KR100365250B1 - Polishing apparatus for magnetic head and method therefor - Google Patents
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Abstract
자기 헤드용의 다수의 변환 유닛을 지닌 세라믹 바에 크라운 형상을 형성하기 위한 피연마 가공에서, 본 발명은, 피연마 면에 대향된 표면상에 종방향으로 수직인 다수의 홈을 구비한 세라믹 바를 주로 고무로 구성된 탄성 부재를 통해 실질적으로 오목한 연마 면 쪽으로 압착한 다음, 자기 헤드의 변환 유닛에 제공된 소자의 자기 저항을 측정하고, 또 그러한 측정의 결과를 바탕으로 폐쇄 회로 제어에 의해 크라운 형성 작업에서 압력을 조절하는 것에 의해 양호하게 제어된 만족스러운 형상을 제공한다.In the polishing process for forming a crown shape in a ceramic bar having a plurality of conversion units for a magnetic head, the present invention mainly relates to a ceramic bar having a plurality of grooves vertically perpendicular to a surface opposite to the surface to be polished. The elastic member made of rubber is pressed against the substantially concave polishing surface, and then the magnetic resistance of the element provided to the conversion unit of the magnetic head is measured, and based on the result of such measurement, the pressure in the crown forming operation by the closed circuit control is It provides a satisfactory shape that is well controlled by adjusting.
Description
본 발명은 다수의 자기 헤드의 어레이로 이루어진 피연마 제품의 연마를 위한 자기 헤드용 연마장치 및 방법에 관한 것으로서, 특히 피연마 표면을 매끈한 곡선의 볼록한 형상(이하, 크라운 형상이라 칭함)으로 마무리 가공하는 장치 및 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing apparatus and method for a magnetic head for polishing a to-be-polished product composed of an array of a plurality of magnetic heads. It relates to an apparatus and a method.
컴퓨터용 디스크 드라이브 장치에 사용하기 위한 박막 자기 헤드의 일괄 제조 공정에는, 바(bar) 형상의 세라믹(세라믹 바)을 연마하는 단계가 통상적으로 포함되는데, 이 연마 단계에서 박형 자기 필름을 포함하는 다수의 변환 유닛이 표면상에 일렬로 정렬되며, 그것에 의해 그러한 변환 유닛은 각 변환 유닛의 틈새의 목부 높이(틈새부의 높이)가 적정치로 마무리된다. 세라믹 바는 후속 단계에서 개별 변환 유닛으로 절단되고, 각 절단부는 자기 디스크 드라이브 장치에 사용하기 위한 자기 헤드의 부분을 구성한다. 그러한 자기 헤드를 자기 디스크 드라이브 장치에 사용할 때, 세라믹 부분은 자기 디스크의 회전에 의해 생성되는 공기압에 의해 자기 디스크상에서 부상하는 슬라이더를 구성하며, 박형 자기 필름을 포함하는 변환 유닛은 디스크의 자기 신호를 기록 및/또는 재생하는 헤드 코어를 구성한다.The batch manufacturing process of a thin film magnetic head for use in a computer disk drive device typically includes polishing a bar-shaped ceramic (ceramic bar), which includes a plurality of thin magnetic films. The conversion units of are arranged in line on the surface, whereby the conversion unit finishes the neck height (the height of the gap) of the gap of each conversion unit to an appropriate value. The ceramic bar is cut into individual conversion units in a subsequent step, with each cut making up part of the magnetic head for use in the magnetic disk drive device. When such a magnetic head is used in a magnetic disk drive device, the ceramic portion constitutes a slider which floats on the magnetic disk by the air pressure generated by the rotation of the magnetic disk, and the conversion unit including the thin magnetic film receives the magnetic signal of the disk. A head core for recording and / or reproducing is configured.
전술한 변환 유닛에는, 신호 기록용 유도 자기 변환 소자 및 신호 판독용 자기 저항(MR) 소자가 형성되어 있다. 또한, 그러한 헤드 코어에서 전술한 목부 높이는, 자기 신호의 기록 또는 판독을 위한 2개의 자극의 단부가 그 사이에 매우 협소한 틈새를 두고 상호 대향되어 있는 부분의 길이(높이)를 의미한다. 그러한 목부 높이의 크기는 신호의 적절한 기록 및 판독을 가능하게 하기 위해 소정 값으로 유지되므로, 연마 작업을 위해 높이의 정확도가 필요하다.In the above-described conversion unit, a signal recording induction magnetoelectric conversion element and a signal reading magnetoresistance (MR) element are formed. In addition, the aforementioned neck height in such a head core means the length (height) of the parts where the ends of the two magnetic poles for recording or reading the magnetic signal are opposed to each other with a very narrow gap therebetween. Such neck height magnitude is maintained at a predetermined value to enable proper recording and reading of the signal, so height accuracy is required for polishing operations.
전술한 세라믹 바 형태의 자기 헤드의 고 정확도의 연마 장치가 이미 제안된 바 있다(예컨대 미국 특허 제5,620,356호 등). 또한, 본 출원인은 어떤 장치 및 방법을 제안하였다(에컨대, 일본 특허 출원 제1999-162799호 등).A high accuracy polishing apparatus of a magnetic head in the form of a ceramic bar described above has already been proposed (e.g., U.S. Patent 5,620,356, etc.). In addition, the present applicant has proposed some apparatus and method (e.g., Japanese Patent Application No. 1999-162799 and the like).
앞서 간략하게 설명한 바와 같이, 디스크 드라이브 장치의 작동 상태에서, 서스펜션에 의해 지지된 자기 헤드의 단부에 있는 칩 부재(슬라이더 및 헤드 코어로 구성됨)는, 자기 디스크의 고속 회전에 의해 방생되는 기류의 압력에 의해 디스크로부터 수천 미크론만큼 떨어진 부상 상태로 유지된다. 부상 상태에서, 칩 부재는 자기 디스크에 또한 그로부터의 정확한 정보 기록 및 재생을 달성하도록 안정된 위치에 일정하게 유지되어야 한다.As briefly described above, in the operating state of the disc drive device, the chip member (comprising the slider and the head core) at the end of the magnetic head supported by the suspension is the pressure of the airflow generated by the high speed rotation of the magnetic disk. By the thousands of microns away from the disk. In the floating state, the chip member must be kept constant in a stable position to achieve accurate information recording and reproduction on and from the magnetic disk.
이 목적을 위해서, 어떤 자기 헤드에서는, 자기 디스크에 대향된 헤드의 단부에 위치된 칩 부재의 표면을 둥근 형상 또는 곡선 형상으로 하여, 자기 디스크의 내부 부분과 외부 부분 사이의 기류의 변화로부터 초래되는 칩 부재의 부상 상태에 미치는 영향을 억제한다.For this purpose, in some magnetic heads, the surface of the chip member located at the end of the head opposite the magnetic disk is rounded or curved, resulting from the change of airflow between the inner and outer portions of the magnetic disk. The influence on the floating state of the chip member is suppressed.
그러한 곡선 형상(이하, 크라운 가공 또는 크라우닝이라 칭함)을 일괄 공정으로 형성하기 위해서는, 자기 박막을 포함하는 다수의 변환 유닛을 지닌 세라믹 바를 앞서 설명한 바와 같이 소망의 목부 높이를 달성하기 위해 일차로 연마한 후에, 소망의 만곡 표면 형상을 달성하기 위해 동일한 표면상에 크라운 가공을 가한다.In order to form such curved shapes (hereinafter referred to as crowning or crowning) in a batch process, a ceramic bar having a number of conversion units comprising a magnetic thin film is first ground to achieve the desired neck height as described above. Afterwards, crown processing is applied on the same surface to achieve the desired curved surface shape.
전술한 크라운 가공은 전술한 일본 특허 출원 제1999-162799호에 제시된 장치에 의해 가능하다. 이 장치는 수평방향으로 위치된 회전 연마 테이블과, 피연마 가공물(즉, 다수의 변환 유닛을 지닌 세라믹 바)을 지지하고 그러한 가공물을 연마 테이블과 접촉하는 소망의 위치에 유지하여 가공물의 연마를 실행하는 연마 헤드를 구비하고 있다. 연마 헤드는 수평 방향 및 수직 방향으로 이동 가능한 장착 프레임상에 장착된다. 연마 헤드는 장착 프레임상의 환상 베어링에 의해 수평면에서 회전 가능하도록 지지된다.The aforementioned crown processing is possible by the apparatus shown in the aforementioned Japanese Patent Application No. 1999-162799. This device supports the rotating polishing table located in the horizontal direction, the workpiece to be polished (i.e., the ceramic bar having a plurality of conversion units) and holding the workpiece in a desired position in contact with the polishing table to perform polishing of the workpiece. A polishing head is provided. The polishing head is mounted on a mounting frame that is movable in the horizontal direction and the vertical direction. The polishing head is supported to be rotatable in the horizontal plane by an annular bearing on the mounting frame.
