KR100311809B1 - 유전체필터 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 유전체 필터는 도전물질이 도포된 유전체블럭의 후면에 공진홀의 배열방향 혹은 공진홀 사이에 도전물질이 도포되지 않은 오픈영역을 형성하여 공진홀 사이에 결합캐패시턴스나 결합인덕턴스를 형성한다. 도전물질이 도포되지 않은 유전체 블럭의 전면에는 공진홀 사이에 결합캐패시턴스를 형성하고 각각의 공진홀에 부하캐패시턴스를 제공하는 일정 크기의 도체패턴이 형성되어 있다.

Description

유전체 필터{A DIELECTRIC FILTER}
본 발명은 유전체 필터에 관한 것으로, 특히 도전물질이 도포된 유전체블록의 후면에 도전물질이 도포되지 않은 오픈영역을 형성함으로써, 필터의 감쇄특성이 향상되고 크기를 소형 경량화 시킬 수 있는 유전체필터를 제공하는 것을 목적으로 한다.
근래, 고주파대역의 전파를 이용한 이동통신시스템이 유선통신을 대체하고 있는 실정이다. 이러한 이동통신을 위헤 이동통신장치의 수요가 대폭 증가하고 있으며 이에 대한 연구 또한 활발하게 진행되고 있다. 이동통신장치의 특징은 사용자가 단말기를 직접 휴대하고 다닌다는 것이다. 따라서, 이동통신장치의 성능개선 뿐만 아니라 이동통신장치의 소형 경량화가 중요한 문제로 부각되고 있다.
상기와 같이, 이동통신장치의 성능개선과 소형 경량화를 동시에 달성하기 위해서는 이동통신장치 각 부품의 성능개선과 소형화가 이루어져야만 한다. 이동통신장치의 성능개선과 소형 경량화를 위해, 필터로서 일체형 유전체필터가 주로 이용되고 있다. 일반적으로, 유전체 필터는 동축형 공진기가 구비된 유전체 블럭을 복수개 연결하여 고주파대역의 원하는 통과대역특성을 얻는 것이며, 일체형 유전체필터는 하나의 유전체 블럭에 다수개의 동축형 공진기를 형성하므로써 상기 통과대역특성을 얻는다. 이러한 일체형 유전체 필터는 이동통신장치의 수신측 및 송신측에 형성되어 송신 및 수신되는 고주파를 필터링하는 것으로, 약 20∼30MHz의 대역통과특성을 필요로 한다.
도 1은 종래의 일체형 유전체필터를 나타내는 도면이다. 도면에 나타낸 바와 같이, 상기한 유전체 필터는 서로 마주 보는 제1면(5)과 제2면(7) 및 상기 제1면(5)과 제2면(7) 사이의 측면을 보유하는 대략 육면체의 유전체블럭(1)으로 이루어져 있다. 상기 유전체블럭(1)의 내부에는 상기 제1면(5)과 제2면(7)을 대략 평행하게 관통하는 복수의 공진홀(3)이 형성되어 있으며, 상기 제2면(7)과 제1면(5) 및 제2면(7) 사이의 측면에는 도전물질이 도포되어 접지전극을 이루고 있다. 상기 유전체블럭(1)의 제1면(5)은 도전물질이 도포되지 않은 오픈영역을 이루고 있다. 또한, 상기 공진홀(3)의 내부표면도 역시 도전물질이 도포되어 내부전극을 형성하고 있다.
상기 제1면(5)의 공진홀(3) 주위에는 설정 폭을 갖는 도체패턴(8)이 형성되어 있다. 상기 도체패턴(8)은 공진홀(3)의 내부전극과 연결되어 필터에 부하캐패시턴스(loading capacitance)와 결합캐패시턴스(coupling capacitance)를 형성한다. 상기 공진홀(3)과 부하캐패시턴스에 의해 공진기의 공진주파수가 결정되며, 상기 결합캐패시턴스는 두 공진기를 결합한다. 또한, 상기 제1면(5)과 제2면(7) 사이의 측면에는 접지전극과 단락되도록 입출력단자(12a,12b)가 형성되어 있다.
상기한 구성의 필터에 있어서, 필터의 감쇄특성은 공진홀(3)과 부하캐패시턴스에 의해 결정되는 공진기의 공진주파수와 결합캐패시턴스에 따라 달라진다. 따라서, 상기 부하캐패시턴스 및 결합캐패시턴스를 형성하는 도체패턴(8)의 크기에 따라 감쇄특성이 결정된다. 부하캐패시턴스는 제1면(5)에 형성된 도체패턴(8)과 유전체 블록(1)의 측면에 형성된 접지전극 사이의 거리에 따라 결정되며, 결합캐패시턴스는 상기 2개의 공진홀(3) 주위에 형성된 도체패턴(8) 사이의 간격에 의해 결정된다. 그러므로, 일체형 유전체 필터의 감쇄특성을 조절하기 위해서는 상기 도체패턴(8)의 크기를 조절하여 접지전극과의 사이 및 인접하는 도체패턴(8)과의 간격을 조절해야만 한다.
그런데, 이동통신장치에서는 휴대의 간편성을 위해 그 크기를 최대한 소형화시켜야만 한다. 따라서, 상기한 유전체 필터 역시 최대한 소형화시켜야만 하는데, 이를 위해서는 유전체 블럭(1)의 부피를 감소시켜야만 한다. 이러한 부피의 감소를 위해서는 필연적으로 공진홀(3) 사이의 거리를 좁혀야만 하지만, 공진홀(3) 사이의 거리를 좁힌다는 것은 유전체 블럭(1) 제1면(5)의 면적이 대폭 축소된다는 것을 의미한다.
따라서, 제1면(5)에 형성되는 도체패턴(8)의 크기 역시 축소되어야만 한다. 도체패턴(8)의 크기를 감소시키면, 원하는 감쇄특성을 갖는 필터를 제조하기가 불가능하게 된다. 또한, 유전체필터를 소형화하기 위해서는 도체패턴(8) 사이의 간격 역시 더욱 미세하게 되어야만 한다. 일반적으로, 접지전극과 제1면(5)의 도체패턴(8)은 스크린프린팅방법(screen printing process)에 의해 도포된다. 이러한 스크린프린팅방법은 보통 선폭에 있어서, 약 25μm∼30μm의 오차를 갖는다. 그러므로, 소형화된 필터를 제작하기 위해 2개의 공진홀(3) 주위에 도체패턴(8)을 형성하는 경우, 제1면(5)의 면적 축소에 의해 도체패턴(8)과 접지전극 사이의 간격 및 도체패턴(8)의 크기에 한계가 발생하여 원하는 크기의 부하캐패시턴스를 형성할 수 없게 된다. 또한, 제1면(5)의 면적 축소에 따라 도체패턴(8) 사이의 간격을 미세하게 조정하는 경우에도 스크린프린팅방법의 오차발생에 의해 상기 도체패턴(8)이 단락되는 문제가 있었다.
도 2는 이동통신장치의 송수신신호를 필터링하는 듀플렉서 유전체 필터를 나타내는 도면이다. 상기한 듀플렉서 유전체 필터도 일체형 유전체 필터와 마찬가지로, 서로 마주하는 제1면(5)과 제2면(7) 및 상기 제1면(5)과 제2면(7) 사이의 측면을 포함하는 대략 육면체의 유전체 블럭(1)으로 구성되어 있다. 상기 유전체 블럭(1)의 내부에는 제1면(5)에서 제2면(7)으로 대략 평행하게 관통하는 복수의 공진홀(3)이 형성되어 있으며, 상기 제2면(7)과 측면에는 접지전극(도면표시하지 않음)이 도포되어 있고 공진홀(3)의 내부표면 내부전극이 도포되어 공진기를 형성된다. 또한, 상기 유전체 블럭의 제1면(5)에는 도전물질이 도포되지 않은 오픈영역이 형성되어 있다.
