KR100343652B1 - 공기를 사용하지 않는 연마패드 컨디셔닝 장치 - Google Patents

공기를 사용하지 않는 연마패드 컨디셔닝 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100343652B1
KR100343652B1 KR1020000049234A KR20000049234A KR100343652B1 KR 100343652 B1 KR100343652 B1 KR 100343652B1 KR 1020000049234 A KR1020000049234 A KR 1020000049234A KR 20000049234 A KR20000049234 A KR 20000049234A KR 100343652 B1 KR100343652 B1 KR 100343652B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polishing pad
bladder
conditioner
conditioning
bladder body
Prior art date
Application number
KR1020000049234A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20020016088A (ko
Inventor
한정길
김태형
조정훈
오상헌
김익주
Original Assignee
윤종용
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자 주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1020000049234A priority Critical patent/KR100343652B1/ko
Publication of KR20020016088A publication Critical patent/KR20020016088A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100343652B1 publication Critical patent/KR100343652B1/ko

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B53/00Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
    • B24B53/017Devices or means for dressing, cleaning or otherwise conditioning lapping tools
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B53/00Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
    • B24B53/12Dressing tools; Holders therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

본 발명은 웨이퍼의 표면을 연마하기 위한 연마패드를 컨디셔닝하기 위한 컨디셔닝 장치를 개시한다. 컨디셔너 블래더는 소정의 길이를 가지며 내부에 공동이 마련된 실린더형 블래더 몸체와 이 실린더형 블래더 몸체의 바깥 면의 한 쪽에는 길이방향을 따라서 "T"자형 고정부재가 일체적으로 형성되어 있고, 다른 한 쪽에는 상기 연마패드와 접촉하여 상기 연마패드의 표면을 컨디셔닝하기 위한 다이아몬드 스트립퍼가 접착되어 있다. 컨디셔너 아암은 "T"자형 고정부재를 끼워서 컨디셔너 블래더를 일체적으로 매달기 위한 구조를 갖는다. 컨디셔너 블래더의 몸체는 탄성재질로 만들어지며 평상시의 단면 형상은 원 또는 타원형의 형상을 유지하지만, 연마패드를 컨디셔닝하기 위해 컨디셔너 아암이 컨디셔너 블래더에 힘을 가하여 연마패드쪽으로 누를 때에는 블래더 몸체의 내부 공동에 공기를 집어넣지 않고서도 블래더 몸체의 탄성에 의해 연마패드와 접하는 부분의 다이아몬드 스트립퍼는 편편하게 펴져서 연마패드의 표면에 고르게 압착한다. 다른 예로서, 블래더 몸체의 내부를 공동화하지 않고 탄성재질로 꽉채우고 다이아몬드 스트립퍼가 부착되는 바닥면을 약간의 라운드 형상으로 만들되 라운드의 곡률은 컨디셔너 아암이 힘을 가할 때 연마패드와 편편하게 압착할 수 있는 정도로 만든다.

Description

공기를 사용하지 않는 연마패드 컨디셔닝 장치 {AIRLESS TYPE CONDITIONING APPARATUS FOR POLISHING PAD}
본 발명은 연마패드의 컨디셔닝 장치와 이의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 화학적/기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing:이하 "CMP"라 칭함)시에 사용되는 연마패드(Polishing Pad)를 컨디셔닝(Conditioning or Dressing :이하 "컨디셔닝"으로 칭함)하는 장치의 헤드와 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.
CMP란 주로 반도체 제조공정에 널리 적용되는 연마공정으로서 도 1에 도시된 것처럼, 회전되는 정반(10) 위에 연마 패드(12)를 부착하고 캐리어(Carrier)(14)가 연마대상 물체인 웨이퍼(Wafer)(16)를 잡고 그 패드 위에 연마액(Slurry)을 공급하면서 웨이퍼 헤드(18)라는 웨이퍼 홀딩 조립체가 웨이퍼를 잡고 있는 캐리어에 압력을 가하여 연마 패드(12)에 밀착시키면서 정반과 캐리어를 서로 상대 운동시켜 칩의 패턴 위에 형성된 메탈이나 옥사이드를 연마하는 가공방법이다. 이때 사용되는 연마 패드의 표면에는 수많은 미공(직경 30 -70μm)들이 연마액을 담아두어 웨이퍼에 압력을 가할 때 펌핑 효과(Pumping Effect)를 냄으로서 연마효율(Removal Rate)을 증가 시켜준다.
