KR100264448B1 - 유도가열 조리기구의 오븐 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 유도가열 조리기구의 오븐 제조방법에 관한 것으로, 오븐의 형상으로 드로잉된 알루미늄 소재에 니켈층이 형성되고 상기 알루미늄 소재와 니켈층 사이에는 밀착성을 높이기 위해 아연층이 형성되어 상기 알루미늄 소재에 니켈을 도금시켜 접합력을 향상시킴으로써 열전도성 및 히팅성능을 향상시켜 제품의 성능 및 신뢰성을 향상시킬 수 있고 또한, 상기 열전도성 및 히팅성능의 향상에 의해 불량품에 의한 재료손실을 막을 수 있고 재활용할 수 있는 효과가 있다.

Description

유도가열 조리기구의 오븐 제조방법

본 발명은 유도가열 조리기구의 오븐 제조방법에 관한 것으로, 특히 오븐의 주소재에 아연층과 무전해 니켈층과 전기 니켈층의 3중 표면처리함으로써 열전도성능 및 히팅성능을 향상시킬 수 있는 유도가열 조리기구의 오븐 제조방법에 관한 것이다.

유도가열 조리기구의 오븐을 제조하는데 있어서, 이종소재간의 접합력이 약하여 발생하는 전기장에 의한 공명현상을 없애기 위해 기계적인 방법이나 화학적인 방법등의 이종재질 접합방법의 연구가 활발히 이루어지고 있다.

제1도에 도시된 바와 같이, 일반적인 유도가열 조리기구의 오븐은 유도가열 조리기구의 오븐의 외부를 형성하는 스테인레스 소재(10)와 상기 유도가열 조리기구의 오븐의 내부를 형성하는 알루미늄 소재(12)로 이루어져 있다.

즉, 상기 스테인레스 소재(10)와 상기 알루미늄 소재(12)가 접합되어 클래드(Clad)를 형성한다.

상기 유도가열 조리기구에 전원이 인가되면 유도코일(미도시)에 전기장이 발생하고 상기 전기장은 자성체인 스테인레스 소재(10)를 통해 상기 유도가열 조리기구의 오븐내의 음식물을 취사시킨다.

제2도에 도시된 바와 같이, 일반적인 유도가열 조리기구의 오븐을 제조하는 방법은 다음과 같다.

스테인레스 소재(10)와 알루미늄 소재(12)를 필요한 크기만큼 절단한 후 상기 스테인레스 소재(10)와 알루미늄 소재(12)를 합착한다.

상기 스테인레스 소재(10)와 알루미늄 소재(12)가 합착된 상태에서 열간로(14)내에 있는 가열히터(16)를 동작시킨다. 상기 가열히터(16)는 예를 들면 380℃ 내지 440℃에서 5분 내지 10분동안 가열한다.

상기 스테인레스 소재(10)와 알루미늄 소재(12)가 가열된 상태에서 롤러(18)를 이용하여 상기 스테인레스 소재(10)와 알루미늄 소재(12)를 열간압착시킨다. 상기 스테인레스 소재(10)와 알루미늄 소재(12)를 열간압착에 사용되는 롤러(18)의 하중은 예를 들면 150 ton이다.

상기 열간압착된 클래드(Clad)를 냉각시킨 후 오븐의 형상을 드로잉한다.

상기 제조방법의 예는 압착법에 의한 제조공정의 예이고 압연, 확산, 폭발등에 의한 방법으로 이종소재를 접합하는 제조방법이 있다.

그러나, 일반적인 유도가열 조리기구의 오븐을 제조하는 방법은 스테인레스 소재(10)와 알루미늄 소재(12)와의 접합력이 약하여 전기장에 의한 공명현상이 발생하고 상기 공명현상 때문에 열전도성 및 히팅효율이 저하되는 문제점이 있었다.

또한, 열전도성 및 히팅효율이 저하됨에 따라 취사시간이 길어지고 소비전력이 증가하는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 그 목적은 아연피막 단계와 무전해 니켈도금단계와 전기 니켈도금단계의 3중 표면처리에 의해 열전도성능 및 히팅성능을 향상시킬 수 있는 유도가열 조리기구의 오븐 제조방법을 제공하는데 있다.