상기 제1면(5)의 공진홀(3) 주위에는 공진홀(3)의 내부전극과 접속되는 설정 크기의 도체패턴(8)이 형성되어, 유전체 블럭(1)의 접지전극과의 사이에서 부하캐패시턴스를 형성하고 인접 공진홀(3) 주위의 도체패턴 사이에서 결합캐패시턴스를 형성한다. 또한, 상기 제1면(5)에는 송수신단자(12a,12b) 및 안테나단자(13)가 형성되어 있다.
도면에 도시된 상기 구성의 듀플렉서 유전체 필터에서, 제1면(5)의 좌측에 형성된 3개의 공진홀은 외부로부터 고주파를 수신하는 수신단이고, 우측에 형성된 4개의 공진홀은 고주파를 외부로 송신하는 송신단이다. 이때, 각각의 공진홀(3)은 부하캐패시터와 함께 공진기를 형성한다.
일반적으로 듀플렉서 유전체 필터에서는 송신단의 고주파대역이 수신단의 고주파대역 보다 상대적으로 낮다. 따라서, 수신단의 공진홀(3) 사이에는 전계(electric field)효과가 우세한 반면에 송신단의 공진홀(3) 사이에는 자계(magnetic filed)효과가 우세하게 된다. 따라서, 수신단의 공진기는 캐패시턴스결합(capacitance coupling)을 이루고 송신단의 공진기는 인덕턴스결합(inductance coupling)을 이룬다.
상기한 구성의 듀플렉스 유전체필터에 있어서도, 공진주파수의 결정이나 공진기 사이의 결합은 도 1에 도시된 유전체필터와 마찬가지로 제1면(5)에 형성된 도체패턴(8)의 크기에 따라 달라진다. 즉, 도체패턴(8)과 외부 접지전극 사이의 간격 및 도체패턴(8) 사이의 간격의 정도에 따라 듀플렉스 유전체 필터의 특성이 달라지게 된다. 그러나, 도 1의 유전체 필터와 마찬가지로 소형 경량화된 필터를 형성하기 위해서는 유전체블럭(1)의 두께를 얇게 하고 공진홀(3) 사이의 간격을 좁혀야만 한다. 그러나, 상기 소형화된 필터에서는 제1면적이 축소되기 때문에, 도체패턴(8)과 접지전극 사이의 간격 및 인접하는 도체패턴 사이의 간격 축소에 한계가 존재하여 원하는 감쇄특성을 얻기가 대단히 어려웠다.
본 발명은 상기한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 접지전극이 형성된 유전체블럭의 후면에 결합캐패시터 및 결합인덕턴스 형성용 오픈영역을 형성함으로써 소형 경량화된 필터의 제조가 가능하며 필터의 특성 제어가 용이한 유전체 필터를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 또 다른 목적은 접지전극이 형성된 유전체블럭의 후면에 결합캐패시터 및 결합인덕턴스 형성용 오픈영역을 형성함으로써 소형 경량화된 필터의 제조가 가능하며 필터의 특성 제어가 용이한 듀플렉서 유전체 필터를 제공하는 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 제1관점에 따른 유전체 필터는 서로 대향하는 제1면과 제2면 및 상기 제1면과 제2면 사이의 측면으로 이루어지고, 상기 제2면과 측면은 도전물질로 도포된 유전체블럭과, 상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 평행하게 관통하며 그 내부표면이 도전물질로 도포되어 공진기를 형성하는 복수개의 공진홀과, 상기 유전체블럭 측면의 도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기 공진홀과 전자기적인 커플링을 형성하는 입력패드 및 출력패드와, 상기 유전체블럭의 제2면에 형성되어 인접 공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 적어도 하나의 오픈영역으로 구성된다.
상기 오픈영역은 공진홀의 배열방향을 따라 복수의 제1공진홀의 상하 한쪽에 형성되는 적어도 하나의 제1영역과 상기 공진홀의 배열방향을 따라 복수의 제2공진홀의 다른 쪽에 형성되는 적어도 하나의 제2영역으로 이루어진다. 상기 제1영역과 제2영역은 인접공진기 사이에 결합인덕턴스를 형성하는 것으로, 각각이 제2면에 독립적으로 형성될 수도 있다. 또한, 상기 제2면에는 공진기의 공진주파수를 조정하는 공진주파수 조정용 오픈영역이 형성된다. 상기 공진주파수 조정용 오픈영역은 공진홀 단부와 유전체블럭의 측면 사이에 형성되어 원하는 주파수로 공진주파수를 조정할 수 있게 된다.
유전체블럭의 제1면에는 복수의 도체패턴이 형성되어 공진기에 부가인덕턴스를 부가하고 인접공진기 사이에 결합캐패시턴스를 형성한다. 또한, 유전체블럭 측면의 도전물질로부터 공진홀 단부를 향해 연장되는 도체패턴은 공진기의 공진주파수를 조정하는 수단으로 도체패턴의 면적이나 도체패턴과 공진홀 단부와의 간격을 조절함에 따라 공진주파수가 조정된다.
또한, 본 발명의 제2관점에 따른 듀플렉서 유전체 필터는 서로 대향하는 제1면과 제2면 및 상기 제1면과 제2면 사이의 측면으로 이루어지고, 상기 제2면과 측면은 도전물질로 도포된 유전체블럭과, 상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 대략 평행하게 관통하고 그 내부가 도전물질로 도포된 복수의 공진홀을 포함하여 제1입력신호를 필터링하는 적어도 하나의 공진기로 이루어진 제1필터링영역과, 상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 대략 평행하게 관통하며 그 내부가 도전물질로 도포된 복수의 공진홀을 포함하여 제2입력신호를 필터링하는 적어도 하나의 공진기로 이루어진 제2필터링영역과, 상기 유전체블럭 측면의 도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기 공진홀과 전자기적인 커플링을 형성하는 입력패드 및 출력패드와, 도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기 유전체블럭의 제1필터링영역과 제2필터링영역 사이에 배치되어 공진기와 전자기적인 커플링을 형성하는 안테나패드와, 상기 제2면의 제1필터링영역에 형성되어 인접 공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 적어도 하나의 오픈영역으로 구성된다.
상기 오픈영역은 공진홀의 배열방향을 따라 복수의 제1공진홀의 상하 한쪽에 형성되는 적어도 하나의 제1영역과 상기 공진홀의 배열방향을 따라 복수의 제2공진홀의 다른쪽에 형성되는 적어도 하나의 제2영역으로 이루어진다. 상기 제1영역과 제2영역은 인접공진기 사이에 결합인덕턴스를 형성하는 것으로, 각각이 제2면에 독립적으로 형성될 수도 있다. 또한, 상기 제2면에는 공진기의 공진주파수를 조정하는 공진주파수 조정용 오픈영역이 형성된다. 상기 공진주파수 조정용 오픈영역은 공진홀 단부와 측면 사이에 형성되어 원하는 주파수로 공진주파수를 조정할 수 있게 된다.
유전체블럭의 제1면에는 복수의 도체패턴이 형성되어 공진기에 부가인덕턴스를 부가하고 인접공진기 사이에 결합캐패시턴스를 형성한다. 공진주파수 조정용 도체패턴이 형성되어 역시 공진기의 공진주파수를 조정한다. 상기 공진주파수 조정용 도체패턴은 유전체블럭의 측면으로부터 공진홀 단부를 향해 연장되어 도체패턴의 면적이나 도체패턴과 공진홀 단부와의 간격을 조절하는 것에 의해 공진주파수를 조정할 수 있게 된다.
도 1은 종래의 일체형 유전체 필터를 나타내는 도면.
도 2는 종래의 듀플레스 유전체 필터를 나타내는 도면.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 일체형 유전체 필터의 사시도.
도 4는 도 3에 도시된 일체형 유전체 필터의 제2면을 나타내는 도면.
도 5는 도 3에 도시된 일체형 유전체필터의 제1면을 나타내는 도면.
도 6은 도 3에 도시된 일체형 유전체 필터의 등가회로도.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 일체형 유전체 필터의 사시도.
도 8은 도 7에 도시된 일체형 유전체 필터의 제2면을 나타내는 도면.
도 9는 도 7에 도시된 일체형 유전체필터의 제1면을 나타내는 도면.
도 10은 도 7에 도시된 일체형 유전체 필터의 등가회로도.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 듀플렉서 유전체 필터의 사시도.
도 12는 도 11에 도시된 듀플렉서 유전체 필터의 제2면을 나타내는 도면.
도 13은 도 11에 도시된 듀플렉서 유전체필터의 제1면을 나타내는 도면.
도 14은 도 11에 도시된 듀플렉서 유전체 필터의 등가회로도.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
101,201,301 : 유전체 블럭 103,203,303 : 공진홀
105,205,305 : 제1면(전면) 107,207,307 : 제2면(후면)
108,208,308 : 도체패턴 112,212,312 : 입출력단자
120,135,220,235.320,328,327,330,335 : 오픈영역
유전체 필터나 듀플렉스 유전체필터의 주파수 대역을 미세조정하기 위해서는 공진홀 내부에 형성된 내부전극와 연결되는 유전체 블럭 전면의 도체패턴와 유전체 블럭 측면의 접지전극 사이의 간격을 조절해야만 한다. 그러나, 소형 경량화된 유전체필터에서는 유전체블럭의 크기, 즉 전면 및 후면의 넓이가 축소되기 때문에 상기 공진홀의 내부 전극에 연결되는 도전체의 크기를 조절하는데에는 한계가 있었다. 따라서, 본 발명에서는 유전체 블럭을 종래의 유전체 블럭에 비해 소형으로 형성하고 공진홀의 내부전극과 연결되는 도체패턴을 유전체 블럭의 전면에 종래의 크기 보다 축소된 일정 크기로 형성하고, 후면에는 인덕턴스 조절부를 형성하여 원하는 특성을 갖는 소형 경량의 유전체 필터를 제조한다.
또한, 공진홀이 3개 이상 형성되어 있는 유전체 필터나 듀플렉서 유전체 필터에서는 상기 유전체 블럭의 후면에 인덕턴스 조절부와 캐패시턴스 조절부가 형성되어 결합인덕턴스 및 결합캐패시턴스 뿐만 아니라 인접하지 않는 공진기 사이에 크로스 결합인덕턴스(cross coupling inductance)를 형성하여 유전체 필터의 특성을 제어한다.
이러한 조절부는 결합인덕턴스의 크기 및 크로스 결합인덕턴스를 형성하는 제1조절부와 단순히 부하캐패시턴스의 크기를 미세 조정하는 공진주파수 조정용 제2조절부로 나눌 수 있다.
도 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 일체형 유전체 필터의 사시도이고, 도 4는 상기 도 3에 도시된 유전체 필터의 후면, 즉 제2면을 나타내는 도면이며, 도 5는 상기 도 3에 도시된 유전체 필터의 전면, 즉 제1면을 나타내는 도면이다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 상기 일체형 유전체 필터는 서로 대향하는 제1면(105)과 제2면(107)을 보유하는 대략 육면체형상으로 이루어져 있다. 상기 제2면(107)과 제1면(105) 및 제2면(107) 사이의 측면에는 도전물질이 도포되어 접지전극을 형성하고 있으며, 그 내부에는 제1면(105)과 제2면(107)을 대략 평행하게 관통하는 2개의 공진홀(103)이 형성되어 공진기를 형성한다. 도면에는 나타내지 않았지만, 상기 공진홀(103)의 내부표면에도 역시 도전물질이 도포되어 내부전극을 형성하고 있다.
제1면(105), 즉 유전체 블럭의 전면은 도전물질이 형성되지 않은 오픈영역으로서, 상기 공진홀(103) 각각의 주위에는 공진홀(103)의 내부전극과 연결되는 소정 크기의 도체패턴(108)이 형성되어 있다. 상기 도전패턴(108)과 접지전극 사이에는 부하캐패시턴스가 형성되어 각 공진기의 공진주파수를 결정하며 도전패턴(108) 사이에는 결합캐패시턴스가 형성되어 필터의 대역폭을 결정한다.
상기 유전체 블럭의 제2면(107), 즉 후면에는 도 4에 도시된 바와 같은 도전물질이 도포되지 않은 오픈영역(120)이 상기 공진홀(103)의 단부와 일정 거리를 두고 형성되어 있다. 이러한 오픈영역(120)을 형성하기 위해서는 스크린프린팅방법에 의해 도전물질을 도포할 때, 마스크를 사용하여 상기 영역을 블로킹함으로써 형성할 수 있다. 즉, 도전성물질의 도포와 동시에 상기 오픈영역을 형성할 수 있다.
이때, 상기 도 4(a)∼도 4(d)의 각각은 상기 오픈영역의 일례를 나타내는 것으로, 도 4(a)에서는 오픈영역(120)이 공진홀(103)의 배열방향을 따라 2개의 공진홀(103)과 겹치도록 형성되고 도 4(b)에서는 공진홀(103)의 배열방향을 따라 형성된 오픈영역과 상기 공진홀(103) 사이로 연장되도록 상기 오픈영역과 일체로 형성되고, 도 4(c)에서는 공진홀(103)의 배열방향을 따라 상기 공진홀(103)의 상하부에 2개의 오픈영역(120)이 형성된다. 또한, 도 4(d)에는 상기 공진홀(103)의 상부에소정 넓이의 공진주파수 조정용 오픈영역이 형성되어 있다.
도 6은 도 3에 도시된 일체형 유전체 필터의 등가회로도를 나타낸다. 도면에서, 도면부호 R1및 R2는 각각 공진기를 나타내며, C1과 C1는 도체패턴(108)과 입출력단자(112a,112b) 사이에 형성되는 입출력단 결합캐패시터를 나타내고 C12는 상기 공진기(R1,R2) 사이의 결합캐패시턴스를 나타내고, M12는 공진기(R1,R2) 사이의 결합인덕턴스를 나타낸다. 상기 공진기를 결합하는 결합캐패시턴스(C12)는 유전체 블록(101)의 제1면(105)에 형성된 도체패턴(108) 사이에서 형성되며, 결합인덕턴스(M12)는 제2면(107)의 오픈영역(120)에 의해 형성된다. 상기한 구성의 등가회로도에서, 입력단자(112b)로 신호가 입력되면 두공진홀(103)에 전계가 형성되어 공진기가 작동한다. 이때, 제2면(107)의 오픈영역(120)에 의해 상기 결합인덕턴스(M12)는 상기 오픈영역(120)이 형성되지 않았을 경우보다도 증가하게 된다. 이러한 결합인덕턴스(M12)의 증가율은 오픈영역(120)의 길이 및 폭에 따라 조정가능한데, 오픈영역(120)의 길이 및 폭이 증가함에 따라 상기 결합인덕턴스(M12)가 증가하게 된다.