일본 특허 출원 제1999-162799 호에 제시된 장치의 연마 헤드는 그의 바닥면에 조절 링이 구비되어 있다. 연마 작업하는 동안, 조절 링은 연마 테이블의 상부 표면인 연마 면과 접촉하고, 그것에 의해 연마 헤드의 위치의 기준 면을 규정한다. 연마 헤드는 조절 링에 바탕을 둔 기준 시스템(즉, 조절 링에 고정된 요소로 구성된 시스템)을 소정의 수평축을 중심으로 소망의 각도만큼 기울이는 것을 가능하게 하는 경사 유닛을 추가로 구비하고 있다. 따라서, 경사 유닛은 조절 링을 포함하여 기준 시스템을 수직 방향에 대해 소망의 각도만큼 기울일 수 있다. 경사 유닛의 기울이는 동작은 모터에 의해 달성된다.The polishing head of the apparatus shown in Japanese Patent Application No. 1999-162799 is provided with an adjusting ring at the bottom thereof. During the polishing operation, the adjusting ring contacts the polishing surface, which is the upper surface of the polishing table, thereby defining the reference surface of the position of the polishing head. The polishing head further comprises an inclined unit which makes it possible to tilt the reference system based on the adjustment ring (ie, a system composed of elements fixed to the adjustment ring) by a desired angle about a predetermined horizontal axis. Thus, the inclination unit can include an adjustment ring to tilt the reference system by a desired angle with respect to the vertical direction. The tilting operation of the tilting unit is achieved by the motor.
상기 장치는, 가공물을 구성하는 세라믹 바의 연마 표면을 연마할 때 가공물의 굴곡 또는 비틀림을 조정하여 연마 량의 수평방향 균형을 조정하기에 적합한 수단을 추가로 구비하고 있다. 보다 상세하게 설명하면, 연마 테이블에 가해지는 가공물의 압력은 가공물의 종방향으로 임의의 다수의 지점에서 조절되고, 그것에 의해 가공물의 비틀림 등을 수정하며 연마 량을 조절한다.The apparatus further comprises means suitable for adjusting the horizontal balance of the amount of polishing by adjusting the bending or twisting of the workpiece when polishing the polishing surface of the ceramic bar constituting the workpiece. In more detail, the pressure of the workpiece applied to the polishing table is adjusted at any number of points in the longitudinal direction of the workpiece, thereby correcting the twist of the workpiece and the like and adjusting the polishing amount.
전술한 장치에서, 목부 높이를 소망의 값으로 설정하기 위한 정상의 연마 작업도중에 경사 유닛의 경사 각도는 가공물의 연마 공정 전반에 걸쳐 고정된다. 또한, 그러한 연마 공정에서, 장치의 연마 테이블의 연마 면은 가공물에 수직으로 유지되므로 그의 연마 표면은 평탄하게 연마된다.In the apparatus described above, the inclination angle of the inclination unit is fixed throughout the polishing process of the workpiece during the normal polishing operation for setting the neck height to a desired value. In addition, in such a polishing process, the polishing surface of the polishing table of the apparatus is kept perpendicular to the workpiece so that the polishing surface thereof is smoothly polished.
또한, 그러한 장치에 의해, 장치에 제공된 경사 유닛을 이용하여 연마 표면상에 크라운을 형성하는 것이 이론적으로 가능하다. 보다 상세하게 설명하면, 연마 표면은 경사 유닛의 경사 각도를 점차 연속적으로 변화시켜 연마 작업을 실행하는 것에 의해 둥근 형상으로 마무리될 수 있다. 그러나, 그러한 장치를 사용한 크라운 가공은 소망의 곡률의 원활한 만곡 표면을 제공하기가 어렵고, 결과적으로 달성된 만곡 표면에 상당한 변동이 생기며 또 그러한 연마 작업에서 장치의 복잡한 제어가 필요하다.It is also theoretically possible by means of such a device to form a crown on the polishing surface using the warp unit provided in the device. In more detail, the polishing surface can be finished in a round shape by performing a polishing operation by gradually continuously changing the inclination angle of the inclination unit. However, crowning with such a device is difficult to provide a smooth curved surface of the desired curvature, resulting in significant fluctuations in the resulting curved surface and requires complex control of the device in such polishing operations.
이러한 이유로, 세라믹 바 가공물의 연마 표면의 크라운 가공은 구 형상의 연마 면을 갖는 연마 테이블을 구비한 장치에서 실행된다. 그러한 장치의 일례에서, 세라믹 바 가공물은 로드 형상의 지그의 단부 표면에 고착된 고무 시트상에 부착되고, 그러한 지그에 의해 연마 테이블에 압착되며 연마 작업은 전체의 압착 압력의 제어하에서 실행된다. 다른 실시예에서, 세라믹 바 가공물은 고무 시트를 통해 정방형 로드 형상의 지그에 부착되고, 연마 작업은 지그 및 가공물을 포함하여 연마 헤드를 자체의 중량에 의해 연마 면에 압착하는 것에 의해 실행된다.For this reason, the crown processing of the polishing surface of the ceramic bar workpiece is performed in an apparatus having a polishing table having a spherical polishing surface. In one example of such a device, the ceramic bar workpiece is attached onto a rubber sheet fixed to the end surface of the rod-shaped jig, pressed by the jig to the polishing table, and the polishing operation is performed under the control of the overall pressing pressure. In another embodiment, the ceramic bar workpiece is attached to a square rod-shaped jig through a rubber sheet, and the polishing operation is performed by pressing the polishing head by its weight to the polishing surface, including the jig and the workpiece.
요약하면, 전술한 종래의 장치는 자기 헤드를 고 정밀도로 크라운 가공하는 것이 가능하다. 또한, 일본 특허 출원 제1999-162799 호에 개시된 상기 장치는 그러한 크라운 가공이 실행 불가능하다. 왜냐하면, 경사 유닛의 경사가 복잡한 제어하에서 점차 변화되므로 원활한 만곡 표면은 실제로 달성하기가 어렵기 때문이다.In summary, the conventional apparatus described above makes it possible to crown the magnetic head with high precision. In addition, the apparatus disclosed in Japanese Patent Application No. 1999-162799 cannot perform such crown processing. This is because a smooth curved surface is difficult to achieve in practice because the inclination of the inclined unit is gradually changed under complicated control.
또한, 상기 장치는 구형 연마 면을 갖는 연마 테이블을 구비하며, 연마에 의해 달성되는 가공 형상은 통상적으로 연마 테이블에 대한 가공물의 압착 중량과 가공 시간에 의해 제어되며, 연마량은 예컨대 연마 슬러리의 약화로부터 초래되는 연마 속도의 변화로 인해 정확하게 제어할 수 없다.In addition, the apparatus has a polishing table having a spherical polishing surface, wherein the processing shape achieved by polishing is usually controlled by the pressing weight and processing time of the workpiece on the polishing table, and the polishing amount is weakened, for example, of the polishing slurry. Due to the change in polishing rate resulting from this, it cannot be controlled accurately.
전술한 사항을 고려하여, 본 발명의 목적은 자기 헤드의 고 정밀도의 크라운 가공이 가능한 연마 장치 및 연마 방법을 제공하는 것이다.In view of the foregoing, it is an object of the present invention to provide a polishing apparatus and a polishing method capable of high precision crown processing of a magnetic head.
전술한 목적은, 본 발명에 따라 다수의 자기 헤드를 지닌 피연마 가공물을 연마하는 연마장치에 의해 달성되는바, 상기 연마장치는 소정의 곡률 반경의 구면의 일부를 구성하는 연마 면을 갖는 회전식 연마 테이블과, 상기 연마 면에 대해 이동 가능한 연마 헤드 장착용 프레임과, 연마 헤드 장착용 프레임에 의해 지지되는 연마 헤드를 포함하며, 연마 헤드는 탄성 부재를 통해 피연마 가공물을 지지하는 지그와, 지그를 장착하는 등판과, 연마 면에 대해 등판과 일체로 상승 및 하강 가능하고 또 지지점을 중심으로 상승 및 하강 방향에 평행한 평면내에서 회전가능한 방식으로 등판을 지지하는 승강기 유닛과, 등판을 연마 면에 대해 압박하는 다수의 보정 액츄에이터 수단과, 연마 면상에 형성된 자기 헤드의 특성을 측정하는 측정 수단과, 측정치에 따라 다수의 보정 액츄에이터 수단의 압착력을 조절하는 조절 수단을 포함한다.The above object is achieved by a polishing apparatus for polishing a workpiece having a plurality of magnetic heads according to the present invention, which polishing apparatus has a polishing surface constituting a part of a spherical surface having a predetermined radius of curvature. And a polishing head supported by the polishing head mounting frame, the polishing head comprising: a jig for supporting the workpiece to be polished through an elastic member; A back plate to be mounted, an elevator unit for supporting the back plate in a manner that can be raised and lowered integrally with the back plate with respect to the polishing surface and rotatable in a plane parallel to the rising and lowering direction about the support point; A plurality of correction actuator means for pressing against, the measuring means for measuring the characteristics of the magnetic head formed on the polishing surface, and the measured value It comprises adjusting means for adjusting the pressing force of the plurality of correction actuator means.