제1도는 일반적인 유도가열 조리기구의 오븐의 의 단면도.

제2도는 일반적인 유도가열 조리기구의 오븐의 제조장치를 나타낸 개략도.

제3도는 본 발명의 유도가열 조리기구의 오븐의 단면도 및 확대단면도.

제4(a)도, 제4(b)도는 본 발명의 아연피막 형성을 위한 제조장치의 개략도 및 그 제조결과를 보인 확대단면도.

제5(a)도, 제5(b)도는 본 발명의 무전해 니켈도금층 형성을 위한 제조장치의 개략도 및 그 제조결과를 보인 확대단면도.

제6(a)도, 제6(b)도는 본 발명의 전기 니켈도금층 형성을 위한 제조장치의 개략도 및 그 제조결과를 보인 확대단면도.

제7도는 본 발명의 아연피막 형성을 위한 제조방법의 흐름도.

제8도는 본 발명의 무전해 니켈도금층 형성을 위한 제조방법의 흐름도.

제9도는 본 발명의 전기 니켈도금층 형성을 위한 제조방법의 흐름도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

100 : 알루미늄 소재 102 : 아연피막

104,106 : 니켈도금층 108 : 아연치환피막조

110 : 아연치환수용액 112 : 랙크

114 : 랙크바 116 : 무전해 니켈도금조

118 : 니켈도금 수용액 120 : 전기 니켈도금조

124 : 니켈 양극판 126 : 전원

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 유도가열 조리기구의 오븐의 제조방법은, 오븐의 형상으로 드로잉된 알루미늄 소재에 아연을 치환반응시켜 상기 알루미늄 소재의 표면에 아연층을 형성시키는 아연층 형성단계와, 상기 아연층 형성단계가 수행된 결과물에 니켈도금수용액의 화학반응에 의해 니켈을 도금함으로써 니켈층을 형성시키는 니켈층 형성단계로 이루어지고; 상기 아연층 형성단계는 오븐 형상으로 드로잉된 알루미늄 소재를 가성소다용액에 침적시켜 상기 알루미늄 소재의 표면을 불균일하게 에칭하는 에칭단계와, 상기 에칭단계가 수행된 결과물에서 세정액을 분사하여 가성소다성분을 제거하기 위해 세정하는 제1 세정단계와, 상기 제1 세정단계가 수행된 결과물에 질산용액과 불산용액을 침적시켜 상기 제1 세정단계가 수행된 결과물의 표면을 활성화시키는 질산처리와 불산처리를 진행하는 질산·불산처리단계와, 상기 질산·불산처리단계가 수행된 결과물에 잔류하는 질산용액과 불산용액을 제거하기 위해 세정하는 제2 세정단계와, 상기 제2 세정단계가 수행된 결과물에 반응촉진제인 인산아연용액을 침적시켜 아연피막을 형성하는 1차 아연층 형성단계와, 상기 제1 아연층 형성단계가 수행된 결과물에 인산아연용액을 제거하기 위해 세정하는 제3 세정단계와, 상기 제3 세정단계가 수행된 결과물에 질산용액을 침적시켜 산성용액으로 세정하는 산성세정단계와, 상기 산성세정단계가 수행된 결과물에 반응촉진제인 인산아연용액을 침적시켜 아연피막을 형성시키는 2차 아연층 형성단계로 이루어진 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 니켈층 형성단계는 아연층 형성단계가 수행된 결과물에 니켈도금 수용액의 환원반응에 의해 무전해상태로 니켈을 도금함으로써 무전해 니켈층을 형성시키는 무전해 니켈층 형성단계와, 상기 무전해 니켈층 형성단계가 수행된 결과물에 니켈도금수용액의 전기화학반응에 의해 니켈을 도금함으로써 전기 니켈층을 형성시키는 전기 니켈층 형성단계로 이루어진 것을 특징으로 한다.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.

