KR100273848B1

KR100273848B1 - Electrode of pdp

Info

Publication number: KR100273848B1
Application number: KR1019960042802A
Authority: KR
Inventors: 김태윤
Original assignee: 김영남; 오리온전기주식회사
Priority date: 1996-09-30
Filing date: 1996-09-30
Publication date: 2000-12-15
Also published as: KR19980023338A

Abstract

PURPOSE: An electrode of a flat display device is provided to prevent deterioration of conductive properties and to supply a flat display with excellent properties like as PDP by reducing frequency of heat treatment of a transparent electrode without peel-out of transparent electrode and hazardous material. CONSTITUTION: A front electrode(E1) is composed of laminating a small area metal electrode(M) and a large area transparent electrode(T) by turns on a front substrate. There is not a deterioration of conductive property or a penetration of organic compound because the transparent electrode(T) is basically suffered with one time heat treatment in the front electrode(E1). An upper width of the metal electrode(M) which is formed at advance on a substrate(P1) is composed to be more narrow than a lower width. A stair gap is reduced and then gap formation is prevented at the contact part when printing the transparent electrode(T) on the top of the metal electrode(M), and then a problem like as a peel-out of the transparent electrode(T) or a capture of the organic compound is solved and there is no deterioration of conductive property or occurrence of a foreign substance.

Description

The electrode of the flat plate element

제1도는 평판소자의 일례로서 DC형 PDP의 구성을 보이는 단면도,1 is a cross-sectional view showing a configuration of a DC type PDP as an example of a flat plate element,

제2도는 전면기판의 전극구조를 보이는 부분 확대 단면도,FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view showing an electrode structure of the front substrate,

제3도는 본원인의 선출원 전극구조를 보이는 부분 확대 단면도,FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view showing the structure of the prior art electrode of the present cause,

제4도는 본 발명에 의한 전극구조를 보이는 부분 확대 단면도,FIG. 4 is a partially enlarged sectional view showing an electrode structure according to the present invention,

제5도 및 제6도는 본 발명 전극구조의 형성방법들을 보이는 단면도들이다.FIGS. 5 and 6 are cross-sectional views illustrating methods of forming the electrode structure of the present invention.

〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉Description of the Related Art

P1, P2 : 전면 및 기판 E1, E2 : 전면 및 배면전극P1, P2: front and substrate E1, E2: front and back electrode

M : 금속전극 T : 투명전극M: metal electrode T: transparent electrode

본 발명은 평판소자에 관한 것으로, 특히 전면기판의 전극에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a flat panel device, and more particularly to an electrode on a front substrate.

평판소자는 유리등의 기판상에 기능층을 적층하여 박형(薄形)의 기능소자를 구성한 것으로, 평판표시소자를 포함하여 매트릭스(matrix) 방식의 구동을 하는 대부분의 평판소자는 제1도에 도시된 바와 같이 2기판 구조를 가진다.A flat panel element is a thin functional element formed by stacking functional layers on a substrate such as a glass substrate. Most of the flat panel elements that are driven by a matrix method including a flat panel display element are shown in FIG. 1 And has a two-substrate structure as shown.

제1도에서, 평판표시소자의 일례인 직류(DC)형 플라즈마 표시소자(PDP: Plasma Display Panel)는 전면기판(P1)과 배면기판(P2)에 서로 교차 대향하는 전극(E1,E2)을 배열하고 격벽(B)으로 구획함으로써 복수의 화소를 형성하고 있다.1, a direct current (DC) type plasma display panel (PDP), which is an example of a flat panel display device, includes electrodes E1 and E2 crossing each other on a front substrate P1 and a rear substrate P2 And partitioned into barrier ribs B to form a plurality of pixels.

두 전극(E1,E2)간의 방전 및 이에 따른 형광층(도시안됨)의 발광에 의해 발생된 광(光)은 전면기판(P1)을 통해 사용자에게 전달되는 바, 이때 전면기판(P1)의 전극(E1)(이하 전면전극으로 호칭함)이 시야를 가리게 되므로, 이에 따른 개구율(開口率) 및 휘도의 저하를 방지하기 위해 여러 가지 방법이 강구되고 있다.The light generated by the discharge between the two electrodes E1 and E2 and the light emitted by the fluorescent layer (not shown) is transmitted to the user through the front substrate P1. At this time, (Hereinafter referred to as a front electrode) shields the field of view. Therefore, various methods have been proposed to prevent the aperture ratio and the luminance from being lowered.

