KR100404578B1 - 칼라 음극선관용 새도우마스크 - Google Patents

Abstract

본 발명은 칼라 음극선관의 휘도를 향상시키기 위해 새도우마스크의 복수 슬롯들을 하나로 통합한 개방형 슬롯을 가진 새도우마스크를 개선하는 것에 관한 것이다.

본 발명은, 내면에 형광면이 형성된 패널, 상기 패널의 스커트에 결합하는 펀넬, 상기 펀넬의 네크에 삽입되어 상기 형광면을 향해 전자빔을 방출하는 전자총, 및 상기 패널 내면의 형광면에 일정 간격을 두고 배치되는 새도우마스크를 포함하는 음극선관에 있어서, 상기 새도우마스크에는 전자빔이 투과되도록 복수의 슬롯이 형성되고, 상기 각각의 슬롯은 수직 방향으로 복수의 전자빔이 투과하며; 상기 새도우마스크의 중심에 위치한 슬롯간의 수직 거리(Pv)가 새도우마스크 최외곽에 위치한 슬롯간의 거리(Pv')보다 큰 것을 특징으로 한다.

따라서, 새도우마스크 제조시 발생할 수 있는 새도우마스크의 변형 및 불량을 방지할 수 있고, 또한 기존의 새도우마스크보다 주변부의 강성이 보강되었음으로 인해 새도우마스크에 가해지는 진동에 유리하다.

Description

칼라 음극선관용 새도우마스크{A Shadow Mask For the CRT}

본 발명은 칼라 음극선관의 새도우마스크, 보다 상세하게는 칼라 음극선관의 휘도를 향상시키기 위해 새도우마스크의 복수 슬롯들을 하나로 통합한 개방형 슬롯을 가진 새도우마스크를 개선하는 것에 관한 것이다.

일반적인 칼라 음극선관의 동작 원리를 설명하면 먼저 도 1과 같은 음극선관에서 패널(1)이라고 하는 전면유리와 펀넬(2)이라고 하는 후면 유리가 결합되고 그 내부는 소정의 발광 역할을 하는 형광면(4)과 형광면을 발광시키는 전자빔(6)의 근원인 전자총과 소정의 형광체를 발광시키도록 색을 선별해주는 새도우마스크(3), 또 이를 지지하는 프레임(7)이 있다.

그리고 상기 프레임 어셈블리를 패널에 결합되도록 해주는 스프링(8)과 음극선관이 동작 중 외부 지자기에 영향을 적게 받도록 차폐 역할을 해주는 인너 쉴드(9)가 프레임에 고정된 체로 고 진공으로 밀폐되어 있다.

상술한 구조의 음극선관의 동작 원리를 설명하면, 펀넬(2)의 네크(Neck)에 내장된 전자총에서 전자빔(6)이 음극선관에 인가된 양극전압에 의해서 패널(1) 내면에 형성되어 있는 형광면(4)을 타격 하게 되는데 이때 이 전자빔은 형광면에 도달하기 전 편향요크(5)에 의해서 상하, 좌우로 편향되어 화면을 이루게 된다.

그리고 전기 전자빔(6)이 정확히 소정의 형광체를 타격 하도록 그 진행 궤도를 수정해 주는 2,4,6극의 마그네트(Magnet)(10)가 있어 색순도 불량을 방지해 준다.

그리고 이러한 음극선관은 고진공으로 되어 있기 때문에 외부의 충격에 쉽게 폭죽이 일어날 수 있으므로 이것을 방지하기 위하여 패널(1)이 대기압에 견딜 수 있는 구조강도를 갖도록 설계를 한다. 또한 패널(1)의 스커트(Skirt)에 보강 밴드(11)를 장착함으로써 고진공 상태의 음극선관이 받는 응력을 분산, 내 충격 성능을 확보하고 있다.

이러한 종래 기술에 있어서 인장형 새도우마스크를 채용한 칼라 음극선관에서는 품질 특성 중 가장 중요한 특성 중 하나인 휘도를 향상시키기 위해서는 새도우마스크를 통과하는 전자빔의 투과율 높여야 한다. 투과율을 높이기 위해서는 전자빔이 통과하는 면적을 크게 하기 위하여 슬롯의 폭을 크게 하거나, 슬롯의 길이를 길게 하여 면적을 크게 할 수 있다.