제3도는 니켈을 도금한 유도가열 조리기구의 오븐 및 그 확대단면도이다.

오븐의 내부는 알루미늄 소재(100)로 형성되어 있고, 상기 오븐의 외부하단부에는 아연피막(102)과 무전해 니켈도금층(104)과 전기 니켈도금층(106)의 3중 표면처리에 의해 형성된 니켈도금부로 이루어져 있다.

제4(a)도, 제4(b)도는 상기 알루미늄 소재(100)에 아연피막(102)을 형성시키기 위한 제조장치 및 그 제조결과를 나타낸 개략도이다.

제4(a)도에 도시된 바와 같이, 아연피막(102)을 형성시키기 위한 제조장치에는 비철금속인 상기 알루미늄 소재(100)에 직접 니켈을 도금시킬 수 없으므로 밀착성을 부여시키기 위해 상기 알루미늄 소재(100)에 아연피막(102)을 형성시키기 위한 아연치환피막조(108)와, 상기 아연치환피막조(108)내에는 치환반응을 일으키는 아연치환수용액(110)과, 상기 아연치환피막조(108) 상단에 설치되어 상기 알루미늄 소재(100)를 고정시키는 랙크(112)와, 상기 랙크(112)를 지지하는 랙크바(114)가 설치되어 있다.

제4(b)도는 상기 오븐의 주소재인 알루미늄 소재(100)에 아연피막(102)을 형성시킨 결과를 확대한 단면도이다.

제5(a)도, 제5(b)도는 상기 아연피막(102)을 형성시킨 알루미늄 소재(100)에 무전해로 니켈도금수용액(118)을 이용하여 밀착성이 우수한 상기 아연피막(102)위에 니켈도금을 진행하는 무전해 니켈도금 제조장치 및 그 제조결과를 나타낸 개략도이다.

제5(a)도에 도시된 바와 같이, 무전해 니켈도금 제조장치에는 상기 알루미늄 소재(100)에 밀착성이 우수한 아연피막(102)을 형성시킨 상태에서 전도성이 우수한 니켈을 도금시키기 위한 무전해 니켈도금조(116)와, 상기 무전해 니켈도금조(116)내에는 환원반응을 일으키는 니켈도금 수용액(118)과, 상기 무전해 니켈도금조(116) 상단에 설치되어 상기 아연피막(102)된 알루미늄 소재(100)를 고정시키는 랙크(112)와, 상기 랙크(112)를 지지하는 랙크바(114)가 설치되어 있다.

제5(b)도는 상기 오븐의 주소재인 알루미늄 소재(100)에 형성된 아연피막(102)의 상단에 무전해로 니켈도금을 진행하여 니켈도금층(104)이 형성된 결과를 확대한 단면도이다.

제6(a)도, 제6(b)도는 상기 무전해 니켈도금층(104)의 표면에 열전도성능 및 히팅성능을 향상시키기 위해 전기에 의한 니켈도금을 진행하기 위한 전기 니켈도금 제조장치 및 그 제조결과를 나타낸 개략도이다.

제6(a)도에 도시된 바와 같이, 전기 니켈도금 제조장치에는 상기 알루미늄 소재(100)에 밀착성이 우수한 아연피막(102)과 전도성이 우수한 니켈을 도금시킨 무전해 니켈도금층(104)이 형성된 상태에서 열전도성능 및 히팅성능을 향상시키기 위해 전기에 의한 니켈도금을 진행하기 위한 전기 니켈도금조(120)와, 상기 전기 니켈도금조(120)내에는 전기화학반응을 일으키는 니켈도금 수용액(118)과, 상기 니켈도금 수용액(118)내에는 전원(126)이 접속되어 있는 니켈금속(124)과, 상기 전기 니켈도금조(120) 상단에 설치되어 상기 아연피막(102)과 무전해 니켈도금층(104)으로 도금된 알루미늄(100) 소재를 고정시키는 랙크(112)와, 상기 랙크(112)를 지지하는 랙크바(114)가 설치되어 있다.