그런데 CMP 설비의 공통적인 특징은 연마패드나 슬러리 등과 같은 소모성 부품들이 조합을 이루어 데이터에 영향을 미치면서 연마를 하는 것이다. 소모성 부품을 많이 사용하다보니 각각의 소모성 부품 하나 하나가 데이터에 많은 영향을 주고 있다. 연마가 진행됨에 따라 연마패드의 미공이 마모되고, 연마 잔류물이 연마패드의 미공을 막게되며, 연마패드가 마모됨에 따라 연마패드의 평탄화가 깨어지게 된다. 이로 인해 CMP 공정의 궁극적 목표인 웨이퍼내의 광역 평탄화와 웨이퍼간의 평탄화 등을 달성할 수 없게 된다.
이때 연마패드의 마모되거나 막힌 미공 그리고 깨어진 연마패드의 평탄화를 원상태로 복귀시키기 위해 컨디셔너를 이용하여 변형된 패드의 표면을 절삭하게 된다. 이런 작업을 컨디셔닝이라 하고, 이를 위한 장비를 연마패드 컨디셔너라 한다. 컨디셔닝 작업 형태는 여러 가지가 있는데, 연마패드의 성능 특성상 웨이퍼 1매 진행시마다 매번 컨디셔닝 장치가 연마의 생산성을 높이고자 본 작업인 CMP와 동시에 행할 수 있다.
컨디셔닝 장비는 현재 여러 가지 종류가 사용되고 있다. 종래의 대표적인 컨디셔닝 장비 중의 하나로 스피드 팜앤아이펙사(Speed FamIpec company)의 제품인 아반티776(AVANTI776)에서는 이러한 문제가 크게 두드러지고 있다. 도 2는 아반티776 장비의 단면도를 도시한다. 이 컨디셔닝 장비의 구조는 공기 주입형 컨디셔너 블래더를 채용하는 점에 특징이 있는 것으로서, 컨디셔너 조립체에 연결된 막대형 컨디셔너 아암(20)에 컨디셔너 블래더(Bladder)(22)가 결합되고 이 컨디셔너 블래더(22)의 바닥과 측면에는 연마패드(12)를 컨디셔닝하기 위한 다이아몬드 스트립퍼(diamond stripper)(24)가 강하게 접착되어 있다. 그리고, 컨디셔너 아암(20)의 양 측면에는 순수(de-ionized water) 공급부(26A, 26B)가 붙어있는 구조이다.
여기서, 컨디셔너 블래더(22)는 고무(rubber)와 같은 탄성재질로 만들어지고 내부에 공기 주입을 위한 공동(28)이 마련된 둥그스름한 단면의 공기주머니 형상을 갖는 실린더형 블래더 몸체(28A)와 이 블래더 몸체의 상부에 길이방향으로 "T"자형 조립부재(28A)가 일체화된 구조를 갖는다. 그리고, 블래더 몸체(28)의 탄성재질의 두께는 전반적으로 그리 두껍지 않고 특히 다이아몬드 스트립퍼(24)가 부착되는 바닥면 부근은 그 두께를 상대적으로 얇게 만들어 내부 공동에 공기가 주입되지 않으면 자체의 고정적인 형상을 유지하기 힘들기 때문에, 실제로 컨디셔닝 작업을 하기 위해서는 블래더 몸체(28) 안으로 공기를 불어넣어 팽팽한 상태를 유지하여야 한다.
이를 위해 블래더 몸체(28)에 공기를 공급하기 위한 별도의 장비가 더 필요하다. 이 공기공급장비는 대략 80psi 정도의 압력을 갖는 공기를 만들어내는 공기가압부(32)와 이 공기가압부(32)를 중심으로 하여 다수개의 공기공급부(30A~30N)가 연결된다. 공기공급부(30A~30N)는 각각은 하나의 블래더 몸체와 일 대 일로 연결된다. 예컨대 공기공급부(30A)는 블래더 몸체(28)의 어느 한 곳에 마련된공기주입구(비도시)와 연결되어 공기가압부(32)로부터 제공받은 가압된 공기를 대략 1.5psi 정도의 압력으로 낮춰서 블래더 몸체(28)에 제공한다. 공기공급부(30A)로부터 공기를 공급받은 블래더 몸체(28)는 도 2에 도시된 바와 같이 부풀려져서 그 바닥면에 부착된 다이아몬드 스트립퍼(24)가 둥글게 펴지고 컨디셔너 아암(20)이 가하는 하강력에 의해 연마패드(12)와 일정한 면적으로 접하면서 연마패드(12)와 상대운동을 통해 컨디셔닝 처리를 한다.
그런데, 이와 같은 컨디셔닝 장비의 문제점은 우선, 블래더 몸체(28)에 가압된 공기를 공급하여야 하는 별도의 공기공급장비를 갖추어야 한다는 점이다. 이와 같은 장비를 갖추기 위해서는 그러한 장비 자체의 비용도 부담이 크지만 유지 관리비가 큰 부담으로 작용한다.
나아가, 블래더 몸체(28)의 내부 공기 압력의 변화에 따라 탄성재질로 된 블래더 몸체(28)의 탄성 변화가 민감하게 나타나고 이러한 탄성 변화는 곧바로 컨디셔닝 공정의 생산성과 품질에 크게 영향을 미친다. 즉, 블래더 몸체(28)의 내부 공기의 양이나 압력의 변화에 따라 연마공정의 데이터 헌팅이 발생하며 경우에 따라서는 설비 다운의 고질적인 문제의 원인으로 작용하기도 한다. 따라서, 블래더 몸체(28)의 내부 공기 압력은 일정하게 유지해주어야 하며 이를 위해 일정 압력을 유지하기 위한 정교한 제어수단이 더 필요로 하며, 이는 곧 경제적 부담을 가중시키는 것이 된다.
또한, 블래더 내부에 공기 입출함에 따라 블래더 몸체(28)의 표면이 늘어나는 현상이 발생하여 장시간 사용 시에는 컨디셔닝 효과가 크게 감소되기도 한다.
뿐만 아니라 다이아몬드 스트리퍼(24)가 연마패드(12)와 맞닿는 면적("A" 영역)이 그리 넓지 않아 실제로 다이아몬드 스트리퍼(24)의 나머지 부분("B" 와 "C" 영역)은 컨디셔닝에 직접 기여하지 못하게 된다.
위와 같은 종래 기술의 문제점을 고려하여, 본 발명은 공기를 사용할 필요가 없어 공기공급장비를 별도로 구비하지 않아도 되는 간단한 구조를 가지면서도 연마패드의 컨디셔닝 성능은 더욱 향상시킬 수 있는 개량된 구조의 컨디셔너 블래더를 채용하는 컨디셔닝 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
도 1은 종래에 일반적으로 사용되는 화학적 기계적 연마장치의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 종래의 대표적인 컨디셔닝 장치 중 하나인 공기 주입형 컨디셔닝 장비의 구조를 개념적으로 도시한 도면이다.
도 3A, 3B, 3C는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 컨디셔닝 장치의 구조를 개념적으로 도시한 도면이다.
도 4A, 4B는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 컨디셔닝 장치의 구조를 개념적으로 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 컨디셔닝 장치와 종래의 공기 주입형 컨디셔닝 장치를 각각 이용하여 컨디셔닝시 연마패드에 스크래치 불량이 일어나는 빈도를 비교적으로 도시한 그래프이다.
도 6 본 발명의 컨디셔닝 장치와 종래의 공기 주입형 컨디셔닝 장치를 각각 이용하여 컨디셔닝시 연마패드의 절삭성능을 비교적으로 도시한 그래프이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
40, 60: 컨디셔너 아암
42, 62: 컨디셔너 블래더
44, 64: 블래더 몸체
46, 66: 고정부재
50, 68: 다이아몬드 스트립퍼
52A, 52B, 70A, 70B: 순수 공급부
54, 72: 연마패드
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제 1 측면에 따르면, 웨이퍼의 표면을 연마하기 위한 연마패드를 컨디셔닝하기 위한 컨디셔닝 장치에 있어서, 소정의 길이를 가지며 내부에 공동이 마련된 실린더형 블래더 몸체와 상기 실린더형 블래더 몸체의 바깥면의 한 쪽에는 상기 블래더 몸체의 길이방향을 따라서 "T"자형 고정부재가 일체적으로 형성되어 있고, 다른 한 쪽에는 상기 연마패드와 접촉하여 상기 연마패드의 표면을 컨디셔닝하기 위한 다이아몬드 스트립퍼가 접착되어 있는 컨디셔너 블래더; 및 상기 "T"자형 고정부재를 끼워서 상기 컨디셔너 블래더를 일체적으로 매달기 위한 컨디셔너 아암을 구비하며, 상기 컨디셔너 블래더의 상기 실린더형 블래더 몸체는 탄성재질로 만들어지며 평상시의 단면 형상은 원 또는 타원형의 형상을 유지하지만, 상기 연마패드를 컨디셔닝하기 위해 상기 컨디셔너 아암이 상기 컨디셔너 블래더에 힘을 가하여 상기 연마패드쪽으로 누를 때에는 상기 실린더형 블래더 몸체의 내부 공동에 공기를 집어넣지 않고서도 상기 실린더형 블래더 몸체의 탄성에 의해 상기 연마패드와 접하는 부분의 상기 다이아몬드 스트립퍼는 편편하게 펴져서 상기 연마패드의 표면에 고르게 압착되는 것을 특징으로 하는 컨디셔닝 장치가 제공된다.
본 발명의 제 2 측면에 따르면, 웨이퍼의 표면을 연마하기 위한 연마패드를 컨디셔닝하기 위한 컨디셔닝 장치에 있어서, 소정의 길이를 가지며 단면이 대략 타원 형상 내지 불완전 대칭의 타원형상을 갖는 막대형 블래더 몸체와 상기 막대형 블래더 몸체의 바깥 면의 한 쪽에는 상기 블래더 몸체의 길이방향을 따라서 "T"자형 고정부재가 일체적으로 형성되어 있고, 다른 한 쪽에는 상기 연마패드와 접촉하여 상기 연마패드의 표면을 컨디셔닝하기 위한 다이아몬드 스트립퍼가 접착되어 있는 컨디셔너 블래더; 및 상기 "T"자형 고정부재를 끼워서 상기 컨디셔너 블래더를 일체적으로 매달기 위한 컨디셔너 아암을 구비하며, 상기 컨디셔너 블래더의 상기 막대형 블래더 몸체는 탄성재질로 속이 꽉차게 만들어지되 상기 연마패드와 접하는 바닥면은 평상시에는 약간의 라운드를 가지는 곡면 형상을 가지나, 상기 바닥면의 라운드는 상기 연마패드를 컨디셔닝하기 위해 상기 컨디셔너 아암이 상기 컨디셔너 블래더에 힘을 가하여 상기 연마패드쪽으로 누를 때에는 상기 막대형 블래더 몸체의 탄성에 의해 상기 연마패드와 접하는 바닥면은 평면으로 되면서 상기 다이아몬드 스트립퍼가 편편하게 펴져서 상기 연마패드의 표면에 고르게 압착되도록 하는 정도인 것을 특징으로 하는 컨디셔닝 장치가 제공된다.
본 발명의 컨디셔닝 장치는 블래더 몸체에 공기를 주입하지 않고 탄성재질이갖는 탄성력을 이용하여 연마패드와의 접촉면적을 크고 균일하게 할 수 있으므로, 기존의 컨디셔닝 장치에서 필요로 하는 공기공급장치를 구비하지 않아도 되어 경제적인 컨디셔닝 장치를 갖출 수 있고, 나아가, 컨디셔닝 특성을 장시간 균일하게 유지할 수 있어 반도체 생산공정의 품질향상과 생산성 제고에 기여할 수 있다.
본 발명의 다른 특징과 잇점은 아래의 상세한 설명과 본 발명의 다양한 실시예의 특징을 예시하는 첨부하는 도면을 참조하면 보다 명확해질 것이다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 관하여 상세히 설명하기로 한다.
도 3A는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 연마패드 컨디셔닝 장치의 단면 형상을 도시한다. 도 3B는 도 3A의 컨디셔닝 장치를 이용하여 연마패드(54)를 실제로 컨디셔닝할 때의 모습을 도시하며, 도 3C는 도 3B에서 절단선 A-A에서 바라본 측면도이다.
제 1 실시예에 따른 연마패드 컨디셔닝 장치는 컨디셔너 아암(40), 컨디셔너 블래더(42), 다이아몬드 스트립퍼(50)를 기본적으로 구비하며, 컨디셔너 아암(40)의 양 측면에는 순수 공급부(52A, 52B)가 결합된다.
컨디셔너 아암(40)은 일정한 길이를 갖는 막대형 아암 부재로서 컨디셔너 블래더(42)의 일 구성부인 "T"자형 고정부재(48)를 끼워서 컨디셔너 블래더(42)를 일체적으로 조립될 수 있는 구조를 갖는다.
제 1 실시예에 따른 연마패드 컨디셔닝 장치가 종래의 컨디셔닝 장치와 구별되는 주요한 차이점은 공기공급장치를 필요로 하지 않는다는 점이다. 즉, 컨디셔너블래더(42)는 내부에 공동(46)이 마련된 단면이 타원형상인 실린더형 블래더 몸체(44)와 상기 실린더형 블래더 몸체의 바깥면의 한 쪽에는 상기 몸체의 길이방향을 따라서 "T"자형 고정부재(48)가 블래더 몸체(44)와 일체적으로 형성되어 있고, 맞은편 면 즉, 몸체(44)의 바닥면에는 연마패드(54)와 접촉하여 연마패드의 표면을 컨디셔닝하기 위한 다이아몬드 스트립퍼(50)가 접착되어 있는 구조를 갖는다. 컨디셔너 블래더(42)는 고무와 같은 탄성을 갖는 재질로 만든다.
특히, 블래더 몸체(44)는 그 두께를 두껍게 만든다. 블래더 몸체(44)의 두께는 도 3B에 도시된 것처럼 컨디셔너 아암(40)을 통해 전달되는 하강력에 의해 컨디셔너 블래더(42)를 연마패드(54)에 쪽으로 누를 때, 다이아몬드 스트립퍼(50)가 부착된 바닥면이 편편하게 펴지고 블래더 몸체(44)의 측벽은 찌그러들지 않고 곧바로 서서 지지력을 제공해줄 수 있는 정도의 두께를 갖도록 하면 된다. 즉, 컨디셔너 블래더의 상기 실린더형 몸체는 평상시의 단면 형상은 원 또는 타원형의 형상을 유지한다. 하지만, 연마패드(54)를 컨디셔닝하기 위해 컨디셔너 아암(40)이 상기 컨디셔너 블래더(42)에 힘을 가하여 연마패드(54) 쪽으로 누를 때에는 블래더 몸체(44)의 내부 공동(46)에 공기를 집어넣지 않고서도 블래더 몸체(44)의 탄성에 의해 연마패드(54)와 접하는 부분의 다이아몬드 스트립퍼(50)는 편편하게 펴져서 연마패드(54)의 표면에 고르게 압착된다.
다음으로, 도 4A는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 연마패드 컨디셔닝 장치의 단면 형상을 도시하며, 도 4B는 도 4A에서 절단선 B-B에서 바라본 측면도이다.
제 2 실시예에 따른 컨디셔닝 장치는 제 1 실시예와 같이 컨디셔너 아암(60)과, 컨디셔너 블래더(62), 다이아몬드 스트립퍼(68)를 구비하며 컨디셔너 아암(60)의 측면에 순수 공급부(70A, 70B)가 결합되는 구조를 갖는다.
구체적으로, 컨디셔너 아암(60)은 제 1 실시예와 동일한 구조를 갖지만, 컨디셔너 블래더(62)는 다른 구조로 만들어진다. 컨디셔너 블래더(62)는 소정의 길이를 갖는 단면이 대략 타원 형상 내지 불완전 대칭의 타원형상을 갖는 막대형 블래더 몸체(64)와 이 막대형 블래더 몸체(64)의 바깥면의 한 쪽에는 상기 몸체의 길이방향을 따라서 "T"자형 고정부재(66)가 일체적으로 형성되어 있고, 다른 한 쪽에는 연마패드(72)와 접촉하여 연마패드의 표면을 컨디셔닝하기 위한 다이아몬드 스트립퍼(68)가 접착되어 있는 구조를 갖는다.
특히, 컨디셔너 블래더(62)의 상기 막대형 블래더 몸체(64)는 제 1 실시예와는 달리 내부에 공동을 마련하지 않고, 고무와 같은 탄성재질로 속이 꽉차게 만들되 상기 연마패드(72)와 접하는 바닥면은 평상시에는 약간의 라운드를 가지는 곡면 형상을 가지는 구조로 만든다. 상기 바닥면의 라운드의 곡률은 연마패드(72)를 컨디셔닝하기 위해 컨디셔너 아암(60)이 컨디셔너 블래더(62)에 힘을 가하여 연마패드쪽으로 누를 때에는 막대형 블래더 몸체(64)의 탄성에 의해 연마패드(72)와 접하는 바닥면은 편편한 평면으로 되면서 다이아몬드 스트립퍼(68)가 편편하게 펴져서 상기 연마패드의 표면에 고르게 압착되도록 하는 정도가 되도록 만든다.
본 발명에 따른 연마패드 컨디셔닝 장치는 컨디셔너 블래더에 공기를 공급하지 않아도 됨으로써 공기공급을 위한 고가의 장비를 구비할 필요가 없으며 또한 그러한 장비를 유지 관리하는 데 소요되는 비용을 부담하지 않아도 되므로 매우 경제적이다.
또한, 컨디셔너 블래더에 주입하는 공기의 양이나 압력의 변화에 따른 헌팅 현상을 방지할 수 있어 연마패드의 컨디셔닝 품질을 높일 수 있다. 실제로 위에 설명한 실시예에 따라서 제작한 컨디셔닝 장치를 이용하여 실험한 바에 따르면 도 5에 도시된 그래프처럼 연마패드에 스크래치 불량이 일어나는 빈도가 종래의 컨디셔닝 장치에 비하여 많이 개선됨을 확인할 수 있었다. 또한, 도 6에 도시된 그래프에서 확인할 수 있듯이 연마패드 절삭성능도 종래의 컨디셔닝 장치와 거의 동일한 것으로 나타났다.
나아가, 컨디셔너 블래더에 공기를 주입하지 않으므로 인하여 블래더의 형상 변형이 일어나지 않아 오래 사용하더라도 컨디셔닝 특성이 항상적으로 유지될 수 있는 장점이 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있다. 따라서, 특허청구범위의 등가적인 의미나 범위에 속하는 모든 변화들은 전부 본 발명의 권리범위안에 속함을 밝혀둔다.

Claims (4)

  1. 웨이퍼의 표면을 연마하기 위한 연마패드를 컨디셔닝하기 위한 컨디셔닝 장치에 있어서,
    소정의 길이를 가지며 내부에 공동이 마련된 실린더형 블래더 몸체와 상기 실린더형 블래더 몸체의 바깥면의 한 쪽에는 상기 블래더 몸체의 길이방향을 따라서 "T"자형 고정부재가 일체적으로 형성되어 있는 컨디셔너 블래더;
    상기 컨디셔너 블래더의 바닥쪽에는 접착되어 상기 연마패드와 맞닿아 상기 연마패드의 표면을 컨디셔닝하기 위한 다이아몬드 스트립퍼; 및
    상기 "T"자형 고정부재를 끼워서 상기 컨디셔너 블래더를 일체적으로 매달기 위한 컨디셔너 아암을 구비하며,
    상기 컨디셔너 블래더의 상기 실린더형 블래더 몸체는 탄성재질로 만들어지며 평상시의 단면 형상은 원 또는 타원형의 형상을 유지하지만, 상기 연마패드를 컨디셔닝하기 위해 상기 컨디셔너 아암이 상기 컨디셔너 블래더에 힘을 가하여 상기 연마패드쪽으로 누를 때에는 상기 실린더형 블래더 몸체의 내부 공동에 공기를 집어넣지 않고서도 상기 실린더형 블래더 몸체의 탄성에 의해 상기 연마패드와 접하는 부분의 상기 다이아몬드 스트립퍼는 편편하게 펴져서 상기 연마패드의 표면에 고르게 압착되는 것을 특징으로 하는 컨디셔닝 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 컨디셔너 아암의 측면에 결합되어 상기 연마패드의표면에 순수(de-ionized water)를 공급하기 위한 순수 공급부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 컨디셔닝 장치.
  3. 웨이퍼의 표면을 연마하기 위한 연마패드를 컨디셔닝하기 위한 컨디셔닝 장치에 있어서,
    소정의 길이를 가지며 단면이 대략 타원 형상 내지 불완전 대칭의 타원형상을 갖는 막대형 블래더 몸체와 상기 막대형 블래더 몸체의 바깥면의 한 쪽에는 상기 블래더 몸체의 길이방향을 따라서 "T"자형 고정부재가 일체적으로 형성되어 있는 컨디셔너 블래더;
    상기 컨디셔너 블래더의 바닥쪽에는 접착되어 상기 연마패드와 맞닿아 상기 연마패드의 표면을 컨디셔닝하기 위한 다이아몬드 스트립퍼; 및
    상기 "T"자형 고정부재를 끼워서 상기 컨디셔너 블래더를 일체적으로 매달기 위한 컨디셔너 아암을 구비하며,
    상기 컨디셔너 블래더의 상기 막대형 블래더 몸체는 탄성재질로 속이 꽉차게 만들어지되 상기 연마패드와 접하는 바닥면은 평상시에는 약간의 라운드를 가지는 곡면 형상을 가지나, 상기 바닥면의 라운드는 상기 연마패드를 컨디셔닝하기 위해 상기 컨디셔너 아암이 상기 컨디셔너 블래더에 힘을 가하여 상기 연마패드쪽으로 누를 때에는 상기 막대형 블래더 몸체의 탄성에 의해 상기 연마패드와 접하는 바닥면은 평면으로 되면서 상기 다이아몬드 스트립퍼가 편편하게 펴져서 상기 연마패드의 표면에 고르게 압착되도록 하는 정도인 것을 특징으로 하는 컨디셔닝 장치.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 컨디셔너 아암의 측면에 결합되어 상기 연마패드의 표면에 순수(de-ionized water)를 공급하기 위한 순수 공급부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 컨디셔닝 장치.
KR1020000049234A 2000-08-24 2000-08-24 공기를 사용하지 않는 연마패드 컨디셔닝 장치 KR100343652B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000049234A KR100343652B1 (ko) 2000-08-24 2000-08-24 공기를 사용하지 않는 연마패드 컨디셔닝 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000049234A KR100343652B1 (ko) 2000-08-24 2000-08-24 공기를 사용하지 않는 연마패드 컨디셔닝 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020016088A KR20020016088A (ko) 2002-03-04
KR100343652B1 true KR100343652B1 (ko) 2002-07-11

Family

ID=19684907

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000049234A KR100343652B1 (ko) 2000-08-24 2000-08-24 공기를 사용하지 않는 연마패드 컨디셔닝 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100343652B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111584355B (zh) * 2014-04-18 2021-07-13 株式会社荏原制作所 基板处理装置及基板处理系统

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08206943A (ja) * 1995-02-02 1996-08-13 Kawasaki Heavy Ind Ltd ロール研磨装置
JPH1086057A (ja) * 1996-05-31 1998-04-07 Toshiba Corp 研磨装置とそのコンディショナ装置
KR19980042837A (ko) * 1996-11-29 1998-08-17 고지마마따오 연마 패드 및 반도체 웨이퍼를 연마하는 장치
JPH11114835A (ja) * 1997-10-14 1999-04-27 Kawamura Seiki Kk 研磨材及び研磨装置
JPH11262854A (ja) * 1997-12-15 1999-09-28 Canon Inc 精密研磨装置および該精密研磨装置を用いた精密研磨方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08206943A (ja) * 1995-02-02 1996-08-13 Kawasaki Heavy Ind Ltd ロール研磨装置
JPH1086057A (ja) * 1996-05-31 1998-04-07 Toshiba Corp 研磨装置とそのコンディショナ装置
KR19980042837A (ko) * 1996-11-29 1998-08-17 고지마마따오 연마 패드 및 반도체 웨이퍼를 연마하는 장치
JPH11114835A (ja) * 1997-10-14 1999-04-27 Kawamura Seiki Kk 研磨材及び研磨装置
JPH11262854A (ja) * 1997-12-15 1999-09-28 Canon Inc 精密研磨装置および該精密研磨装置を用いた精密研磨方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20020016088A (ko) 2002-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100262105B1 (ko) 연마 패드 및 반도체 웨이퍼를 연마하는 장치
US7708621B2 (en) Polishing apparatus and method of reconditioning polishing pad
US7354337B2 (en) Pad conditioner, pad conditioning method, and polishing apparatus
US6419567B1 (en) Retaining ring for chemical-mechanical polishing (CMP) head, polishing apparatus, slurry cycle system, and method
KR100187700B1 (ko) 웨이퍼 연마장치
US6110012A (en) Chemical-mechanical polishing apparatus and method
JP2002001651A (ja) 基板を研磨する物品
WO2002076674A2 (en) Rigid polishing pad conditioner for chemical mechanical polishing tool
US6554688B2 (en) Method and apparatus for conditioning a polishing pad with sonic energy
JP2004001152A (ja) ドレッサ、ドレッシング方法、研磨装置、及び研磨方法
KR100343652B1 (ko) 공기를 사용하지 않는 연마패드 컨디셔닝 장치
KR19980065993A (ko) 화학 기계적 연마 장치 및 이를 이용한 화학 기계적 연마 방법
US6422922B1 (en) Workpiece holder for polishing, apparatus for polishing workpiece and method for polishing workpiece
US6106371A (en) Effective pad conditioning
US11370080B2 (en) Polishing head for holding substrate and substrate processing apparatus
US6769966B2 (en) Workpiece holder for polishing, polishing apparatus and polishing method
US6875091B2 (en) Method and apparatus for conditioning a polishing pad with sonic energy
JPH1058315A (ja) 研磨装置及び研磨方法
US6648734B2 (en) Polishing head for pressurized delivery of slurry
KR101079414B1 (ko) 웨이퍼 연마 장치용 헤드 조립체
KR20030063409A (ko) 가압멤브레인을 갖춘 연마플래튼
KR100521368B1 (ko) 반도체 소자 제조를 위한 화학 기계적 연마 장치
US6783441B2 (en) Apparatus and method for transferring a torque from a rotating hub frame to a one-piece hub shaft
CN213439165U (zh) 一种弹性打磨头
JP3835122B2 (ja) ワークの研磨方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080602

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee