KR100429699B1 - 염료혼합물,이의제조방법및이를사용한염색또는날염방법 - Google Patents

염료혼합물,이의제조방법및이를사용한염색또는날염방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100429699B1
KR100429699B1 KR1019960029268A KR19960029268A KR100429699B1 KR 100429699 B1 KR100429699 B1 KR 100429699B1 KR 1019960029268 A KR1019960029268 A KR 1019960029268A KR 19960029268 A KR19960029268 A KR 19960029268A KR 100429699 B1 KR100429699 B1 KR 100429699B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
sulfo
substituted
alkyl
carboxyl
Prior art date
Application number
KR1019960029268A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970006412A (ko
Inventor
한스 라이헤르트
베른하르트 뮐러
아타나시오스 치카쓰
Original Assignee
시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19527568A external-priority patent/DE19527568A1/de
Application filed by 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. filed Critical 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
Publication of KR970006412A publication Critical patent/KR970006412A/ko
Priority to KR1020030081545A priority Critical patent/KR100429698B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100429699B1 publication Critical patent/KR100429699B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B62/00—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves
    • C09B62/44—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring
    • C09B62/4401—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring with two or more reactive groups at least one of them being directly attached to a heterocyclic system and at least one of them being directly attached to a non-heterocyclic system
    • C09B62/4403—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring with two or more reactive groups at least one of them being directly attached to a heterocyclic system and at least one of them being directly attached to a non-heterocyclic system the heterocyclic system being a triazine ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B62/00—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves
    • C09B62/02—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group directly attached to a heterocyclic ring
    • C09B62/04—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group directly attached to a heterocyclic ring to a triazine ring
    • C09B62/043—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group directly attached to a heterocyclic ring to a triazine ring containing two or more triazine rings linked together by a non-chromophoric link
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
    • C09B67/004—Mixtures of two or more reactive dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
    • C09B67/0046—Mixtures of two or more azo dyes
    • C09B67/0047—Mixtures of two or more reactive azo dyes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Coloring (AREA)

Abstract

여러 가지 섬유 재료의 염색용 섬유 반응성 염료로서 적합한, 하나 이상의 화학식 1의 화합물과 하나 이상의 화학식 2의 화합물을 포함하는 염료 혼합물.
[화학식 1]
[화학식 2]
상기 화학식 1 및 화학식 2에서, 라디칼은 청구항에서 정의한 바와 같다.