전술한 목적을 달성하기 위하여, 승강기 유닛이 경사 유닛에 의해 지지되고 상승 및 하강 방향이 경사 유닛용 구동 수단에 의해 경사 유닛을 기울이는 것에 의해 기울어지는 바람직한 구성이 제공된다. 또한, 연마 헤드는 연마 헤드 장착 수단상에 회전 가능한 방식으로 장착되는 것이 바람직하다. 또한, 연마 장치가 연마 헤드 요동 수단을 포함하며 이러한 연마 헤드 요동 수단에 의해 연마 헤드가 소정의 각도 범위 내에서 왕복 회전운동을 수행하는 것이 바람직하다.In order to achieve the above object, a preferred configuration is provided in which the elevator unit is supported by the tilting unit and the rising and lowering directions are tilted by tilting the tilting unit by the driving means for the tilting unit. Furthermore, the polishing head is preferably mounted in a rotatable manner on the polishing head mounting means. In addition, it is preferable that the polishing apparatus includes a polishing head rocking means, by which the polishing head rocking means performs the reciprocating rotational movement within a predetermined angle range.
또한, 다수의 보정 액츄에이터 수단은 3개의 저 마찰 실린더로 구성되는 것이 바람직하고, 저 마찰 실린더 옆의 등판상의 압박 부분은 등판의 지지점과 등판의 종방향으로의 전술한 지지점의 양 측면상에 배치되는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the plurality of correction actuator means is composed of three low friction cylinders, and the pressing portion on the back plate next to the low friction cylinder is disposed on both sides of the support point of the back plate and the aforementioned support point in the longitudinal direction of the back plate. It is preferable.
또한, 연마 면의 전술한 바람직한 곡률 반경의 범위는 4 내지 6m인 것이 바람직하고, 탄성 부재는 주로 고무로 제조되는 것이 바람직하다. 또한, 피연마 가공물은 다수의 홈이 종방향에 수직한 상태로 연마 면에 대향된 표면상에 제공되는 것이 바람직하며, 자기 헤드의 측정된 특성은 자기 저항인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the range of the above-mentioned preferable curvature radius of a grinding | polishing surface is 4-6m, and it is preferable that an elastic member is mainly made from rubber | gum. Further, the workpiece to be polished is preferably provided on a surface opposite the polishing surface with a plurality of grooves perpendicular to the longitudinal direction, and the measured characteristic of the magnetic head is preferably magnetic resistance.
전술한 목적 또한, 본 발명에 따라 다수의 자기 헤드를 지닌 피연마 가공물을 연마하는 연마 방법에 의해 달성될 수 있는바, 이 연마 방법은 지그에 의해 피연마 가공물을 탄성 부재를 통해 지지하는 단계와, 지그를 소정의 곡률 반경의 구면의 일부분을 구성하는 연마 면을 갖는 회전식 연마 테이블에 대해 소정 위치로 이동시키는 단계와, 지그를 연마 면에 실질적으로 수직인 평면에 회전 가능하게 지지하고 또 지그를 연마 면상으로 하강하는 단계와, 피연마 가공물을 지그를 통해 연마 면에 압박하여 피연마 가공물을 연마하는 단계를 포함하며, 지그는 회전 가능한 지지점 이외의 다수의 지점에서 연마 면 쪽으로 압박될 수 있고, 자기 헤드의 특성의 측정에 근거한 연마 량의 측정과 측정 결과에 근거한 지지점 및 다수의 지점에서의 압착력의 조정은 연마 단계에서 수 차례 반복된다.The above object can also be achieved by a polishing method for polishing a workpiece having a plurality of magnetic heads according to the present invention, the polishing method comprising the steps of: supporting a workpiece by a jig through an elastic member; Moving the jig to a predetermined position relative to a rotary polishing table having a polishing surface constituting a portion of a sphere having a predetermined radius of curvature, supporting the jig rotatably in a plane substantially perpendicular to the polishing surface and supporting the jig; Lowering onto the polishing surface, and pressing the workpiece to the polishing surface through the jig to polish the workpiece, the jig can be pressed toward the polishing surface at a number of points other than the rotatable support point, The measurement of the amount of polishing based on the measurement of the characteristics of the magnetic head and the adjustment of the pressing force at multiple points based on the measurement results It is repeated several times in the polishing step.
또한, 전술한 목적을 달성하게 위해서는, 지그에 의해 피연마 가공물을 지지하는 단계에서, 지그의 하강을 연마 면 쪽으로 조정하는 것이 바람직하다. 또한, 연마 단계에서, 지그가 연마 면에 대해 회전 가능하게 지지되고 실질적으로 평행한 지지점을 중심으로 소정 각도 범위 내에서 지그가 왕복 회전운동을 수행하는 것이바람직하다. 또한, 지지점 및 다수의 지점에서의 압착은 저 마찰 실린더에 의해 수행되는 것이 바람직하고, 다수의 압착점은 지그의 종방향에서 지지점의 양 측면상에 위치되는 것이 바람직하다.In addition, in order to achieve the above object, in the step of supporting the workpiece to be polished by the jig, it is preferable to adjust the lowering of the jig toward the polishing surface. In addition, in the polishing step, it is preferable that the jig performs a reciprocating rotational movement within a predetermined angle range about a support point that is rotatably supported with respect to the polishing surface and is substantially parallel. Further, the pressing at the support point and the plurality of points is preferably performed by a low friction cylinder, and the plurality of pressing points are preferably located on both sides of the support point in the longitudinal direction of the jig.
또한, 연마 면의 전술한 곡률 반경의 범위는 4 내지 6m 인 것이 바람직하고, 탄성 부재는 주로 고무로 제조되는 것이 바람직하다. 또한, 탄성 부재를 통해 지그에 의해 지지되는 피연마 가공물은 다수의 홈이 종방향에 수직인 상태로 연마 면에 대향된 표면상에 제공되는 것이 바람직하고, 자기 헤드의 측정된 특성은 자기 저항인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the range of the above-mentioned curvature radius of a grinding | polishing surface is 4-6 m, and it is preferable that an elastic member is mainly made from rubber | gum. In addition, the workpiece to be supported by the jig through the elastic member is preferably provided on the surface opposite the polishing surface with a plurality of grooves perpendicular to the longitudinal direction, and the measured characteristic of the magnetic head is magnetic resistance. It is preferable.
도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 자기 헤드용 연마 장치의 정면도.1 is a front view of a polishing apparatus for a magnetic head according to an embodiment of the present invention.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 자기 헤드용 연마 장치의 평면도.Figure 2 is a plan view of the polishing apparatus for a magnetic head according to an embodiment of the present invention.
도3은 본 발명의 일 실시예를 구성하는 자기 헤드용 연마 장치에서 자기 헤드 등을 도시하는 정면도.Fig. 3 is a front view showing the magnetic head and the like in the polishing apparatus for the magnetic head constituting an embodiment of the present invention.
도4는 도3에 도시된 연마 헤드의 평면도.4 is a plan view of the polishing head shown in FIG.
도5는 도3에 도시된 연마용 헤드의 측면도.Fig. 5 is a side view of the polishing head shown in Fig. 3;
도6은 도3에 도시된 연마 헤드의 횡단면도,6 is a cross sectional view of the polishing head shown in FIG. 3;
도7은 피연마 가공물의 형상을 도시하는 개략적 사시도,7 is a schematic perspective view showing the shape of a workpiece to be polished;
도8은 연마 테이블의 직경을 따라 도시한 횡단면도,8 is a cross sectional view along the diameter of the polishing table;
도9는 본 발명의 일 실시예에서 연마량의 조절에 관한 블록 다이어그램.9 is a block diagram of adjustment of the polishing amount in one embodiment of the present invention.
도10은 도9의 측정 및 다중 송신 기판의 세부를 도시한 도면.10 shows details of the measurement and multiple transmission substrate of FIG.
도11은 도9의 액츄에이터 구동판의 세부를 도시한 도면.FIG. 11 is a view showing details of the actuator drive plate of FIG. 9; FIG.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Description of the code | symbol about the principal part of drawing>
1: 베이스 2: 연마 테이블1: base 2: polishing table
4: 구동 수단 6: 벨트4: driving means 6: belt
8: 가이드 레일 10: 슬라이더8: guide rail 10: slider
12: 연마 헤드 장착 프레임12: polishing head mounting frame
14: 환상 베어링 18: 탄성 부재14: annular bearing 18: elastic member
20: 연마 헤드 28, 30: 풀리20: polishing head 28, 30: pulley
44, 50, 60: 샤프트 46: 경사 유닛44, 50, 60: shaft 46: inclined unit
52: 모터 64: 승강기 유닛52: motor 64: elevator unit
68: 등판 70A, 70B, 70C: 보정 액츄에이터 수단68: back plate 70A, 70B, 70C: correction actuator means
92: 피연마 가공물 92a: 피연마 면92: Finished workpiece 92a: Finished surface
94: 지그 97: 고무 쿠션94: jig 97: rubber cushion
104: 세라믹 바 128: 측정 핀104: ceramic bar 128: measuring pin
201: MR 소자 210: 마이크로컴퓨터201: MR element 210: microcomputer
220: 다중 측정 기판 223: 연산 유닛220: multiple measurement substrate 223: arithmetic unit
본 명세서에는 그의 실시예로서 도1 내지 도11을 참조하여 본 발명의 자기 헤드의 연마 장치 및 방법에 대해 설명할 것이다. 도1은 본 발명을 구체화한 자기 헤드 연마 장치를 도시하는 정면도이고, 도2는 그의 평면도이며, 도3 내지 도6은 각각 본 발명의 일 실시예에서의 연마 헤드의 정면도, 평면도, 측면도 및 횡단면도이다.In the present specification, as an embodiment thereof, the polishing apparatus and method of the magnetic head of the present invention will be described with reference to Figs. 1 is a front view showing a magnetic head polishing apparatus incorporating the present invention, FIG. 2 is a plan view thereof, and FIGS. 3 to 6 are respectively a front view, a plan view, a side view and a polishing head in one embodiment of the present invention. Cross section view.