제6(b)도는 아연피막(102)과 무전해 니켈도금층(104)으로 도금된 알루미늄 소재(100)에 전기를 이용하여 니켈도금을 진행시켜 전기 니켈도금층(106)이 형성된 결과를 확대한 단면도이다.

이하 상기와 같이 구성된 본 발명의 일실시예에 의한 유도가열 조리기구의 오븐의 제조방법을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.

상기 유도가열 조리기구의 오븐의 주소재인 상기 알루미늄 소재(100)는 이미 오븐의 형태로 드로잉되었다고 가정한다.

또한, 상기 알루미늄 소재(100)를 표면처리하기 전에 상기 알루미늄 소재(100)에 있는 무기오염물, 유기오염물, 기타오염물등을 유기용제나 알칼리 수용성 세정제를 이용하여 스프레이 방식과 초음파 방식을 사용하여 세정을 했다고 가정한다.

상기 유기용제로는 예를 들면 사염화탄소나 트리클로로에틸렌등이 사용된다.

상기 유도가열 조리기구의 오븐을 구성하는 알루미늄 소재(100)는 비철금속이어서 상기 알루미늄 소재(100)에 직접 니켈을 도금시킬 수 없으므로 접착력을 부여시키기 위해 상기 알루미늄 소재(100)를 상기 랙크바(114)에 고정시켜 상기 아연치환수용액(110)이 채워져 있는 상기 아연치환피막조(108)내에 넣는다.

제7도에 도시된 바와 같이, 상기 알루미늄 소재(100)에 아연을 치환하여 아연피막(102)을 형성시키는 공정은 다음과 같다. 이하 S는 단계(Step)를 의미한다.

단계 S1에서 5% 내지 10%의 가성소다용액을 사용하여 상온에서 3분 내지 5분 동안 침적시켜 상기 알루미늄 소재(100)의 표면을 불균일하게 에칭하다.

단계 S2에서 상기 가성소다용액을 제거하기 위해 상기 단계 S1을 수행한 결과물을 세정한다.

단계 S3에서 질산용액 10%와 불산용액 15%를 사용하여 상온에서 15초 내지 60초동안 침적시켜 상기 단계 S2를 수행한 결과물을 활성화시키기 위해 질산처리와 불산처리를 한다.

단계 S4에서 상기 질산용액과 불산용액을 제거하기 위해 상기 단계 S3을 수행한 결과물을 세정한다.

단계 S5에서 반응촉진제인 인산아연용액 50%를 사용하여 상온에서 15초 내지 60초동안 침적시켜 상기 단계 S4를 수행한 결과물에 1차 아연피막(102)을 형성한다.

상기 아연치환피막조(108)내에는 채워져 있는 아연치환수용액(110)과 상기 알루미늄(100)이 치환반응을 일으킨다.

상기 치환반응에 의해 상기 단계 S4를 수행한 결과물에 아연이온이 피막을 형성한다. 상기 아연이온은 상기 알루미늄(100)과 같은 양쪽성 원소이므로 친화력이 좋고 부착성이 우수하다.

단계 S6에서 상기 인산아연용액을 제거하기 위해 상기 단계 S5를 수행한 결과물을 세정한다.

단계 S7에서 질산용액 40%를 사용하여 상온에서 15초 내지 30초동안 침적시켜 상기 단계 S6을 수행한 결과물을 활성화시키기 위해 산성용액으로 세정한다.

단계 S8에서 반응촉진제인 인산아연용액 50%를 사용하여 상온에서 15초 내지 60초내로 침적시켜 상기 단계 S7을 수행한 결과물에 2차 아연피막(102)을 형성한다.

상기 유도가열 조리기구의 오븐을 구성하는 상기 알루미늄 소재(100)에 밀착성이 우수한 아연피막(102)을 형성시킨 상태에서 전도성이 우수한 니켈을 도금시키기 위해 상기 아연이온으로 피막된 상기 알루미늄 소재(100)를 상기 니켈도금수용액(118)으로 채워져 있는 무전해 니켈도금조(116)에 넣는다.