슬롯의 폭을 크게 할 때는 전자빔이 슬롯을 통과하여 스크린에 형성된 형광체를 타격할 때 전자빔의 크기가 X방향으로 커지기 때문에 외부의 요인이나 칼라 음극선관의 특성으로 인해 전자빔의 궤도가 변화하여 전자빔이 정확하게 형광체를 타격하지 못할 때 발생하는 랜딩 오차에 대한 여유도가 줄어들기 때문에 이 여유도를 고려하여 슬롯의 폭을 조정하고, 슬롯의 길이를 크게 할 때는 시각적인 요인에의해 일정한 간격으로 구성되어 있는 브리지가 사용자에 의해 관찰되는 브리지 그림자와 수직 방향으로 슬롯을 구분하는 브리지와 편향요크의 주사 간격과의 조합에 의해 나타나는 빛의 간섭 무늬인 모아레를 고려해서 슬롯의 길이를 크게 하여 전자빔 투과율을 조정한다.

또 열팽창 특성을 향상시키기 위하여 슬롯간 수직 거리를 기존의 수직거리에 비해 적게는 2배에서 크게는 하나의 열에 슬롯을 구분하여 주는 브리지가 하나도 없는 매우 긴 슬롯간 수직거리를 형성하여 열팽창 특성을 향상시킨다.

그러나, 이러한 종래 인장형 새도우마스크를 채용한 칼라 음극선관에서 휘도 향상과 열팽창 특성 향상, 모아레 대응을 위하여 개방형을 브리지를 채용한 새도우마스크에 있어서 슬롯간 수직거리가 종래의 새도우마스크에 비하여 매우 큼으로 인하여 새도우마스크 제조 시 여러 가지 문제점이 발생하게 된다. 그 문제점은 상기의 인장형 새도우마스크의 재료 선택 시 가장 중요한 특성 중 하나인 크리프(Creep) 특성 향상을 위하여 도 2와 같이 슬롯의 방향을 압연 직각 방향으로 투입한다. 그 이유는 압연방향은 금속의 압연시 금속의 내부와 표면에 압연에 의한 전위가 발생하게 되는데 그 전위면은 압연 방향으로 형성된다.

이 전위면은 금속 원자의 배열상 전위면의 직각 방향으로는 기계적 성질 즉, 인장강도와 변형율이 작은 반면 전위면 방향으로는 전위면을 형성하고 있는 원자간의 결합구조에 의해 슬립이 발생하여 인장 강도와 변형율이 압연 직각 방향에 비해 상대적으로 크다.

그러므로 새도우마스크 제조시 슬롯의 형성 방향은 압연 직각방향이 더 적합하다.

하지만 압연 직각 방향으로 색 선별전극 제조 시 발생하는 문제점으로는 개방형 브리지를 사용하여 슬롯간 수직거리를 크게 함으로서 슬롯이 형성되어 있는 유효면과 그렇지 않은 부분인 비 유효면의 물성치 차가 크게 된다. 이로 인하여 새도우마스크 제조시에는 금속의 압연방향으로 반송을 위한 장력이 가해지는데 크리프 특성 개선을 위하여 압연 직각방향으로 슬롯을 형성하면 반송시 브리지 개수가 기존의 새도우마스크보다 현저히 작기 때문에 물성치 차가 가장 크게 나는 유효면과 비 유효면의 경계를 이루는 브리지가 가장 많은 힘을 받아 파단되는 현상이 나타난다.

그리고 브리지의 개수가 작음에 따라 새도우마스크 전면에 강도가 기존에 비하여 약해짐에 따라 새도우마스크 전면에 반송시 가해지는 하중에 의해 절곡되는 부분과 주름이 다량 발생하게 된다.

따라서, 본 발명의 목적은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 인장형 새도우마스크를 채용한 칼라 음극선관의 새도우마스크 구조로서 열팽창 특성(Doming)을 향상시키고, 휘도를 향상시키기 위하여 개방형 브리지를 채용한 새도우마스크 제조시 슬롯간 수직 거리가 큼으로서 문제가 되는 새도우마스크의 변형, 치수 불균형을 해결하는데 있다.