Description

염료 혼합물, 이의 제조방법 및 이를 사용한 염색 또는 날염방법
본 발명은 섬유 반응성 염료 혼합물 및 셀룰로즈 섬유 재료를 염색하거나 날염하는 데 있어서의 이의 용도에 관한 것이다.
따라서, 본 발명은 하나 이상의 화학식 1의 화합물과 하나 이상의 화학식 2의 화합물[여기서, 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 화합물은 각각 하나 이상의 설포 그룹을 함유한다]을 포함하는 염료 혼합물에 관한 것이다.
[화학식 1]
[화학식 2]
위의 화학식 1 및 2에서,
D는 모노아조, 폴리아조, 금속 착염 아조, 안트라퀴논, 프탈로시아닌, 포르마잔 또는 디옥사진 발색단 라디칼이고,
R1, R2 및 R3은 서로 독립적으로 각각 수소 또는 치환되지 않거나 치환된 C1-C6알킬이고,
X는 불소, 염소, 브롬, 3-카복시피리딘-1-일 또는 3-카바모일피리딘-1-일이고,
B는 유기 브릿지 구성원이고,
X1은 독립적으로 X에 대하여 정의한 바와 같고,
V는 하이드록실, C1-C4알콕시, 페녹시, C1-C4알킬티오, 모르폴리노 및 치환되거나 치환되지 않은 아미노로 이루어진 그룹으로부터 선택된 비반응성 라디칼, 또는 화학식 3a, 3b, 3c, 3d, 3e, 3f 또는 3g의 라디칼이다.
[화학식 3a]
[화학식 3b]
[화학식 3c]
[화학식 3d]
[화학식 3e]
[화학식 3f]
[화학식 3g]
위의 화학식 3a 내지 3g에서,
R4는 수소, 하이드록실, 설포, 설페이토, 카복실, 시아노, 할로겐, C1-C4알콕시카보닐, 카바모일 또는 그룹 -SO2-Y이고,
R5는 수소, 치환되지 않거나 하이드록실, 설포, 설페이토, 카복실 또는 시아노에 의해 치환된 C1-C4알킬 또는 라디칼 이고,
R6은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
알크 및 알크'는 서로 독립적으로 각각 C1-C6알킬렌이고,
아릴렌은 치환되지 않거나 설포, 카복실, 하이드록실, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 라디칼이고,
Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-U이고,
U는 이탈 그룹이고,
Y1은 그룹 -CHZ-CH2Z 또는 -CZ=CH2이고,
Z는 염소 또는 브롬이고,
E는 라디칼 -O- 또는 -NR6-이고,
t는 0 또는 1이다.
치환되거나 치환되지 않은 C1-C6알킬 R1, R2 또는 R3은, 예를 들면, 치환되지 않거나, 예를 들면, 하이드록실, 설포, 설페이토, 카복실, 시아노, 할로겐, C1-C4알콕시카보닐 또는 카바모일에 의해 치환된 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 2급 부틸, 3급 부틸, 이소부틸, 또는 직채 또는 측쇄 펜틸 또는 헥실일 수 있다.
R1, R2 및 R3은 서로 독립적으로 각각 바람직하게는 수소 또는 치환되지 않거나 하이드록실에 의해 치환된 C1-C4알킬, 특히 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸 또는 하이드록실에틸, 특히 바람직하게는 각각 수소이다.
유기 브릿지 구성원 B는, 예를 들면, 지방족, 지환족, 방향족 또는 아르지방족 브릿지 구성원일 수 있다.
지방족 브릿지 구성원 B는, 예를 들면, 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환되거나 -O-, -NH- 또는 -N(CH3)-에 의해 차단된 직쇄 또는 측쇄 C2-C12-알킬렌일 수 있다. 예는 1,2-에틸렌, 1-메틸-1,2-에틸렌, 1,1-디메틸-1,2-에틸렌, 1,2-디메틸-1,2-에틸렌, 1,1,2,2-테트라메틸-1,2-에틸렌, 1,3-프로필렌, 2,2-디메틸-1,3-프로필렌, 2-하이드록시-1,3-프로필렌, 1,4-부틸렌, 1,6-헥실렌, 2-메틸-1,5-펜틸렌, -CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-, -(CH2)3-O-(CH2)3-O-(CH2)3- 또는 -CH2CH2-NH-CH2CH2-이다.
B는 바람직하게는 치환되지 않거나 하이드록실에 의해 치환되거나 -O-에 의해 차단된 직쇄 또는 측쇄 C2-C6알킬렌, 특히 바람직하게는 직쇄 또는 측쇄 C2-C6알킬렌이다. 특히 바람직한 알킬렌 라디칼 B의 예는 1,2-에틸렌, 1-메틸-1,2-에틸렌, 1,3-프로필렌, 2-하이드록시-1,3-프로필렌, 2-메틸-1,5-펜틸렌 및 1,6-헥실렌이다.
지환족 브릿지 구성원 B는, 예를 들면, 1,2-사이클로헥실렌, 1,3-사이클로헥실렌, 1,4-사이클로헥실렌 또는 라디칼 이거나, B는 -NR2- 및 -NR3-와 함께 피페라진 환을 형성한다.
방향족 브릿지 구성원 B의 예는 치환되지 않거나, 예를 들면, 설포, 메틸, 메톡시 또는 염소에 의해 치환된 1,2-페닐렌, 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 치환되지 않거나 설포에 의해 치환된 나프틸렌, 또는 화학식 4의 라디칼이다.
[화학식 4]
위의 화학식 4에서,
L은, 예를 들면, -CO-, -NHCO-, -NHCONH-, -(CH2)1-4-, -NH-, -CH=CH-, -O-, -SO2- 또는 -N=N-이고,
(R7)0-2 및 (R7')0-2는 서로 독립적으로 각각 설포, 메틸, 메톡시 및 염소로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 또는 2개의 동일하거나 상이한 라디칼이다.
바람직한 방향족 브릿지 구성원 B는 치환되지 않거나 설포, 메틸 또는 메톡시에 의해 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 1 내지 2개의 설포 그룹에 의해 치환된 나프틸렌, 또는 화학식 4a 또는 4b의 라디칼이다.
[화학식 4a]
[화학식 4b]
위의 화학식 4a 및 4b에서,
L은 -NHCONH-, -O, -NH-, -CH=CH- 또는 -CH2-이고,
R7은 수소 또는 설포이다.
특히 바람직한 방향족 브릿지 구성원 B의 예는 1,3-페닐렌, 1,4-페닐렌, 4-메틸-1,3-페닐렌, 4-설포-1,3-페닐렌, 3-설포-1,4-페닐렌, 3,6-디설포-1,4-페닐렌, 4,6-디설포-1,3-페닐렌, 3,7-디설포-1,5-나프틸렌, 4,8-디설포-2,6-나프틸렌, 2,2'-디설포-4,4'-디페닐렌, 4,4'-페닐렌우레아-2,2'-디설폰산 및 2,2'-디설포-4,4'-스틸베닐렌이다.
아르지방족 브릿지 구성원 B는, 예를 들면, 치환되지 않거나 설포에 의해 치환된 벤질렌, 메톡시페닐렌 또는 디메틸렌-1,2-페닐렌, 디메틸렌-1,3-페닐렌 또는 디메틸렌-1,4-페닐렌이다.
X 및 X1은 서로 독립적으로 각각 바람직하게는 불소 또는 염소이다. 라디칼 X 및 X1은 상이하거나, 바람직하게는 동일할 수 있다.
치환되거나 치환되지 않은 비반응성 아미노 라디칼 V는, 예를 들면, 아미노; 각각의 경우, 알킬이, 예를 들면, 설포, 설페이토, 하이드록실, 카복실 또는 페닐에 의해 치환될 수 있는 N-C1-C4알킬아미노 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 사이클로 헥실아미노; 각각의 경우, 페닐 또는 나프틸이, 예를 들면, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, C2-C4알카노일아미노, 카복실, 설포 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있는 페닐아미노 또는 나프틸아미노; 또는 알킬 및 페닐이 치환되지 않거나 위에서 언급한 바와 같이 치환될 수 있는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노일 수 있다.
적합한 비반응성 아미노 라디칼 V의 예는 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, β-하이드록시에틸아미노, N,N-디-β-하이드록시에틸아미노, β-설포에틸아미노, 사이클로헥실아미노, o-메틸페닐아미노, m-메틸페닐아미노, p-메틸페닐아미노, o-메톡시페닐아미노, m-메톡시페닐아미노, p-메톡시페닐아미노, o-설포페닐아미노, m-설포페닐아미노, p-설포페닐아미노, 2,4-디설포페닐아미노, 2,5-디설포페닐아미노, 3,6-디설포페닐아미노, 4,6-디설포페닐아미노, 4-메틸-3-설포페닐아미노, 4-메폭시-3-설포페닐아미노, 4-메틸-6-설포페닐아미노, 4-메톡시-6-설포페닐아미노, 4-메틸-3,6-디설포페닐아미노, 4-메톡시-3,6-디설포페닐아미노, o-카복시페닐아미노, 1-나프틸아미노, 2-나프틸아미노, 1-설포-2-나프틸아미노, 1,5-디설포-2-나프틸아미노, 1,6-디설포-2-나프틸아미노, 4,8-디설포-2-나프틸아미노, 6,8-디설포-2-나프틸아미노, 3,6,8-트리설포-2-나프틸아미노, N-에틸-N-페닐아미노, N-메틸-N-페닐아미노, N-β-설포에틸-N-페닐아미노 또는 N-β-하이드록시에틸-N-페닐아미노이다.
비반응성 아미노 라디칼 V는 바람직하게는 아미노; 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-모노-C1-C2알킬아미노 또는 N,N-디-C1-C2알킬아미노; 사이클로헥실아미노; 치환되지 않거나 메틸, 메톡시, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐아미노; 모노설포나프틸아미노, 디설포나프틸아미노, 트리설포나프틸아미노, 또는 치환되지 않거나 C1-C2알킬 잔기가 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-C1-C2알킬-N-페닐아미노, 특히 바람직하게는 아미노; 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-C1-C2알킬아미노; 설포, 메틸 및 메톡시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 치환체에 의해 치환된 페닐아미노, 또는 1 내지 3개의 설포 그룹에 의해 치환된 2-나프틸아미노이다.