먼저, 도1 및 도2를 참조하여 본 발명을 구체화한 자기 헤드의 연마 장치의 전체 구성을 설명한다. 자기 헤드 연마 장치는 연마 테이블(2)을 수평면에 회전가능한 방식으로 지지하는 베이스(1)를 구비하며, 연마 테이블(2)은 회전 구동원을 구성하고 베이스(1)에 지지된 테이블 구동 수단(4)에 의해 벨트(6)를 통해 회전한다.First, referring to Figures 1 and 2, the overall configuration of a polishing apparatus for a magnetic head embodying the present invention will be described. The magnetic head polishing apparatus has a base 1 for supporting the polishing table 2 in a rotatable manner on a horizontal plane, the polishing table 2 constituting a rotation drive source and being supported by the table driving means 4 supported on the base 1. Rotate through the belt (6).
수직으로 이격된 한 쌍의 안내 롤(8)은 베이스(1) 위에 수평방향으로 지지되고, 횡방향으로 이동 가능한 슬라이더(10)는 한 쌍의 안내 롤(8)에 의해 수평방향으로 이동 가능하게 안내된다. 횡방향으로 이동 가능한 슬라이더(10)상에는, 수직방향으로 이동 가능한 방식(임의로 조절가능한 높이로 수직으로 구동되는 방식)으로 연마 헤드 장착 프레임(12)이 장착되어 있다. 횡방향으로 이동 가능한 슬라이더(10)는, 예컨대 슬라이더(10)상에 제공된 볼 스크류 너트를 안내 롤(8)에 평행한 볼 스크류 너트와 체결하고 또 볼 스크류 샤프트를 모터에 의해 회전시키는 것에 의해 구동될 수 있고, 그것에 의해 슬라이더(10) 및 연마 헤드 장착 프레임(12)은 왕복 직선 운동을 수행할 수 있다.A pair of vertically spaced guide rolls 8 are supported in the horizontal direction on the base 1, and the horizontally movable slider 10 is movable in the horizontal direction by a pair of guide rolls 8. You are guided. On the slider 10 which is movable in the lateral direction, the polishing head mounting frame 12 is mounted in a manner that is movable in the vertical direction (driven vertically at an arbitrarily adjustable height). The transversely movable slider 10 is driven, for example, by engaging a ball screw nut provided on the slider 10 with a ball screw nut parallel to the guide roll 8 and rotating the ball screw shaft by a motor. Whereby the slider 10 and the polishing head mounting frame 12 can perform a reciprocating linear motion.
도3에 도시된 바와 같이, 연마 헤드 장착 프레임(12)의 내부에는, 회전 지지부(16)가 환상 베어링(14)에 의해 회전 가능하게 지지되고, 연마 헤드(20)는 판 스프링 또는 고무와 같은 탄성 부재(18)를 통해 회전 지지부(16)상에 장착되어 있다. 연마 헤드(20)는 평행하게 직립한 바닥판(22) 및 수직 지지판(24)을 구비한다.As shown in Fig. 3, inside the polishing head mounting frame 12, the rotary support 16 is rotatably supported by the annular bearing 14, and the polishing head 20 is made of leaf spring or rubber. It is mounted on the rotary support 16 via the elastic member 18. The polishing head 20 has a bottom plate 22 and a vertical support plate 24 that are upright in parallel.
도2 및 도3에 도시된 바와 같이, 풀리(28)는 회전 지지부(16)에 고정되고, 풀리(30)를 회전시키는 연마 헤드 회전 모터(32)는 연마 헤드 장착 프레임(12)의 외부에 장착되어 있다. 벨트(34)는 풀리(28,30)를 연결한다. 모터(32), 풀리(28, 30) 및 벨트(34)는, 연마 헤드(20)를 소정 각도 범위의 왕복 외전 운동(요동 운동)을 수행하도록 하는 요동 수단으로서의 기능을 수행한다.As shown in Figs. 2 and 3, the pulley 28 is fixed to the rotary support 16, and the polishing head rotating motor 32 for rotating the pulley 30 is external to the polishing head mounting frame 12. It is installed. Belt 34 connects pulleys 28 and 30. The motor 32, the pulleys 28, 30 and the belt 34 perform a function as a rocking means for causing the polishing head 20 to perform a reciprocating abduction movement (swinging motion) in a predetermined angle range.
도3 내지 도6에 도시된 바와 같이, 연마 헤드(20)의 수직 지지판의 사이에는, 수직 지지판(24)에 평행한 경사 샤프트(44)가 제공되어 있고, 경사 유닛(46)은 연마 헤드(20)에 대해 경사질 수 있는 방식으로 경사 샤프트(44)를 중심으로 관절운동한다.As shown in Figs. 3 to 6, between the vertical support plates of the polishing head 20, an inclined shaft 44 parallel to the vertical support plate 24 is provided, and the inclination unit 46 is provided with a polishing head ( Articulation about the inclined shaft 44 in a way that can be inclined relative to (20).
도5 및 도6에 도시된 바와 같이, 연마 헤드(20)의 수직 지지판(24)상에는, 모터 장착 베이스부(48)의 하측부가 샤프트(50)에 대해 회전 가능한 방식으로 장착되고, 경사 모터(52)는 모터 장착 베이스부(48)의 상측부상에 고정된다. 모터(52)의 구동 샤프트는 볼 스크류 너트(56)와 체결하는 볼 스크류 샤프트(54)에 결합된다. 볼 스크류 너트(56)는 아암(58)의 일단부에 고정되고, 아암의 타단부는 경사 유닛(46)상에 고정된다. 샤프트(50)로부터 샤프트(60)까지의 기구는 경사 유닛(46)을 수직 지지판(24)에 평행한 상태로부터 소정 각도만큼 경사지게 하기 위한 경사 구동 수단을 구성한다.As shown in Figs. 5 and 6, on the vertical support plate 24 of the polishing head 20, the lower part of the motor mounting base portion 48 is mounted in a rotatable manner with respect to the shaft 50, and the inclined motor ( 52 is fixed on the upper side of the motor mounting base 48. The drive shaft of the motor 52 is coupled to the ball screw shaft 54 which engages with the ball screw nut 56. The ball screw nut 56 is fixed to one end of the arm 58 and the other end of the arm is fixed on the inclined unit 46. The mechanism from the shaft 50 to the shaft 60 constitutes inclined drive means for inclining the inclined unit 46 from a state parallel to the vertical support plate 24 by a predetermined angle.
승강기 유닛(64)은 슬라이드 베어링(가로 롤러 가이드)(62)을 통해 경사 유닛(46)상에 수직으로 이동 가능하게 장착된다. 경사진 방향으로의 승강기 유닛(64)의 운동은 경사 유닛(46)과 일체로 실행되므로, 승강기 유닛(64) 및 경사 유닛(46)은 항상 상호 평행하게 유지된다. 수직 지지판(24)에 평행하고 경사 샤프트(44)에 수직인 샤프트(66)에 의해, 등판(68)이 승강기 유닛(64)의 하단부에 관절 연결되어 있다.The elevator unit 64 is movably mounted vertically on the inclination unit 46 through the slide bearing (horizontal roller guide) 62. Since the movement of the elevator unit 64 in the inclined direction is performed integrally with the inclined unit 46, the elevator unit 64 and the inclined unit 46 always remain parallel to each other. The back plate 68 is articulated to the lower end of the elevator unit 64 by a shaft 66 parallel to the vertical support plate 24 and perpendicular to the inclined shaft 44.
도3 내지 도5를 참조하면, 경사 유닛(46)의 상측부에 브라켓(70)을 통해 보정 액츄에이터 수단(70A, 70B, 70C)이 장착되어 있다. 보정 액츄에이터 수단(70A, 70B, 70C)은 등판(68)의 샤프트(66)와 그의 좌 우측을 각각 하측으로 압박하고, 또 등판(68)상에 작용하는 하중을 제어하는 역할을 한다. 본 실시예에서, 보정 액츄에이터 수단은 저 마찰 공기 실린더로 구성되어 있지만, 전자석으로 구동되는 것과같은 다른 유형의 다른 저 마찰 실린더를 사용할 수도 있다.3 to 5, correction actuator means 70A, 70B, 70C are attached to the upper side of the inclination unit 46 through the bracket 70. As shown in FIG. Correction actuator means 70A, 70B, 70C press the shaft 66 of the back plate 68 and its left and right sides downward, respectively, and serve to control the load acting on the back plate 68. In this embodiment, the correction actuator means is composed of low friction air cylinders, but other types of low friction cylinders, such as those driven by electromagnets, may be used.