도 1은 일반적인 칼라 음극선관의 단면도,

도 2는 새도우마스크의 제조 시 압연방향과 슬롯 방향을 나타내는 도,

도 3은 새도우마스크의 제조 시 새도우마스크에 작용하는 장력들을 나타낸 도,

도 4는 슬롯간 수직 거리와 X방향 탄성계수 관계를 나타낸 그래프,

도 5는 본 발명의 일시예에 따른 새도우마스크의 슬롯간 수직 방향 거리의 변화를 나타낸 그래프,

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 새도우마스크 슬롯간 수평방향 브리지 폭의 변화를 나타낸 그래프,

도 7은 도 6에서 적용된 슬롯간 수직방향 거리를 나타낸 도, 및

도 8은 도 7에서 적용된 슬롯간 수평방향 브리지 폭을 나타낸 도이다.

***도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명***

1: 패널 2: 펀넬

3: 새도우마스크 4: 형광면

5: 편향요크 6: 전자빔

7: 프레임 8: 스프링

9: 인너쉴드 10: 마그네트

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기술적 수단은, 내면에 형광면이 형성된 패널, 상기 패널의 스커트에 결합하는 펀넬, 상기 펀넬의 네크에 삽입되어 상기 형광면을 향해 전자빔을 방출하는 전자총, 및 상기 패널 내면의 형광면에 일정 간격을 두고 배치되는 새도우마스크를 포함하는 음극선관에 있어서, 상기 새도우마스크에는 전자빔이 투과되도록 복수의 슬롯이 형성되고, 상기 각각의 슬롯은 수직 방향으로 복수의 전자빔이 투과하며; 상기 새도우마스크의 중심에 위치한 슬롯간의 수직 거리(Pv)가 새도우마스크 최외곽에 위치한 슬롯간의 거리(Pv')보다 큰 것을 특징으로 한다.

또한, 슬롯간의 수직 거리(Pv)가 새도우마스크 중심에서 외곽으로 갈수록 점차 작아지거나, 상기 새도우마스크의 중심에서의 슬롯간 수직 거리를 Pv, 새도우마스 주변에서의 슬롯간 수직 거리를 Pv'라 할 때, 다음 식, 1/9 ≤Pv'/Pv ≤1/3을 만족하도록 하면 바람직하다.

상기 새도우마스크의 중심과 주변의 중앙부분에 위치한 슬롯의 수직거리를 Pv"라 할 때, 다음 식, 1/3 ≤Pv"/Pv ≤1을 만족하도록 하면 바람직하다.

또한, 상기 새도우마스크의 중심에 위치한 슬롯간의 브리지 폭(Bw)이 새도우마스크 주변에 위치한 슬롯간의 브리지 폭거리(Bw')보다 작게 하면 더욱 바람직하다.

본 발명의 다른 기술적 해결 수단은, 내면에 형광면이 형성된 패널, 상기 패널의 스커트에 결합하는 펀넬, 상기 펀넬의 네크에 삽입되어 상기 형광면을 향해전자빔을 방출하는 전자총, 및 상기 패널 내면의 형광면에 일정 간격을 두고 배치되는 새도우마스크를 포함하는 음극선관에 있어서, 상기 새도우마스크의 중심에 위치한 슬롯간의 브리지 폭(Bw)이 새도우마스크 주변에 위치한 슬롯간의 브리지 폭거리(Bw')보다 작게 하는 것을 특징으로 한다.

상기 브리지의 폭(Bw)이 새도우마스크 중심에서 외곽으로 갈수록 점차 커지게 하거나, 새도우마스크 중심에서의 슬롯간 브리지 폭을 Bw, 최외곽에서의 브리지 폭을 Bw'라 할 때, 다음 식, 1 < Bw'/Bw ≤2를 만족하게 하면 좋다.

또한, 상기 새도우마스 중심에서의 슬롯간 브리지 폭을 Bw, 상기 새도우마스크의 중심과 최외각의 중간 지점에 위치한 슬롯간 브리지 폭을 Bw"라 할 때, 다음 식, 1 < Bw"/Bw ≤2를 만족하게 하면 좋다.

이하에서는 상기의 목적을 달성하는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.

설명의 편의를 위해 종래와 동일한 부분, 부재에 대해서는 동일 부호를 부여하여 설명한다.

본 발명은 전기에 기술된 새도우마스크의 제조시 발생되는 문제점을 해결하기 위하여 새도우마스크 설계적인 방향에서 접근하여 해결한다.