또한, 도 4(b)의 경우와 같이, 공진홀(103) 사이에 오픈영역이 형성된 경우에는 상기 오픈영역이 공진홀(103) 사이의 결합인덕턴스(C12)를 증가시켜 유전체 필터의 특성을 향상시킨다.
즉, 상기 도체패턴(108) 사이에 형성되는 결합캐패시턴스(C12)에 부가하여 오픈영역(120)에 의한 결합인덕턴스(M12)가 존재하게 된다. 따라서, 상기 오픈영역(120)의 길이 및 폭을 조절함으로써 결합인덕턴스(M12)의 크기를 제어할 수 있게 되어 유전체필터의 소형으로 인해, 유전체블럭(101)의 제1면(105)내에서 불가능하던 특성제어를 위한 캐패시턴스와 인덕턴스의 제어가 가능하게 된다.
또한, 도 4(d)에 도시된 공진주파수 조정용 오픈영역은 공진기의 공진주파수를 미세하게 조정하기 위한 것으로, 도 4(a)∼도 4(c)에 도시된 오픈영역과 마찬가지로 도전물질의 도포시 마스크를 사용하여 상기 오픈영역과 동시에 형성한다. 이때, 도면에는 상기 공진주파수 조정용 오픈영역이 비록 공진홀(103)의 상부에만 형성되어 있지만, 상기 공진주파수 조정용 오픈영역이 도면과 같은 특정한 위치에 한정되는 것은 아니다. 즉, 공진홀(103)의 하부에도 형성될 수 있으며, 공진홀(103)의 옆에 형성하는 것도 물론 가능하다. 이때, 상기 공진주파수 조정용 오픈영역은 상기 공진홀(103) 내부의 내부전극과 접속되는 것도 가능하지만, 상기 내부전극과 일정 거리를 두고 형성되어 유전체블럭의 측면으로 연장되는 것도 가능하며, 측면의 접지전극과 접속되는 것도 가능하다.
도 4(a)에 도시된 오픈영역의 경우에도 그 위치가 공진홀(103)의 상부에 한정되는 것은 아니며, 공진홀(103)의 하부에 형성하는 것도 가능하다.
도 4(a)∼도 4(d)에 도시된 각각의 예는 특정한 예에 한정되는 것은 아니다. 즉, 도 4(d)에 도시된 공진주파수 조정용 오픈영역은 단독으로도 형성될 수 있지만, 도 4(a)∼도 4(c)에 도시된 오픈영역과 동시에 존재할 수도 있다.
도 5(a)∼도 5(d)는 도 3에 도시된 유전체필터의 제1면의 구조를 각각 나타내는 예이다. 상기 도면에 도시된 각각의 예는 도 4(a)∼도 4(d)에 도시된 제2면의 예와 결합되어 실제로는 구조가 서로 다른 많은 종류의 유전체필터를 형성할 수 있게 된다.
상기 예를 상세히 살펴보면, 우선 도 5(a)에서는 유전체블럭의 제1면(105)의 공진홀(103) 배열방향을 따라 공진홀(103) 상부에 일정 폭의 도체패턴(130)이 형성되어 있다. 상기 도체패턴(130)은 공진홀(103) 내부의 내부전극과 접속되는 도체패턴(108)과 일정 거리를 두고 형성되어, 인접하는 공진기 사이에 결합캐패시턴스를 형성하여 유전체필터의 특성을 제어한다. 이때, 상기 도체패턴(130)이 상기 공진홀(103)의 상부에만 형성되는 것이 아니라 하부에 형성하는 것도 가능하고 상하부 양측에 형성되는 것도 물론 가능하다.
도 5(b)에는 공진홀(103) 사이에 도체패턴(131)이 형성되어 있다. 상기 도체패턴(131)은 각각의 공진기와 결합캐패시턴스를 형성하여 유전체필터 전체에 새로운 결합캐패시터스를 제공하는 것으로, 도 5(c)에 도시된 바와 같이 유전체블럭 측면의 접지전극과 접속되는 구성으로 형성하는 것도 가능하다. 또한, 도 5(d)에는 제2면과 마찬가지로 공진주파수 조정용 도체패턴(135)이 형성되어 있다. 상기 공진주파수 조정용 도체패턴(135)은 공진기의 공진주파수를 조정하기 위한 것으로, 도체패턴(135)의 면적이나 도체패턴(135)과 공진홀(103) 단부와의 간격을 조절함에 따라 조정할 수 있게 된다. 이때에도, 상기 공진주파수 조정용 도체패턴(135)은 도면과 같이 특정 위치에 한정되는 것은 아니다. 즉, 공진홀(108)의 상부 또는 하부에도 형성할 수 있으며, 상하부 양쪽은 혹은 공진홀(108)의 옆에도 형성할 수 있다. 또한, 상기 공진주파수 조정용 도체패턴(135)이 도면에 도시된 바와 같이 유전체블럭 측면의 접지전극에 접속될 수도 있지만 분리되는 것도 물론 가능하다. 상기 공진주파수 조정용 도체패턴(135)은 공진홀(103) 주위의 도체패턴(108)에 접속되는 것도 가능하지만 일정 거리를 두고 형성하는 것이 더욱 바람직하다.
상기한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 유전체필터에서는 접지전극이 형성된 유전체 블럭의 제2면(107), 즉 후면에 전극이 형성되지 않은 오픈영역(120)을 형성하여 필터의 감쇄포인트와 감쇄비를 제어할 수 있게 되어 필터의 특성을 용이하게 제어할 수 있게 된다. 또한, 유전체 블럭의 제1면(105)에 형성되는 복수의 도체패턴을 종래 보다 작은 크기로 형성한 후, 제2면(107)에 오픈영역(120)을 형성하여 유전체 필터의 캐패시턴스와 인덕턴스를 제어하기 때문에, 종래보다 소형화된 유전체 필터의 제조가 가능할 뿐만 아니라 소형화에 따른 전극의 프린팅오차에 의한 불량을 방지할 수 있게 된다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유전체 필터를 나타내는 도면이고, 도 8은 도 7의 제2면을 나타내는 도면이고 도 9는 도 7의 제1면을 나타내는 도면이다. 도 7에 도시된 유전체블럭(201)은 공진홀(203)의 갯수를 제외하고는 도 3에 도시된 유전체 필터와 그 구성이 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.
도 8(a)∼도 8(c)는 상기 유전체 블럭(201)의 제2면(207)에 형성된 오픈영역의 예를 나타내는 도면이다. 도 8(a)에 나타낸 바와 같이, 유전체블럭(201)의 제2면(207)에 형성된 제1오픈영역(220)은 공진홀(203)의 배열방향을 따라 상기 3개의 공진홀(203)과 겹치도록 배치되어 있으며, 상기 제1오픈영역(220)의 길이방향 좌우의 공진홀(203) 상부와 하부영역에는 일정 크기의 제2오픈영역(235a,235b)이 형성되어 있다. 상기 제1오픈영역(220)의 길이방향을 따라 공진홀(203)의 상부에 배치된 형성된 제2오픈영역(235a)은 상기 제1오픈영역(220)과 일체로 형성될 수도 있고 상기 제1오픈(220)과 별개로 형성될 수도 있다. 상기 제2오픈영역(235a,235b)은 공진기의 공진주파수 조정용으로서 그 길이를 제어함에 따라 부하캐패시턴스를 조절하여 공진주파수를 조정할 수 있게 된다.
