KR100396626B1 - CRT of Transposed scan - Google Patents
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Abstract
본 발명의 구성은, R(Red), G(Green), B(Blue) 3색의 전자빔들을 발생하는 3개의 캐소드가 수직 인라인으로 배열된 전자총, 상기 전자총에서 방출된 전자빔이 형광면에 부딪혀 색을 재현하는 스크린, 단축방향으로 전자빔을 편향시키기 위한 핀쿠션자계를 형성하는 수직코일과 장축방향으로 전자빔을 편향시키기 위한 바렐형 편향자계를 형성하는 수평코일로 구성된 편향요크, 및 상기 전자빔이 통과하는 장축의 긴홀들이 형성된 새도우마스크를 포함하는 상하주사형 음극선관에 있어서, 상기 새도우마스크의 수직피치(Ph')가 중심에서 장축의 끝단부로 갈수록 감소하고, 상기 새도우마스크의 수직피치(Ph')가 중심에서 단축의 끝단부로 갈수록 증가하는 것을 특징으로 한다.According to the configuration of the present invention, an electron gun in which three cathodes that generate three colors of R (Red), G (Green), and B (Blue) electron beams are arranged in a vertical inline, and the electron beam emitted from the electron gun strike a fluorescent surface A deflection yoke consisting of a reproducing screen, a vertical coil forming a pincushion magnetic field for deflecting the electron beam in the short axis direction, and a horizontal coil forming a barrel-shaped deflection magnetic field for deflecting the electron beam in the long axis direction, and a long axis through which the electron beam passes. In the vertical scanning cathode ray tube including a shadow mask having a long hole, the vertical pitch (Ph ') of the shadow mask decreases from the center to the end of the long axis, the vertical pitch (Ph') of the shadow mask at the center It is characterized by an increase toward the end of the short axis.
따라서, 본 발명에 의하면, 상하주사형 음극선관에 있어서 새도우마스크의 구조적 강도를 향상시켜 내충격성 향상 및 하울링 현상 방지 효과를 얻을 수 있다.Therefore, according to the present invention, it is possible to improve the structural strength of the shadow mask in the vertical scanning cathode ray tube, thereby improving the impact resistance and preventing the howling phenomenon.
Description
본 발명은 상하주사형 음극선관에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 새도우마스크의 구조적 강도를 향상시키는 상하주사형 음극선관에 관한 것이다.The present invention relates to a vertical scan type cathode ray tube, and more particularly, to a vertical scan type cathode ray tube for improving the structural strength of a shadow mask.
도 1은 상하주사형 음극선관의 수직단면도이다.1 is a vertical sectional view of a vertical scanning cathode ray tube.
도 1에서와 같이, 상하주사형 음극선관은 내면에 형광체(3)가 도포되어 있는 패널(1)과, R(Red), G(Green), B(Blue) 3색의 전자빔들(8,9,10)을 발생하는 3개의 캐소드가 수직 인라인으로 배열된 전자총(4)과, 상기 전자총에서 방출된 전자빔이 형광면에 부딪혀 색을 재현하는 스크린(2)과, 단축방향으로 전자빔을 편향시키기 위한 핀쿠션자계를 형성하는 수직코일과 장축방향으로 전자빔을 편향시키기 위한 바렐형 편향자계를 형성하는 수평코일로 구성된 편향요크(5), 및 상기 전자빔이 통과하는 장축의 긴홀들(7)이 형성된 새도우마스크(6)등으로 구성되어있다.As shown in FIG. 1, the vertical scanning cathode ray tube includes a panel 1 having a phosphor 3 coated on its inner surface, and electron beams 8 of three colors R (Red), G (Green), and B (Blue). An electron gun 4 in which three cathodes 9 and 10 are arranged in a vertical inline, a screen 2 in which the electron beam emitted from the electron gun hits a fluorescent surface to reproduce color, and for deflecting the electron beam in a uniaxial direction A shadow mask having a deflection yoke (5) composed of a vertical coil forming a pincushion magnetic field, a horizontal coil forming a barrel-shaped deflection magnetic field for deflecting the electron beam in the long axis direction, and long holes (7) of the long axis through which the electron beam passes. (6) and so on.