현재 음극선관은 인장형 새도우마스크를 채용함에 의한 새도우마스크의 두께가 얇아지고, 새도우마스크의 투과율을 높여 음극선관의 밝기를 향상시키고자 브리지의 폭을 좁게 하고 슬롯의 폭을 넓게 한다.

또 새도우마스크는 복수의 슬롯들을 하나의 슬롯으로 통합하고, 그 하나의슬롯에 수직 방향으로 복수의 전자빔이 투과하도록 한 개방형 브리지를 채용하여 투과율을 더 향상시킨다.

그러므로 새도우마스크 변형의 주된 요인은 브리지의 폭이 좁아지고 개수가 줄어듬에 의한 강도의 저하에 기인한다. 새도우마스크의 유효면과 비유효면의 물성치 차에 의한 최외열 브리지의 응력집중에 의한 브리지의 파단도 위의 이유로 설명될 수 있다. 이와 같은 새도우마스크 강도의 저하를 막기 위해 브리지 폭을 넓힌다. 넓혀지는 브리지의 폭은 단지 강도만을 고려하여 넓히는 것이 아니라 넓혀짐에 따라 전자빔의 투과량을 감소시키므로 나빠지는 휘도, 개방형 브리지의 폭과 일반 브리지의 폭 차이에 의한 브리지 그림자를 고려하여 최적의 확장 폭을 결정해야 한다. 그리고, 또 한가지 고려해야 하는 점은 새도우마스크 제조 시 최대 하중을 받는 새도우마스크의 위치이다. 그 이유는 위의 브리지의 폭을 넓혀 새도우마스크의 강도를 향상하고자 하는 방법을 제안하고 있는데, 새도우마스크 전면에 브리지의 폭을 넓혀 투과율을 나빠지게 하면 개방형 브리지를 사용하는 이점이 줄어들게 되고, 강도에서 문제가 없는 부분을 강화시킬 필요는 없는 것이다.

그리고 새도우마스크의 제조 방법은 하나의 철판에 새도우마스크의 형상을 식각(Etching)하는 방법으로 제조한다. 새도우마스크의 절단 또한 별도의 절단기를 사용하지 않고, 식각(Etching)법으로 절단한다. 그러나 새도우마스크를 절단하는 공정은 최종 공정으로 이루어져 있고 그 이외의 공정에선 도 3에 나타낸 바와 같이 하나의 원재 철판은 두루마리 형태로 계속 감기면서 이송하게 되어 있다. 이런 공정 조건에 따라 새도우마스크의 형태가 식각된 철판 두루마리는 이송을 위하여 일정한 장력이 걸리게 된다. 새도우마스크의 잔류 응력을 제거하기 위하여 균등화(Leveling)공정을 거친다. 이 공정을 거치게 되면 새도우마스크의 각 부분은 압축과 인장하중을 지속적으로 받게 된다. 이 공정을 거치게 되면 새도우마스크 자체가 가지고 있던 잔류 응력은 제거되지만 브리지가 형성되는 곳의 강도는 약해지게 된다. 그리고 철판 두루마리 이송 시 계속 일정하게 이송되지 않고 약간의 유동과 미세한 변위를 가지고 좌우로 움직이면서 상/하 방향으로 이송된다.

이렇게 이송되면 앞의 균등화 공정과 마찬가지로 철판 두루마리의 상/하부에 강한 인장하중과 압축하중을 받게 된다. 이송 시에도 마찬가지로 강한 인장/압축하중으로 인하여 철판 두루마리의 측면 부분이 다른 부분에 비하여 상대적으로 약하게 된다.

그러므로 철판 두루마리에 식각(Etching)공정이 다 끝나고, 전자빔 투과공이 형성되면 철판 두리마리의 측면부분의 강도가 약함으로 인해 변형에 더욱 더 취약하게 된다.

상기와 같은 변형이 심하게 발생하게되면 심지어 브리지가 절단되는 불량이 발생하게 된다.

그리고 철판 두루마리에 새도우마스크를 식각하는 방법으로는 전자빔 투과공의 형상이 슬롯 형상일 경우 슬롯의 길이 방향이 철판 두루마리의 진행방향과 일치할 경우 압연방향이라고 하고, 진행방향에 직각으로 형성될 경우 압연직각방향이라고 칭한다.

일반적인 인장형 새도우마스크의 경우 일정한 하중을 받고 있는 상태에서 열공정에 투입되면 하중을 받고 있던 새도우마스크가 영구 변형하게 되는 크리프(Creep)현상에 의해 일반적으로 압연직각방향으로 새도우마스크를 제조하게 된다.

압연직각방향으로 새도우마스크를 제조하게 되면 이송을 위해 상/하로 가해지는 하중에 의해 새도우마스크의 측면(주변부)부분은 더 변형에 취약하게 된다.

그러므로 본 발명은 인장형 새도우마스크에서 주변부의 변형을 방지하고자 하는 목적으로 가장 취약한 브리지 부분을 보강하여 변형을 방지하는 것이다.

도 7과 같이 개방형 브리지를 채용한 새도우마스크에서 슬롯간의 수직거리(Pv, Pv', Pv")를 다른 부분 보다 줄여서 보강하는 방법, 즉 중심에 위치한 슬롯간 수직 거리 보다 최외곽 슬롯간 수직거리(Pv')를 줄이면, 주변 측에 슬롯간 수직 브리지 수가 더 많아지도록 하는 것이다.

도 8에 나타낸 바와 같이 중심에 위치한 슬롯간 브리지의 폭(Bw)을 최외곽측 슬롯간 브리지 폭(Bw')을 더 넓혀서 보강하는 방법 이 있다.

다른 실시 예로 새도우마스크의 슬롯간의 수직거리를 줄이는 방법으로 주변부의 슬롯간 수직거리를 다른 곳에 비하여 갑자기 줄이면 줄인 곳과 기존의 슬롯간 수직거리를 줄이지 않은 곳과의 물성치가 급격하게 변하여 보강한 부분에서 주름이 발생할 수 있다.

그러므로 위의 간 슬롯간의 수직거리에서 대한 X방향 탄성계수를 계산하면 도 4에 나타낸 바와 같다.

도 4는 슬롯간 슬롯을 연결하여 주는 브리지는 일정한 값을 유지시켜 주고단지 긴 슬롯간 수직거리만을 바꿈으로써 계산한 탄성계수다.

도 4에서 알 수 있듯이 슬롯간 수직거리가 6mm∼18mm는 탄성계수의 차이가 거의 없음을 알 수 있고, 0.5mm∼2mm의 구간에서 탄성계수가 가장 급격하게 변함을 알 수 있다.

그러므로 새도우마스크 중심에서 긴 슬롯간 수직거리가 6mm∼18mm 구간에 존재할 경우 새도우마스크의 주변부는 탄성계수가 급격하게 차이가 나게 되면 상기에 언급한 변형이 발생할 위험이 있으므로 급격하게 변하지 않는 구간을 택하여 단계적으로 수직거리를 변화 시켜야 한다. 그러므로 변화하는 수직거리는 1/9∼1/3 의 범위에 존재해야 한다.

그 이유는 1/9보다 작으면 위의 그래프에서 표시된 최대값보다 큰 값을 가지기 때문에 더 심한 변형을 초래할 수 있고, 1/3보다 크면 탄성계수 차이가 작아서 브리지 부분의 강도 향상의 효과를 볼 수 없기 때문이다.

도 5에 나타낸 바와 같이, 최외각 측의 슬롯간 수직 거리를 줄이는 방법으로는 중심에서 일정부분까지는 중심과 동일하게 유지하다가 포물선을 그리며 감소시키는 것(제1안), 중심에서 일정부분까지는 중심과 동일하게 유지하다가 선형적으로 감소시키는 것(제2안), 및 중심부터 점차 조금씩 감소시키는 것(제3안)이 있다.

상기와 같은 방법으로 새도우마스크를 제조하면 가장 취약한 부분인 주변부를 보강함으로써 양호한 품질의 새도우마스크를 얻을 수 있다.

도 8에 나타낸 바와 같이 브리지 폭을 키워서 직접적인 강도향상의 효과를 낼 수 있는데, 도 6에 나타낸 바와 같이, 브리지의 폭을 키우는 방법은 중심부터주변으로 갈수록 선형적으로 증가시키는 것(제1안) 및 중심부터 주변으로 갈수록 포물선을 그리며 증가시키는 것(제2안)이 있다.

브리지 폭을 키우는 양은 새도우마스크 중앙부 브리지 폭의 2배를 넘지 않도록 해야 한다.

그 이유는 브리지의 폭을 2배 이상으로 키우면 새도우마스크 슬롯을 통과하는 전자빔의 양이 중앙부와 현저하게 차이가 나서 밝기의 차이가 심해지게 된다.

중앙부와 주변부의 밝기 차이가 심하게 나게 되면 음극선관 품질에 치명적인 영향을 줄 수 있으므로, 브리지의 폭을 키우는 것은 중앙부 브리지 폭 대비 2배 이하로 한다.

이상과 같이, 슬롯간 수직 거리를 작게 하거나 브리지 폭을 넓게 하는 방법모두를 이용하여 마스크 주변부의 강도를 향상시키는 것도 가능하다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 본 발명은 칼라 음극선관에서 중요한 특성인 휘도를 증가시키기 위하여 개방형 브리지를 채용한 새도우마스크 제조시 발생할 수 있는 새도우마스크의 변형 및 불량을 방지할 수 있고, 또한 본 발명에 의하여 얻어진 새도우마스크는 기존의 새도우마스크보다 주변부의 강성이 보강되었음으로 인해 새도우마스크에 가해지는 진동에 유리하다.

지금까지는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 상세히 설명하고 또 도시하였지만 이에 한정하지 않고 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양하게변경 사용이 가능하다.

그러나, 그와 같은 단순한 변경은 특허청구의 범위에 기재된 본 발명의 권리범위에 속함이 명백하다.

Claims (9)

1. 내면에 형광면이 형성된 패널, 상기 패널의 스커트에 결합하는 펀넬, 상기 펀넬의 네크에 삽입되어 상기 형광면을 향해 전자빔을 방출하는 전자총, 및 상기 패널 내면의 형광면에 일정 간격을 두고 배치되는 인장형 마스크를 포함하는 음극선관에 있어서,

   상기 인장형 마스크에는 전자빔이 투과되도록 복수의 슬롯이 형성되고, 상기 각각의 슬롯은 수직 방향으로 복수의 전자빔이 투과하며,

   상기 인장형 마스크의 중심에서의 슬롯간 수직 거리를 Pv, 주변에서의 슬롯간 수직 거리를 Pv' 및 중심과 주변의 중앙부분에 위치한 슬롯의 수직거리를 Pv"라 할 때, 다음 식

   1/9 ≤Pv'/Pv ≤1/3 및

   1/3 ≤Pv"/Pv ≤1을 만족하며 상기 인장형 마스크 중심에서 외곽으로 갈수록 점차 작아지는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.
2. 제 1 항에 있어서,

   슬롯간의 수직 거리가 상기 인장형 마스크 중심에서 외곽으로 갈수록 선형(linear)적으로 점차 작아지는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.
3. 제 1항에 있어서,

   슬롯간의 수직 거리의 작아지는 비율은, 상기 인장형 마스크 중심에서 일정 부분 까지는 중심과 동일하게 유지되다가 외곽으로 갈수록 포물선을 그리며 급격하게 작아지는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.
4. 삭제
5. 제 1항에 있어서,

   상기 인장형 마스크의 중심에 위치한 슬롯간의 브리지 폭(Bw)이 상기 인장형 마스크 주변에 위치한 슬롯간의 브리지 폭거리(Bw')보다 작은 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.
6. 내면에 형광면이 형성된 패널, 상기 패널의 스커트에 결합하는 펀넬, 상기 펀넬의 네크에 삽입되어 상기 형광면을 향해 전자빔을 방출하는 전자총, 및 상기 패널 내면의 형광면에 일정 간격을 두고 배치되는 인장형 마스크를 포함하는 음극선관에 있어서,

   상기 인장형 마스크 중심에서의 슬롯간 브리지 폭을 Bw, 최외곽에서의 브리지 폭을 Bw' 및 중심과 최외각의 중간 지점에 위치한 슬롯간 브리지 폭을 Bw"라 할 때, 다음 식

   1 < Bw'/Bw ≤2 및

   1 < Bw"/Bw ≤2를 만족하는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.
7. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,

   상기 브리지의 폭(Bw)이 새도우마스크 중심에서 외곽으로 갈수록 선형(linear)적으로 점차 커지는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.
8. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,

   상기 브리지의 폭(Bw)이 상기 인장형 마스크 중심에서 일정 부분 까지는 중심과 동일하게 유지되다가 외곽으로 갈수록 포물선을 그리며 급격하게 커지는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.
9. 삭제