바람직한 비반응성 C1-C4알콕시 라디칼 V는 메톡시와 이소-프로폭시이고, 바람직한 비반응성 C1-C4알킬티오 라디칼 V는 메틸티오와 에틸티오이다.
바람직한 비반응성 라디칼 V의 그룹은 하이드록실, C1-C4 알콕시, 모르폴리노 및 아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 설포, 설페이토, 하이드록실, 카복실 또는 페닐에 의해 치환된 N-C1-C4알킬아미노 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 사이클로헥실아미노; 치환되지 않거나 페닐 또는 나프틸 잔기가 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, C2-C4알카노일아미노, 카복실, 설포 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐아미노 또는 나프틸아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 설포, 설페이토, 하이드록실, 카복실 또는 페닐에 의해 치환되고/되거나 페닐 잔기가 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, C2-C4알카노일아미노, 카복실, 설포 또는 할로겐에 의해 치환된 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노로 이루어진다.
특히 바람직한 비반응성 라디칼 V의 그룹은 하이드록실, 메톡시, 이소프로폭시, 모르폴리노, 아미노; 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-모노-C1-C2알킬아미노 또는 N,N-디-C1-C2알킬아미노; 사이클로헥실아미노; 치환되지 않거나 메틸, 메톡시, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐아미노; 모노설포나프틸아미노, 디설포나프틸아미노 또는 트리설포나프틸아미노, 및 치환되지 않거나 C1-C2알킬 잔기가 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-C1-C2알킬-N-페닐아미노로 이루어진다.
V가 화학식 3a내지 3g의 반응성 라디칼이고, Y가 라디칼 -CH2-CH2-U인 경우, 이탈 그룹 U는, 예를 들면, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -SSO3H, -OCO-CH3, OPO3H2, -OCO-C6H5, OSO2-C1-C4알킬 또는 -OSO2-N(C1-C4알킬)2일 수 있다. 바람직하게는, U는 -Cl, -OSO3H, -SSO3H, -OCO-CH3, -OCO-C6H5 또는 -OPO3H2, 특히 -Cl 또는 -OSO3H, 특히 바람직하게는 -OSO3H이다.
Y는 바람직하게는 비닐, β-클로로에틸, β-설페이토에틸, β-티오설페이토에틸, β-아세톡시에틸, β-페녹시에틸 또는 β-포스페이토에틸, 특히 바람직하게는 β-설페이토에틸 또는 비닐이다.
Z는 바람직하게는 브롬이다.
알크 및 알크'는 서로 독립적으로 각각, 예를 들면, 메틸렌, 1,2-에틸렌, 1,3-프로필렌, 1,4-부틸렌, 1,5-펜틸렌, 1,6-헥실렌 또는 이들의 측쇄 이성체이다. 알크 및 알크'는 서로 독립적으로 각각 바람직하게는 C1-C4알킬렌 라디칼, 특히 바람직하게는 에틸렌 또는 프로필렌 라디칼이다.
아릴렌은 바람직하게는 치환되지 않거나 설포, 메틸, 메톡시 또는 카복실에 의해 치환된 1,3-페닐렌 라디칼 또는 1,4-페닐렌 라디칼, 특히 치환되지 않은 1,3-페닐렌 라디칼 또는 1,4-페닐렌 라디칼이다.
R4는 바람직하게는 수소이다.
R5는 바람직하게는 수소, C1-C4알킬 또는 라디칼 (여기서, R4, Y 및 알크는 각각 위에서 바람직한 것으로 정의한 바와 같다)이다. R5는 특히 바람직하게는 수소, 메틸 또는 에틸이다.
R6은 바람직하게는 수소, 메틸 또는 에틸, 특히 바람직하게는 수소이다.
라디칼 E는 바람직하게는 -NH- 또는 -O-, 특히 바람직하게는 -O-이다.
변수 t는 바람직하게는 0이다.
화학식 3a 내지 3g의 바람직한 반응성 라디칼은 R4, R5 및 R6이 각각 수소이고, E가 라디칼 -NH- 또는 -O-이며, 알크 및 알크'가 서로 독립적으로 각각 에틸렌 또는 프로필렌이고, 아릴렌이 치환되지 않거나 메틸, 메톡시, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌이며, Y가 비닐 또는 β-설페이토에틸이고, Y1이 -CHBr-CH2Br 또는 -CBr=CH2이며, t가 0인 라디칼이다.
반응성 라디칼 V는 특히 바람직하게는 화학식 3c' 또는 3d'의 그룹이다.
[화학식 3c']
[화학식 3d']
위의 화학식 3c' 및 3d'에서,
Y는 위에서 바람직한 것으로 정의한 바와 같다.
모노아조, 폴리아조 또는 금속 착염 아조 발색단 라디칼 D는 특히 화학식 6 및 7의 모노아조 염료 또는 디스아조 염료의 발색단 라디칼 중의 하나이다.
[화학식 6]
[화학식 7]
위의 화학식 6 및 7에서,
D1은 벤젠계 또는 나프탈렌계의 디아조 성분의 라디칼이고,
M은 벤젠계 또는 나프탈렌계의 중간 성분의 라디칼이고,
K는 벤젠계, 나프탈렌계, 피라졸론계, 6-하이드록시-2-피리돈계 또는 아세토아세트산 아릴아미드계의 커플링 성분의 라디칼이고,
u는 0 또는 1이며,
D1, M 및 K는 아조 염료에서 통상적인 치환체, 예를 들면, 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 추가로 치환된 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실, 설포, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, 아미노, 우레이도, 하이드록실, 카복실, 설포메틸, C2-C4알카노일아미노, 치환되지 않거나 페닐 환이 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐 또는 설포에 의해 치환된 벤조일 아미노, 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐 및 섬유 반응성 라디칼을 가질 수 있다. 화학식 6 및 7의 염료 라디칼로부터 유도된 금속 착염이 적합한데, 이들은, 특히 구리 원자가 아조 브릿지에 대해 오르토 위치의 각각의 측면의 금속화될 수 있는 그룹과 결합된 벤젠계 또는 나프탈렌계의 1:1 구리 착염 아조 염료의 염료 라디칼이다.
화학식 6 또는 7의 발색단 라디칼이 반응성 라디칼을 가질 경우, 이는, 예를 들면, 화학식 5a 내지 5g 중의 하나를 가질 수 있다.
[화학식 5a]
[화학식 5b]
[화학식 5c]
[화학식 5d]
[화학식 5e]
[화학식 5f]
[화학식 5g]
위의 화학식 5a 내지 5g에서,
Y 및 Z는 각각 위에서 바람직한 것으로 정의한 바와 같고,
V1은 독립적으로 V에 대해 위에서 바람직한 것으로 정의한 바와 같고,
X2는 독립적으로 X에 대해 위에서 바람직한 것으로 정의한 바와 같고,
R3'는 독립적으로 R3에 대해 위에서 바람직한 것으로 정의한 바와 같고,
p는 0 또는 1이고,
m, m1 및 q는 서로 독립적으로 각각 1 내지 6의 정수이다.
바람직하게는, p는 0이고, m 및 m1은 서로 독립적으로 각각 2 또는 3이고, q는 1, 2, 3 또는 4이다.
화학식 6 또는 7의 발색단 라디칼이 반응성 라디칼을 가질 경우, 이는 바람직하게는 위에서 정의한 화학식 5a 또는 5g를 갖는다.
모노아조 발색단 또는 디스아조 발색단 D의 특히 바람직한 라디칼은 화학식 8a 내지 8q 중의 하나이다.
[화학식 8a]
[화학식 8b]
[화학식 8c]
[화학식 8d]
[화학식 8e]
[화학식 8f]
[화학식 8g]
[화학식 8h]
[화학식 8i]
[화학식 8j]
[화학식 8k]
[화학식 8l]
[화학식 8m]
[화학식 8n]
[화학식 8o]
[화학식 8p]
[화학식 8q]
위의 화학식 8a 내지 8q에서,
(R8)0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
(R8')0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실, 설포, C1-C4하이드록시알콕시 및 C1-C4설페이토알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
(R9)0-3은 할로겐, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, 아세틸아미노, 우레이도, 하이드록실, 카복실, 설포메틸 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
(R9)0-4는 할로겐, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, 아세틸아미노, 우레이도, 하이드록실, 카복실, 설포메틸 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 4개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
R10은 C1-C4알카노일, 벤조일, 또는 위에서 정의한 화학식 5g의 할로트리아지닐 라디칼이고,
(R11)0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
R12 및 R14는 서로 독립적으로 수소, C1-C4알킬 또는 페닐이고,
R13은 수소, 시아노, 카바모일 또는 설포메틸이고,
(R15)0-2는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 2개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
(R16)0-2는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 2개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
Y는 위에서 정의한 바와 같다.
화학식 8a 내지 8q의 라디칼은 페닐 환 또는 나프틸 환에 추가의 치환체로서 라디칼 -SO2Y(여기서, Y는 위에서 정의한 바와 같다)도 함유할 수 있다.
포르마잔 염료의 라디칼 D는 바람직하게는 화학식 8r 또는 8s의 염료 라디칼이다.
[화학식 8r]