보정 액츄에이터 수단(70A, 70B, 70C)의 로드(80A, 80B, 80C)는, 그의 하단부가 각각 스크류, 너트, 구형 부재 등으로 이루어진 실린더 조인트(82A, 82B, 82C)에 결합되어, 승강기 유닛(64)상에 장착된 슬라이드 베어링(84A, 84B, 84C)을 따라 상승 및 하강하는 것이 가능하다. 각각의 실린더 조인트는 보정 액츄에이터 수단의 상승 및 하강 방향에 대해 약 5°회전하는 것이 가능하며, 그것에 의해 실린더 조인트와 보정 액츄에이터 수단의 축 사이의 빗나감을 보정한다. 실린더 조인트(82A, 82B, 83C)의 하단부는 연결 링크(88A, 88B, 88C)에 의해 등판(68)의 좌측, 중앙부 및 우측에 각각 연결된다. 따라서, 이들 도면에 도시된 바와 같이, 등판(68)상의 보정 액츄에이터 수단(70A, 70B, 70C)의 압착력은 상호 평행하게 된다.The rods 80A, 80B, 80C of the correction actuator means 70A, 70B, 70C are coupled to the cylinder joints 82A, 82B, 82C whose lower ends are made of screws, nuts, spherical members, and the like, respectively, and the elevator unit ( It is possible to ascend and descend along slide bearings 84A, 84B, 84C mounted on 64. Each cylinder joint is capable of rotating about 5 ° with respect to the ascending and descending directions of the correction actuator means, thereby correcting the deviation between the cylinder joint and the axis of the correction actuator means. The lower ends of the cylinder joints 82A, 82B and 83C are connected to the left, center and right sides of the back plate 68 by connecting links 88A, 88B and 88C, respectively. Thus, as shown in these figures, the pressing forces of the correction actuator means 70A, 70B, 70C on the back plate 68 are parallel to each other.
도6에 도시된 바와 같이, 등판(68)은 장방형 판(90), 고정 핀(96) 및 연결 부재(122)에 의해 횡방향으로 타원형인 지그(94)와 결합된다. 횡방향의 타원형 지그(94)는, 연마 테이블(2)에 대향된 표면(도6의 하측 단부 면)상에 예컨대 에폭시 수지의 접착 재료로 고정되고 주로 고무로 이루어진 탄성 고무 쿠션(97)을 구비한다. 피연마 가공물(세라믹 바 가공물)(92)은, 고무 표면 등의 자체 접착 기능에 의해 연마 테이블(2)에 대향된 고무 쿠션(97)의 표면상에 고정되고 그 표면에 의해 지지된다. 피연마 가공물(92)은 전술한 요소의 기능을 통해 보정 액츄에이터 수단에 의해 연마 테이블(2)의 연마 면(2a)에 압박되고, 그러한 압박 상태에서 그의 자체 접착 기능에 의해 고무 쿠션(97)에 의해 계속 지지된다.As shown in FIG. 6, the back plate 68 is engaged with the jig 94 which is elliptical in the transverse direction by the rectangular plate 90, the fixing pin 96 and the connecting member 122. As shown in FIG. The transverse elliptical jig 94 is provided with an elastic rubber cushion 97 which is fixed, for example, with an adhesive material of epoxy resin and mainly made of rubber, on the surface opposite the polishing table 2 (lower end face in Fig. 6). do. The to-be-processed object (ceramic bar workpiece) 92 is fixed on and supported by the surface of the rubber cushion 97 opposite to the polishing table 2 by a self-adhesive function such as a rubber surface. The workpiece 92 is pressed against the polishing surface 2a of the polishing table 2 by means of a correction actuator means through the function of the above-described element, and in such a pressing state the rubber workpiece 97 is pressed by its self-adhesive function. Continue to be supported.
실제의 연마 작업에서, 연마 면(2a)상으로의 피연마 가공물의 압착 하중은주로 보정 액츄에이터 수단(70B)에 의해 조절되는 한편, 피연마 가공물(92)의 종방향으로의 압착 하중의 균형은 다른 보정 수단(70B, 70C)에 의해 조절된다. 따라서, 피연마 가공물(92)의 종방향으로의 연마량의 변동에 따라, 보정 액츄에이터 수단(70A, 70B, 70C)의 압착력은 부분적으로 중화될 수도 있다(즉, 상승 방향의 힘).In the actual polishing operation, the compression load of the workpiece to be polished onto the polishing surface 2a is mainly controlled by the correction actuator means 70B, while the balance of the compression load in the longitudinal direction of the workpiece 92 is By other correction means 70B, 70C. Therefore, in accordance with the variation in the amount of polishing in the longitudinal direction of the workpiece 92, the pressing force of the correction actuator means 70A, 70B, 70C may be partially neutralized (i.e., the force in the upward direction).
에컨대 주석으로 이루어지고 피연마 가공물(92)을 연마하기 위해 사용되는 연마 테이블(2)의 연마 면(2a)은, 연마 공정에 의해 소정의 둥근(볼록) 형상을 갖는 피연마 가공물(92)의 피연마 면(92a)을 제공하기 위해 소정 반경을 갖는 구면의 일부를 구성하는 오목한 요부 형상으로서 형성되는 것이 바람직하다. 도 8은 연마 테이블(2)의 직경을 따라 도시한 단면도이다. 본 실시예에서, 연마 테이블(2)은 두꺼운 두께의 실질적인 환상 형상으로서 형성되고, 전술한 오목한 연마 면(2a)이 일부분을 구성하는 구 반경의 범위는 약 4 내지 6m 이다.For example, the polishing surface 2a of the polishing table 2, which is made of tin and is used to polish the workpiece 92, has an abrasive workpiece 92 having a predetermined round (convex) shape by a polishing process. In order to provide the to-be-polished surface 92a, it is preferable that it is formed as the recessed recessed part shape which comprises a part of spherical surface which has a predetermined radius. 8 is a cross-sectional view taken along the diameter of the polishing table 2. In this embodiment, the polishing table 2 is formed as a substantially annular shape of thick thickness, and the range of the spherical radius of which the above-mentioned concave polishing surface 2a constitutes a part is about 4 to 6 m.
또한, 피연마 가공물(92)을 연마 면(2a)에 압착할 때, 피연마 가공물(92)을 쉽게 굽히는 것에 의해 전체의 피연마 면(92a)을 연마 면(2a)과 접촉시키기 위해, 고무 쿠션(97)에 고착된 피연마 가공물(92)의 표면상에는 피연마 가공물(92)의 종방향에 수직인 다수의 홈(92b)이 제공된다. 전술한 구성에 의해, 피연마 면(92a)은 실질적으로 오목한 연마 면(2a)과 쉽게 접촉하고, 그것에 의해 피연마 가공물의 종방향을 따라 전체의 표면상에 원활한 둥근 형상을 얻을 수 있다.In addition, when pressing the to-be-processed object 92 to the polishing surface 2a, in order to contact the to-be-polished surface 92a with the polishing surface 2a by easily bending the to-be-processed workpiece 92, On the surface of the workpiece 92 secured to the cushion 97, a plurality of grooves 92b perpendicular to the longitudinal direction of the workpiece 92 are provided. With the above-described configuration, the surface to be polished 92a is easily in contact with the substantially concave polishing surface 2a, whereby a smooth round shape can be obtained on the entire surface along the longitudinal direction of the workpiece to be polished.
도7에 도시된 바와 같이, 피연마 가공물(92)은 (박막 자기 헤드의 개별 슬라이더로 절단될) 장방향 로드 형상의 타원형 세라믹 바(104)로 이루어지고, 자기 박막 패턴으로 이루어진 자기 헤드의 다수의 변환 유닛은 직선 어레이로 배열되며,그러한 변환 유닛의 자기 박막 패턴은 세라믹 바(104)의 종방향 측면(104a)상에 배치된다. 본 실시예에서, 세라믹 바(104)의 바닥 면(연마 면)은 앞선 단계에서 이미 연마되며, 그것에 의해 종방향 측면(104a)상에 위치된 각 변환 유닛은 소정의 목부 높이가 부여된다.As shown in Fig. 7, the workpiece 92 is composed of an elliptical ceramic bar 104 in the form of a longitudinal rod (to be cut by individual sliders of the thin film magnetic head), and a plurality of magnetic heads formed of a magnetic thin film pattern. The conversion units of are arranged in a straight array, and the magnetic thin film pattern of such conversion units is disposed on the longitudinal side 104a of the ceramic bar 104. In the present embodiment, the bottom surface (polishing surface) of the ceramic bar 104 is already polished in the preceding step, whereby each conversion unit located on the longitudinal side 104a is given a predetermined neck height.
