KR100339637B1 - 화학적 기계적 폴리싱 장치용 폴리싱 패드의 그루브 - Google Patents
화학적 기계적 폴리싱 장치용 폴리싱 패드의 그루브 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (4)
- 화학적 기계적 폴리싱 장치에 설치되는 폴리싱 패드(10a)의 상면에 형성되고, 상기 폴리싱 패드(10a)의 고속 회전에 의한 원심력에 대응하여 슬러리의 이송 및 배출 통로로 사용되며, 폴리싱 패드(10a)의 고속 회전에 따른 슬러리의 유동 속도를 제어하도록 상기 폴리싱 패드(10a)의 중심 부위에서 가장자리 부위까지 원호 형상 그루브(22)·역삼각형상 그루브(22)·육각형상 그루브(26) 등의 그루브를 형성함에 있어서,상기 폴리싱 패드(10a)의 중심 부위에서 가장자리 부위까지 각기 다른 형상의 그루브를 일정 간격으로 배치 형성한 것과,그루브의 깊이를 폴리싱 패드(10a)의 중심 부위에서 가장자리 방향으로 점진적으로 깊게 형성한 것이 포함되는 것을 특징으로 하는 화학적 기계적 폴리싱 장치에 설치되는 폴리싱 패드의 그루브.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 그루브는 측벽이 경사각을 5∼90。 각도 범위 내에서 형성하되 외측 그루브의 경사각을 내측 그루브의 경사각보다 점진적으로 수직하도록 큰 경사각으로 형성한 것을 특징으로 하는 상기 화학적 기계적 폴리싱 장치에 설치되는 폴리싱 패드의 그루브.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,그루브는 폴리싱 패드(10a)의 중심부와 중간부 및 외측부에 통상의 원호형상 그루브(22)와 역삼각형상 그루브(22) 및 육각형상 그루브(26)를 순차적으로 형성한 것을 특징으로 하는 상기 화학적 기계적 폴리싱 장치에 설치되는 폴리싱 패드의 그루브.
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