제1오픈영역(220) 및 제2오픈영역(235a,235b)은 제2면(207)의 접지전극을 도포할 때, 마스크를 사용하여 일정 영역을 블로킹한 상태에서 도전물질을 도포함으로써 접지전극의 형성과 동시에 형성된다.
도 8(a)에는 비록 제1오픈영역(220)과 제2오픈영역(221)이 동시에 형성되어 있지만, 이는 설명의 편의를 위한 것으로서, 제1오픈영역(220) 혹은 제2오픈영역(235a,235b)만을 형성하는 것도 물론 가능하며, 상기 공진주파수 조정용 제2오픈영역(235a,235b)의 크기 및 형상, 그리고 그 갯수는 특별히 한정될 필요는 없다.
도 8(b)에서는, 오픈영역(220a,220b)이 공진홀(203)과 겹치도록 공진홀(203)의 배열방향을 따라 공진홀(203)의 위아래에 배치되어 있으며, 도 8(c)에는 상기 공진홀(203)의 위아래에 각각 2개의 공진홀(203)과 겹치도록 오픈영역(220a,220b)이 배치되어 있다. 상기 도 8(b) 및 도 8(c)에는 도시하지 않았지만, 도 8(a)와 마찬가지로 상기 제2면(207)에 공진주파수 조정용 오픈영역을 형성하는 것도 물론 가능하다.
상기 도 8(b) 및 도 8(c)는 도 8(a)와 동일한 효과를 나타내는 것으로, 그 차이는 형상에 따라 부가되는 결합인덕턴스의 크기 정도일뿐이다.
도 10에 상기 도 8에 도시된 유전체 필터의 등가회로도가 도시되어 있다. 상기 등가회로도는 오픈영역(220)의 형상이 각각 다른 경우에도 그 구성이 유사하므로 하나의 등가회로도로 상기 도 8(a)∼도 8(c)에 도시된 예를 설명한다.
도 10의 등가회로도와 도 6의 등가회로도의 구성은 캐패시턴스(C13)와 인덕턴스(M13)를 제외하고는 동일하다. 따라서, 다른 구성에 대한 상세한 설명은 생략하고 상기 캐패시턴스(C13)에 대해서만 설명한다. 도 8(a)에 도시된 제1오픈영역(220)은 인접하는 공진기 사이에 결합인덕턴스(M12,M23)을 형성할 뿐만 인접하지 않는 공진기 사이에 크로스 결합인덕턴스(M13)을 형성한다. 이러한 크로스 결합인덕턴스(M13)는 서로 인접하지 않는 공진홀 사이에서 발생하는 것으로, 결합인덕턴스(M12,M23)와 더불어 유전체필터의 전체적인 결합인덕턴스를 증가시킨다. 따라서, 상기 제1오픈영역(220)의 크기를 제어함에 따라 유전체 필터의 전체적인 결합인덕턴스를 제어하고, 그 결과 유전체 필터의 특성을 용이하게 제어할 수 있게 된다. 이러한 크로스 결합인덕턴스(M13)는 공진기가 4개 이상의 복수개 존재하는 경우에도 인접 공진기를제외한 모든 공진기 사이에 존재하기 때문에, 더욱 큰 크로스 결합인덕턴스를 제공한다.
또한, 도 8(a)에 도시된 제2오픈영역(221)은 각 공진기(R1,R2,R3)의 부하캐패시턴스(C1,C2,C3)를 증가시키는 효과가 있다. 이는 주어진 관통홀에 의한 공진기의 공진주파수를 낮추는 역할을 하므로 상기 제2오픈영역(221)의 크기를 제어함에 따라 공진주파수의 조정이 가능해진다.
이때, 상기 결합인덕턴스(M12,M23)와 크로스 결합인덕턴스(M13)의 크기는 형성되는 제1오픈영역(220)의 폭과 길이가 커짐에 따라 증가하고 공진주파수는 역시 상기 제2오픈영역(220)의 면적이 넓어짐에 따라 낮아진다.
도 9에 도시된 유전체블럭 제1면에 도시된 구조는 도 5에 도시된 제1면의 구조와 동일한 구성으로 되어 있다. 즉, 도 9(a) 및 도 9(b)에 도체패턴(230,231)은 각각 인접하는 공진기 사이에 결합캐패시턴스를 형성하는 것이고, 도 9(c)에 도시된 도체패턴(235)은 공진주파수 조정용으로서 도체패턴(235)의 면적 및 도체패턴(245)과 공진홀(203) 단부와의 간격을 조절함에 따라 공진기의 공진주파수를 조정할 수 있게 된다. 이때에도 각각의 도체패턴은 도면에 도시된 특정한 형상 및 위치에 한정되는 것은 아니고, 다른 많은 형상 및 배치가 가능하다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 듀플렉서 유전체 필터를 나타내는 도면이며, 도 12는 도 11에 도시된 듀플렉서 유전체 필터의 제2면을 나타내는 도면이고 도 13은 도 11에 도시된 듀플렉서 유전체필터의 제1면을 나타내는 도면이다.
도 11에 나타낸 바와 같이, 상기 듀플렉서 유전체 필터는 서로 마주하는 제1면(305) 및 제2면(6077)를 포함하는 대략 육면체의 유전체 블럭(301)으로 구성되어 있다. 상기 유전체 블럭(3011)의 내부에는 설정 간격을 두고 제1면(305)에서 제2면(307)으로 대략 평행하게 관통하는 복수의 공진홀(303)이 형성되어 있으며, 상기 제2면(307)과 제1면(305) 및 제2면(3077) 사이의 측면에는 접지전극이 도포되어 있고 공진홀(303)의 내부표면 역시 내부전극이 도포되어 공진기를 형성한다. 또한, 상기 유전체 블럭의 제1면(305)에는 도전물질이 도포되지 않은 오픈영역이 형성되어 있다.
상기 제1면(305)의 공진홀(303) 주위에는 공진홀(3)의 내부표면에 형성된 내부전극과 접속되는 설정 크기의 도체패턴(308)이 형성되어, 유전체 블럭(1)의 접지전극과의 사이에서 부하캐패시턴스를 형성하고 인접 공진홀(303) 주위의 도체패턴 사이에서 결합캐패시턴스를 형성한다. 또한, 상기 제1면(305)에는 송수신단자(312a,312b) 및 안테나단자(313)가 형성되어 있다.
듀플렉서 유전체필터는 일반적으로 2개의 필터링영역으로 이루어진다. 제1필터링영역이 안테나단을 통해 수신된 신호를 필터링하는 경우에는 제2필터링영역은 안테나단을 통해 송신되는 신호를 필터링하는 영역이다. 통상적으로 유전체블럭내의 필터링영역에서 상기 수신영역과 송신영역을 특별히 구분할 필요는 없다. 동일한 구조로 이루어진 듀플렉서 유전체필터의 경우에서도 특정 제품에 따라 상기 수신영역과 수신영역이 달라질 수 있다. 따라서, 본 실시예에서는 설명의 편의를 위해 수신영역과 송신영역을 특정하여 설명하고 있지만, 이러한 가정이 본 발명을 한정하는 것은 결코 아니다.