이와 같이 구성된 도 1의 음극선관은 전자총(4)의 히터에 전원이 인가되어 음극으로부터 전자빔이 발생된 R,G,B 3색의 전자빔이 다수개의 전극을 차례로 통과하면서 가속 및 집속된 다음, 편향요크(5)의 자계에 의해 수직 및 수평방향으로 편향된 상태로 스크린(2)을 향해 주사된다.The cathode ray tube of FIG. 1 configured as described above is accelerated and focused while the electron beams of three colors R, G, and B, in which an electron beam is generated from the cathode, are sequentially passed through a plurality of electrodes, and then deflected. Scanned toward the screen 2 in a state deflected in the vertical and horizontal directions by the magnetic field of the yoke 5.
상기와 같이 주사된 전자빔은 색선별 역할을 하는 새도우마스크(6)의 장축으로 긴 전자빔 통과홀(7)을 통과하여 패널(1)의 내면에 도포된 형광체(3)를 발광시키게 되므로 화상이 재현된다.The electron beam scanned as described above passes through the long electron beam passing hole 7 at the long axis of the shadow mask 6, which serves as color screening, and emits the phosphor 3 coated on the inner surface of the panel 1, thereby reproducing an image. do.
도 2는 그루핑율(Grouping ratio)에 관한 내용을 도식적으로 표현하고 있다2 schematically illustrates the contents of grouping ratios.
도 1에 도시된 패널(1)의 내면에 도포된 R,G,B 형광체(3)간의 간격의 일정성을 스크린 그루핑율(Screen Grouping Ratio)이라고 하는데, 도 2에서와 같이, R형광체와 B형광체의 거리와 R형광체와 R형광체간의 거리가 2/3일 때 그루핑율 (Grouping Ratio)은 "1"이 되고, "1"보다 크면 디그루핑(Degrouping), "1"보다 작으면 그루핑(Grouping)이라고 일컫는다.The uniformity of the interval between the R, G, and B phosphors 3 coated on the inner surface of the panel 1 shown in FIG. 1 is called a screen grouping ratio. As shown in FIG. 2, the R phosphor and B When the distance of the phosphor and the distance between the R phosphor and the R phosphor are 2/3, the grouping ratio becomes "1". If the value is larger than "1", the grouping ratio is degrouping, and the grouping ratio is less than "1". It is called).
도 3에서와 같이, 빔그루핑(Beam Grouping)은 패널(1)의 내면과 새도우마스크(6)간의 거리 Qm, 편향중심에서 R,G,B 3색의 전자빔간의 거리에 의해 결정되는 S, 새도우마스크(6)에 형성된 장축으로 긴 전자빔 통과홀(7)의 수평피치 Ph, 편향요크의 편향중심에서 패널(1) 내면까지의 거리 L에 의해 계산되는데, 상기를 수식으로 나타내면 다음과 같다.As shown in FIG. 3, beam grouping is a distance Qm between the inner surface of the panel 1 and the shadow mask 6, and S, shadow determined by the distance between three electron beams of R, G, and B colors at the deflection center. It is calculated by the horizontal pitch Ph of the long electron beam passing hole 7 and the distance L from the deflection center of the deflection yoke to the inner surface of the panel 1 with the long axis formed in the mask 6.
GR(Grouping ratio)= (3*S*Qm)/(Ph*L)GR (Grouping ratio) = (3 * S * Qm) / (Ph * L)
도 4와 같이, 종래 단축으로 긴 전자빔 통과홀(7')을 가지는 칼라음극선관용 새도우마스크(6)는 상기 새도우마스크(6)의 중심에서 장축(x축)의 끝단부로 갈수록 수평피치(ph)가 증가하고, 상기 중심에서 단축(y축)의 끝단부로는 유니피치(uni-pitch)인 수평피치(Ph)를 사용하였다.As shown in FIG. 4, the shadow mask 6 for a color cathode ray tube having a long electron beam passing hole 7 ′ in a conventional short axis is horizontally pitched from the center of the shadow mask 6 toward the end of the long axis (x axis). And the horizontal pitch Ph, which is a uni-pitch, was used as the end of the short axis (y-axis) at the center.