따라서, 소망의 둥근 형상을 달성하기 위해 허용되는 연마량은, 앞선 단계에서 달성된 목부 높이를 상당히 변화시키기 않도록 그리고 그의 종방향으로의 피연마 가공물의 연마량의 변동을 방지하도록 선택되어야만 한다. 적절한 목부 높이를 달성하기 위한 연마 단계 및 둥근 형상을 달성하기 위한 연마 단계는 별개의 연마 장치에서 수행되는 것이 일반적이다. 왜냐하면, 연마량 및 그러한 연마량의 필요한 정확도는 이들 단계 사이에서 상당히 다르기 때문이다.Thus, the amount of polishing allowed to achieve the desired rounded shape should be chosen so as not to significantly change the neck height achieved in the previous step and to prevent variations in the amount of polishing of the workpiece to be processed in its longitudinal direction. The polishing step to achieve the proper neck height and the polishing step to achieve the round shape are generally carried out in separate polishing devices. Because the amount of polishing and the required accuracy of such amount of polishing vary considerably between these steps.
본 발명에 따라, 피연마 가공물(92)상의 연마량은, 연마 과정에서 다수의 변환 유닛에 형성된 MR 소자의 자기 저항치(MR 값)를 측정한 다음 그에 따라 측정된 값에 근거하여 필요한 연마 량을 구하고 또 피연마 가공물(92)상의 압착력 및 그에 따른 소정의 연마 량의 균형을 조절하는 소위 폐쇄 회로 제어하에서 연마하는 것에 의해 관리된다. 본 실시예에서, 연마 작업은 세라믹 바(104)의 중앙에 형성된 변환 유닛과 세라믹 바(104)의 좌 우측의 소정 위치에 형성된 변환 유닛에서 MR 소자의 MR 값을 소정 간격으로 측정하는 것에 의해 실행된다. 본 실시예에서, MR 값은 3개의 위치에서만 측정되지만, 연마 량의 보다 정확한 제어가 필요한 경우에는 측정 지점의 수 및 피연마 가공물상의 압착점의 수를 증가시키는 것이 바람직하다.According to the present invention, the polishing amount on the workpiece 92 is determined by measuring the magnetoresistance value (MR value) of MR elements formed in the plurality of conversion units in the polishing process and then calculating the required polishing amount based on the measured value. It is managed by polishing under so-called closed-circuit control which obtains and adjusts the balance between the pressing force on the workpiece 92 and the predetermined polishing amount. In this embodiment, the polishing operation is performed by measuring MR values of MR elements at predetermined intervals in the conversion unit formed at the center of the ceramic bar 104 and the conversion unit formed at a predetermined position on the left and right of the ceramic bar 104. do. In this embodiment, the MR value is measured only at three positions, but when more accurate control of the amount of polishing is required, it is desirable to increase the number of measuring points and the number of pressing points on the workpiece to be polished.
변환 유닛에 형성된 MR 소자의 MR 값을 측정하기 위해, 등판에 대향된 횡방향의 타원형 지그(94)의 면(94a)에는, 예컨대 와이어 본딩에 의해 전술한 측정될 MR 소자에 전기적으로 접속되는 전극이 미리 구비되어 있다. 장방형 판(90)에는 예컨대 스프링에 의해 편향되는 측정 핀(128)(도3 참조)이 구비되며, 그에 따라 횡방향의 타원형 지그(94)가 장방형 판(90)에 고정될 때 전술한 전극 및 측정 핀(128)이 상호 접속된다. 측정 핀(128)은 미 표시된 MR 값 측정 수단에 접속되어, 장방형 판(90)에 대한 횡방향의 타원형 지그(94)의 고정에 의해 소정의 MR 소자의 MR 값을 측정할 수 있다.In order to measure the MR value of the MR element formed in the conversion unit, an electrode electrically connected to the above-described MR element to be measured, for example, by wire bonding, is provided on the surface 94a of the transverse elliptical jig 94 opposite to the back plate. This is provided beforehand. The rectangular plate 90 is provided with, for example, a measuring pin 128 (see FIG. 3) which is deflected by a spring, so that the above-mentioned electrode and the above-mentioned electrode when the elliptical jig 94 in the transverse direction are fixed to the rectangular plate 90. The measuring pins 128 are interconnected. The measuring pin 128 is connected to an unmarked MR value measuring means and can measure the MR value of a predetermined MR element by fixing the transverse elliptical jig 94 with respect to the rectangular plate 90.
MR 값 측정 수단 및 액츄에이터의 압착력의 제어 수단의 실제의 구성에 대해 아래에 설명한다. 도9는 전술한 측정 수단 및 제어 수단을 구비하며 측정된 MR 값을 기초로 보정 액츄에이터 수단을 구동하기에 적합한 제어 시스템의 블록 다이어그램을 도시한 한편, 도10은 측정 및 다중 송신 기판(220)의 상세 블록 다이어그램이고, 도11은 액츄에이터 구동판의 상세 블록 다이어그램이다. 본 실시예에서, MR 값은 4 단자 저항 측정에 의해 달성되는 MR 값이고, 다수의 측정 핀(128)(POGO 핀)은 MR 소자(201)와 접촉한다. 측정 및 다중 송신 기판(220)은 MR 소자(201)로부터 얻은 전압을 4 단자 저항 측정의 연산을 이용하여 측정 핀(128)을 통해 저항 값으로 변환한다. 그에 따라 얻은 저항 값은 디지털 데이터로 변환되고 다중 송신되며, 마이크로컴퓨터(210)의 입력/출력 단자(211)에 진입한다. 컴퓨터(210)가 입력 데이터에 기초하여 피연마 가공물(92)의 연마 량을 연산하고 오퍼레이터에 연마 량을 표시한다.The actual configurations of the MR value measuring means and the control means of the pressing force of the actuator will be described below. FIG. 9 shows a block diagram of a control system having the above-described measuring means and control means and suitable for driving a correction actuator means based on the measured MR values, while FIG. 10 shows a measurement and multiple transmission substrate 220. Fig. 11 is a detailed block diagram of the actuator drive plate. In this embodiment, the MR value is an MR value achieved by four terminal resistance measurement, and a plurality of measuring pins 128 (POGO pins) are in contact with the MR element 201. The measurement and multiplex transmission substrate 220 converts the voltage obtained from the MR element 201 to a resistance value through the measurement pin 128 using the calculation of the four terminal resistance measurement. The resistance value thus obtained is converted into digital data, multiplexed, and enters the input / output terminal 211 of the microcomputer 210. The computer 210 calculates the amount of polishing of the workpiece 92 based on the input data and displays the amount of polishing on the operator.
MR 값 측정으로부터 디지털 데이터 출력까지의 상기 공정은 도10을 참조하여보다 상세히 설명한다. 측정 및 다중 송신 기판(220)은 일정한 전원(221)으로부터의 전류 공급과 핀들 사이의 전압 측정을 실행하며, 연산 유닛(223) 및 기준 저항기(222)에서 측정된 값의 비교에 기초하여 수치 연산을 실행하고, 그것에 의해 MR 소자의 고유저항을 얻는다. 얻어진 값은 A/D 변환기(224)에 디지털 데이터로 추가로 변환된다.The above process from MR value measurement to digital data output will be described in more detail with reference to FIG. The measurement and multiplex transmission substrate 220 performs a current supply from a constant power supply 221 and a voltage measurement between the pins and calculates numerically based on the comparison of the values measured at the calculation unit 223 and the reference resistor 222. Is executed to obtain the resistivity of the MR element. The obtained value is further converted into digital data by the A / D converter 224.
변환 후의 디지털 데이터를 기초로 하여, 피연마 면(92a)상에서 측정된 MR 소자와 그 주변의 연마 량을 구한다. 그 다음, 컴퓨터(210)가 필요한 연마 량을 달성하기 위해 액츄에이터 수단(70A, 70B, 70C)에 각각 필요한 구동 량을 구동 량의 데이터로서 구한다. 그 다음, 컴퓨터(210)는 입력/출력 단자(211)를 통해 액츄에이터 구동 기판(230)에 그러한 구동 량의 데이터를 공급하며, 상기 구동 량의 데이터는 액츄에이터 구동 기판의 A/D 변환기(231)에 의해 제어 신호로 변환되고, 그러한 제어 신호를 수신하는 구동 전류 출력 장치(232)에 액츄에이터 수단을 필요한 양만큼 각각 구동하는 출력 전류를 공급한다. 그러한 출력에 응답하여, 액츄에이터 수단은 등판(68)상의 압착력의 미세한 조절을 실행하고, 그에 따라 연마 면(2a)상의 피연마 가공물(92)의 종방향으로의 압력의 균형이 횡방향 타원형 지그(94)를 통해 미세하게 조절된다.Based on the digital data after the conversion, the MR element measured on the surface to be polished 92a and the amount of polishing around it are obtained. Then, the computer 210 obtains the driving amounts required for the actuator means 70A, 70B, 70C as the data of the driving amounts, respectively, in order to achieve the required polishing amount. Then, the computer 210 supplies the data of such driving amount to the actuator driving board 230 through the input / output terminal 211, and the data of the driving amount is the A / D converter 231 of the actuator driving board. Is converted into a control signal and supplies an output current for driving the actuator means by the required amount, respectively, to the drive current output device 232 which receives the control signal. In response to such an output, the actuator means performs fine adjustment of the pressing force on the back plate 68, so that the balance of the pressure in the longitudinal direction of the workpiece 92 on the polishing surface 2a is balanced by the transverse elliptical jig ( 94).