[화학식 8s]
위의 화학식 8r 및 8s에서,
벤젠 핵은 추가의 치환체를 함유하지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬설포닐, 할로겐 또는 카복실에 의해 추가로 치환된다.
프탈로시아닌 염료 라디칼 D는 바람직하게는 화학식 9의 라디칼이다.
[화학식 9]
위의 화학식 9에서,
Pc는 금속 프탈로시아닌, 특히 구리 프탈로시아닌 또는 니켈 프탈로시아닌 라디칼이고,
W는 -OH 및/또는 -NR17R17'(여기서, R17 및 R17'는 서로 독립적으로 수소, 또는 치환되지 않거나 하이드록실 또는 설포에 의해 치환된 C1-C4알킬이다)이고,
R18은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
A는 치환되지 않거나 C1-C4알킬, 할로겐, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌 라디칼, 또는 C2-C6알킬렌 라디칼이고,
k는 1 내지 3이다.
R17 및 R17'는 바람직하게는 수소이다.
A는 바람직하게는 치환되지 않거나 C1-C4알킬, 할로겐, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌 라디칼이다. Pc는 바람직하게는 구리 프탈로시아닌 라디칼이다.
디옥사진 염료 라디칼 D는, 예를 들면, 화학식 10의 라디칼이다.
[화학식 10]
위의 화학식 10에서,
A'는 치환되지 않거나 C1-C4알킬, 할로겐, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌 라디칼, 또는 C2-C6알킬렌 라디칼이고,
r, s, v 및 v'는 서로 독립적으로 각각 0 또는 1이고,
Y는 위에서 정의한 바와 같다.
바람직하게는, A'는 C2-C4알킬렌, 또는 치환되지 않거나 설포에 의해 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌이고, r은 1이고, s는 0이고, v는 1이고, v'는 0 또는 1이다.
안트라퀴논 염료 라디칼 D는 바람직하게는 화학식 11의 라디칼이다.
[화학식 11]
위의 화학식 11에서,
G는 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌 라디칼, 또는 각각 바람직하게는 2개 이상의 설포 그룹을 함유하는 사이클로헥실렌, 페닐렌메틸렌 또는 C2-C6알킬렌 라디칼이다.
바람직하게는, G는 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌 라디칼이다.
D는 특히 바람직하게는 위에서 정의한 화학식 8a, 8b, 8f, 8g, 8h, 8k, 8l, 8n, 8o, 8p 또는 8q의 모노아조 또는 디스아조 발색단 라디칼, 위에서 정의한 화학식 8r 또는 8s의 포르마잔 라디칼, 또는 위에서 정의한 화학식 11의 안트라퀴논 라디칼이다.
라디칼에 주어진 정의에 있어서, C1-C4알킬은 일반적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소-부틸, 2급 부틸 또는 3급 부틸이다. C1-C4알콕시는 일반적으로 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소-프로폭시, n-부톡시, 이소-부록시, 2급 부톡시 또는 3급 부톡시이다. 할로겐은 일반적으로, 예를 들면, 불소, 염소 또는 브롬이다. C1-C4알콕시카보닐의 예는 메톡시카보닐과 에톡시카보닐이다. C1-C4알킬티오의 예는 메틸티오와 에틸티오이다. C2-C4알카노일아미노의 예는 아세틸아미노와 프로피오닐아미노이다.
화학식 1 및 2의 화합물은 하나 이상, 바람직하게는 2개 이상, 특히 바람직하게는 2 내지 8개의 설포 그룹을 함유하고, 각각은 이의 유리산의 형태 또는 바람직하게는 이의 염으로 존재한다. 적합한 염은, 예를 들면, 알칼리 금속염, 알칼리 토금속염, 암모늄염, 유기 아민의 염 또는 이들의 혼합물이다. 언급될 수 있는 예는 나트륨염, 리튬염, 칼륨염, 암모늄염, 모노에탄올아민의 염, 디에탄올아민의 염, 트리에탄올아민의 염 또는 Na/Li 또는 Na/Li/NH4 혼합 염이다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물은 화학식 1의 염료와 화학식 2의 염료를, 예를 들면, 5:95 내지 95:5, 바람직하게는 10:90 내지 90:10, 특히 바람직하게는 40:60 내지 60:40의 중량 비로 포함한다.
특히 유용한 염료 혼합물은
D가 위에서 정의한 화학식 8a 내지 8s, 9, 10 또는 11의 발색단 라디칼이고,
B가 치환되지 않거나 하이드록실에 의해 치환되거나 -O- 또는 -NH-에 의해 차단된 직쇄 또는 측쇄 C2-C12알킬렌이고,
R1, R2 및 R3이 서로 독립적으로 각각 수소 또는 치환되지 않거나 하이드록실에 의해 치환된 C1-C4알킬이고,
X 및 X1이 서로 독립적으로 각각 불소 또는 염소이고,
V가 하이드록실, C1-C4알콕시, 모르폴리노, 아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 설포, 설페이토, 하이드록실, 카복실 또는 페닐에 의해 치환된 N-C1-C4알킬아미노 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 사이클로헥실아미노; 치환되지 않거나 페닐 잔기 또는 나프틸 잔기가 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, C2-C4알카노일아미노, 카복실, 설포 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐아미노 또는 나프틸아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 설포, 설페이토, 하이드록실, 카복실 또는 페닐에 의해 치환되고/되거나 페닐 잔기가 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, C2-C4알카노일아미노, 카복실, 설포 또는 할로겐에 의해 치환된 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노, 또는 위에서 정의한 화학식 3c' 또는 3d'의 반응성 라디칼인, 하나 이상의 화학식 1의 화합물과 하나 이상의 화학식 2의 화합물을 포함하는 염료 혼합물이다.
매우 특별히 유용한 염료 혼합물은
D가 위에서 정의한 화학식 8a, 8b, 8f, 8g, 8h, 8k, 8l, 8n, 8o, 8p, 8q, 8r, 8s 또는 11의 발색단 라디칼이고,
B가 직쇄 또는 측쇄 C2-C6알킬렌이고,
R1, R2 및 R3이 서로 독립적으로 각각 수소, 메틸, 에틸 또는 하이드록시에틸이고,
X 및 X1이 서로 독립적으로 각각 불소 또는 염소이고,
V가 아미노; 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-C1-C2알킬아미노; 설포, 메틸 및 메톡시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 치환체에 의해 치환된 페닐아미노; 1 내지 3개의 설포그룹에 의해 치환된 2-나프틸아미노, 또는 화학식 3c' 또는 3d'의 섬유 반응성 라디칼인, 하나 이상의 화학식 1의 화합물과 하나 이상의 화학식 2의 화합물을 10:90 내지 90:10의 중량 비로 포함하는 염료 혼합물이다.
화학식 1의 화합물은, 예를 들면, 유럽 공개특허공보 제0 478 503호에 공지되어 있거나 이와 유사한 방법으로 제조할 수 있다.
화학식 2의 화합물은 몇몇 경우에 있어서는 신규하다. 따라서, 본 발명은 D가 화학식 8c, 8d 또는 8f 내지 8s의 금속 유리 모노아조 발색단 라디칼 또는 디스아조 발색단 라디칼, 화학식 8r 또는 8s의 포르마잔 발색단 라디칼, 화학식 9의 프탈로시아닌 발색단 라디칼 또는 화학식 10의 디옥사진 발색단 라디칼이고, B가 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환되거나 -O-, -NH- 또는 -N(CH3)-에 의해 차단될 수 있는 직쇄 또는 측쇄 C2-C12알킬렌이고, R1, R2, R3, V, X 및 X1이 각각 위에서 바람직한 것으로 정의한 바와 같은, 위에서 정의한 화학식 2의 화합물에 관한 것이다.
화학식 2의 화합물은 그 자체가 공지된 방식으로, 예를 들면, 화학식 12의 아미노 화합물, 화학식 13의 디아민, 화학식 14의 화합물, 및 각각 화학식 15a 및 15b의 할로트리아진을 임의의 순서로 서로 반응시켜 수득할 수 있다.
[화학식 12]
[화학식 13]
[화학식 14]
[화학식 15a]
[화학식 15b]
위의 화학식 12 내지 15b에서,
B, D, R1, R2, R3, V, X 및 X1은 각각 위에서 정의한 바와 같다.
한 가지 다른 방법은 우선 화학식 12 및 14의 화합물 중의 하나를 화학식 15a 또는 15b의 할로트리아진과 축합반응시키는 단계,
수득한 생성물을 화학식 13의 디아민과 축합반응시키는 단계 및
수득한 반응 생성물을 처음에 화학식 15a 또는 15b의 할로트리아진과 축합반응시킨 화학식 12 및 14의 화합물 중의 나머지 하나와 반응시키는 단계를 포함한다.
일반적으로, 화학식 12, 13, 14, 15a 및 15b의 화합물간의 축합반응은 대개 수용액 속에서, 예를 들면 0 내지 50℃에서, 예를 들면 pH 4 내지 10에서 공지된 방법과 유사한 방법으로 수행한다. 화학식 12, 13 및 14의 화합물과 화학식 15a 및 15b의 할로트리아지닐 화합물은 공지되어 있거나 공지된 화합물과 유사하게 제조할 수 있다. 카복실 또는 카바모일 피리디늄 라디칼 X 또는 X1의 도입은 대개 상응하는 할로겐화시안의 축합반응 후에 수행된다.
각각의 경우, 하나 이상의 화학식 1의 화합물과 하나 이상의 화학식 2의 화합물을 포함하는 본 발명에 따르는 염료 혼합물은 미리 따로 제조한 개별 성분을 함께 간단히 혼합함으로써 제조할 수 있다. 그러나, 본 발명에 따르는 염료 혼합물의 바람직한 제조방법은 우선 화학식 12의 화합물 1몰 당량을 화학식 15a의 할로 트리아진 약 1몰 당량 및 화학식 13의 디아민 0.5 내지 1몰 당량과 반응시켜 화학식 1의 화합물과 화학식 16의 화합물을 포함하는 혼합물을 수득함을 포함한다.