제8도에 도시된 바와 같이, 상기 아연을 치환하여 아연피막(102)이 형성된 알루미늄 소재(100)에 무전해 니켈도금을 진행하는 공정은 다음과 같다.

단계 S1에서 양극판에 철판을 설치하여 전류를 인가함으로써 음극전해 방식으로 50℃ 내지 60℃로 1분 내지 3분동안 표면을 활성화시키기 위해 전해탈지를 진행한다.

상기 전해탈지제로 예를 들면 FC4260을 사용하고, 상기 양극판의 전류는 예를 들면 5A/dm이다.

단계 S2에서 상기 전해탈지제를 제거하기 위해 상기 단계 S1을 수행한 결과물을 세정한다.

단계 S3에서 10% 염산용액을 사용하여 상온에서 1분에서 3분내로 상기 단계 S2를 수행한 결과물을 활성화시키기 위해 산성처리한다.

단계 S4에서 상기 염산용액을 제거하기 위해 상기 단계 S3을 수행한 결과물을 세정한다.

단계 S5에서 염화니켈용액 200g/l과 염산용액 100ml/l을 사용하여 양극판에 니켈판을 설치하고, 상온에서 전류를 인가하여 1분 내지 3분동안 0.1nm 내지 0.5nm로 박막의 니켈을 도금시키기 위해 상기 단계 S4를 수행한 결과물에 니켈스트라익을 진행한다.

상기 니켈스트라익에 사용되는 여과메시는 5㎛고, 상기 양극판의 거리는 예를 들면 10cm에서 15cm내이고, 양극판에 흐르는 전류는 예를 들면 5A/dm이다.

단계 S6에서 황산니켈용액 24g/l을 사용하여 90℃ 내지 92℃로 12시간이상 1nm 내지 5nm로 상기 단계 S5를 수행한 결과물에 니켈도금을 진행한다.

상기 무전해 니켈도금조(116)내에의 상기 아연이온이 피막된 알루미늄 소재(100)와 니켈 도금수용액(118)이 환원반응을 일으킨다.

상기 아연이온이 피막된 알루미늄 소재(100)와 니켈 도금수용액(118)의 환원 반응 결과로 무전해 니켈도금층(104)이 형성된다.

상기 니켈도금에 사용되는 여과메시는 5㎛이고, ph는 예를 들면 4.6이다.

단계 S7에서 상기 황산니켈용액을 제거하기 위해 상기 단계 S6을 수행한 결과물을 세정한다.

상기 알루미늄 소재(100)에 밀착성이 우수한 아연피막(102)과 전도성이 우수한 무전해 니켈도금층(104)을 형성시킨 상태에서 열전도성능 및 히팅성능을 향상시키기 위해 전기에 의한 니켈도금을 진행할 수 있는 상기 전기 니켈도금조(120)에 상기 알루미늄 소재(100)을 넣는다.

제9도에 도시된 바와 같이, 상기 아연피막과 무전해 니켈도금층을 형성시킨 알루미늄 소재(100)에 전기에 의한 니켈도금을 진행하는 공정은 다음과 같다.

단계 S1에서 가성소다용액 5% 내지 10%로 사용하여 침적 방식으로 40℃ 내지 50℃로 3분 내지 5분동안 표면을 활성화시키기 위해 전해탈지를 진행한다.

상기 양극판의 전류밀도는 예를 들면 10A/dm 내지 15A/dm이다.

단계 2에서 상기 가성소다용액을 제거하기 위해 상기 단계 S1을 수행한 결과물을 세정한다.

단계 3에서 5% 내지 10%로 질산용액을 사용하여 상온에서 15초 내지 30초동안 침적방식으로 표면을 활성화시키기 위해 상기 단계 S2를 수행한 결과물을 중화처리한다.

단계 4에서 상기 질산용액을 제거하기 위해 상기 단계 S3을 수행할 결과물을 세정한다.

단계 5에서 황산니켈용액 180g/l과 염산니켈용액 150g/l과 염산용액을 사용하여 활성화된 표면에 침적방식으로 상온에서 30분 내지 60분동안 상기 단계 S4를 수행한 결과물에 1차 니켈도금을 진행한다.