본 실시예에서, 크라운 가공의 연마 량은 앞서 설명한 폐쇄 회로에 의해 제어된다. 따라서, 종래의 장치에서는 달성하기 어려운 연마 량의 미세한 제어를 달성하는 것과 연마 작업에서 연마 량의 변동을 없애는 것이 가능하다. 또한, 단일의 연마 작업의 범위내에서, 종방향으로의 상이한 부분의 연마 량의 제어가 가능하고, 그것에 의해 종래의 장치에서는 제거하기 어려운 연마 작업에서의 연마 량의 변동을 없애는 것이 가능하다.In this embodiment, the polishing amount of the crown processing is controlled by the closed circuit described above. Therefore, it is possible to achieve fine control of the amount of polishing which is difficult to achieve in the conventional apparatus and to eliminate variations in the amount of polishing in the polishing operation. In addition, within the range of a single polishing operation, it is possible to control the polishing amount of different portions in the longitudinal direction, whereby it is possible to eliminate variations in the polishing amount in the polishing operation that are difficult to remove in the conventional apparatus.
하기에는 본 발명의 실시예의 기능 및 연마 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, the functions and polishing methods of the embodiments of the present invention will be described.
먼저, 도1 및 도2에 도시된 연마 헤드(20)는 연마 테이블(2)에 대향된 위치로부터 이동하고, 다수의 박막 자기 헤드가 배치된 피연마 가공물(92)을 지닌 횡방향 타원형 지그(94)는 결합 부재(122) 및 고정 핀(96)에 의해 등판(96)의 장방형 판(90)상에 장착된다. 이러한 작동에서, 연마 헤드(20)에 대한 등판(68)의 경사 각도는 처음에 0°[연마 테이블(2)의 기준 면(2b)에 수직]로 설정된다.First, the polishing head 20 shown in FIGS. 1 and 2 moves from a position opposite to the polishing table 2, and has a transverse elliptical jig having an abrasive workpiece 92 on which a plurality of thin film magnetic heads are disposed. 94 is mounted on the rectangular plate 90 of the back plate 96 by the coupling member 122 and the fixing pin 96. In this operation, the inclination angle of the back plate 68 with respect to the polishing head 20 is initially set to 0 ° (perpendicular to the reference plane 2b of the polishing table 2).
이 상태에서, POGO 핀은 그러한 변환 유닛으로부터 나오는 연마 량 또는 배선을 검출하는 MR 측정에 사용될 소정의 자기 헤드의 변환 유닛과 접촉한다. POGO 핀은 연마 작업중에도 만족스러운 전기 접촉을 일정하게 달성하기 위해 미 표시된 스프링에 의해 압착된다.In this state, the POGO pin is in contact with a conversion unit of a predetermined magnetic head to be used for MR measurement to detect the amount of polishing or wiring coming out of such a conversion unit. POGO pins are pressed by unmarked springs to consistently achieve satisfactory electrical contact during polishing operations.
경사 구동 수단에 의해 등판(68)의 경사 각도를 설정하고 횡방향의 타원형 지그(94)를 장착한 후에, 연마 헤드(12)를 지닌 연마 헤드 장착 프레임(12)은 가이드 레일(8)을 따라 직선운동하고 회전 연마 테이블(2) 위의 소정 위치에서 정지한다. 그 다음, 연마 헤드(20)가 연마 테이블(2)의 상부 표면을 구성하는 연마 면(2a)까지 하강한다. 이러한 작동에서, 보정 액츄에이터 수단(70A, 70C)에 의한 압력은 등판(68)의 샤프트(66)의 양측(도3의 좌 우측)에서 제로로 설정되고, 그것에 의해 샤프트(66)를 중심으로 하는 등판(68) 및 횡방향의 타원형 지그(94)의 회전이 가능하다.After setting the inclination angle of the back plate 68 by the inclination drive means and mounting the transverse elliptical jig 94, the polishing head mounting frame 12 with the polishing head 12 is along the guide rail 8. It linearly moves and stops at a predetermined position on the rotary polishing table 2. Then, the polishing head 20 is lowered to the polishing surface 2a constituting the upper surface of the polishing table 2. In this operation, the pressure by the correction actuator means 70A, 70C is set to zero on both sides (left and right in FIG. 3) of the shaft 66 of the back plate 68, thereby centering the shaft 66. It is possible to rotate the back plate 68 and the elliptical jig 94 in the transverse direction.
연마 헤드(20)의 하강은 피연마 가공물(92)이 그의 전체 표면에 걸쳐 연마 면(2a)과 접촉하는 상태에서 종결된다. 연마 면(2a)이 오목한 요부의 경사부에서 피연마 가공물(92)과 접촉함에 따라, 그의 전체 표면을 연마 면(2a)에 가져가기 위해 피연마 가공물(92)을 하강 방향에 대해 기울이는 것이 필요하다. 전술한 바와 같이, 본 실시예에서 등판(68), 횡방향의 타원형 지그(94) 및 피연마 가공물(92)은 자유롭게 회전 가능한 상태로 피연마 면(2a)과 접촉하며, 그에 따라 전체의 피연마 면(2a) 및 연마 면(2a)은 피연마 가공물(92)을 기울이는 제어 기구를 사용함이 없이 그러한 회전에 의해 상호 접촉할 수 있다. 또한, 하강 동작 후에, 전체의 피연마 면(92a)과 연마 면(2a) 사이의 확고한 접촉을 달성하기 위해, 횡방향의 타원형 지그(94)는 약간의 상 하운동을 몇차례 겪는다.The lowering of the polishing head 20 is terminated in the state in which the workpiece 92 is in contact with the polishing surface 2a over its entire surface. As the polishing surface 2a comes in contact with the workpiece 92 at the inclined portion of the concave recess, it is necessary to tilt the workpiece 92 relative to the downward direction to bring the entire surface thereof to the polishing surface 2a. Do. As described above, in this embodiment, the back plate 68, the lateral oval jig 94 and the workpiece 92 are in contact with the surface 2a of the polishing surface in a freely rotatable state, so that the entire blood The polishing surface 2a and the polishing surface 2a can be brought into contact with each other by such rotation without using a control mechanism for tilting the workpiece 92. Further, after the lowering operation, the transverse elliptical jig 94 undergoes some up and down movement several times in order to achieve a firm contact between the entire polished surface 92a and the polishing surface 2a.
본 실시에에서 연마 면(2a)이 오목한 요부로서 형성되어 있으므로, 피연마 가공물(92)의 압착이 샤프트(66)에 의해서만 달성되는 경우에도 연마 면(2a)상에서의 피연마 면(92a)의 상이한 부분의 압력은 연마 작업중에 피연마 가공물의 회전의 결과로서 변화될 수도 있다. 이러한 이유로, 연마 헤드(20)가 직선 왕복운동하는 경우에 연마 헤드(20)의 회전 중심이 피연마 가공물(92)의 그것과 일치하고 그러한 회전 중심이 연마 테이블(2)의 직경상에 또는 그의 연장부상에 잔존하는 구성이 채택된다.In this embodiment, since the polishing surface 2a is formed as a concave recess, even if the pressing of the workpiece 92 is achieved only by the shaft 66, the polishing surface 92a on the polishing surface 2a is formed. The pressure of the different parts may be changed as a result of the rotation of the workpiece to be polished during the polishing operation. For this reason, when the polishing head 20 is linearly reciprocated, the center of rotation of the polishing head 20 coincides with that of the workpiece 92 and such center of rotation is at or above the diameter of the polishing table 2. The configuration remaining on the extension is adopted.
연마 헤드(20)의 하강의 말기는, 전자기 정전용량형의 미 표시된 근접 센서에 의해 연마 면(2a)의 소정 위치가 소정 값에 접근하는 것을 검출하는 것에 의해 판별된다. 또한, 고주파 파를 이용하는 자기 검출형 또는 거리 검출형의 근접 센서가 사용될 수도 있다.The end of the lowering of the polishing head 20 is determined by detecting that a predetermined position of the polishing surface 2a approaches a predetermined value by an unmarked proximity sensor of electromagnetic capacitance type. In addition, a magnetic detection type or a distance detection type proximity sensor using a high frequency wave may be used.