그러나, 도 1과 같은 상하주사형 음극선관에서는 도 5와 같이,새도우마스크(6)의 중심에서 장축(x축)의 끝단부로는 유니피치(uni-pitch)인 수직피치(Ph')가 적용되고, 상기 새도우마스크의 중심에서 단축(y축)의 끝단부로는 수직피치(Ph')가 증가한다.However, in the vertical scanning cathode ray tube as shown in FIG. 1, as shown in FIG. 5, a vertical pitch Ph ′, which is a uni-pitch, is applied to the end of the long axis (x-axis) at the center of the shadow mask 6. The vertical pitch Ph ′ increases from the center of the shadow mask to the end of the short axis (y-axis).
상기 새도우마스크(6)의 단축으로의 거리를 'y'라하고, 새도우마스크(6)의 장축으로 긴홀들(7)의 열수를 'n'이라 할 때, 상기 새도우마스크의 중심에서 단축(y축)의 끝단부로 갈수록 증가하는 수직피치(Ph')의 전개식은 다음 수식과 같다.When the distance to the short axis of the shadow mask 6 is referred to as 'y' and the number of columns of the long holes 7 as the long axis of the shadow mask 6 to be 'n', the short axis at the center of the shadow mask (y The expansion formula of vertical pitch (Ph ') that increases toward the end of the axis) is shown in the following equation.
f(y,n) =(1 + yn)f (y, n) = (1 + y n )
도 6에서, 상기와 같은 새도우마스크(6)는 상기 새도우마스크(6)의 중심(d)과 장축(x축)의 끝단부 중심과의 높이(c)가 17.50mm가 되고, 상기 새도우마스크(6)의 중심(d)과 장축(x축) 끝단부의 코너부와의 높이(a)가 17.18mm이 되어 0.3mm의 근소의 차이가 나는 곡률을 가지는 형태의 새도우마스크(6)가 된다.In FIG. 6, the shadow mask 6 has a height c between the center d of the shadow mask 6 and the center of the end of the long axis (x-axis) of 17.50 mm, and the shadow mask ( 6) The height a between the center d of the end of the long axis and the corner of the long axis (x-axis) becomes 17.18 mm to form a shadow mask 6 having a curvature with a slight difference of 0.3 mm.
그러므로, 상기와 같은 곡률을 가지는 새도우마스크는 구조적인 문제점으로 강성이 약해져 외부충격에 의한 변경 및 하울링현상이 발생하는 문제점을 가지고 있다.Therefore, the shadow mask having the curvature as described above has a problem in that the rigidity is weak due to structural problems and the change and howling phenomenon due to external impact occurs.
따라서, 본 발명의 목적은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 새도우마스크의 구조적 강도를 향상시켜 외부충격에 의한 새도우마스크의 문제점을 해결하는데 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the conventional problem, and to solve the problem of the shadow mask by external impact by improving the structural strength of the shadow mask.
도 1은 상하주사형 음극선관의 수직단면도.1 is a vertical cross-sectional view of the vertical scanning cathode ray tube.
도 2는 그루핑율(Grouping ratio)에 관한 내용을 도식적으로 표현한 도면.FIG. 2 is a schematic representation of the content of grouping ratios. FIG.
도 3은 음극선관의 일부를 나타낸 횡단면도.3 is a cross-sectional view showing a part of a cathode ray tube.
도 4는 종래 단축으로 긴 전자빔 통과홀을 가지는 음극선관용 새도우마스크를 도시한 도면.4 is a diagram illustrating a shadow mask for a cathode ray tube having a long electron beam through-hole in a conventional single axis.
도 5는 장축으로 긴 전자빔 통과홀을 가지는 상하주사형 음극선관의 새도우마스크를 도시한 도면.FIG. 5 is a diagram showing a shadow mask of a vertical scanning cathode ray tube having an electron beam passage hole having a long axis. FIG.
도 6은 도 5의 새도우마스크의 곡률을 나타낸 도면.6 is a view showing the curvature of the shadow mask of FIG.
도 7은 본 발명에 따른 상하주사형 음극선관의 새도우마스크를 나타낸 도면.7 is a view showing a shadow mask of the vertical scanning cathode ray tube according to the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
2:스크린 3:형광체2: screen 3: phosphor
6:새도우마스크 7:새도우마스크의 전자빔 통과홀.6: Shadow mask 7: Electron beam passing hole in shadow mask.