이 방법들은 기본적으로 전면전극(E1)의 면적을 최소화하고 격벽(B)측으로 치우치게 배열하는 등의 방법이지만, 이에 따라 방전특성이 불량해지므로 최근에는 ITO(Indium Tin Oxide)등의 투명전극을 전면전극(E1)으로 채택하고 있다.These methods are basically a method of minimizing the area of the front electrode E1 and arranging the front electrode E1 to the side of the partition B. However, since the discharge characteristics are poor, a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) And is adopted as the electrode E1.

그런데 ITO는 Aℓ이나 Ag등 금속전극에 비해 도전특성이 불량하여 넓은 면적의 PDP에서는 심한 전압강하로 전면적으로 균일한 구동을 하기 어렵게 된다.However, the ITO has poor conductivity characteristics compared to metal electrodes such as Aℓ and Ag, so that it is difficult to uniformly drive the entire area due to a severe voltage drop in a large area PDP.

이에 따라 제2도에 도시된 바와 같이 대면적의 투명전극(T)상에 도전특성이 우수한 금속전극(M)을 소면적으로 적층하여 도전특성을 보완하는 버스(bus)전극을 역할을 부여한 적층전극으로 전면전극(E1)을 구성하는 기술이 보편화되고 있다.Thus, as shown in FIG. 2, a metal electrode M having a good conductive property is stacked on a large area of the transparent electrode T to form a bus electrode that compensates for the conductive property, A technique of forming the front electrode E1 with an electrode is becoming common.

그런데 각 전극(E1:T,M)등의 기능층은 주로 인쇄방법으로 구성되는 바, 인쇄방법은 기능성 입자를 분말유리등의 소결입자에 혼합하여 용제에 분산시킴으로써 인쇄가능한 페이스트를 조성하여 이를 패턴(pattern)인쇄한 뒤, 용제를 건조시키고 고온으로 가열하여 소결입자를 용융시킴으로써 기능성입자를 고정시키는 소성(燒成)과정을 거치게 된다.However, functional layers such as electrodes (E1: T, M) are mainly composed of a printing method. In the printing method, functional particles are mixed with sintered particles such as powder glass and dispersed in a solvent to form a printable paste. After the pattern is printed, the solvent is dried and heated at a high temperature to melt the sintered particles, thereby firing the functional particles.

그러므로 제2도에 도시된 바와 같은 종래의 전면전극(E1)은 투명전극(T)이 금속전극(M)의 소성까지 2회의 열처리과정을 겪게 된다. 그런데 투명전극(T) 재질인 ITO는 열에 취약할 뿐아니라 금속전극(M)의 인쇄과정에서 유기성분인 용제가 침투되어 그렇지 않아도 취약한 도전특성이 더욱 저하되는 문제가 발생한다.Therefore, in the conventional front electrode E1 as shown in FIG. 2, the transparent electrode T undergoes two heat treatment processes until the metal electrode M is fired. However, ITO, which is a transparent electrode (T), is not only vulnerable to heat, but also a solvent, which is an organic component, permeates during the printing process of the metal electrode (M).

이에 따라 본원인은 기판(P1)상에 금속전극(M)을 먼저 형성한 뒤, 그 상부에 투명전극(T)을 형성함으로써 투명전극(T)이 1회의 열처리만을 거치게 하고 금속전극(M) 형성과정에서의 용제침투등을 방지함으로써 투명전극(T)의 도전특성 저하를 방지한 제3도의 구성을 제안(출원번호 추후보정)하고 있다.The reason for this is that the metal electrode M is first formed on the substrate P1 and then the transparent electrode T is formed on the substrate P1 so that the transparent electrode T undergoes only one heat treatment, The structure of FIG. 3 in which the conductive property of the transparent electrode T is prevented from deteriorating by preventing penetration of the solvent during the formation process is proposed (the application number is corrected later).

그런데 투명전극(T)은 도전성이 낮을 뿐아니라 인쇄성이나 부착성도 그다지 우수하지 못한 바 두께가 있는 금속전극(M)상에 투명전극(T)을 인쇄형성하면 금속전극(M)과의 접촉부 하면 모서리에 틈새(G)가 발생되기 쉽다.However, when the transparent electrode T is printed on the metal electrode M having low electrical conductivity and not excellent in printing property and adhesion property, the transparent electrode T may be formed as a contact portion with the metal electrode M Gaps (G) are likely to occur at the corners.

이 틈새(G)는 투명전극(T)의 박리(peel-out) 이탈을 초래할 뿐아니라 유기용제등 불순물을 포집하여 도전특성을 불균일하게 하고 PDP내에 이물질을 발생시키는 문제를 야기하게 된다.This gap G not only causes peeling-off of the transparent electrode T, but also causes impurities such as organic solvents to be trapped, thereby making the conductive characteristics uneven and generating foreign matter in the PDP.

상술한 종래의 문제점을 감안하여 본 발명은 금속전극상에 투명전극이 틈새없이 형성될 수 있는 PDP등 평판소자의 전극을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a flat panel electrode such as a PDP in which a transparent electrode can be formed without a gap on a metal electrode.

상술한 목적의 달성을 위해 본 발명 전극은 금속전극의 상부폭이 하부폭보다 작아, 바람직하기 사다리꼴 단면으로 형성되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above-mentioned object, the electrode of the present invention is characterized in that the top width of the metal electrode is smaller than the bottom width, and is preferably formed as a trapezoidal cross-section.

이러한 단면의 금속전극은 금속전극의 패터닝시 사진식각법의 과노광(over focusing)이나 식각(etching)법의 과식각으로 형성될 수 있다.The metal electrode having such a cross section may be formed by an overexposure of an over-focusing or an etching method of a photolithography method when the metal electrode is patterned.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제4도에서, 전면기판(P1)상에 소면적의 금속전극(M)과 대면적의 투명전극(T)을 순차적으로 적층하여 구성된 본 발명의 전면전극(E1)은 기본적으로 상부의 투명전극(T)이 1회의 열처리만을 겪게 되므로 도전특성의 저하나 유기성분의 침투가 없게 된다.4, the front electrode E1 of the present invention, which is formed by sequentially laminating a metal electrode M having a small area and a transparent electrode T having a large area on a front substrate P1, (T) undergoes only one heat treatment, so that the conductive property is reduced and the penetration of the organic component is eliminated.

본 발명 특징에 따라 기판(P1)상에 먼저 형성되는 금속전극(M)은 상부폭이 하부폭보다 좁도록 구성된다. 그러면 금속전극(M)의 상부에 투명전극(T)을 인쇄할 때 그 접촉부에 단차(段差)가 감소되어 틈새(제3도의 g) 형성이 방지되며, 이에 따라 투명전극(T)의 박리나 유기성분의 포착등의 문제가 해결되어 도전특성의 저하나 이물질의 발생등이 없게 된다.According to an aspect of the present invention, the metal electrode (M) formed on the substrate (P1) is configured such that the top width is narrower than the bottom width. When the transparent electrode T is printed on the upper portion of the metal electrode M, the step difference is reduced at the contact portion thereof to prevent the formation of gaps (g in FIG. 3) Problems of trapping of organic components and the like are solved, so that the conductive characteristics are reduced, and foreign matter is not generated.

여기서 금속전극(M)의 단면은 바람직하기로 사다리꼴이지만, 굳이 사다리꼴로 한정하지 않는 이유는 금속전극(M)의 측면이 외측을 향해 적절한 경사나 곡면을 형성하면 본 발명 효과가 달성될 뿐아니라, 실제적으로 사다리꼴의 단면을 형상하기는 곤란하기 때문이다.Although the cross section of the metal electrode M is preferably trapezoidal, the reason why the metal electrode M is not limited to a trapezoidal shape is that the effect of the present invention is not only achieved when the side surface of the metal electrode M forms an appropriate slope or curved surface toward the outside, It is difficult to actually form a trapezoidal cross section.

즉 전극(E1,E2)은 상당한 높이를 가지는 격벽(B)과는 달리 수십 ㎛정도의 두께를 가지므로 단 1회로 인쇄할 수 있어서, 사다리꼴등 상부폭이 하부폭보다 좁은 단면을 형성하기는 용이하지 않다.In other words, since the electrodes E1 and E2 have a thickness of several tens of micrometers, unlike the barrier ribs B having a considerable height, the electrodes E1 and E2 can be printed only once, and it is easy to form a cross- I do not.