상기 1차 니켈도금은 무광택도금이다.

상기 전기 니켈 도금조(120)내에서 상기 니켈양극판(124)에서 용출된 니켈금속이 전기 화학반응을 일으킨다. 상기 전기 화학반응에 의해 상기 무전해 니켈도금층의 표면에 전기 니켈도금층(106)이 후막을 형성한다.

단계 6에서 황산니켈용액 180g/l과 염산니켈용액 150g/l과 염산용액과 광택제를 사용하여 침적방식으로 상온에서 40분 내지 60분동안 상기 단계 S5를 수행한 결과물에 2차 니켈도금을 진행한다.

상기 2차 니켈도금은 광택도금이다.

단계 7에서 상기 황산니켈용액과 염산니켈용액과 염산용액을 제거하기 위해 상기 단계 S6을 수행한 결과물을 세정한다.

단계 8에서 니켈도금이 완료된 오븐을 90℃ 내지 105℃에서 열풍건조 방식으로 5분 내지 10분동안 건조시킨다.

따라서, 본 발명의 유도가열 조리기구의 오븐의 제조공정은 상기 알루미늄 소재에 3중 표면처리하여 접합력을 향상시킴으로써 제품의 성능 및 신뢰성을 향상시킬 수 있고 불량품으로 인한 재료손실을 막을 수 있고 재활용할 수 있는 효과가 있다.

또한, 상기 본 발명에 의한 유도가열 조리기구의 오븐의 가격을 종래의 오븐 가격의 절반 정도로 줄일 수 있는 효과가 있다.

Claims (5)