도 11에 도시된 유전체 필터에서,상기 안테나단자(313)을 중심으로 좌측에 형성된 3개의 공진홀은 고주파를 외부로부터 수신하는 수신필터링영역이고, 우측에 형성된 4개의 공진홀은 외부로부터 고주파를 출력하는 송신필터링영역이다. 수신필터링영역은 수신주파수에 대한 통과특성을 갖고 송신주파수에 대해서는 저지특성을 갖는 반면에, 송신필터링영역은 송신주파수에 대해서는 통과특성을 갖고 수신주파수에 대해서는 저지특성을 갖는다.
도 12(a)∼도 12(d)는 도 11의 제2면(307)의 오픈영역의 예를 나타내는 도면이다. 도 12(a)에 나타낸 바와 같이, 수신필터링영역의 공진홀(303) 사이에는 전극이 도포되지 않은 설정 폭 및 길이의 제1오픈영역(327)이 형성되어 있으며, 상기 공진홀(303)의 아래쪽에는 설정폭 및 길이의 제2오픈영역(328)이 형성되어 있다. 상기 제1오픈영역(327)과 제2오픈영역(328)은 공진홀(303)로부터 일정 거리를 두고 형성되어 공진홀(303)의 내부로부터 절연상태를 유지한다. 이때, 수신필터링영역의 제2오픈영역(328)을 송신단의 모든 공진홀(303) 하부에 형성하는 것도 가능하고 공진홀(303)의 상부에 형성하는 것도 가능하다.
송신필터링영역에는 공진홀(303)의 단부와 일정 거리를 두고 공진홀(303)의 배열방향으로 상하에 제3오픈영역(320a,320b)이 형성되어 있다. 상기 제3오픈영역(320a,320b)은 유전체블럭의 제2면에 한정되는 것이 아니라 공진홀(303)의 단부와 일정 거리 이격된 상태로 제2면 및 측면에 형성가능하다. 또한, 송신필터링영역의 제3오픈영역(320)을 공진홀(303)의 상하부 한쪽에만 형성하는 것도 물론 가능하다.
도 14는 도 12에 도시된 듀플렉서 유전체 필터의 등가회로도로서, 이를 참조하여 상기 도 12(a)에 도시된 예의 듀플렉서 유전체 필터를 설명한다.
도면에서, 수신필터링영역의 공진홀(303) 사이에 형성된 제1오픈영역(327)은 수신필터링영역의 공진기 사이의 결합캐패시턴스(C12,C23)를 증가시키기 위한 것으로, 그 면적이 넓을수록 결합캐패시턴스(C12,C23)가 증가한다. 따라서, 상기 제1오픈영역(327)에 의해 공진기 사이의 결합캐패시턴스(C12,C23)를 조절하여 원하는 특성을 얻을 수 있게 된다. 또한, 상기 공진홀(328) 아래, 즉 공진홀(303)과 유전체 블럭 측면에 형성된 접지전극 사이에 형성된 제2오픈영역(328)에 의해 해당 공진홀의 공진주파수를 낮출 수 있게 된다. 이때, 상기 제2오픈영역(328)의 면적이 넓을수록 공진주파수가 더 낮아진다. 이러한, 제2오픈영역(328)의 형성은 수신필터링영역의 공진홀(303)의 내부전극과 접속되는 제1면(305)의 도체패턴(308) 면적을 넓히는 효과를 발생하며 결국 공진기의 길이를 길게 하는 역할을 하여 공진주파수를 낮출 수 있게 된다.
송신필터링영역에서 상기 공진홀(303)의 배열방향을 따라 연장되는 제3오픈영역(320a,320b)은 도 3 및 도 7에 도시된 유전체 필터와 마찬가지로 인접 공진기 사이에 결합인덕턴스(M45,M46,M47)를 형성할 뿐만 아니라 인접하지 않는 공진기 사이에 크로스 결합인덕턴스(M46,M47)를 형성한다. 도 13에서는 비록 특정 공진기(R4)에대한 크로스 결합인덕턴스만을 도시했지만, 모든 공진기(R4,R5,R6,R7)에 대한 크로스 결합인덕턴스가 존재하기 때문에, 실제적으로 송신단에서의 전체적인 결합인덕턴스가 증가하게 된다. 이때, 상기 결합인덕턴스는 제3오픈영역(320a,320b)의 면적이 넓을수록, 제3오픈영역(320a,320b)과 공진홀과의 간격이 좁을수록 결합인덕턴스가 증가한다. 따라서, 수신필터링영역과 마찬가지로 상기 제3오픈영역(320a,320b)의 면적과 공진홀과의 간격을 조절함으로써 원하는 특성을 얻을 수 있게 된다.
상기 제2면(307)에 도시된 오픈영역의 다른 예로서, 도 10(b)에는 송신필터링영역의 제3오픈영역(320a,320b)이 두부분으로 분리되어 공진홀(303)의 배열방향을 따라 각각 두개의 공진홀(303)과 겹치며, 공진홀 사이에는 또 다른 제4오픈영역(330)이 존재한다. 상기 제4오픈영역(330)은 인접하는 공진기 사이의 결합캐패시턴스를 대폭 증가시키기 위한 것이다.
도 12(c)에 도시된 예에서는 제3오픈영역이 공진홀(303)의 배열방향을 따라 한쪽에만 형성되어 되어 있고, 도 8(a)에 도시된 실시예와 마찬가지로, 공진홀(303)의 상하부에 공진주파수 조정용 제5오픈영역(335a,335b)이 형성되어 있다. 상기 제5오픈영역(335a,335b)은 공진주파수를 미세하게 조정하기 공진주파수 조정용 오픈영역으로, 제1오픈영역∼제4오픈영역과 마찬가지로 접지전극을 형성할 때 마스크를 사용하여 도전물질의 도포와 동시에 형성되는데 패턴의 크기 및 패턴과 공진홀 단부 사이의 간격을 조절함에 따라 공진주파수를 미세하게 조정할 수 있게 된다. 이전의 실시예와 마찬가지로 상기 공진주파수 조정용 제5오픈영역(335a,335b) 역시 제2면에 단독으로 형성될 수 있으며, 공진홀(303)의상하부 한쪽에만 형성될 수도 있다. 또한, 공진홀(303)의 상부 혹은 하부 이외에도 공진홀(303)의 옆에도 형성할 수도 있다. 즉, 상기 공진주파수 조정용 제5오픈영역(335a,335b)을 특정 위치에 한정할 필요는 없다. 그리고, 도면에 나타낸 바와 같이, 상기 공진주파수 조정용 제5오픈영역(335a,335b)이 유전체블럭 측면의 접지전극에 접속되는 것도 가능하지만 분리하여 형성하는 것도 가능하다.
도 12(d)에 도시된 예에서는, 제3오픈영역(320a,320b)이 공진홀(303)의 배열방향을 따라 두개의 공진홀(303)과 겹치도록 형성된 것으로, 도 12(b)와는 달리 각 제3오픈영역(320a,320b)이 상하에 교대로 형성되어 있다. 이 경우 크로스 결합인덕턴스는 존재하지 않지만, 상기 제3오픈영역(320a,320b)와 겹치는 공진홀 사이에 결합인덕턴스가 증가하여 송신단 필터의 원하는 특성을 얻을 수 있게 된다. 또한 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 도 12(b) 및 도 12(d)에 인접하는 두개의 공진홀(303)과 겹치는 오픈영역에 부가하여 3개 이상의 공진홀(303)을 따라 형성되어 인접하는 공진기 사이에 결합인덕턴스를 형성하고 인접하지 않는 공진기 사이에 크로스 결합인덕턴스를 형성하는 오픈영역을 형성하는 것도 가능하다.