Ph: 종래 새도우마스크의 수평피치.Ph: Horizontal pitch of conventional shadow mask.
Pv:종래 새도우마스크의 수직피치.Pv: Vertical pitch of conventional shadow mask.
Ph':종래 새도우마스크를 90도 회전한 본 발명의 수직피치.Ph ': The vertical pitch of the present invention by rotating the conventional shadow mask by 90 degrees.
Pv':종래 새도우마스크를 90도 회전한 본 발명의 수평피치.Pv ': Horizontal pitch of this invention which rotated the conventional shadow mask by 90 degrees.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, R(Red), G(Green), B(Blue) 3색의 전자빔들을 발생하는 3개의 캐소드가 수직 인라인으로 배열된 전자총, 상기 전자총에서 방출된 전자빔이 형광면에 부딪혀 색을 재현하는 스크린, 단축방향으로 전자빔을 편향시키기 위한 핀쿠션자계를 형성하는 수직코일과 장축방향으로 전자빔을 편향시키기 위한 바렐형 편향자계를 형성하는 수평코일로 구성된 편향요크, 및 상기 전자빔이 통과하는 장축의 긴홀들이 형성된 새도우마스크를 포함하는 상하주사형 음극선관에 있어서, 상기 새도우마스크의 수직피치(Ph')가 중심에서 장축의 끝단부로 갈수록 감소하고, 상기 새도우마스크의 수직피치(Ph')가 중심에서 단축의 끝단부로 갈수록 증가하는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the object as described above, three cathodes for generating electron beams of three colors R (Red), G (Green), B (Blue), an electron gun arranged in a vertical inline, emitted from the electron gun A deflection yoke consisting of a screen for reproducing color by hitting a fluorescent surface, a vertical coil for forming a pincushion magnetic field for deflecting the electron beam in a short axis direction, and a horizontal yoke for forming a barrel-type deflection magnetic field for deflecting the electron beam in a major axis direction, and In the vertical scanning type cathode ray tube including a shadow mask formed with long holes of the long axis through which the electron beam passes, the vertical pitch (Ph) of the shadow mask is reduced from the center to the end of the long axis, the vertical pitch of the shadow mask (Ph ') is increased from the center to the end of the short axis.
이하에서는 상기의 목적을 달성하는 본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the present invention to achieve the above object will be described in detail.
본 발명은 도 1에서와 같이 R(Red), G(Green), B(Blue) 3색의 전자빔들(8,9,10)을 발생하는 3개의 캐소드가 수직 인라인으로 배열된 전자총(4)과, 상기 전자총에서 방출된 전자빔이 형광면에 부딪혀 색을 재현하는 스크린(2)과, 단축방향으로 전자빔을 편향시키기 위한 핀쿠션자계를 형성하는 수직코일과 장축방향으로 전자빔을 편향시키기 위한 바렐형 편향자계를 형성하는 수평코일로 구성된 편향요크(5), 및 상기 전자빔이 통과하는 장축의 긴홀들(7) 형성된 새도우마스크(6)등으로 구성된 상하주사형 음극선관이다.As shown in FIG. 1, an electron gun 4 in which three cathodes generating three electron beams 8, 9, and 10 of R (Red), G (Green), and B (Blue) are arranged in a vertical inline. And a screen (2) for reproducing color by the electron beam emitted from the electron gun hitting a fluorescent surface, a vertical coil for forming a pincushion magnetic field for deflecting the electron beam in a short axis direction, and a barrel-type deflection magnetic field for deflecting the electron beam in a long axis direction. It is a vertical scanning type cathode ray tube consisting of a deflection yoke (5) consisting of a horizontal coil forming a, and a shadow mask (6) formed with long holes (7) of long axes through which the electron beam passes.
본 발명에 따른 상기 새도우마스크(6)는 도 7에서와 같이, 장축으로 긴 홀들(7)의 수직피치(Ph')를 상기 새도우마스크(6)의 중심에서 단축(y축)의 끝단부로 갈수록 증가시키고, 상기 장축으로 긴 홀들(7)의 수직피치(Ph')를 상기 새도우마스크의 중심에서 장축(x축)의 끝단부로 갈수록 감소시킨다.In the shadow mask 6 according to the present invention, as shown in FIG. 7, the vertical pitch Ph ′ of the long holes 7 having a long axis extends from the center of the shadow mask 6 to the end of the short axis (y-axis). It increases and decreases the vertical pitch Ph 'of the long holes 7 along the long axis from the center of the shadow mask toward the end of the long axis (x axis).
