다. 이것은 전체적으로 다공성 물질로 형성될 수 있고, 한편으로는 중앙챔버(11)에 대응하는 부분, 즉 전술한 핀(41, 41a, 41b)에 대응하는 부분만 다공질 물질로 형성될 수 있다. 보조 모세관력 발생부가 전체적으로 다공성 물질로 형성되고, 그리고 모세관 영역(B)의 모세관 발생부가 도 4에 도시된 바와 같은 다공질체로 형성되는 경우, 이들 양 부품이 분말 야금법에 의해 일체적으로 형성될수 있다.

도 12 및 도 13은, 본 발명의 다른 실시예에 있어서, 기체 포집부(21a)가 원뿔형상의 홈(21b)에 의해 형성된 상판(20b)의 개략적 단면도 및 사시도이다.

상기 기체 포집부(21a)는 원뿔형상의 홈(21b)에 의해 마련됨으로써 기판(10)의 중앙챔버(11)로 부터 발생된 기체를 효과적으로 포집하여 그 상부의 배출통로(22)를 통해 배출되도록 한다. 또한, 중앙챔버(11)에서의 폭발적 비등현상에 의한 완전히 기화되지 않은 다량의 냉매가 기체포집부(21a)로 유입되었을 때에 경사진 벽면을 가지는 홈(21b)에 의해 진행경로를 좁힘으로써 미기화 냉매가 다시 중앙챔버(11)로 복귀되게 한다.

한편, 도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 있어서, 상기 원뿔형상의 홈(21b)의 측면에 계단형 에지부분(21c)가 형성된 상판(20b)의 단면도이다. 도 10에 도시된 바와 같이, 홈(21b)의 측면에 계단형 에지부분(21c)이 상하 2개가 형성되어 있다. 상기 계단형 에지부분(21c)은 홈(21b)의 측면을 따라 환형으로 형성된다.

따라서, 도 14에 도시된 실시예의 기체포집부(21a)에 의하면, 완전히 기화되지 않은 냉매가 기체포집부(21a)로 유입되었을 때에 경사진 벽면을 가지는 홈(21b)에 의해 진행경로를 좁힘으로써 미기화 냉매가 다시 중앙챔버(11)로 복귀되게 할 뿐 아니라, 홈(21b)의 벽면에 형성된 에지부분(21c)에 의해, 중앙챔버(11) 내에서 형성되는 기-액 계면을 열저항이 적은 냉매에 의한 박막이 형성되게 되고, 따라서 증발 열효율이 향상되게 된다.

상기와 같은 본 발명의 기화기는 용도에 따라 그 크기가 조절될 수 있는데, 노트북형 컴퓨터에서와 같이 매우 협소한 공간에 설치되어야 하는 경우, 실리콘 웨이퍼 등을 적용한 소위 MEMS 기술을 적용하여 제작할 수 있다. MEMS 기술을 적용하면, 전체 구조 특히 특히 윅구조체를 미소화할 수 있어서 매우 강한 모세관력을 발생시킬 수 있다. 이경우 기판이 반도체 기판등으로 부터 얻어지며, 기판에 대한 가공은 일반적으로 MEMS 기술에서 적용하는 패터닝 과정을 거치게 된다.

이상과 같은 본 발명에 의하면, 외부의 동력이 없이 냉각을 수행할 수 있는 소형 및 박형의 냉각장치를 얻을 수 있게 된다.

또한, 액체상태의 냉매와 증발된 기체 상태의 냉매가 윅영역에 의해 격리되기 때문에 기체와 액체의 혼재에 따른 유체유동력의 저하를 효과적으로 억제할 수 있고, 결과적으로 열교환특성이 크게 향상된다.

이러한 본 발명의 기화기는 전술한 바와 같이 전자제품의 소형 부품, 예를 들어 컴퓨터의 씨피유(CPU) 등의 냉각장치로서 적합하다. 특히, 노트북 컴퓨터와 같이 내부 가용용적이 적은 전자제품의 발열원인 씨피유 자체에 밀착시킬수 있어서, 별도의 냉각장치에 의한 노트북 컴퓨터의 크기와 무게의 증가를 방지할 수 있다.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하면, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 한해서 정해져야 할 것이다.

Claims (14)

1. 냉매의 주된 증발이 일어 나는 중앙챔버를 형성하는 기화 공동영역, 상기 중앙챔버를 에워싸는 윅 영역, 윅 영역을 에워싸는 매니폴드영역이 그 상면에 마련되어 있는 기판과;

   상기 기판의 상부에 설치되는 상판과;

   상기 윅 영역에 마련되며, 모세관력에 의해 매니폴드영역으로부터 상기 기화 공동영역으로의 냉매 유동력을 발생하는 모세관력 발생부와;

   상기 기화공동영역에서 발생된 기상의 냉매를 외부로 배출하는 기체 배출부를 포함하는 배출수단과;

   상기 매니폴드영역으로 액상의 냉매를 외부로 부터 공급하는 액체 공급부를 포함하는 공급수단과;

   상기 상판과 기판의 사이에서 상기 기화공동영역의 중앙부 측으로 연장되는 부분을 가지는 보조 모세관력 발생부를; 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 기판 또는 상판의 일측면으로 부터 상기 매니폴드 영역에 연결되는 냉매 공급통로가 형성되어 있고, 상기 상판의 일측면으로 부터 상기 기체 배출부에 연결되는 기체 배출통로가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

   상기 보조 모세관력 발생부의 몸체는 링형이며 상기 모세관력 발생부의 상방에 위치하는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

   상기 보조 모세관력 발생부의 연장부는 원형의 단면 형상의 확장부가 선단부에 마련된 핀을 다수 구비하는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
5. 제 3 항에 있어서,

   상기 보조 모세관력 발생부의 연장부는 원형의 단면 형상의 확장부가 선단부에 마련된 핀을 다수 구비하는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
6. 제 4 항에 있어서,

   상기 보조 모세관력 발생부는 소정 간격으로 분리되어 있고, 상기 핀들에 의해 상호 연결되어 있는 링형 몸체를 가지는 보조 윅 구조체에 의해 마련되는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
7. 제 5 항에 있어서,

   상기 보조 모세관력 발생부는 소정 간격으로 분리되어 있고, 상기 핀들에 의해 상호 연결되어 있는 링형 몸체를 가지는 보조 윅 구조체에 의해 마련되는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

   상기 상판의 기체포집부는 상방으로 갈수로 좁혀지는 원뿔형 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
9. 제 3 항에 있어서,

   상기 상판의 기체포집부는 상방으로 갈수로 좁혀지는 원뿔형 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
10. 제 8 항에 있어서,

    상기 원뿔형 구조의 기체포집부의 내벽에 적어도 하나의 계단형 에지부분이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
11. 제 9항에 있어서,

    상기 원뿔형 구조의 기체포집부의 내벽에 적어도 하나의 계단형 에지부분이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

    상기 모세관 발생부는 다수의 공공부(cavity)를 가지는 다공질체(porous material body)에 의해 마련되는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
13. 제 12 항에 있어서,

    상기 보조 모세관력 발생부의 몸체는 링형이며 상기 모세관력 발생부의 상방에 위치하는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.
14. 제 11 항에 있어서,

    상기 보조 모세관력 발생부의 연장부는 단순 사각형 및 그 선단부에 원형의 단면 형상의 핀이 다수 구비하는 것을 특징으로 하는 평판형 기화기.