1. 오븐의 형상으로 드로잉된 알루미늄 소재에 아연을 치환반응시켜 상기 알루미늄 소재의 표면에 아연층을 형성시키는 아연층 형성단계와, 상기 아연층 형성단계가 수행된 결과물에 니켈도금수용액의 화학반응에 의해 니켈을 도금함으로써 니켈층을 형성시키는 니켈층 형성단계로 이루어지고; 상기 아연층 형성단계는 오븐 형상으로 드로잉된 알루미늄 소재를 가성소다용액에 침적시켜 상기 알루미늄 소재의 표면을 불균일하게 에칭하는 에칭단계와, 상기 에칭단계가 수행된 결과물에서 세정액을 분사하여 가성소다성분을 제거하기 위해 세정하는 제1 세정단계와, 상기 제1 세정단계가 수행된 결과물에 질산용액과 불산용액을 침적시켜 상기 제1 세정단계가 수행된 결과물의 표면을 활성화시키는 질산처리와 불산처리를 진행하는 질산·불산처리단계와, 상기 질산·불산처리단계가 수행된 결과물에 잔류하는 질산용액과 불산용액을 제거하기 위해 세정하는 제2 세정단계와, 상기 제2 세정단계가 수행된 결과물에 반응촉진제인 인산아연용액을 침적시켜 아연피막을 형성하는 1차 아연층 형성단계와, 상기 제1 아연층 형성단계가 수행된 결과물에 인산아연용액을 제거하기 위해 세정하는 제3 세정단계와, 상기 제3 세정단계가 수행된 결과물에 질산용액을 침적시켜 산성용액으로 세정하는 산성세정단계와, 상기 산성세정단계가 수행된 결과물에 반응촉진제인 인산아연용액을 침적시켜 아연피막을 형성시키는 2차 아연층 형성단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 유도가열 조리기구의 오븐의 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 니켈층 형성단계는 아연층 형성단계가 수행된 결과물에 니켈도금수용액의 환원반응에 의해 무전해상태로 니켈을 도금함으로써 무전해 니켈층을 형성시키는 무전해 니켈층 형성단계와, 상기 무전해 니켈층 형성단계가 수행된 결과물에 니켈도금수용액의 전기화학반응에 의해 니켈을 도금함으로써 전기 니켈층을 형성시키는 전기 니켈층 형성단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 유도가열 조리기구의 오븐 제조방법.
3. 오븐의 형상으로 드로잉된 알루미늄 소재에 아연을 치환반응시켜 상기 알루미늄 소재의 표면에 아연층을 형성시키는 아연층 형성단계와, 상기 아연층 형성단계가 수행된 결과물에 니켈도금수용액의 환원반응에 의해 무전해상태로 니켈을 도금함으로써 무전해 니켈층을 형성시킨 다음 니켈도금수용액의 전기화학반응에 의해 니켈을 도금함으로써 전기 니켈층을 형성시키는 니켈층 형성단계로 이루어지고; 상기 니켈층 형성단계에서 무전해 니켈도금층을 형성시키는 방법은, 양극판에 철판을 설치하여 음극전해 방식으로 아연층이 형성된 표면을 활성화시키기 의해 전해탈지를 수행하는 전해탈지단계와, 상기 전해탈지단계가 수행된 결과물에서 오염물을 세정하는 제1 세정단계와, 상기 제1 세정단계가 수행된 결과물에 염산용액을 사용하여 산화물을 제거하기 위해 산성처리하는 산성처리단계와, 상기 산성처리단계가 수행된 결과물에 염산용액을 제거하기 위해 세정하는 제2 세정단계와, 상기 제2 세정단계가 수행된 결과물에 황산니켈을 사용하여 니켈도금을 진행하는 니켈층 형성단계와, 상기 니켈층 형성단계가 수행된 결과물에서 황산니켈용액을 제거하기 위해 세정하는 제3 세정단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 유도가열 조리기구의 오븐 제조방법.
4. 제3항에 있어서, 순간적으로 전류를 흘려 박막의 니켈층을 형성시키기 위해 양극판에 니켈판을 설치하고, 염화니켈용액과 염산용액을 사용하여 박막의 니켈층을 형성시키기 위해 니켈스트라익을 진행하는 니켈스트라익단계가 더 구비된 것을 특징으로 하는 유도가열 조리기구의 오븐의 제조방법.
5. 오븐의 형상으로 드로잉된 알루미늄 소재에 아연을 치환반응시켜 상기 알루미늄 소재의 표면에 아연층을 형성시키는 아연층 형성단계와, 상기 아연층 형성단계가 수행된 결과물에 니켈도금수용액의 환원반응에 의해 무전해상태로 니켈을 도금함으로써 무전해 니켈층을 형성시킨 다음 니켈도금수용액의 전기화학반응에 의해 니켈을 도금함으로써 전기 니켈층을 형성시키는 니켈층 형성단계로 이루어지고; 상기 니켈층 형성단계에서 전기 니켈층을 형성시키기 방법은, 가성소다용액을 침적시켜 니켈층이 형성된 표면을 활성화시키기 위해 전해탈지를 진행하는 전해탈지단계와, 상기 전해탈지단계가 수행된 결과물에서 오염물을 제거하기 위해 세정하는 제1 세정단계와, 상기 제1 세정단계가 수행된 결과물에 질산용액을 침척시켜 표면을 활성화시키기 위해 중화처리하는 중화처리단계와, 상기 중화처리단계가 수행된 결과물에서 질산용액을 제거하기 위해 세정하는 제2 세정단계와, 상기 제2 세정단계가 수행된 결과물에 황산니켈용액과 염산니켈용액과 염산 용액을 침적방식으로 1차 니켈층을 형성시키는 1차 니켈층 형성단계와, 상기 1차 니켈층 형성단계가 수행된 결과물에 황산니켈용액과 염산니켈용액과 염산용액과 광택제를 침적시켜 2차 니켈층을 형성시키는 2차 니켈층 형성단계와, 상기 2차 니켈층 형성단계가 수행된 결과물에서 황산니켈용액과 염산니켈용액과 염산용액을 제거하기 위해 세정하는 제3 세정단계와, 상기 제3 세정단계가 수행된 결과물에 열풍건조 방식으로 견조시키는 건조단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 유도가열 조리기구의 오븐의 제조방법.