제5도에서 이러한 단면의 전면전극(E1)을 형성하는 한 방법으로 사진식각법의 과노광(over focusing)방법을 예시하고 있다.FIG. 5 illustrates an over-focusing method of the photolithography method as a method of forming the front electrode E1 having such a cross-section.

즉 금속전극(E1)은 종래의 인쇄 대신 네가티브(negative)형 감광물질, 즉 노광된 부분이 분리되는 감광물질을 포함하여 기판(P1)상에 전면도포된 뒤 분리될 부분에 창(W)을 가지는 노광마스크(X)를 위치시켜 노광된다.That is, the metal electrode E1 includes a negative type photosensitive material, that is, a photosensitive material from which the exposed portion is separated, and is coated on the substrate P1, The branch is exposed by placing the exposure mask X thereon.

여기서 노광광원을 정확히 포커싱시켜 전면 노광시키게 되면 노광단면은 대략 직사각형이 되지만 과노광을 시키게 되면 노광단면은 점선으로 도시된 바와 같이 대략 도립된 사다리꼴 형태가 된다.When the exposure light source is precisely focused and exposed to the front surface, the exposed surface has a substantially rectangular shape. However, when the exposed surface is exposed to light, the exposed surface has an approximately inverted trapezoidal shape as shown by a dotted line.

따라서 이 기판(P1)을 세척수등에 의해 현상하게 되면 사다리꼴에 가까운 단면의 금속전극(M)이 얻어지게 된다. 투명전극(T)은 금속전극(M)의 상부에 종래와 같이 인쇄방법으로 형성될 수 있다.Therefore, when the substrate P1 is developed by washing water or the like, a metal electrode M having a cross-section close to a trapezoid is obtained. The transparent electrode T may be formed on the metal electrode M by a printing method as in the conventional method.

한편 제6도에 도시된 방법은 사진식각법을 포함한 여러 가지 식각법에 적용될 수 있는 과식각법이다.Meanwhile, the method shown in FIG. 6 is an over-etching method applicable to various etching methods including photolithography.

이는 제6도 (a)와 같이 정(just) 포커싱으로 노광, 또는 마스킹(mastking)하여 현상하더라도, 현상시간이 길어지면 잔류부분의 모서리가 과도하게 식각되어 사다리꼴에 가까워지는 특성을 이용하여 제6도 (b)와 같이 사다리꼴 단면의 금속전극(M)을 형성하는 방법이다.6 (a), when the developing time is prolonged, even if the developing is performed by exposure or masting by just focusing, the edge of the remaining portion is excessively etched and becomes close to the trapezoid, And a metal electrode M having a trapezoidal cross section is formed as shown in Fig.

이 방법은 일반적인 사진식각법과 같이 세척수로 현상하는 방식으로 적용할 수 있으나 이 경우 현상시간이 많이 소요되고 세척수의 소모량도 크므로 산(酸)에 의한 식각방법이 더욱 바람직할 것이다.This method can be applied by developing with washing water as in general photolithography. However, in this case, since the developing time is long and the consumption of washing water is large, the acid etching method is more preferable.

이상과 같이 본 발명에 의하면 투명전극의 박리나 유해물질의 포착없이 투명전극의 열처리 회수를 감소시켜 도전특성의 저하를 방지함으로써 PDP등 우수한 특성의 평판소자를 제공하는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, it is possible to provide a flat panel device having excellent characteristics such as a PDP by preventing the deterioration of the conductive characteristics by reducing the number of times of heat treatment of the transparent electrode without peeling off the transparent electrode or capturing harmful substances.

Claims

The electrode of a flat panel element according to claim 1, wherein a metal electrode of a small area and a transparent electrode of a large area are sequentially laminated on the front substrate of the flat plate element, wherein the top width of the metal electrode is smaller than the bottom width.

The electrode of a flat panel element according to claim 1, wherein the metal electrode is formed by photolithography to be exposed and exposed.

The electrode of a flat plate element according to claim 1, wherein the metal electrode is formed by an etching method so as to be overexposed.

The electrode of a flat panel element according to any one of claims 1 to 3, wherein the transparent electrode is formed on the metal electrode by a printing method.