도 13에 도시된 유전체블럭의 제1면의 구조는 수신필터링영역과 수신필터링영역 전체에 걸쳐서 도체패턴이 형성된다는 점을 제외하고는 도 5 및 도 9에 도시된 구조와 동일하다. 따라서, 상기 제1면의 구조에 대한 상세한 설명은 생략한다. 상기 도 13(a)∼도 13(b)에 도시된 각 예는 도 12(a)∼도 12(d)에 도시된 유전체블럭 제1면의 오픈영역구조와 조합되어 서로 다른 구조를 갖는 듀플렉서 유전체필터를 형성할 수 있게 된다.
상기한 각 실시예에 도시된 오픈영역은 특정 형상이나 특정 크기 및 특정 위치에 한정되지는 않는다. 이러한 예는 발명을 설명하기 위한 수단으로서, 이러한 도면 및 설명의 한정이 본 발명의 권리범위를 한정하지는 않는다. 또한, 유전체 블럭에 형성되는 공진홀의 수도 특정되지는 않는다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 유전체 필터에서는 접지전극이 형성된 유전체 블럭의 후면에 전극이 형성되지 않은 오픈영역을 형성하여 캐패시턴스와 인덕턴스를 부가함으로써, 전극이 형성되지 않은 유전체 블럭 전면의 공진홀 주위에 형성되는 도체패턴의 크기를 감소시킬 수 있을 뿐만 아니라 크기 축소에 따른 전극형성공정에서의 스크린프린팅오차가 발생하지도 않는다. 따라서, 유전체 필터를 소형 경량화할 수 있게 된다. 또한, 상기 후면에 형성된 오픈영역의 크기 조절에 의해 공진기 사이의 캐패시턴스와 인덕턴스의 크기 제어가 가능하게 되어, 원하는 특성의 유전체필터를 용이하게 제조할 수 있게 된다. 더욱이, 공진주파수 조정용 오픈영역에 의해 미세한 공진주파수의 제어도 가능하게 된다.

Claims (34)

  1. 서로 대향하는 제1면과 제2면 및 상기 제1면과 제2면 사이의 측면으로 이루어지고, 상기 제2면과 측면은 도전물질로 도포된 유전체블럭;
    상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 평행하게 관통하며 그 내부표면이 도전물질로 도포되어 공진기를 형성하는 복수개의 공진홀;
    상기 공진홀 내부에 도포된 도전물질과 접속되도록 상기 유전체블럭 제1면의 적어도 하나의 공진홀 주위에 소정의 크기로 형성되어 공진기에 부하캐패시턴스를 제공하고 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 제1도체패턴;
    상기 유전체블럭 측면의 도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기 공진홀과 전자기적인 커플링을 형성하는 입력패드 및 출력패드; 및
    상기 유전체블럭의 제2면에 형성되어 인접 공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 적어도 하나의 오픈영역을 포함하여 구성된 유전체필터.
  2. 제1항에 있어서, 상기 오픈영역은 유전체블럭의 측면 및 제2면의 도전물질 도포시 해당영역을 블로킹하여 형성하는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  3. 제1항에 있어서, 상기 유전체블럭의 제1면에 공진홀의 배열방향으로 상기 공진홀의 단부와 일정 간격을 두고 연장 형성되어 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 제2도체패턴을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  4. 제1항에 있어서, 상기 유전체블럭 제1면의 공진홀 단부 사이에 형성되어 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 제3도체패턴을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제3도체패턴이 상기 유전체블럭의 측면에 도포된 도전물질과 접속되는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  6. 제1항에 있어서, 상기 유전체블럭 측면의 도전물질로부터 제1면의 공진홀 단부를 향해 연장되어 공진기의 공진주파수를 조정하는 제4도체패턴을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제4도체패턴의 면적과 제4도체패턴과 공진홀 단부 사이의 간격을 조절하여 공진기의 공진주파수를 조정하는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  8. 제1항에 있어서, 상기 오픈영역은 인접 공진기 사이에 결합인덕턴스를 형성하고 인접하지 않은 공진기 사이에 크로스 결합인덕턴스를 형성하는 소정 크기로 이루어진 적어도 하나의 제1오픈영역으로 구성된 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제1오픈영역이 공진홀과 소정의 간격을 두고 공진홀의 배열방향을 따라 연장되는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  10. 제8항에 있어서, 상기 제1오픈영역이 공진홀의 배열방향을 따라 공진홀의 상하 적어도 한쪽에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  11. 제1항에 있어서, 상기 오픈영역은 유전체블럭의 제2면에 형성되어 인접 공진기 사이에 결합캐패시턴스를 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 소정 크기의 적어도 하나의 제2오픈영역으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제2오픈영역이 공진홀 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  13. 제1항에 있어서, 상기 오픈영역은,
    유전체블럭의 제2면에 형성되어 인접 공진기 사이에 결합인덕턴스를 형성하며, 인접하지 않은 공진기 사이에 크로스 결합인덕턴스를 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 소정 크기의 적어도 하나의 제1오픈영역; 및
    상기 유전체블럭의 제2면에 형성되어 인접 공진기 사이에 결합캐패시턴스를 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 소정 크기의 적어도 하나의 제2오픈영역으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  14. 제1항에 있어서, 상기 유전체블럭 제2면의 공진홀 단부와 일정 거리 이격된 상태로 형성되어 공진기의 공진주파수를 조정하는 적어도 하나의 제3오픈영역을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  15. 제14항에 있어서, 상기 제3오픈영역은 공진홀 단부와 측면 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체필터.
  16. 서로 대향하는 제1면과 제2면 및 상기 제1면과 제2면 사이의 측면으로 이루어지고, 상기 제2면과 측면은 도전물질로 도포된 유전체블럭;
    상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 평행하게 관통하며 그 내부표면이 도전물질로 도포되어 공진기를 형성하는 복수개의 공진홀;
    상기 공진홀 내부에 도포된 도전물질과 접속되도록 상기 유전체블럭 제1면의 적어도 하나의 공진홀 주위에 소정의 크기로 형성되어 공진기에 부하캐패시턴스를 제공하고 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 도체패턴;
    상기 유전체블럭 측면의 도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기공진홀과 전자기적인 커플링을 형성하는 입력패드 및 출력패드; 및
    상기 제2면의 공진홀 단부와 일정 거리를 두고 형성되어 인접 공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 적어도 하나의 오픈영역을 포함하여 구성된 유전체필터.
  17. 서로 대향하는 제1면과 제2면 및 상기 제1면과 제2면 사이의 측면으로 이루어지고, 상기 제2면과 측면은 도전물질로 도포된 유전체블럭;
    상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 평행하게 관통하며 그 내부표면이 도전물질로 도포되어 공진기를 형성하는 복수개의 공진홀;
    상기 공진홀 내부에 도포된 도전물질과 접속되도록 상기 유전체블럭 제1면의 적어도 하나의 공진홀 주위에 소정의 크기로 형성되어 공진기에 부하캐패시턴스를 제공하고 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 도체패턴;
    상기 유전체블럭 측면의 도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기 공진홀과 전자기적인 커플링을 형성하는 입력패드 및 출력패드; 및
    상기 유전체블럭의 제2면의 공진홀 단부와 일정 거리를 두고 형성되어 공진기의 공진주파수를 조정하는 도전물질이 도포되지 않은 적어도 하나의 오픈영역을 포함하여 구성된 유전체필터.
  18. 서로 대향하는 제1면과 제2면 및 상기 제1면과 제2면 사이의 측면으로 이루어지고, 상기 제2면과 측면은 도전물질로 도포된 유전체블럭;
    상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 대략 평행하게 관통하고 그 내부가 도전물질로 도포되어 공진기를 형성하는 복수의 공진홀로 구성되며, 상기 공진홀 내부에 도포된 도전물질과 접속되도록 상기 유전체블럭 제1면의 적어도 하나의 공진홀 주위에 소정의 크기로 형성되어 공진기에 부하캐패시턴스를 제공하고 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 제1도체패턴을 포함하여 제1입력신호를 필터링하는 제1필터링영역;
    상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 대략 평행하게 관통하며 그 내부가 도전물질로 도포되어 공진기를 형성하는 복수의 공진홀로 구성되며, 상기 공진홀 내부에 도포된 도전물질과 접속되도록 상기 유전체블럭 제1면의 적어도 하나의 공진홀 주위에 소정의 크기로 형성되어 공진기에 부하캐패시턴스를 제공하고 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 제1도체패턴을 포함하여 제2입력신호를 필터링하는 제2필터링영역;
    상기 유전체블럭 측면의 도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기 공진홀과 전자기적인 커플링을 형성하는 입력패드 및 출력패드;
    도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기 유전체블럭의 제1필터링영역과 제2필터링영역 사이에 배치되어 공진기와 전자기적인 커플링을 형성하는 안테나패드; 및
    상기 유전체블럭의 제2면에 형성되어 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 적어도 하나의 오픈영역을 포함하여 구성된듀플렉서 유전체필터.
  19. 제18항에 있어서, 상기 오픈영역은 유전체블럭의 측면 및 제2면의 도전물질 도포시 해당영역을 블로킹하여 형성하는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  20. 제18항에 있어서, 상기 유전체블럭 제1면에 공진홀의 배열방향으로 상기 공진홀의 단부와 일정 간격을 두고 연장 형성되어 인접 공진기에 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 제2도체패턴을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  21. 제18항에 있어서, 상기 유전체블럭 제1면의 공진홀의 단부 사이에 형성되어 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 제3도체패턴을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  22. 제21항에 있어서, 상기 제3도체패턴이 상기 유전체블럭의 측면에 도포된 도전물질과 접속되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  23. 제18항에 있어서, 상기 유전체블럭 측면의 도전물질로부터 제1면의 공진홀 단부를 향해 연장되어 공진기의 공진주파수를 조정하는 제4도체패턴을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  24. 제23항에 있어서, 상기 제4도체패턴의 일부를 제거함에 따라 공진주파수가 조정되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  25. 제18항에 있어서, 상기 오픈영역은 인접 공진기 사이에 결합인덕턴스를 형성하고 인접하지 않은 공진기 사이에 크로스 결합인덕턴스를 형성하는 소정 크기로 이루어진 적어도 하나의 제1오픈영역으로 구성되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  26. 제25항에 있어서, 상기 제1오픈영역이 공진홀과 소정의 간격을 두고 공진홀의 배열방향을 따라 연장되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  27. 제26항에 있어서, 상기 제1오픈영역이 공진홀의 배열방향을 따라 공진홀의 상하 적어도 한쪽에 형성되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  28. 제18항에 있어서, 상기 오픈영역은 유전체블럭 제2면에 형성되어 인접 공진기 사이에 결합캐패시턴스를 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 소정 크기의 적어도 하나의 제2오픈영역으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  29. 제28항에 있어서, 상기 제2오픈영역이 공진홀 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  30. 제18항에 있어서, 상기 오픈영역은,
    유전체블럭 제2면에 형성되어 인접 공진기 사이에 결합인덕턴스를 형성하며, 인접하지 않은 공진기 사이에 크로스 결합인덕턴스를 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 소정 크기의 적어도 하나의 제1오픈영역; 및
    상기 유전체블럭 제2면에 형성되어 인접 공진기 사이에 결합캐패시턴스를 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 소정 크기의 적어도 하나의 제2오픈영역으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  31. 제18항에 있어서, 상기 유전체블럭의 제2면의 공진홀 단부와 일정 거리 이격된 상태로 형성되어 공진기의 공진주파수를 조정하는 적어도 하나의 제3오픈영역을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  32. 제31항에 있어서, 상기 제3오픈영역은 공진홀과 측면 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서 유전체필터.
  33. 서로 대향하는 제1면과 제2면 및 상기 제1면과 제2면 사이의 측면으로 이루어지고, 상기 제2면과 측면은 도전물질로 도포된 유전체블럭;
    상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 대략 평행하게 관통하고 그 내부가 도전물질로 도포되어 공진기를 형성하는 복수의 공진홀로 구성되며, 상기 공진홀 내부에 도포된 도전물질과 접속되도록 상기 유전체블럭 제1면의 적어도 하나의 공진홀 주위에 소정의 크기로 형성되어 공진기에 부하캐패시턴스를 제공하고 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 도체패턴을 포함하여 제1입력신호를 필터링하는 제1필터링영역;
    상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 대략 평행하게 관통하며 그 내부가 도전물질로 도포되어 공진기를 형성하는 복수의 공진홀로 구성되며, 상기 공진홀 내부에 도포된 도전물질과 접속되도록 상기 유전체블럭 제1면의 적어도 하나의 공진홀 주위에 소정의 크기로 형성되어 공진기에 부하캐패시턴스를 제공하고 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 도체패턴을 포함하여 제2입력신호를 필터링하는 제2필터링영역;
    상기 유전체블럭 측면의 도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기 공진홀과 전자기적인 커플링을 형성하는 입력패드 및 출력패드;
    도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기 유전체블럭의 제1필터링영역과 제2필터링영역 사이에 배치되어 공진기와 전자기적인 커플링을 형성하는 안테나패드; 및
    상기 제2면의 공진홀 단부와 일정 거리를 두고 형성되어 인접 공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 도전물질이 도포되지 않은 적어도 하나의 오픈영역을 포함하여 구성된 듀플렉서 유전체필터.
  34. 서로 대향하는 제1면과 제2면 및 상기 제1면과 제2면 사이의 측면으로 이루어지고, 상기 제2면과 측면은 도전물질로 도포된 유전체블럭;
    상기 유전체블럭의 제1면과 제2면을 대략 평행하게 관통하고 그 내부가 도전물질로 도포되어 공진기를 형성하는 복수의 공진홀로 구성되며, 상기 공진홀 내부에 도포된 도전물질과 접속되도록 상기 유전체블럭 제1면의 적어도 하나의 공진홀 주위에 소정의 크기로 형성되어 공진기에 부하캐패시턴스를 제공하고 인접공진기 사이에 전자기적인 커플링을 형성하는 적어도 하나의 도체패턴을 포함하여 제1입력신호를 필터링하는 제1필터링영역;
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    도전물질과 고립된 전극영역으로 이루어지고 상기 유전체블럭의 제1필터링영역과 제2필터링영역 사이에 배치되어 공진기와 전자기적인 커플링을 형성하는 안테나패드; 및
    상기 제2면의 공진홀 단부와 일정 거리를 두고 형성되어 공진기의 공진주파수를 조정하는 적어도 하나의 오픈영역을 포함하여 구성된 듀플렉서 유전체필터.
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