[화학식 16]
위의 화학식 16에서,
B, D, R1, R2, R3 및 X는 각각 위에서 정의한 바와 같다.
그 다음, 화학식 16의 화합물의 함량에 상응하는 양의 화학식 14 및 15b의 화합물의 반응 생성물을 축합반응하고자 하는 반응 혼합물에 가하여 본 발명에 따르는 염료 혼합물을 제조한다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물과 본 발명에 따르는 염료는 섬유 반응성이다. 섬유 반응성 화합물은 셀룰로즈의 하이드록실 그룹, 울과 실크의 아미노, 카복실, 하이드록실 또는 티올 그룹, 또는 합성 폴리아미드의 아미노 그룹 및, 경우에 따라, 카복실 그룹과 반응시켜 화학적 공유 결합을 형성할 수 있는 화합물을 의미하는 것으로 이해할 수 있다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물과 본 발명에 따르는 염료는 하이드록실 그룹 또는 질소를 함유하는 섬유 재료와 같은 각종 재료의 염색 및 날염용으로 적합하다. 언급할 수 있는 예는 실크, 피혁, 울, 폴리아미드 섬유 및 폴리우레탄, 특히 모든 유형의 셀룰로즈 섬유 재료이다. 이러한 셀룰로즈 섬유 재료는, 예를 들면, 천연 셀룰로즈 섬유(예: 면, 아마 및 대마) 뿐만 아니라 셀룰로즈와 재생 셀룰로즈이다. 본 발명에 따르는 염료 혼합물과 본 발명에 따르는 염료는 혼방 직물(예: 폴리에스테르 섬유 또는 폴리아미드 섬유와 면과의 혼방물)에 함유된 하이드록실 그룹을 함유하는 섬유의 염색 또는 날염용으로도 적합하다. 본 발명에 따르는 염료 혼합물과 본 발명에 따르는 염료는 셀룰로즈 섬유 재료의 염색 또는 날염용으로 특히 적합하다. 이들을 천연 또는 합성 폴리아미드 섬유 재료를 염색하고 날염하는 데 사용할 수도 있다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물과 본 발명에 따르는 염료는 다양한 방식으로, 특히 염료 수용액 및 날염호(printing paste) 형태로 섬유 재료에 도포되고 섬유에 고착될 수 있다. 이들 염료 혼합물과 염료는, 천을, 염을 함유할 수 있는 염료 수용액에 침지시키고, 알칼리로 처리한 후에 또는 알칼리의 존재하에, 경우에 따라, 열의 작용하에 또는 수시간 동안 실온에서 저장하여 염료를 고착시키는 흡착 공정(exhaust method)과 패드 염색 공정(pad-dyeing process)에 의한 염색에 모두 적합하다. 염료를 고착시킨 후, 염색물 또는 날염물을 냉수와 온수로 철저히 세정하며, 경우에 따라, 분산능을 가지며 고착되지 않은 성분들의 확산을 촉진시키는 제제를 가한다.
본 발명에 따르는 염료 및 특히 본 발명에 따르는 염료 혼합물은 반응성이 높고 고착력이 우수하며 빌드-업(build-up)성이 매우 우수한 특징이 있다. 따라서, 이들 염료와 염료 혼합물은 흡착 염색법에 의해서는 낮은 염색 온도에서 사용될 수 있고, 패드-스팀 공정(pad-steam process)에서는 짧은 스티밍 시간(short steaming time)만을 필요로 한다. 고착도가 높고 고착되지 않은 성분들이 용이하게 세척에 의해 제거될 수 있으며, 흡착도와 고착도 사이의 차이가 현저하게 작으며, 즉 비누 손실량이 매우 작다. 본 발명에 따르는 염료와 특히 본 발명에 따르는 염료 혼합물은 또한 특히 면의 날염에 특히 적합할 뿐만 아니라, 질소 함유 섬유(예: 울, 실크, 또는 울 또는 실크를 함유하는 혼방 직물)의 날염에 특히 적합하다.
본 발명에 따르는 염료를 사용하여 제조한 염색물 및 날염물 및 특히 본 발명에 따르는 염료 혼합물을 사용하여 제조한 염색물 및 날염물은 산 및 알칼리 범위에서 모두 착색 강도(colour strength)가 높고 섬유-염료 결합 안정성이 높으며 광 견뢰도 특성이 우수하고 세탁 견뢰도, 수 견뢰도, 해수 견뢰도, 이염(cross-dyeing) 견뢰도 및 땀 견뢰도 등의 습윤 견뢰도 특성이 매우 우수하며 주름 견뢰도(fastness to pleating), 아이론 견뢰도 및 마찰 견뢰도가 우수하다.
다음 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이다. 다른 언급이 없는 한, 온도는 ℃이고, 부는 중량부이고 퍼센트(%)는 중량%를 기준으로 한다. 중량부와 용적부의 관계는 킬로그램(kg)과 리터(ℓ)의 관계와 동일하다.
화학식 2의 화합물의 제조
실시예 1
염화시안 11부를 습윤제와 인산수소이나트륨 5부를 첨가하면서 물 50부 속에서 약 0℃에서 교반한다. 물 400부 중의 화학식 101의 아미노아조 화합물 40부의 중성 용액을 적가하고, 이러한 동안 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 4.5로 되도록 일정하게 유지시킨다.
[화학식 101]
축합반응이 종결되면 염화시안과 화학식 101의 아미노아조 화합물의 1차 축합 생성물을 수용액(용액 1)으로서 수득한다.
염화시안 19부를 습윤제와 인산수소이나트륨 5부를 첨가하면서 물 50부 속에서 약 0℃에서 교반한다. 물 170부 중의 2-아미노벤젠설폰산 17부의 중성 용액을 적가하고, 이러한 동안 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 4,5로 되도록 유지시킨다. 수득한 염화시안과 2-아미노벤젠설폰산의 축합 생성물 용액을 pH가 6을 초과하지 않도록 물 30부 중의 에탄-1,2-디아민 6부의 중성 용액에 적가한다. 축합반응이 완료될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시키며, 반응 종결에 임박하여 반응 용액을 40℃로 가열한다. 화학식 102의 축합 생성물을 수용액(용액 2)으로서 수득한다.
[화학식 102]
위에서 제조한 용액 1을 용액 2에 가하고, pH가 8.5로 되도록 상승시킨다. 축합반응이 종결될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 투석에 의해 반응 용액을 무기염으로부터 유리시키고, 증발시킨다. 모든 견뢰도 특성이 우수하고 셀룰로즈를 담황색으로 염색하는 화학식 의 염료를 수득한다.
실시예 2
불화시안 14부를 물 400부 중의 화학식 101의 화합물 40부와 인산수소이나트륨 5부의 중성 용액에 2℃ 이하에서 적가하고, 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 축합반응이 종결되면, 불화시안과 화학식 101의 아미노아조 화합물의 1차 축합 생성물을 수용액(용액 3)으로서 수득한다.
불화시안 14부를 물 170부 중의 2-아미노벤젠설폰산 17부와 인산수소이나트륨 5부의 중성 용액에 2℃ 이하에서 적가하고, 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 물 30부 중의 에탄-1,2-디아민 6부의 중성 용액을 pH가 6을 초과하지 않도록 수득한 불화시안과 2-아미노벤젠설폰산의 축합 생성물 용액에 적가한다. 축합반응이 완료될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시키고, 반응 종결에 임박하여 반응 용액을 40℃로 가열한다. 화학식 201의 축합 생성물을 수용액(용액 4)으로서 수득한다.
[화학식 201]
위에서 제조한 용액 3을 용액 4에 가하고 pH가 8.5로 되도록 상승시킨다. 축합반응이 종결될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 투석에 의해 반응 용액을 무기염으로부터 유리시키고, 증발시킨다. 모든 견뢰도 특성이 우수하고 셀룰로즈를 담황색으로 염색하는 화학식 의 염료를 수득한다.
실시예 3
실시예 1에 따라 제조한 용액 1을 실시예 2에 따라 제조한 용액 4에 가하고, pH가 8.5로 되도록 상승시킨다. 축합반응이 종결될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 투석에 의해 반응 용액을 무기염으로부터 유리시키고, 증발시킨다. 모든 견뢰도 특성이 우수하고 셀룰로즈를 담황색으로 염색하는 화학식 의 염료를 수득한다.
실시예 4
실시예 2에 따라 제조한 용액 3을 실시예 1에 따라 제조한 용액 2에 가하고, pH가 8.5로 되도록 상승시킨다. 축합반응이 종결될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 투석에 의해 반응 용액을 무기염으로부터 유리시키고, 증발시킨다. 모든 견뢰도 특성이 우수하고 셀룰로즈를 담황색으로 염색하는 화학식 의 염료를 수득한다.
실시예 4a
불화시안 14부를 물 400부 중의 화학식 101의 화합물 40부와 인산수소이나트륨 5부의 중성 용액에 2℃ 이하에서 적가하고, 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 물 30부 중의 에탄-1,2-디아민 6부의 중성 용액을 pH가 6을 초과하지 않도록 불화시안과 화학식 101의 아미노아조 화합물의 1차 축합 생성물 용액에 적가한다. 축합반응이 완료될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 화학식 의 축합 생성물을 수용액(용액 5)으로서 수득한다.
염화시안 19부를 습윤제와 인산수소이나트륨 5부를 첨가하면서 물 50부 속에서 약 0℃에서 교반한다. 물 170부 중의 2-아미노벤젠설폰산 17부의 중성 용액을 적가하고, 이러한 동안 반응이 완료될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 4.5로 되도록 일정하게 유지시킨다(용액 6).
용액 5를 용액 6에 가하고, pH가 8.5로 되도록 상승시킨다. 축합반응이 종결될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 투석에 의해 반응 용액을 무기염으로부터 유리시키고, 증발시킨다. 실시예 4에 따르는 염료를 필적하는 수율과 품질로 수득한다.
실시예 4b 내지 4u
다음 반응성 염료를 실시예 1 내지 4a에서 언급한 방법과 유사한 방법으로 제조할 수 있다.
실시예 4b
실시예 4c
실시 예 4d
실시예 4e
실시예 4f
실시예 4g
실시예 4h
실시예 4i
실시예 4j
실시예 4k
실시예 4l
실시예 4m