피연마 면(92a)의 연마는 전체의 피연마 면(92a)과 연마 면(2a)의 접촉에 의해 달성된다. 연마 작업중에, 피연마 가공물(92)은 탄성 고무 쿠션(97)를 통해 연마 면(2a)에 압착되고, 피연마 가공물(92)은 연마 면(2a)과 접촉을 용이하게 하게 하도록 그의 종방향에 수직인 다수의 홈(92b)을 구비한다. 이 때문에, 피연마 가공물(92)은 샤프트(66)가 보정 액츄에이터 수단(70B)에 의해서만 압착되는 경우에도 용이하게 만곡되고, 그에 따라 압착력이 전체의 피연마 면(92a)에 걸쳐 효과적으로 확산되고 또 단순히 탄성 부재에 의해 연마 면에 대한 피연마 가공물에서의 연마 량의 변동이 감소될 수 있다.Polishing of the to-be-polished surface 92a is achieved by contact of the to-be-polished surface 92a and the polishing surface 2a. During the polishing operation, the workpiece 92 is pressed onto the polishing surface 2a through an elastic rubber cushion 97, and the workpiece 92 is in its longitudinal direction to facilitate contact with the polishing surface 2a. It has a plurality of grooves 92b perpendicular to it. For this reason, the workpiece 92 is easily bent even when the shaft 66 is squeezed only by the correction actuator means 70B, whereby the pressing force is effectively spread over the entire to-be-polished surface 92a, and Variation in the amount of polishing in the workpiece to be polished relative to the polishing surface can be reduced simply by the elastic member.
그러나, 연마 속도 및 연마 량은, 연마 작업의 개시시에 연마 면(2a)과 피연마 면(92a) 사이의 접촉 상태와 연마 면(2a)상의 연마 다이아몬드 슬러리 상감( inlaid)의 소비에 따라 각 연마 작업에서 변동될 수도 있다. 본 발명에서는, 측정된 값에 기초하여 보정 액츄에이터 수단(70B)의 압착력을 조절하고 연마 량을 측정하는 폐쇄 회로 제어가 채택되며, 그것에 의해 연마 량의 미세한 제어와 상이한 피연마 가공물 사이의 연마량을 동일화하는 것이 가능하다. 또한, 연마 단계중에, 피연마 가공물(92)의 양 단부의 주변의 압착력은 보정 액츄에이터 수단(70A, 70C)에 의해 조절되며, 그것에 의해 연마 량을 제어함과 동시에 피연마 가공물의 종방향으로의 연마 량의 변동을 감소시킨다.However, the polishing rate and the amount of polishing depend on the contact state between the polishing surface 2a and the polished surface 92a at the start of the polishing operation and the consumption of the abrasive diamond slurry inlaid on the polishing surface 2a. It may vary in the polishing operation. In the present invention, a closed circuit control for adjusting the pressing force of the correction actuator means 70B based on the measured value and measuring the amount of polishing is adopted, whereby fine control of the amount of polishing and the amount of polishing between the different to-be-processed workpieces are adopted. It is possible to identify them. In addition, during the polishing step, the pressing force around both ends of the workpiece 92 is adjusted by the correction actuator means 70A, 70C, thereby controlling the polishing amount and simultaneously in the longitudinal direction of the workpiece. Reduces fluctuations in the amount of polishing
전술한 연마 작업 도중에, 피연마 가공물(92)의 동일 위치가 연마 면(2a)과 접촉한 상태로 유지되면 불균형 마모가 발생될 수도 있다. 이 때문에, 연마헤드(20)를 지닌 회전식 지지 유닛(16)이 연마 헤드 요동 모터(32)에 의해 소정의 각도 범위 내에서 왕복운동하고, 연마 헤드 장착 프레임(12)은 소정의 범위 내에서 직선 왕복 운동한다. 따라서, 연마 작업 도중에, 연마 헤드(20)는 회전 왕복 운동 및 직선 왕복 운동으로 이루어진 운동을 실행하여, 연마 면의 불균형 마모를 방지한다.During the above-described polishing operation, uneven wear may occur if the same position of the workpiece 92 remains in contact with the polishing surface 2a. For this reason, the rotary support unit 16 with the polishing head 20 reciprocates by the polishing head rocking motor 32 within a predetermined angle range, and the polishing head mounting frame 12 is straight within the predetermined range. Reciprocate Therefore, during the polishing operation, the polishing head 20 executes a movement consisting of a rotary reciprocating motion and a linear reciprocating motion, thereby preventing an uneven wear of the polishing surface.
전술한 실시예에서, MR 값은 피연마 가공물상의 세 지점에서 측정되고, 이들 세 지점상의 하중은 3개의 보정 액츄에이터 수단에 의해 조절되지만, 측정 점의 수 및 하중 점의 수는 전술한 것에 한정되지 않는다. 또한, 측정 대상은 MR 값에 한정되지 않으며, 예컨대 연마 량을 측정하기 위한 추가의 전극을 피연마 가공물에 제공하는 것에 의해 저항 변화를 측정하는 것, 또는 현미경 등의 광학 수단에 의해 피연마 표면의 형상을 직접 처리하는 것과, 화상 처리를 그러한 연마된 형상에 적용하는 것에 의해 연마 량을 얻는 것이 가능하다. 또한, 보정 액츄에이터 수단은 전술한 실시예에 채용된 저 마찰 공기 실린더에 한정되지 않으며, 전자석형 등의 각종 구동 수단으로 이루어질 수도 있다.In the above embodiment, the MR value is measured at three points on the workpiece, and the load on these three points is adjusted by three correction actuator means, but the number of measurement points and the number of load points are not limited to the above. Do not. In addition, the measurement object is not limited to the MR value, for example, by measuring the change in resistance by providing an additional electrode for the workpiece to measure the amount of polishing, or by optical means such as a microscope, It is possible to obtain the amount of polishing by directly processing the shape and by applying image processing to such polished shape. Further, the correction actuator means is not limited to the low friction air cylinder employed in the above-described embodiment, and may be made of various driving means such as an electromagnet type.
횡방향의 타원형 지그상에 고정되고 피연마 가공물을 지지하기에 적합한 고무 쿠션은, 자체의 접착 특성 또는 진공 흡입 특성에 의해 피연마 가공물을 지지하고 또 탄성 변형에 의해 실질적으로 오목한 연마 면을 따라 변형되는 것이 가능한 탄성 특성을 갖는 어떠한 재료로도 구성될 수 있다. 또한, 상기 실시예에서 연마 면을 따른 변형은 종방향에 수직인 다수의 홈을 갖는 피연마 가공물을 제공하는 것에 의해 촉진되지만, 그러한 효과는 피연마 가공물의 두께를 감소시키거나 피연마가공물에 보다 탄력 있는 재료를 채용하는 것에 의해 달성될 수도 있다. 또한, 측정 및 제어 수단은 전술한 실시예에 개시한 구성에 한정되지 않으며 측정 값에 기초하여 피연마 가공물의 연마 량을 측정하는 것과 피연마 가공물상의 압착력을 조절하는 것이 가능한 어떠한 수단으로도 구성될 수 있다.The rubber cushion fixed on the transverse elliptical jig and suitable for supporting the workpiece, supports the workpiece by its adhesive or vacuum suction properties and deforms along the substantially concave polishing surface by elastic deformation. It can be composed of any material with elastic properties that can be made. Further, in the above embodiment, the deformation along the polishing surface is facilitated by providing the workpiece with a plurality of grooves perpendicular to the longitudinal direction, but such an effect is to reduce the thickness of the workpiece or to improve the workpiece. It may also be achieved by employing a resilient material. In addition, the measuring and control means is not limited to the configuration disclosed in the above-described embodiments, and may be composed of any means capable of measuring the polishing amount of the workpiece to be adjusted and adjusting the pressing force on the workpiece, based on the measured value. Can be.
본 발명에 의하면, 피연마 가공물을 주로 고무로 구성된 탄성 부재를 통해 실질적으로 오목한 연마 면에 압착하는 것에 의해, 또 피연마 가공물의 후방 표면에 그의 종방향에 수직인 다수의 홈을 제공하는 것에 의해, 전체의 피연마 면을 연마 면과 용이하게 접촉시키는 것이 가능하고, 그것에 의해 만족스러운 크라운 형상을 얻는 것이 가능하다.According to the present invention, the workpiece is pressed into a substantially concave polishing surface through an elastic member mainly composed of rubber, and the rear surface of the workpiece is provided with a plurality of grooves perpendicular to its longitudinal direction. The entire polished surface can be easily brought into contact with the polishing surface, whereby a satisfactory crown shape can be obtained.
또한, 전술한 폐쇄 회로 제어를 통해 크라운 가공에서 연마 량을 제어하는 것에 의해, 종래의 장치에서 발생하는 상이한 피연마 가공물들 사이의 연마 양의 변동을 감소시키는 것이 가능하다. 또한, 단일의 피연마 가공물의 범위 내에서 피 가공물의 종방향을 따라 각 부분의 연마 량을 제어하는 것이 가능하고, 그것에 의해 종래의 장치에서 발생하는 각 피연마 가공물 내의 연마 량의 변동을 제거한다.In addition, by controlling the amount of polishing in the crown processing through the above closed circuit control, it is possible to reduce the variation in the amount of polishing between the different workpieces generated in the conventional apparatus. It is also possible to control the amount of polishing of each part along the longitudinal direction of the workpiece within the range of a single workpiece, thereby eliminating the variation in the amount of polishing in each workpiece to be produced in the conventional apparatus. .
본 발명에 의하면 자기 헤드의 고 정밀도의 크라운 가공이 가능하다.According to the present invention, highly accurate crown processing of the magnetic head is possible.
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