상기와 같은 새도우마스크(6)의 단축으로의 거리를 'y'라하고, 장축으로의 거리를 'x'라 하고, 장축으로 긴 홀들(7)의 열수를 'n'이라 할 때 , 본 발명에 따른 수직피치(Ph')의 전개식은 다음 수식과 같다.When the distance in the short axis of the shadow mask 6 as described above is 'y', the distance in the long axis is 'x', and the number of columns of the holes 7 long in the long axis is 'n'. The expression of the vertical pitch (Ph ') according to the following formula.
f(x,y,n) =(1 - xn+ yn)f (x, y, n) = (1-x n + y n )
그러나, 상기와 같은 새도우마스크(6)는 중심에서 장축(x축)끝단으로 갈수록 수직피치(Ph')가 감소되어 도 2의 GR(Grouping ratio)= (3*S*Qm)/(Ph'*L) = 1에 의해, 디그루핑(Degrouping)이 발생한다.However, in the shadow mask 6 as described above, the vertical pitch Ph 'decreases from the center to the end of the long axis (x-axis) so that GR (Grouping ratio) = (3 * S * Qm) / (Ph' of FIG. 2 is reduced. * L) = 1, degrouping occurs.
상기에서 발생하는 디그루핑(Degrouping)을 그루핑율(Grouping ratio)=1로 하기 위해서 수직피치(Ph')가 감소하는 장축(x축)에서는 상기 패널(1)의 내면과 새도우마스크(6)의 거리 Qm을 작게 한다.In the long axis (x-axis) in which the vertical pitch Ph 'is decreased in order to reduce the degrouping occurring to the grouping ratio = 1, the inner surface of the panel 1 and the shadow mask 6 Reduce the distance Qm.
그러면, 상기 새도우마스크(6)의 빔 그루핑율은 '1'에 가까워지고, 단축(y축)과 장축(x축)의 Qm의 차이가 큰 새도우마스크(6)는 반경이 큰 곡률구조를 가지게 된다.Then, the beam grouping ratio of the shadow mask 6 is close to '1', and the shadow mask 6 having a large Qm difference between the short axis (y-axis) and the long axis (x-axis) has a large curvature structure. do.
따라서, 본 발명에 따른 상기 새도우마스크(6)는 도 6에서, 새도우마스크(6)의 중심(d)과 장축(x축)의 끝단부 중심(d)과의 높이(c)가 9.79mm가 되고, 상기 중심(d)과 장축(x축) 끝단부의 코너부와의 높이(a)가 14.23mm가 되어, 상기 중심(d)과 장축(x축) 끝단부 중심과의 높이(c)와 상기 중심(d)과 장축(x축) 끝단부의 코너부와의 높이(a)가 4.44mm의 차이를 갖는 곡률의 구조를 가진다.Therefore, in the shadow mask 6 according to the present invention, in FIG. 6, the height c of the center d of the shadow mask 6 and the end center d of the long axis (x-axis) is 9.79 mm. And the height a between the center portion d and the corner portion of the long axis (x-axis) end is 14.23 mm, and the height c between the center d and the center of the long axis (x-axis) end portion; The height (a) between the center (d) and the corner portion of the long axis (x-axis) end portion has a curvature structure having a difference of 4.44 mm.
따라서, 본 발명에 의하면, 새도우마스크의 장축으로 긴 홀들의 수직피치(Ph')를 새도우마스크의 중심에서 단축(y축)의 끝단부로 갈수록 증가시키고, 상기 새도우마스크의 중심에서 장축(x축)의 끝단부로 갈수록 수직피치(Ph')를 감소시킴으로써, 내충격성 향상 및 하울링현상 방지 효과를 얻을 수 있다.Therefore, according to the present invention, the vertical pitch Ph 'of long holes is increased from the center of the shadow mask to the end of the short axis (y axis) as the long axis of the shadow mask, and the long axis (x axis) at the center of the shadow mask. By decreasing the vertical pitch (Ph ') toward the end of the, it is possible to improve the impact resistance and to prevent the howling phenomenon.
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |