KR100319819B1 - Method of producing a multi-layer printed-circuit board for a RF power amplifier - Google Patents

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Abstract

알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 공정중 회로형성에 있어서 기존의 건조박막 및 솔더 도금 레지스트 대신에 수차례의 독특한 금도금 방식을 도입하여 건조박막을 박리하지 않은 상태에서 그 위에 다시 회로형성을 하여 단차 부위의 금도금을 성공적으로 완수함으로써, 건조박막의 밀착불량 현상을 효과적으로 개선한 다층 인쇄회로기판의 제조방법이 개시되어 있다. 본 발명에 따르면, 내층 회로와 외층 회로를 형성한후, 고농도의 금도금욕을 이용하여 1차 연질 금도금을 실시하고 금도금 전용박막을 이용하여 회로를 형성하며, 다시 2차 연질 금도금을 실시하고 무전해 동도금을 실시한다. 무전해 도금이 끝나면 다시 금도금 전용박막을 사용하여 회로를 형성한후, 펄스 정류기를 이용하여 펄스 도금을 실시한 다음 3차 강질 금도금을 실시한다. 3차 강질 금도금이 끝나면 금도금 전용박막을 이용하여 회로를 형성하고, 다시 고농도의 금도금욕을 이용하여 4차 연질 금도금을 실시한다. 계속해서 에칭단계와 홀에 대한 플러깅(Plugging)처리를 거치고, 문자인쇄공정, 외형의 가공공정 및 전기 검사 과정을 순차적으로 수행하며, 최종적으로는 플라즈마나 이소프로필 알콜을 이용하여 기판을 세정한다.In the process of forming a multilayer printed circuit board for RF power amplifiers, a number of unique gold plating methods were introduced instead of the existing dry thin film and solder plating resist, and the circuit thin film was formed again without peeling off the dry thin film. By successfully completing the gold plating of the site, a method of manufacturing a multilayer printed circuit board which effectively improves the poor adhesion of a dry thin film is disclosed. According to the present invention, after forming the inner layer circuit and the outer layer circuit, the primary soft gold plating is performed using a high concentration of gold plating bath, and the circuit is formed using a gold plating exclusive thin film, and the second soft gold plating is performed again and electroless Copper plating is performed. After the electroless plating is completed, the circuit is formed again using a gold plating exclusive thin film, followed by pulse plating using a pulse rectifier, followed by a third hard gold plating. After the 3rd hard gold plating is completed, a circuit is formed by using a gold plating exclusive thin film, and then the 4th soft gold plating is performed using a high concentration gold plating bath. Subsequently, the etching step and the plugging of the holes are performed, and the character printing process, the external machining process, and the electrical inspection process are sequentially performed. Finally, the substrate is cleaned by using plasma or isopropyl alcohol.

Description

알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조방법{Method of producing a multi-layer printed-circuit board for a RF power amplifier}Method of producing a multi-layer printed-circuit board for a RF power amplifier

본 발명은 다층 인쇄회로기판의 제조에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 공정중 회로형성에 있어서 기존의 건조박막 및 솔더 도금 레지스트 대신에 수차례의 독특한 금도금 방식을 도입하여 건조박막을 박리하지 않은 상태에서 그 위에 다시 회로형성을 하여 단차 부위의 금도금을 성공적으로 완수함으로써, 건조박막의 밀착불량 현상을 효과적으로 개선한 다층 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the manufacture of multilayer printed circuit boards. More particularly, in the process of forming multilayer printed circuit boards for RF power amplifiers, several unique gold plating methods have been introduced instead of the existing dry thin film and solder plating resist. The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed circuit board which effectively improves a poor adhesion phenomenon of a dry thin film by successfully completing a gold plating of a stepped portion by forming a circuit again thereon without peeling off the dry thin film.

일반적으로, 인쇄회로기판(Printed Cirtuit Board; 이하, PCB라 칭함)은 각종 열경화성 합성수지로 이루어진 보드의 일면 또는 양면에 동선으로 배선한후 보드 상에 IC 또는 전자부품들을 배치 고정하고 이들간의 전기적 배선을 구현하여 절연체로 코팅한 것이다.In general, a printed circuit board (hereinafter, referred to as a PCB) is wired to one or both sides of a board made of various thermosetting synthetic resins in a copper line, and then the IC or electronic components are placed and fixed on the board, and electrical wiring between them is performed. It is implemented and coated with an insulator.

전자부품의 발달로 회로도체를 중첩하여 만드는 다층 PCB가 개발된 이래, 최근에는 다층 PCB의 고밀도화에 관한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 다층 PCB는 VLSI 및 전자부품의 경박, 단소화와 고집적화로 인해 PCB 자체에 많은 특성을 요구하게 되었는데, 이것들의 대부분은 세선(0.1mm이하)과 미소직경 홀(0.3∼0.05mm)의 적용기술을 요하고, 다층화되며 다양화된 신기술의 양산화를 요구하고 있다.Since the development of electronic components, multi-layer PCBs made of overlapping circuit conductors have been developed, researches on the high density of multi-layer PCBs have been actively conducted in recent years. Multilayer PCB has required many characteristics of PCB itself due to the thinness, shortening and high integration of VLSI and electronic components. Most of these products have applied technology of fine wire (0.1mm or less) and micro diameter hole (0.3 ~ 0.05mm). It is required to mass-produce new, multi-layered and diversified technologies.

그런데, 기존 알에프(RF) 전력증폭기용 PCB의 제조공법에서는 몇가지 해결되지 않는 문제점이 있으며, 이를 순차적으로 나타내면 다음과 같다.By the way, there are some problems that are not solved in the manufacturing method of the existing RF (RF) power amplifier PCB, which is shown as follows sequentially.

먼저, 종래에는 경질의 금도금(hard gold)후 연질의 금도금(soft gold)시 경질의 금도금용 레지스트인 건조박막을 박리시켰는데, 이는 원가 상승의 요인이 될 뿐만아니라 단차진 부위 위에 연질의 금도금을 할 때 단차진 부위 아래에서는 건조 박막 라미네이션(lamination)시 박막이 밀착되지 않아 도금액이 침투되어 쇼트 (short)를 유발시키는 문제점이 발생하였다.First, in the related art, when a hard gold plating is performed after hard gold plating, the dry thin film, which is a hard gold plating resist, is peeled off, which not only causes a cost increase but also a soft gold plating on the stepped portion. At the time of the stepped portion, the thin film does not adhere during the dry thin film lamination, so that the plating solution penetrates and causes a short.

다시 말해서, 건조박막(tenting법)이나 Sn 또는 Sn-Pb합금(pattern법)을 이용한 종래의 회로형성 방법에서는 단차진 부위의 건조박막 레지스트의 밀착력을 증대시킬 수 있는 적절한 해결책이 없었다. 통상적으로, 건조박막을 통해서 커버할 수 있는 단차부위는 4㎛이나, 현재 적용중인 제품의 단차는 50∼127㎛로서 건조박막(40∼50㎛)으로는 이를 극복하기 어렵다.In other words, in the conventional circuit forming method using a dry thin film (tenting method) or Sn or Sn-Pb alloy (pattern method), there was no suitable solution to increase the adhesion of the dry thin film resist of the stepped portion. Typically, the step portion that can be covered through the dry thin film is 4㎛, the step of the product currently being applied is 50 ~ 127㎛ as a dry thin film (40 ~ 50㎛) it is difficult to overcome this.

도 3은 종래기술에 따른 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조 공정에 있어서 회로형성시 건조박막의 밀착불량 현상을 나타낸 도면이다.3 is a view showing a poor adhesion of a dry thin film during circuit formation in the manufacturing process of the multilayer printed circuit board for RF power amplifier according to the prior art.

도 3을 참조하면, 종래기술에 따른 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조공정에 있어서 기존 건조박막 레지스트(30)를 사용할 경우 금도금이 과도하게 이루어질 뿐만아니라, 단차진 부위의 측면부분(32)이 금도금할 부위(34)에 제대로 밀착되지 않아서 금도금시 도금층이 건조박막 하단부로 침투되어 회로형성시 원하지 않는 부분이 남게되고, 그 결과로서 쇼트 불량을 유발하는 문제점이 있었다.Referring to Figure 3, in the manufacturing process of the multilayer printed circuit board for the RF power amplifier according to the prior art, when using the existing dry thin film resist 30, as well as excessive gold plating, the side portion 32 of the stepped portion Since the gold layer is not adhered to the portion to be plated properly 34, the plating layer penetrates into the lower portion of the dry thin film during the gold plating so that unwanted portions are left during circuit formation, and as a result, there is a problem of causing short defects.

한편, 종래에는 홀(hole) 메꿈시 사진현상형(PSR) 잉크 자체로 홀속을 충진하였는데 홀속을 완전히 충진하기 위해서는 PSR 잉크를 몇번씩 재반복하여 도포하였다. 그러나, 이러한 일련의 재반복 과정을 거치고도 홀의 일부분이 완전히 충진되지 않아서 와이어 본딩후 에폭시로 몰딩시에 에폭시액이 하단부로 흐르는 경우가 발생하였다.On the other hand, in the past, when filling the hole with PSR ink itself when filling the hole, PSR ink was repeatedly applied several times to completely fill the hole. However, even after such a series of repetition process, a part of the hole is not completely filled, so that the epoxy liquid flows to the lower part when molding with epoxy after wire bonding.

게다가, 종래에는 금도금을 하기전에 무전해 도금을 실시하여 이후 도금된 연질 금도금층이 동도금시나 경질 금도금, 그리고 3차 강질 금도금시 계속 노출되어 있어서 표면이 산화되고 스크래치가 발생하여 최종적으로는 골드 와이어 본딩시 와이어 본딩 불량이 빈번하게 발생하는 문제가 있었다.In addition, conventionally, electroless plating is performed before gold plating, and then the plated soft gold plating layer is continuously exposed during copper plating, hard gold plating, and tertiary hard gold plating, so that the surface is oxidized and scratches are generated. There was a problem that a bad wire bonding occurs frequently.

또한, 기존 DC 정류기로 전기 동도금을 수행할 경우에 홀속 및 표면층에 50㎛이상의 두께로 도금을 하려면 도금시간이 오래 걸리고 홀속과 표면층의 도금 편차가 심하게 발생하였다. 즉, 기존의 직류 동도금 방식은 홀속과 표면의 두께편차가 60:100 정도로 발생되고 도금면적이 넓을 경우 장시간 도금해야 하는데, 이는 건조박막의 약품성 한계로 인하여 최종적으로 박막이 들뜨게된다.In addition, when electroplating is performed with the existing DC rectifier, the plating takes a long time and the plating variation between the holes and the surface layer is severe when plating with a thickness of 50 μm or more in the hole and the surface layer. In other words, the conventional DC copper plating method has a thickness difference of about 60: 100 in the hole and the surface, and if the plating area is wide, it should be plated for a long time, which finally causes the thin film to be lifted due to the chemical limitation of the dry film.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점들을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조 공정에 있어서 기존의 건조박막 및 솔더 도금 레지스트 대신에 수차례의 독특한 금도금 방식을 도입하여 건조박막을 박리시키지 않고 그 위에 다시 회로형성을 하여 단차 부위의 금도금을 성공적으로 완수함으로써, 건조박막의 밀착불량 현상을 효과적으로 개선한 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above conventional problems, the object of the present invention in the manufacturing process of the multilayer printed circuit board for RF power amplifier in place of the existing dry thin film and solder plating resist many times unique gold plating The present invention provides a method of manufacturing a multilayer printed circuit board which effectively improves the adhesion failure of a dry thin film by successfully completing the gold plating of the stepped portion by forming a circuit thereon again without peeling off the dry thin film.