실시예 4n
실시예 4o
실시예 4p
실시예 4q
실시예 4r
실시예 4s
실시예 4t
실시예 4u
염료 혼합물의 제조
실시예 5
염화시안 11부를 습윤제와 인산수소이나트륨 5부를 첨가하면서 물 50부 속에서 약 0℃에서 교반한다. 물 400부 중의 실시예 1에서 정의한 화학식 101의 아미노아조 화합물 40부의 중성 용액을 적가하고, 이러한 동안 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 4.5로 되도록 유지시킨다. 축합반응이 완료될 때, 물 30부 중의 에탄-1,2-디아민 4.5부의 중성 용액을 pH가 8.5를 초과하지 않도록 적가한다. 축합반응이 완료될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시키고, 반응 종결에 임박하여 반응 혼합물을 40℃로 가열하다. 화학식 의 축합 생성물을 수용액(용액 7)으로서 수득한다.
위에서 제조한 용액 7을 실시예 4a에 따라 제조한 용액 6 절반에 가하고 pH가 8.5로 되도록 상승시킨다. 축합반응이 종결될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 투석에 의해 반응 용액을 무기염으로부터 유리시키고, 증발시킨다. 모든 견뢰도 특성이 우수하고 셀룰로즈를 담황색으로 염색하는 화학식 및 의 화합물을 포함하는 염료 혼합물을 수득한다.
실시예 6
불화시안 7부를 2℃ 이하에서 물 85부 중의 2-아미노벤젠설폰산 8.5부와 인산수소이나트륨 2.5부의 중성 용액에 적가하고, 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 불화시안과 2-아미노벤젠설폰산의 1차 축합 생성물을 수용액(용액 8)으로서 수득한다.
실시예 5에 따라 제조한 용액 7을 용액 8에 가하고, pH가 8.5로 되도록 상승시킨다. 축합반응이 종결될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 투석에 의해 반응 용액을 무기염으로부터 유리시키고, 증발시킨다. 모든 견뢰도 특성이 우수하고 셀룰로즈를 담황색으로 염색하는 화학식 및 의 화합물을 포함하는 염료 혼합물을 수득한다.
실시예 7
불화시안 14부를 2℃ 이하에서 물 400부 중의 화학식 101의 화합물 40부와 인산수소이나트륨 5부의 중성 용액에 가하고, 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 물 30부 중의 에탄-1,2-디아민 4.5부의 중성 용액을 pH가 8.5를 초과하지 않도록 불화시안과 화학식 101의 아미노아조 화합물의 1차 축합 생성물의 용액에 적가한다. 축합반응이 완료될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다(용액 9).
위에서 수득한 용액 9를 실시예 4a에 따라 제조한 용액 6 절반에 가하고, pH가 8.5로 되도록 상승시킨다. 축합반응이 종결될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 투석에 의해 반응 용액을 무기염으로부터 유리시키고, 증발시킨다. 모든 견뢰도 특성이 우수하고 셀룰로즈를 담황색으로 염색하는 화학식 및 의 화합물을 포함하는 염료 혼합물을 수득한다.
실시예 8
실시예 7에 따라 수득한 용액 9를 실시예 6에 따르는 용액 8에 가하고, pH가 8.5로 되도록 상승시킨다. 축합반응이 종결될 때까지 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH가 일정하게 되도록 유지시킨다. 투석에 의해 반응 용액을 무기염으로부터 유리시키고, 증발시킨다. 모든 견뢰도 특성이 우수하고 셀룰로즈를 담황색으로 염색하는 화학식 및 의 화합물을 포함하는 염료 혼합물을 수득한다.
실시예 9 내지 16l
화학식 101의 화합물 대신에 표 1에 나열된 아미노 그룹을 함유하는 등량의 발색단과 상응하는 트리아진 화합물을 사용하여 실시예 5 내지 8에서 언급한 방법을 반복한다. 화학식 및 의 화합물(여기서, D는 표 1에서 정의한 바와 같다)을 포함하는 유사한 염료 혼합물을 수득한다.
[표 1]
실시예 15 및 16 내지 16g에서, 각 경우의 화살표는 할로트리아진과 축합반응을 일으키는 아미노 그룹 D-NH2를 가리킨다.
실시예 17 내지 23
에탄-1,2-디아민과 화학식 101의 화합물 대신에 표 2에 나열된 아미노 그룹을 함유하는 등량의 디아민과 발색단 및 상응하는 할로트리아진 화합물을 사용하여 실시예 5 내지 8에서 언급한 방법을 반복한다. 화학식 및 의 화합물(여기서, B, D, R2, R3 및 X는 표 2에서 정의한 바와 같다)을 포함하는 유사한 염료 혼합물을 수득한다.
[표 2]
실시예 24 내지 28
에탄-1,2-디아민, 화학식 101의 화합물 및 2-아미노벤젠설폰산 대신에 표 3에 나열된 아미노 그룹을 함유하는 등량의 아민, 디아민 및 발색단을 사용하여 실시예 5 내지 8에서 언급한 방법을 반복한다. 화학식 및 의 화합물(여기서, B, D, R2, R3 및 V는 표 3에서 정의한 바와 같다)을 포함하는 유사한 염료 혼합물을 수득한다.
[표 3]
염색법 I
실시예 2에 따라서 수득한 염료 2부를 물 400부에 용해시키고, 1ℓ당 염화나트륨 53g을 포함하는 용액을 1,500부 첨가한다. 면직물 100부를 40℃에서 당해 염욕에 도입시킨다. 45분 후, 12 당 수산화나트륨 16g과 소성된 탄산나트륨 20g을 포함하는 용액 100부를 첨가한다. 염욕의 온도는 추가로 45분 동안 40℃로 유지시킨다. 그 다음, 염색물을 세정하고, ¼ 시간 동안 비이온성 세제로 비등 소우핑한 다음, 다시 세정하고 건조시킨다.
염색법 II
실시예 2에 따라 수득한 반응성 염료 2부를 물 400부에 용해시키고, 1ℓ 당 염화나트륨 53g을 포함하는 용액 1,500부를 첨가한다. 면직물 100부를 35℃에서 당해 염욕에 도입시킨다. 20분 후, 1ℓ 당 수산화나트륨 16g과 소성된 탄산나트륨 20g을 포함하는 용액 100부를 첨가한다. 염욕의 온도를 추가로 15분 동안 35℃로 유지시킨다. 그 다음, 온도를 20분에 걸쳐서 60℃로 상승시킨다. 온도를 추가로 35분 동안 60℃에서 유지시킨다. 면직물을 세정한 후, 비이온성 세제로 ¼ 시간 동안 비등 소우핑시키고, 다시 세정하고 건조시킨다.
염색법 III
실시예 8에 따라 수득한 반응성 염료 혼합물 8부를 물 400부에 용해시키고, 1ℓ 당 황산나트륨 100g을 포함하는 용액을 1,400부 첨가한다. 면직물 100부를 25℃에서 당해 염욕에 도입시킨다. 10분 후, ℓ 당 인산삼나트륨 150g을 포함하는 용액을 200부 첨가한다. 염욕의 온도를 10분에 걸쳐서 60℃로 상승시킨다. 온도를 추가로 90분 동안 60℃로 유지시킨다. 면직물을 세정한 후, 비이온성 세제로 ¼ 시간 동안 비등 소우핑시키고, 다시 세정하고 건조시킨다.
염색법 IV
실시예 1에 따라 수득한 반응성 염료 4부를 물 50부에 용해시킨다. 1ℓ 당 수산화나트륨 5g과 소성된 탄산나트륨 20g을 포함하는 용액을 50부 첨가한다. 면직물을 중량이 70% 증가하도록 수득한 용액으로 패딩시키고, 범(beam) 상에서 권취한다. 면직물을 이러한 방식으로 실온에서 3시간 동안 저장한다. 염색물을 세정한 후, 비이온성 세제로 ¼ 시간 동안 비등 소우핑시키고, 다시 세정하고 건조시킨다.
염색법 V
실시예 5에 따라 수득한 반응성 염료 혼합물 6부를 물 50부에 용해시킨다. 1ℓ당 수산화나트륨 16g과 물 유리(38°be) 0.04ℓ를 포함하는 용액을 50부 첨가한다. 면직물을 중량이 70% 증가하도록 수득한 용액으로 패딩시키고, 빔에 권취한다. 면직물을 이러한 방식으로 실온에서 10시간 동안 저장한다. 염색물을 세정한 후, 비이온성 세제로 ¼ 시간 동안 비등 소우핑시키고, 다시 세정하고 건조시킨다.
염색법 VI
실시예 5에 따라 수득한 반응성 염료 혼합물 2부를 나트륨 m-니트로벤젠설포네이트 0.5부를 첨가하면서 물 100부에 용해시킨다. 면직물을 중량이 70% 증가하도록 수득한 용액에 침지시키고 건조시킨다. 그 다음, 면직물을 1ℓ당 수산화나트륨 4g과 염화나트륨 300g을 포함하고 20℃로 가열한 용액에 침지시키고, 중량 증가가 75%로 될 때까지 압착(squeezing)하고, 염색물을 100 내지 102℃에서 30초 동안 스티밍한 다음, 세정하고, 비이온성 세제의 0.3% 비등 용액으로 ¼ 시간 동안 소우핑한 다음, 세정하고 건조시킨다.
염색법 VII
실시예 8에 따르는 염료 혼합물 0.1부를 탈염수 200부에 용해시키고, 글라우버(Glauber) 염 0.5부, 균염제 0.1부 및 아세트산나트륨 0.5부를 가한다. 이어서, 80% 아세트산을 사용하여 혼합물의 pH가 5.5로 되도록 한다. 염욕을 50℃에서 10분 동안 가열한 후, 모직물 10부를 첨가한다. 염욕을 약 50분에 걸쳐서 100℃로 가열하고, 동일한 온도에서 60분 동안 염색을 수행한다. 염욕을 90℃로 냉각시킨 후, 염색물을 제거한다. 모직물을 온수와 냉수로 세정하고, 계속해서 회전 건조시킨다. 광 견뢰도와 습윤 견뢰도 특성이 매우 우수한 담황색 염색물을 수득한다.
날염법 I
실시예 1에 따라 수득한 반응성 염료 3부를 급속 교반하면서 5% 알긴산나트륨 증점제 50부, 물 27.8부, 우레아 20부, 나트륨 m-니트로벤젠설포네이트 1부 및 탄산수소나트륨 1.2부를 포함하는 스톡 증점제 100부 속으로 스프링클링한다. 면직물을 이렇게 하여 수득한 날염호로 날염하고, 건조시킨 다음, 수득한 날염물을 102℃에서 2분 동안 포화 스팀으로 스티밍시킨다. 날염물을 세정한 후, 경우에 따라. 비등 소우핑시키고, 다시 세정하고, 건조시킨다.
날염법 II
실시예 5에 따라서 수득한 반응성 염료 혼합물 5부를 급속 교반하면서 5% 알긴산나트륨 증점제 50부, 물 36.5부, 우레아 10부, 나트륨 m-니트로벤젠설포네이트 1부 및 탄산수소나트륨 2.5부를 포함하는 스톡 증점제 100부 속으로 스프링플링한다. 면직물을 이렇게 하여 수득한 날염호(이의 안정성은 산업상 요건을 충족시킨다)로 날염하고 건조시키며 수득한 날염물을 102℃에서 8분 동안 포화 스팀으로 스티밍시킨다. 날염물을 세정한 후, 경우에 따라, 비등 소우핑시키며, 다시 세정하고, 건조시킨다.

Claims (14)

  1. 하나 이상의 화학식 1의 화합물과 하나 이상의 화학식 2의 화합물[여기서, 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 화합물은 각각 하나 이상의 설포 그룹을 함유한다]을 포함하는 염료 혼합물.
    화학식 1
    화학식 2
    위의 화학식 1 및 2에서,
    D는 모노아조, 폴리아조, 금속 착염 아조, 안트라퀴논, 프탈로시아닌, 포르마잔 또는 디옥사진 발색단 라디칼이고, 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 화합물에서 D는 동일해야 하고,
    R1, R2 및 R3은 서로 독립적으로 각각 수소 또는 치환되지 않거나 치환된 C1-C6알킬이고,
    X는 불소, 염소, 브롬, 3-카복시피리딘-1-일 또는 3-카바모일피리딘-1-일이고,
    B는 유기 브릿지 구성원이고,
    X1은 독립적으로 X에 대하여 정의한 바와 같고,
    V는 하이드록실, C1-C4알콕시, 페녹시, C1-C4알킬티오, 모르폴리노 및 치환되거나 치환되지 않은 아미노로 이루어진 그룹으로부터 선택된 비반응성 라디칼, 또는 화학식 3a, 3b, 3c, 3d, 3e, 3f 또는 3g의 반응성 라디칼이다.
    화학식 3a
    화학식 3b
    화학식 3c
    화학식 3d
    화학식 3e
    화학식 3f
    화학식 3g
    위의 화학식 3a 내지 3g에서,
    R4는 수소, 하이드록실, 설포, 설페이토, 카복실, 시아노, 할로겐, C1-C4알콕시카보닐, 카바모일 또는 그룹 -SO2-Y이고,
    R5는 수소, 치환되지 않거나 하이드록실, 설포, 설페이토, 카복실 또는 시아노에 의해 치환된 C1-C4알킬, 또는 라디칼 이고,
    R6은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
    알크 및 알크'는 서로 독립적으로 각각 C1-C6알킬렌이고,
    아릴렌은 치환되지 않거나 설포, 카복실, 하이드록실, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 라디칼이고,
    Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-U이고,
    U는 이탈 그룹이고,
    Y1은 그룹 -CHZ-CH2Z 또는 -CZ=CH2이고,
    Z는 염소 또는 브롬이고,
    E는 라디칼 -O-또는 -NR6-이고,
    t는 0 또는 1이다.
  2. 제1항에 있어서, R1, R2 및 R3이 서로 독립적으로 각각 수소 또는 치환되지 않거나 하이드록실에 의해 치환된 C1-C4알킬인 염료 혼합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, B가 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환되거나 -O-, -NH- 또는 -N(CH3)-에 의해 차단된 직쇄 또는 측쇄 C2-C12알킬렌인 염료 혼합물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, B가 치환되지 않고 차단되지 않거나 하이드록실에 의해 치환되거나 -O-에 의해 차단된 직쇄 또는 측쇄 C2-C6알킬렌인 염료 혼합물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, B가 직쇄 또는 측쇄 C2-C6알킬렌인 염료 혼합물.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, X와 X1이 서로 독립적으로 각각 염소 또는 불소인 염료 혼합물.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, V가 하이드록실, C1-C4알콕시, 모르폴리노, 아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 설포, 설페이토, 하이드록실, 카복실 또는 페닐에 의해 치환된 N-C1-C4알킬아미노 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 사이클로헥실아미노; 치환되지 않거나 페닐 잔기 또는 나프틸 잔기가 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, C2-C4알카노일아미노, 카복실, 설포 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐아미노 또는 나프틸아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 설포, 설페이토, 하이드록실, 카복실 또는 페닐에 의해 치환되거나 페닐 잔기가 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, C2-C4알카노일아미노, 카복실, 설포 또는 할로겐에 의해 치환되거나 알킬 잔기와 페닐잔기 둘 다가 상기한 바와 같이 치환된 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노, 또는 화학식 3c' 또는 3d'의 반응성 라디칼인 염료 혼합물.
    화학식 3c'
    화학식 3d'
    위의 화학식 3c' 및 3d'에서,
    Y는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, V가 아미노; 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-C1-C2알킬아미노; 설포, 메틸 및 메톡시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 치환체에 의해 치환된 페닐아미노; 1 내지 3개의 설포 그룹에 의해 치환된 2-나프틸아미노, 또는 화학식 3c' 또는 3d'의 섬유 반응성 라디칼인 염료 혼합물.
    화학식 3c'
    화학식 3d'
    위의 화학식 3c' 및 3d'에서,
    Y는 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, D가 화학식 8a 내지 8s, 9, 10 및 11의 발색단 라디칼 중의 하나인 염료 혼합물.
    화학식 8a
    화학식 8b
    화학식 8c
    화학식 8d
    화학식 8e
    화학식 8f
    화학식 8g
    화학식 8h
    화학식 8i
    화학식 8j
    화학식 8k
    화학식 8l
    화학식 8m
    화학식 8n
    화학식 8o
    화학식 8p
    화학식 8q
    화학식 8r
    화학식 8s
    화학식 9
    화학식 10
    화학식 11
    위의 화학식 8a 내지 11에서,
    (R8)0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
    (R9)0-3는 할로겐, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, 아세틸아미노, 우레이도, 하이드록실, 카복실, 설포메틸 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
    (R9)0-4는 할로겐, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, 아세틸아미노, 우레이도, 하이드록실, 카복실, 설포메틸 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 4개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
    R10은 C1-C4알카노일, 벤조일, 또는 화학식 5g의 할로트리아지닐 라디칼이고,
    (R11)0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 또는 3개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
    R12 및 R14는 서로 독립적으로 수소, C1-C4알킬 또는 페닐이고,
    R13은 수소, 시아노, 카바모일 또는 설포메틸이고,
    (R15)0-2는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 2개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
    (R16)0-2는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 2개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
    (R8')0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실, 설포, C1-C4하이드록시알록시 및 C1-C4설페이토알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체이고,
    화학식 8r 및 8s의 벤젠 핵은 추가의 치환체를 갖지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬설포닐, 할로겐 또는 카복실에 의해 추가로 치환되고,
    Pc는 금속 프탈로시아닌 라디칼이고,
    W는 k가 1인 경우, -OH또는 -NR17R17'(여기서, R17 및 R17'는 서로 독립적으로 수소 또는 치환되지 않거나 하이드록실 또는 설포에 의해 치환된 C1-C4알킬이다)이거나, k가 2 또는 3인 경우, -OH, -NR17R17' 또는 -OH 및 -NR17R17' 둘 다일 수 있고,
    R18은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
    A및 A'는 서로 독립적으로 각각 치환되지 않거나 C1-C4알킬, 할로겐, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌 라디칼, 또는 C2-C6알킬렌 라디칼이고,
    k는 1 내지 3이고,
    r, S, v 및 v'는 서로 독립적으로 각각 0 또는 1이고,
    Y는 제1항에서 정의한 바와 같고,
    G는 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복실 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌 라디칼, 또는 사이클로헥실렌, 페닐렌메틸렌 또는 C2-C6알킬렌라디칼이다.
    화학식 5g
    위의 화학식 5g에서,
    V1, X2 및 R3'는 서로 독립적으로 각각 제1항에서 V, X 및 R3에 대하여 정의한 바와 같다.
  10. 제9항에 있어서, D가 화학식 8a, 8b, 8f, 8g, 8h, 8k, 8l, 8n, 8o, 8p, 8q, 8r, 8s 또는 11의 발색단 라디칼인 염료 혼합물.
  11. 제9항에 있어서,
    D가 화학식 8a 내지 8s, 9, 10 및 11의 발색단 라디칼 중의 하나이고,
    B가 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환되거나 -O-, -NH- 또는 -N(CH3)-에 의해 차단된 직쇄 또는 측쇄 C2-C12알킬렌이고,
    R1, R2 및 R3이 서로 독립적으로 각각 수소 또는 치환되지 않거나 하이드록실에 의해 치환된 C1-C4알킬이고,
    X 및 X1이 서로 독립적으로 각각 불소 또는 염소이고,
    V가 하이드록실, C1-C4알콕시, 모르폴리노, 아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 설포, 설페이토, 하이드록실, 카복실 또는 페닐에 의해 치환된 N-C1-C4알킬아미노 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노: 사이클로헥실아미노; 치환되지 않거나 페닐 또는 나프틸 잔기가 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, C2-C4알카노일아미노, 카복실, 설포 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐아미노 또는 나프틸아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 설포, 설페이토, 하이드록실, 카복실 또는 페닐에 의해 치환되거나 페닐 잔기가 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아미노, C2-C4알카노일아미노, 카복실, 설포 또는 할로겐에 의해 치환되거나 알킬 잔기와 페닐 잔기 둘 다가 상기한 바와 같이 치환된 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노, 또는 화학식 3c' 또는 3d'의 반응성 라디칼인 하나 이상의 화학식 1의 화합물과 하나 이상의 화학식 2의 화합물을 포함하는 염료 혼합물.
    화학식 3c'
    화학식 3d'
    위의 화학식 3c' 및 3d'에서
    Y는 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
  12. 제9항에 있어서,
    D가 화학식 8a, 8b, 8f, 8g, 8h, 8k, 8l, 8n, 8o, 8p, 8q, 8r, 8s 또는 11의 발색단 라디칼이고,
    B가 직쇄 또는 측쇄 C2-C6 알킬렌이고,
    R1, R2 및 R3이 서로 독립적으로 각각 수소, 메틸, 에틸 또는 하이드록시에틸이고,
    X 및 X1이 서로 독립적으로 각각 불소 또는 염소이고,
    V가 아미노; 치환되지 않거나 하이드록실, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-C1-C2 알킬아미노; 설포, 메틸 및 메톡시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 치환체에 의해 치환된 페닐아미노; 1 내지 3개 설포 그룹에 의해 치환된 2-나프틸아미노, 또는 화학식 3c' 또는 3d'의 섬유 반응성 라디칼인 하나 이상의 화학식 1의 화합물과 하나 이상의 화학식 2의 화합물을 10:90 내지 90:10의 중량비로 포함하는 염료 혼합물.
    화학식 3c'
    화학식 3d'
    위의 화학식 3c' 및 3d'에서,
    Y는 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
  13. 화학식 12의 화합물 1몰 당량을 화학식 15a의 할로트리아진 약 1몰 당량 및 화학식 13의 디아민 0.5 내지 1몰 당량과 반응시켜 제1항에서 정의한 화학식 1의 화합물과 화학식 16의 화합물을 포함하는 혼합물을 수득하는 단계 및
    수득된 혼합물에 함유된 화학식 16의 화합물을 화학식 14의 화합물과 화학식 15b의 화합물과의 반응 생성물과 반응시키는 단계를 포함하는, 제1항에 따르는 염료 혼합물의 제조방법.
    화학식 12
    화학식 13
    화학식 14
    화학식 15a
    화학식 15b
    화학식 16
    위의 화학식 12 내지 16에서,
    B, D, R1, R2, R3, V, X 및 X1은 각각 제1항에서 정의한 바와 같다.
  14. 제1항에 따르는 염료 혼합물을 하이드록실 그룹 또는 질소를 함유하는 섬유 재료에 도포함을 포함하는, 당해 섬유 재료의 염색 또는 날염방법.
KR1019960029268A 1995-07-18 1996-07-19 염료혼합물,이의제조방법및이를사용한염색또는날염방법 KR100429699B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030081545A KR100429698B1 (ko) 1995-07-19 2003-11-18 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용한 염색 또는 날염방법

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18195495 1995-07-18
JP95-181954 1995-07-18
CH213195 1995-07-19
CH02131/95 1995-07-19
DE19527568A DE19527568A1 (de) 1995-07-28 1995-07-28 Endothelin-Rezeptor-Antagonisten
DEDE19527568.3 1995-07-28

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030081545A Division KR100429698B1 (ko) 1995-07-19 2003-11-18 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용한 염색 또는 날염방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970006412A KR970006412A (ko) 1997-02-19
KR100429699B1 true KR100429699B1 (ko) 2005-08-31

Family

ID=66242687

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960029268A KR100429699B1 (ko) 1995-07-18 1996-07-19 염료혼합물,이의제조방법및이를사용한염색또는날염방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100429699B1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6209066B1 (en) * 1998-06-30 2001-03-27 Sun Microsystems, Inc. Method and apparatus for memory allocation in a multi-threaded virtual machine
KR101173539B1 (ko) 2006-02-15 2012-08-14 삼성전자주식회사 멀티프로세서 시스템 그리고 멀티프로세서 시스템의 초기화방법
EP3752649B1 (en) * 2018-02-16 2021-11-17 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) GmbH Process for the simultaneous tanning and dyeing of collagen containing fibrous material

Also Published As

Publication number Publication date
KR970006412A (ko) 1997-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6537332B1 (en) Reactive colorants, mixtures of reactive colorants and production and use thereof
US5817779A (en) Azo reactive dyes, their preparation and use
US5556435A (en) Mixtures fiber-reactive dyes and use thereof for dyeing fiber
KR20090083926A (ko) 반응성 염료의 혼합물 및 삼색 염색 또는 인쇄에서의 이들의 용도
KR100429698B1 (ko) 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용한 염색 또는 날염방법
JPH07150063A (ja) 反応性染料、その製造方法及びその用途
US5750662A (en) Disazo dyes containing haloacryloylamino or dihalopropionylamino and substituted triazinyl reactive groups
KR100460561B1 (ko) 반응성염료,이의제조방법및섬유재료의염색또는날염방법
KR100300504B1 (ko) 염료혼합물,이의제조방법및이의용도
EP1954765B1 (en) Mixtures of reactive dyes and their use in a method for trichromatic dyeing or printing
US5410041A (en) Bisreactive dyes having a disulfophenylene bridging member
KR100429699B1 (ko) 염료혼합물,이의제조방법및이를사용한염색또는날염방법
US6623533B2 (en) Method for printing cellulosic fiber materials without an additional fixing process step
US5837827A (en) Fibre-reactive dyes, their preparation and their use
JPH0598175A (ja) 反応染料とその製造方法およびその使用
US5772698A (en) Reactive dyes from the dioxazine series, their preparation and use
JP3804873B2 (ja) 反応性染料、それらの製造方法及びそれらの用途
WO2007017425A2 (en) Reactive dyes, their preparation and their use
EP1129141B1 (en) Mixtures of reactive dyes and their use
US6353094B1 (en) Dyes, a process for their preparation and their use
JPH09104826A (ja) 反応性染料及びその製造方法
JP3754712B2 (ja) 反応性染料、それらの製造法及びその用途
US5712376A (en) Azo reactive dyes, their preparation and use
US6451072B1 (en) Reactive dyes, process for their preparation and their use
EP1041122B1 (en) Reactive dyes, process for their preparation and their use

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
A107 Divisional application of patent
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080331

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee