KR100436294B1 - 머신 비젼에서의 패턴 블록 검출 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (3)
- 머신 비젼의 라인 스켄을 통한 검사체의 검사 패턴 블록을 식별하기 위한 방법에 있어서,a) 표준 검사체의 라인 스켄을 통한 다수 셀의 밝기 정보를 산출하되, 각각의 스켄 라인별로 산출한 후, 산출된 결과값을 연속된 그래프로 도시화한 그래디언트 그래프를 생성하는 학습 제 1 과정;b) 상기 표준 검사체의 그래디언트 그래프에서 특정 파형의 표준 검사체 그래디언트 그래프 부위를 선별하는 학습 제 2 과정;c) 상기 특정 파형의 그래디언트 그래프 부위를 저장하는 학습 제 3 과정;d) 상기 특정 파형의 그래디언트 그래프 부위로 부터 상기 검사 패턴 블록의 시작 및 끝 점까지의 좌표 정보를 저장하는 학습 제 4 과정;e) 상기 검사체의 패턴 오류 검사를 위한 명령에 기반하여, 상기 검사체의 라인 스켄을 통한 다수 셀의 밝기 정보를 산출하되, 각각의 라인 스켄별로 산출한 후, 산출된 결과값을 연속된 그래프로 도시화한 검사체 그래디언트 그래프를 생성하는 실행 제 1 과정;f) 기 저장된 상기 표준 검사체의 특정 파형 그래디언트 그래프 부위를 읽어 들인 후, 상기 검사체 그래디언트 그래프와 비교하는 실행 제 2 과정;g) 상기 f)에서 비교된 결과 상기 표준 검사체의 특정 파형 그래디언트 그래프 부위 및 상기 검사체 그래디언트 그래프와 동일하지 않음으로 판단되면, 라인스켄을 수행하고, 상기 표준 검사체의 특정 파형 그래디언트 그래프 부위 및 상기 검사체 그래디언트 그래프와 동일함으로 판단되면, 상기 d)의 좌표 정보를 패치하는 실행 제 3 과정; 및h) 상기 좌표 정보에 기초하여 상기 검사 패턴 블록의 위치를 판별하는 실행 제 4 과정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 머신 비젼에서의 패턴 블록 검출 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 다수 셀의 밝기 정보는 상기 검사체의 라인 스켄을 통한 다수 셀 간 밝기 편차 합을 산출한 정보인 것을 특징으로 하는 머신 비젼에서의 패턴 블록 검출 방법.
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US5796868A (en) * | 1995-12-28 | 1998-08-18 | Cognex Corporation | Object edge point filtering system for machine vision |
KR19990049939A (ko) * | 1997-12-16 | 1999-07-05 | 구자홍 | 피시비 자동 시각 검사장치와 그 방법 |
US6038336A (en) * | 1997-12-04 | 2000-03-14 | Daewoo Electronics Co., Ltd. | PCB testing circuit for an automatic inserting apparatus and a testing method therefor |
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---|---|---|---|---|
KR940008423A (ko) * | 1992-09-08 | 1994-04-29 | 오오가 노리오 | 패턴인식장치 |
US5796868A (en) * | 1995-12-28 | 1998-08-18 | Cognex Corporation | Object edge point filtering system for machine vision |
US6038336A (en) * | 1997-12-04 | 2000-03-14 | Daewoo Electronics Co., Ltd. | PCB testing circuit for an automatic inserting apparatus and a testing method therefor |
KR19990049939A (ko) * | 1997-12-16 | 1999-07-05 | 구자홍 | 피시비 자동 시각 검사장치와 그 방법 |
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