본 발명의 다른 목적은 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조 공정에 있어서 홀속 충진시 플러깅(plugging) 공정을 도입하여 홀속 충진을 간단하면서도 완벽하게 수행함으로써, 제조공정을 단축시키고 작업효율을 증대시킨 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to introduce a plugging process during hole filling in the manufacturing process of a multilayer printed circuit board for RF power amplifier, and to perform the hole filling simply and completely, thereby shortening the manufacturing process and increasing work efficiency. The present invention provides a method for manufacturing a multilayer printed circuit board.

본 발명의 또다른 목적은 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조 공정에 있어서 무전해 동도금을 2차 금도금후에 시행함으로써, 연질의 금도금층을 보호하고 금도금층의 산화를 방지할 수 있는 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to carry out electroless copper plating after the second gold plating in the manufacturing process of the multilayer printed circuit board for RF power amplifier, thereby protecting the flexible gold plated layer and preventing oxidation of the gold plated layer. It is to provide a method of manufacturing a substrate.

본 발명의 또다른 목적은 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조 공정에 있어서 3차 금도금전에 펄스 정류기를 이용한 도금방식을 적용함으로써, 기존의 직류 정류기를 이용한 전기 동도금시 문제가 되었던 도금편차를 효과적으로 해소하고 두꺼운 도금층의 형성시에도 시간의 제약을 받지않는 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하는데 있다.It is another object of the present invention to apply a plating method using a pulse rectifier before the third gold plating in the manufacturing process of a multilayer printed circuit board for RF power amplifier, thereby effectively eliminating the plating deviation, which has been a problem when electroplating using a conventional DC rectifier. The present invention provides a method of manufacturing a multilayer printed circuit board that is not limited by time even when the thin plated layer is removed.

도 1은 본 발명에 따른 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조 공정을 도식적으로 나타낸 도면,1 is a diagram schematically illustrating a manufacturing process of a multilayer printed circuit board for RF power amplifier according to the present invention;

도 2는 본 발명에 따른 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조 공정에 있어서 회로형성시 건조박막의 밀착도를 보여주는 도면, 그리고2 is a view showing the adhesion of the dry thin film when forming the circuit in the manufacturing process of the multilayer printed circuit board for RF power amplifier according to the present invention, and

도 3은 종래기술에 따른 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조 공정에 있어서 회로형성시 건조박막의 밀착불량 현상을 나타낸 도면이다.3 is a view showing a poor adhesion of a dry thin film during circuit formation in the manufacturing process of the multilayer printed circuit board for RF power amplifier according to the prior art.

〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>

20,22,30 : 건조 박막 레지스트 24,34 : 금도금할 부위20,22,30: dry thin film resist 24,34: gold plating site

32 : 측면 부위32: side part

상기와 같은 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은,In order to achieve the above object, the present invention,

내층 코어재를 일정크기로 재단한후 비어홀을 천공하고 동도금을 실시한후 내층 회로를 형성시키는 단계(S1);Cutting the inner core material to a predetermined size and then boring the via hole and performing copper plating to form an inner layer circuit (S1);

내층 회로가 형성된 내층 코어를 표면처리한 후, 상기 내층 코어의 일면 또는 양면 상에 본딩 시이트를 열압착하고, 계속해서 상기 본딩 시이트의 노출면 상에 도체층을 적층시키는 단계(S2);After surface-treating the inner layer core on which the inner layer circuit is formed, thermally compressing the bonding sheet on one or both surfaces of the inner layer core, and subsequently laminating a conductor layer on the exposed surface of the bonding sheet (S2);

상기 단계(S2)를 거치면서 적층된 기판의 솔더면 한면만을 에칭하는 하프 에칭단계(S3);A half etching step (S3) of etching only one surface of a solder surface of the stacked substrate while passing through the step (S2);

상기 단계(S3)후에, 외층의 소정 위치에 홀을 형성한 다음에 1차 회로를 형성하는 단계(S4);After the step S3, forming a hole in a predetermined position of an outer layer and then forming a primary circuit (S4);

1차 회로의 형성이 끝난후 고농도의 금도금욕을 이용하여 니켈 2∼5㎛, 금 0.2㎛이상의 두께로 1차 연질 금도금을 실시하는 단계(S5);Performing a primary soft gold plating with a thickness of 2 to 5 µm nickel and 0.2 µm or more gold using a high concentration gold plating bath after the formation of the primary circuit (S5);

1차 연질 금도금을 실시한 후에 금도금 전용박막을 이용하여 2차 회로를 형성하는 단계(S6);Forming a secondary circuit using a gold plating exclusive thin film after performing the first soft gold plating (S6);

2차 회로의 형성이 끝난후 고농도의 금도금욕을 이용하여 니켈 2∼5㎛, 금 1.06㎛이상의 두께로 2차 연질 금도금을 실시하는 단계(S7);Performing secondary soft gold plating with a thickness of 2 to 5 μm of nickel and 1.06 μm or more of gold using a high concentration of gold plating bath after the formation of the secondary circuit (S7);

2차 연질 금도금을 실시한 후에 상기 외층의 비어홀 벽면과 보드 상에 무전해 동도금을 행하여 2∼3㎛의 두께로 동피막을 형성시키는 단계(S8);After the second soft gold plating, electroless copper plating is performed on the via hole wall surface and the board to form a copper film having a thickness of 2 to 3 μm (S8);

무전해 동도금이 끝난후 금도금 전용박막을 사용하여 3차 회로를 형성하는 단계(S9);Forming a tertiary circuit by using a gold-plated thin film after the electroless copper plating is finished (S9);

3차 회로의 형성이 끝난후 펄스 정류기를 이용하여 펄스 도금을 실시하는 단계(S10);Performing pulse plating using a pulse rectifier after the formation of the tertiary circuit (S10);

펄스 도금이 끝난후 고농도의 금도금욕을 이용하여 니켈 2∼5㎛, 금 0.2㎛이상의 두께로 3차 강질 금도금을 실시하는 단계(S11);After the pulse plating is finished using a high gold plating bath of high concentration step of performing a third hard gold plating with a thickness of nickel 2 ~ 5㎛, gold 0.2㎛ or more (S11);

3차 강질 금도금이 끝난후 금도금 전용박막을 이용하여 4차 회로를 형성하는 단계(S12);Forming a fourth circuit by using a gold plating exclusive thin film after the third hard gold plating is finished (S12);

4차 회로의 형성이 끝난후, 고농도의 금도금욕을 이용하여 니켈 0.5∼1㎛, 금 1.06㎛ 이상의 두께로 4차 연질 금도금을 실시하는 단계(S13);After the formation of the fourth circuit, performing a fourth soft gold plating to a thickness of 0.5 to 1 µm of nickel and 1.06 µm of gold or more using a gold plating bath having a high concentration (S13);

4차 연질 금도금을 실시한 후에 부품이 실장되는 패드와 패턴 금도금층 이외에 잔류 건조박막 레지스트를 제거하고 4∼4.5m/min의 속도로 에칭하는 단계(S14);Removing the remaining dry thin film resist in addition to the pad and the pattern gold plated layer on which the component is mounted after the 4th soft gold plating, and etching at a speed of 4 to 4.5 m / min (S14);

에칭후 홀에 대한 플러깅(Plugging)처리를 수행하는 단계(S15);Performing a plugging process on the hole after etching (S15);

상기 단계(S15) 후에, 문자인쇄공정, 외형의 가공공정 및 전기 검사 과정을 순차적으로 수행하는 단계(S16); 그리고After the step (S15), step (S16) of sequentially performing the character printing process, the appearance processing process and the electrical inspection process; And

상기 단계(S16)를 거친 기판을 세정하는 단계(S17)를 포함하는 것을 특징으로하는 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 제공한다.It provides a method of manufacturing a multilayer printed circuit board comprising the step (S17) of cleaning the substrate passed through the step (S16).

이상에서 설명한 바와같이, 본 발명에 따른 다층 인쇄회로기판의 제조방법에서는, 수차례의 금도금 방식을 적용시키면서 금도금 레지스트 형성시 기존 레지스트를 박리하지 않고 그위에 다시 레지스트를 형성함으로서, 기존의 건조박막 레지스트에서 발생되는 밀착불량 현상을 제거한다. 또한, 1, 2차 금도금을 진행한 후에 무전해 동도금을 진행함으로써, 홀 속 도통을 이루고 와이어 본딩용 금도금층을 효과적으로 보호한다.As described above, in the method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, by applying a plurality of gold plating methods, a resist is formed on the gold plated resist instead of peeling the existing resist, thereby forming a conventional dry thin film resist. Eliminate adhesion defects that occur at In addition, electroless copper plating is performed after the first and second gold plating to achieve conduction in the hole and effectively protect the gold plating layer for wire bonding.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a method of manufacturing a multilayer printed circuit board for RF power amplifier according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 BVH 가공기술을 필요로하고 홀속 도금두께가 50㎛ 이상이어야하며 표면처리(연질 금도금)후 골드 와이어 본딩을 해야하는 고난이도 제품의 제작공정으로 적합한 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하려는 것이다.The present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer printed circuit board suitable for the manufacturing process of a high difficulty product which requires BVH processing technology, the plating thickness in the hole should be 50㎛ or more and gold wire bonding after surface treatment (soft gold plating).

이를 위해서, 본 발명은 첨부도면 도 1에 도식적으로 나타낸 제조공정을 기초로하여 알에프 전력증폭기용 다층 PCB를 제작한다.To this end, the present invention fabricates a multilayer PCB for RF power amplifiers based on the manufacturing process shown schematically in FIG.

도 1에 도시된 바와 같이, 다층 PCB를 제작하기 위한 최초의 공정으로서 내층 작성을 실시한다. 즉, 다층 PCB 설계에 있어서 결정된 층 구성의 내층 코어(core)를 특수 재단기를 사용하여 일정크기로 재단한후 0.25Φ 직경의 드릴을 이용하여 컴퓨터 수치제어 방식으로 보드의 소정 위치에 비어 홀(via hole)을 형성한 다음, 이렇게 천공된 비어홀에 도전성을 주기 위해서 내층 패널의 도금처리를 수행한다. 즉, 비어홀 벽면과 보드 상에 동도금을 행하여 동피막을 10∼15㎛의 두께만큼 형성시킨다.As shown in FIG. 1, inner layer preparation is performed as the first process for producing a multilayer PCB. That is, in the multilayer PCB design, the inner core of the layer structure determined in the multilayer configuration is cut to a certain size using a special cutting machine, and a via hole is installed at a predetermined position of the board using a computer numerical control method using a drill of 0.25Φ diameter. After the hole is formed, plating of the inner layer panel is performed to give conductivity to the punched via hole. That is, copper plating is performed on the via hole wall surface and the board to form a copper film having a thickness of 10 to 15 mu m.

동도금이 끝난후에는 내층 회로를 형성시킨다. 즉, IC를 실장시키기 위한 IC 부품 실장단자, 저항, 콘덴서, 다이오우드와 같은 전자부품의 수동소자를 실장시키기 위한 수동부품 실장단자들, 그리고 부가적으로 소켓이 구비되어 있는 다른 기기와의 인터페이스를 위하여 커넥터 단자 등을 형성하기 위해서, 회로 설계 데이터에 따라 플로팅(ploting)한 건조박막(dry film)을 동도금된 보드위에 입힌후 건조박막 노광 및 현상과정을 거치고, 계속해서 식각, 박리, 세정 및 건조과정을 거쳐 내층 회로를 형성한다.After the copper plating is finished, an inner layer circuit is formed. That is, for interface with IC component mounting terminals for mounting ICs, passive component mounting terminals for mounting passive components of electronic components such as resistors, capacitors, diodes, and additionally equipped sockets. To form the connector terminals, a dry film, which is plotted according to the circuit design data, is coated on the copper plated board, followed by exposure and development of the dry film, followed by etching, peeling, cleaning, and drying. The inner layer circuit is formed through.

내층 회로의 형성이 끝나면 내층 코어의 표면처리를 거친후, 본딩 시이트를 보드의 일면상에 0.1∼0.4mm의 두께로 열압착한다.After the formation of the inner layer circuit, the inner core is subjected to the surface treatment, and then the bonding sheet is thermocompression-bonded to a thickness of 0.1 to 0.4 mm on one surface of the board.

적층이 끝나면, 솔더면 한면만 에칭하는 소위 하프 에칭(harf etching)을 수행한다. 즉, 솔더면 한면에 감광성 필름을 약 40㎛ 두께로 부착하고 블라인드 비어홀부, 비어홀 및 더미패턴만 자외선이 차단되게한 상태로 약 0.75∼1.2%의 Na2CO3용액을 이용하여 미노광부만 용해 현상하고, 내층의 회로동층을 노출시켜 패턴이 노출된 기판의 일면만 제거한다.After lamination, so-called half etching is performed to etch only one surface of the solder surface. That is, only the unexposed portion was dissolved by attaching a photosensitive film to a thickness of about 40㎛ using a Na 2 CO 3 solution of about 0.75~1.2% blind via hole part, only the via holes and the dummy pattern in a state where the ultraviolet rays to be blocked on the solder surface on one side It develops and exposes the circuit layer of an inner layer, and removes only one surface of the board | substrate which the pattern was exposed.

다음에는, 0.3Φ직경의 드릴을 이용하여 컴퓨터 수치제어 방식으로 외층의 소정 위치에 비어홀을 형성한 다음, 위에서 언급한 바와 같은 내층 회로의 형성과정과 동일한 방식으로 1차 회로를 형성한다. 이때, 금도금 전용박막을 보드위에 입힌후 노광 및 현상과정을 거치고 건조과정을 거쳐서 1차 회로를 형성한다.Next, a via hole is formed at a predetermined position of the outer layer by a computer numerical control method using a drill having a diameter of 0.3Φ, and then a primary circuit is formed in the same manner as the formation of the inner layer circuit as described above. At this time, the gold-plated thin film is coated on the board and subjected to the exposure and development processes, and to form a primary circuit through the drying process.

1차 회로의 형성이 끝나면, 고농도의 산성 금도금욕을 이용하여 니켈 2∼5㎛, 금 0.2㎛이상의 두께로 1차 연질 금도금을 실시한다. 1차 연질 금도금을 실시한 후에는 다시 금도금 전용박막을 이용하여 2차 회로를 형성한다.After the formation of the primary circuit, primary soft gold plating is performed with a thickness of 2 to 5 µm nickel and 0.2 µm or more gold using an acidic gold plating bath of high concentration. After the first soft gold plating is performed, a second circuit is formed again using a gold plating exclusive thin film.

2차 회로의 형성이 끝나면 고농도의 산성 금도금욕을 이용하여 니켈 2∼5㎛, 금 1.06㎛의 두께로 2차 연질 금도금을 실시하고, 다층 PCB에서 전면에서 후면으로 또는 후면에서 전면으로 전류가 흐를 수 있도록 외층의 비어홀 벽면과 보드 상에 무전해 동도금을 행하여 2∼3㎛의 두께로 동피막을 형성시킨다.After the formation of the secondary circuit, secondary soft gold plating is performed using a high concentration of acidic gold plating bath with a thickness of 2 to 5 μm of nickel and 1.06 μm of gold, and current flows from front to back or back to front in the multilayer PCB. Electroless copper plating is performed on the via hole wall surface and the board of the outer layer so as to form a copper film having a thickness of 2-3 m.

이와같이 무전해 동도금을 2차 연질 금도금후에 시행하므로써 연질의 금도금층을 효과적으로 보호할 수 있으며 금도금층의 산화를 방지할 수 있다. 즉, 종래 기술에 따른 PCB 제조공정에서는 무전해 동도금을 단지 전해도금시 홀속을 도통시켜주는 역할로 사용하였지만, 본 발명에서는 홀 속 도통을 기본으로하고 와이어 본딩용 금도금층을 보호하는 역할을 수행한다.Thus, electroless copper plating can be performed after the second soft gold plating to effectively protect the soft gold plating layer and prevent oxidation of the gold plating layer. That is, in the PCB manufacturing process according to the prior art, the electroless copper plating was used only to conduct the hole in the electroplating, but in the present invention, the conduction of the hole is performed based on the conduction and protects the gold plating layer for wire bonding. .

무전해 도금이 끝나면 다시 금도금 전용박막을 사용하여 3차 회로를 형성한후, 펄스 정류기를 이용하여 펄스 도금을 실시한다. 즉, 외층의 비어홀 벽면과 보드 상에 펄스 동도금을 행하여 50㎛ 이상의 두께로 동피막을 형성시킨다. 이때의 도금 작업조건으로는 순방향 전류밀도가 3.0±1.0A/dm2, 역방향 전류밀도가 10.0±3.0A/dm2이고, 순방향 펄스 적용시간이 5∼20초, 역방향 펄스 적용시간이 0.5∼2초이며, 총 도금시간은 60∼150분이다.After the electroless plating is completed, the third circuit is formed again using a gold-plated thin film, and then pulse plating is performed using a pulse rectifier. That is, pulse copper plating is performed on the via hole wall surface and the board of the outer layer to form a copper film having a thickness of 50 µm or more. At this time, the plating working conditions were forward current density of 3.0 ± 1.0A / dm 2 , reverse current density of 10.0 ± 3.0A / dm 2 , forward pulse application time of 5-20 seconds, reverse pulse application time of 0.5-2 Seconds, and the total plating time is 60 to 150 minutes.

이와같이 펄스 정류기를 이용한 도금방식을 적용함으로써, 직류 정류기를 이용했던 종래의 공정에서 전기 동도금시 문제가 되었던 도금편차를 효과적으로 해소할 수 있다. 또한, 두꺼운 도금층의 형성시에도 시간의 제약을 받지않고 동도금을 실시할 수 있게 되었다.By applying the plating method using a pulse rectifier in this way, it is possible to effectively eliminate the plating deviation which was a problem when electroplating in the conventional process using a DC rectifier. In addition, even when the thick plating layer is formed, copper plating can be performed without being restricted by time.

펄스 도금이 끝나면 고농도의 산성 금도금욕을 이용하여 니켈 2∼5㎛, 금 0.2㎛의 두께로 3차 강질 금도금을 실시한다.After the pulse plating is completed, the third hard gold plating is performed using a high concentration of gold plating bath with a thickness of 2 to 5 μm of nickel and 0.2 μm of gold.

도 2는 본 발명에 따른 알에프 전력증폭기용 다층 인쇄회로기판의 제조 공정에 있어서 회로형성시 건조박막의 밀착도를 보여주는 도면이다.2 is a view showing the adhesion of the dry thin film during the circuit formation in the manufacturing process of the multilayer printed circuit board for RF power amplifier according to the present invention.

도 2를 참조하면, 금도금할 부위(24)를 하단 에칭 레지스트로 사용하고 50㎛ 펄스도금시 사용되었던 전해도금용 레지스트인 건조박막(20)을 박리시키지 않고 50㎛도금 상단의 3차 강질 금도금시 금도금용 레지스트인 건조박막(22)의 하층으로 활용함으로써, 공정 손실을 단축하고 또한 단차진 PCB 제조에서 발생하는 밀착불량 현상을 제거시킬 수 있었다.Referring to FIG. 2, when the third plating is performed on the upper layer of 50 탆 without peeling off the dry thin film 20, which is an electroplating resist used during the 50 탆 pulse plating, using the portion to be gold-plated 24 as the lower etching resist. By using it as a lower layer of the dry thin film 22 which is a gold plating resist, process loss can be shortened and the adhesion defect which arises in stepped PCB manufacture can be eliminated.

한편, 3차 강질 금도금이 끝나면 다시 금도금 전용박막을 이용하여 차 회로를 형성하고, 4차 회로를 형성한 후에는 다시 고농도의 산성 금도금욕을 이용하여 금 1.0㎛ 이상의 두께로 4차 연질 금도금을 실시한다. 4차 연질 금도금을 실시한 후에는 부품이 실장되는 패드와 패턴 금도금층 이외에 잔류 건조박막 레지스트를 제거시키고 4∼4.5m/min의 속도로 에칭을 실시한다.On the other hand, after tertiary hard gold plating is completed, the secondary circuit is formed again using a gold plating exclusive thin film, and after forming the fourth circuit, the fourth soft gold plating is performed with a thickness of 1.0 μm or more by using an acid gold plating bath of high concentration. do. After the 4th soft gold plating, residual dry thin film resist is removed in addition to the pad and pattern gold plated layer on which the component is mounted and etched at a speed of 4 to 4.5 m / min.

다음에는 홀에 대한 플러깅(Plugging)처리를 수행한다. 즉, 도전성 분말을 함유한 도전성 페이스트로 이루어진 도전체 플러그를 홀내로 삽입하고 소결하여 1차로 홀속을 충진한다. 따라서, PSR잉크 도포전에 홀속만 휘발성분이 적은 잉크를사용하여 메꾸고 노광하여 경화시킨후 그위에 다시 PSR을 도포함으로써, PSR도포는 한번만으로도 작업이 가능하며, 잉크도 휘발성분이 적은 것을 사용하기 때문에 건조중에 잉크가 수축되어 홀 속이 열리는 문제를 해결할 수 있었다.Next, the hole plugging process is performed. That is, a conductor plug made of a conductive paste containing conductive powder is inserted into the hole and sintered to fill the hole primarily. Therefore, the PSR application can be done only once, and the ink can also be dried because it uses only a small amount of volatile ink in the hole before filling the PSR ink, exposes it, cures it, and then applies PSR again. It was possible to solve the problem of the ink shrinking during the opening in the hole.

계속해서 문자인쇄공정, 외형의 가공공정 및 전기 검사 과정을 거친후, PCB 제조과정중 발생할 수 있는 오염물질이나 유기물등을 제거하기 위한 세정과정을 거쳐서 제품을 완성한다. 이때, 세정과정에서는 플라즈마를 이용하거나 이소프로필 알콜(IPA)을 이용하여 처리함으로써, 금속 와이어 본딩의 본딩력을 향상시킬 수 있다.After going through letter printing process, processing of external form and electric inspection process, the product is completed by cleaning process to remove contaminants or organic matters that may occur during PCB manufacturing process. At this time, in the cleaning process, by using plasma or isopropyl alcohol (IPA) treatment, the bonding force of the metal wire bonding can be improved.

이상에서 언급한 바와 같이, 본 발명에 따른 다층 인쇄회로기판의 제조방법에서는, 기존 회로형성에서 해결하지 못한 단차진 부위의 도금을 수차례의 금도금을 이용하여 달성하였다. 즉, 금도금시 하단부 에칭 레지스트를 형성하고 상단부에 50㎛이상의 두께로 도금후 금도금 레지스트 형성시 기존 레지스트를 박리하지 않고 그위에 다시 레지스트를 형성함으로서, 기존의 건조박막 레지스트에서 발생되는 밀착불량, 즉 금도금 침투현상을 제거하였다.As mentioned above, in the method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, plating of the stepped portions, which is not solved in the existing circuit formation, is achieved by using gold plating several times. That is, when gold plating is formed, the lower end etching resist is formed and the upper end is plated with a thickness of 50 μm or more, and when the gold plating resist is formed, the resist is formed again on top of the existing resist, i.e., gold plating. Penetration was eliminated.

또한, 1, 2차 금도금을 진행한 후에 무전해 동도금을 진행함으로써, 홀 속 도통을 이루고 와이어 본딩용 금도금층을 효과적으로 보호하게 하였다.In addition, electroless copper plating was carried out after the first and second gold plating to achieve conduction in the hole and effectively protect the gold plating layer for wire bonding.

또한, 홀속 충진에 있어서 플러깅(plugging) 공정을 도입하고 플러깅에서 1차로 홀속을 충진하기 때문에, PSR도포는 한번만으로도 충분히 작업이 가능하다. 이때, 홀속 충진시 PSR 도포전에 홀속만 휘발성분이 적은 잉크를 사용하여 메꾸고노광하여 경화시킨후 그위에 다시 PSR을 도포한다. 그리고, 잉크도 휘발성분이 적은 것을 사용하기 때문에 건조중에 잉크가 수축되어 홀속이 열리는 현상을 방지할 수 있다.In addition, since the plugging process is introduced in the hole filling and the hole filling is primarily performed in the plugging, the PSR coating can be fully performed by one time. At this time, when filling the hole, before applying the PSR, the hole is filled with only a small amount of volatile ink and then exposed and cured. Then, the PSR is applied again. Since the ink also uses less volatile components, it is possible to prevent the phenomenon of shrinking the ink during opening and opening of the holes.

게다가, 기존 PCB 제조공정에서 DC 정류기를 이용하여 전기 동도금을 할 경우 홀속과 표면의 도금편차로 인해 PCB 자체에 방열기능을 부가하기 위하여 도금두께를 50㎛ 이상 올릴 경우, 홀속이 50㎛이상 도금되면 표면은 70∼80㎛의 두께로 도금되어 현재 상용화 되어있는 건조박막을 사용할 경우에는 과도금되어 쇼트 불량을 유발하거나, 또는 도금시간의 제어문제로 도금입자가 커져서 표면이 거칠게 도금되어 이후 경질의 금도금 표면에 영향을 주게된다. 그러나, 본 발명에 따른 PCB 제조공정에서는 펄스 정류기를 이용하여 동도금을 수행하기 때문에 이러한 문제점을 해결할 수 있다.In addition, in case of electric copper plating using DC rectifier in the existing PCB manufacturing process, if the plating thickness is increased to 50㎛ or more to add heat dissipation function to the PCB itself due to the plating deviation of the hole and the surface, The surface is plated with a thickness of 70 ~ 80㎛ and when the commercially available dry thin film is used, it is overplated to cause short defects, or the surface of the plate becomes rough due to the increase of plating particles due to the control of plating time. Affect the surface. However, the PCB manufacturing process according to the present invention can solve this problem because copper plating is performed using a pulse rectifier.

끝으로, 종래의 PCB 제조공정에서는 최종 BBT 전 세정으로 세척이 마무리되어 와이어 본딩시 본딩력 저하를 초래하지만, 본 발명에서는 BBT후 PCB 제조과정중 생길 수 있는 오염물이나 유기물등을 플라즈마나 이소프로필 알콜을 이용하여 린스처리함으로써, 금도금 와이어의 본딩력을 증대시킬 수 있다.Finally, in the conventional PCB manufacturing process, the cleaning is finished by the final pre-BBT cleaning, resulting in a decrease in bonding strength during wire bonding, but in the present invention, contaminants or organic substances that may occur during PCB manufacturing after BBT are plasma or isopropyl alcohol. By rinsing using, the bonding force of the gold plated wire can be increased.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. It will be appreciated.

Claims (4)

내층 코어재를 일정크기로 재단한후 비어홀을 천공하고 동도금을 실시한후 내층 회로를 형성시키는 단계(S1);Cutting the inner core material to a predetermined size and then boring the via hole and performing copper plating to form an inner layer circuit (S1); 내층 회로가 형성된 내층 코어를 표면처리한 후, 상기 내층 코어의 일면 또는 양면 상에 본딩 시이트를 열압착하고, 계속해서 상기 본딩 시이트의 노출면 상에 도체층을 적층시키는 단계(S2);After surface-treating the inner layer core on which the inner layer circuit is formed, thermally compressing the bonding sheet on one or both surfaces of the inner layer core, and subsequently laminating a conductor layer on the exposed surface of the bonding sheet (S2); 상기 단계(S2)를 거치면서 적층된 기판의 솔더면 한면만을 에칭하는 하프 에칭단계(S3);A half etching step (S3) of etching only one surface of a solder surface of the stacked substrate while passing through the step (S2); 상기 단계(S3)후에, 외층의 소정 위치에 홀을 형성한 다음에 1차 회로를 형성하는 단계(S4);After the step S3, forming a hole in a predetermined position of an outer layer and then forming a primary circuit (S4); 1차 회로의 형성이 끝난후 고농도의 금도금욕을 이용하여 니켈 2∼5㎛, 금 0.2㎛이상의 두께로 1차 연질 금도금을 실시하는 단계(S5);Performing a primary soft gold plating with a thickness of 2 to 5 µm nickel and 0.2 µm or more gold using a high concentration gold plating bath after the formation of the primary circuit (S5); 1차 연질 금도금을 실시한 후에 금도금 전용박막을 이용하여 2차 회로를 형성하는 단계(S6);Forming a secondary circuit using a gold plating exclusive thin film after performing the first soft gold plating (S6); 2차 회로의 형성이 끝난후 고농도의 금도금욕을 이용하여 니켈 2∼5㎛, 금 1.06㎛이상의 두께로 2차 연질 금도금을 실시하는 단계(S7);Performing secondary soft gold plating with a thickness of 2 to 5 μm of nickel and 1.06 μm or more of gold using a high concentration of gold plating bath after the formation of the secondary circuit (S7); 2차 연질 금도금을 실시한 후에 상기 외층의 비어홀 벽면과 보드 상에 무전해 동도금을 행하여 2∼3㎛의 두께로 동피막을 형성시키는 단계(S8);After the second soft gold plating, electroless copper plating is performed on the via hole wall surface and the board to form a copper film having a thickness of 2 to 3 μm (S8); 무전해 동도금이 끝난후 금도금 전용박막을 사용하여 3차 회로를 형성하는단계(S9);Forming a tertiary circuit by using a gold-plated thin film after the electroless copper plating (S9); 3차 회로의 형성이 끝난후 펄스 정류기를 이용하여 펄스 도금을 실시하는 단계(S10);Performing pulse plating using a pulse rectifier after the formation of the tertiary circuit (S10); 펄스 도금이 끝난후 고농도의 금도금욕을 이용하여 니켈 2∼5㎛, 금 0.2㎛이상의 두께로 3차 강질 금도금을 실시하는 단계(S11);After the pulse plating is finished using a high gold plating bath of high concentration step of performing a third hard gold plating with a thickness of nickel 2 ~ 5㎛, gold 0.2㎛ or more (S11); 3차 강질 금도금이 끝난후 금도금 전용박막을 이용하여 4차 회로를 형성하는 단계(S12);Forming a fourth circuit by using a gold plating exclusive thin film after the third hard gold plating is finished (S12); 4차 회로의 형성이 끝난후, 고농도의 금도금욕을 이용하여 금 1.0㎛ 이상의 두께로 4차 연질 금도금을 실시하는 단계(S13);After the formation of the fourth circuit, performing a fourth soft gold plating to a thickness of 1.0 μm or more using a gold plating bath of high concentration (S13); 4차 연질 금도금을 실시한 후에 부품이 실장되는 부분의 도금층 이외에 절연 코팅막을 제거하고 4∼4.5m/min의 속도로 에칭하는 단계(S14);Removing the insulating coating film in addition to the plating layer of the part in which the component is mounted after the fourth soft gold plating, and etching at a speed of 4 to 4.5 m / min (S14); 에칭후 홀에 대한 플러깅(Plugging)처리를 수행하는 단계(S15);Performing a plugging process on the hole after etching (S15); 상기 단계(S15) 후에, 문자인쇄공정, 외형의 가공공정 및 전기 검사 과정을 순차적으로 수행하는 단계(S16); 그리고After the step (S15), step (S16) of sequentially performing the character printing process, the appearance processing process and the electrical inspection process; And 상기 단계(S16)를 거친 기판을 세정하는 단계(S17)를 포함하는 것을 특징으로하는 다층 인쇄회로기판의 제조방법.Method of manufacturing a multilayer printed circuit board comprising the step (S17) of cleaning the substrate passed through the step (S16). 제 1 항에 있어서, 상기 단계(S10)에서는, 순방향 전류밀도가 3.0±1.0A/dm2, 역방향 전류밀도가 10.0±3.0A/dm2, 순방향 펄스 적용시간이 5∼20초, 역방향 펄스 적용시간이 0.5∼2.0초, 그리고 총 도금시간이 60∼150분인 작업조건하에서, 상기 외층의 상기 비어홀 벽면과 상기 보드 상에 펄스 동도금을 행하여 50㎛ 이상의 두께로 동피막을 형성시키는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판의 제조방법.The method of claim 1, wherein in the step S10, the forward current density is 3.0 ± 1.0 A / dm 2 , the reverse current density is 10.0 ± 3.0 A / dm 2 , the forward pulse application time is 5 to 20 seconds, the reverse pulse application Under the operating conditions of 0.5 to 2.0 seconds and total plating time of 60 to 150 minutes, pulse copper plating is performed on the via hole wall surface and the board of the outer layer to form a copper film having a thickness of 50 μm or more. Method of manufacturing a printed circuit board. 제 1 항에 있어서, 상기 단계(S15)에서는, 도전성 분말을 함유한 도전성 페이스트로 이루어진 도전체 플러그를 상기 홀내로 삽입하고 소결하여 1차로 홀속을 충진한후, PSR잉크 도포전에 상기 홀속만 휘발성분이 적은 잉크를 사용하여 메꾸고 노광하여 경화시킨후 그위에 다시 PSR을 도포하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판의 제조방법.The method of claim 1, wherein in step (S15), after inserting a conductive plug made of a conductive paste containing a conductive powder into the hole and sintering to fill the hole first, the volatile component only in the hole before PSR ink is applied. A method of manufacturing a multilayer printed circuit board, which comprises using a small amount of ink to fill, expose and cure, and then apply PSR thereon. 제 1 항에 있어서, 상기 단계(S17)에서는, 플라즈마를 이용하거나 또는 이소프로필 알콜(IPA)을 이용하여 세정하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판의 제조방법.The method of claim 1, wherein in step S17, plasma or cleaning is performed using isopropyl alcohol (IPA).
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