KR100246729B1 - Low capacitor varistor - Google Patents

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김용주
정해영
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오세종
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Abstract

이 발명은 낮은 정전용량이면서 제조 및 취급중 변형이나 파손에 대한 저항성이 큰 바리스터를 제공하기 위한 것임. 칩 바리스터는 용량을 낮추기 위해 바리스터 부분을 얇게 형성하여 외부전극과 접촉하는 바리스터 부분의 양 측면의 표면적을 적게 하고, 바리스터 부분의 양면에 유전율이 극히 적은 세라믹 시트를 적층하여 지지층을 형성하고 소결하여 바리스터 부분과 지지층이 일체로 형성되도록 하고 양 측면에 내부전극과 연결되는 외부전극을 형성하여서 된 낮은 정전용량 칩바리스터로 구성됨. 낮은 정전용량 칩 바리스터는 캐패시턴스의 용량이 적도록 바리스터 부분이 얇게 형성되면서도 지지층에 의하여 지지되고 보강되므로 제조 및 취급중에 변형되거나 파손되지 않게 되며 기존의 바리스터로는 적용하기 어려운 고속 신호 회로에 적용이 가능하여 내부 또는 외부 써지로부터 전자부품을 보호할 수 있는 잇점을 갖고 있음.The present invention is to provide a varistor with low capacitance and high resistance to deformation or breakage during manufacture and handling. In order to reduce the capacity of the chip varistor, the varistor part is thinly formed so as to reduce the surface area of both sides of the varistor part in contact with the external electrode, and the support layer is formed by laminating a ceramic sheet having a very low dielectric constant on both sides of the varistor part to form and sinter the varistor. It is composed of low capacitance chip varistor by forming part and supporting layer integrally and forming external electrode connected to internal electrode on both sides. Low-capacitance chip varistors can be applied to high-speed signal circuits that are difficult to be applied to conventional varistors because they are supported by the support layer and reinforced by the support layer, while the varistor portion is thinly formed so that the capacitance of the capacitor is small. It has the advantage of protecting electronic components from internal or external surges.

Description

낮은 정전용량의 칩 바리스터Low capacitance chip varistor

이 발명은 전자기기에서 외부 및 내부 써지(surge)에 의해 손상될 수 있는 전자부품의 보호 및 낮은 캐패시턴스를 요구하는 전자회로에 이용할 수 있는 적층형 칩 바리스터에 관한 것이다.This invention relates to stacked chip varistors that can be used in electronic circuits that require low capacitance and protection of electronic components that can be damaged by external and internal surges in electronic devices.

최근 전자기기의 경박 단소화 및 고기능화 추세에 따른 전자부품의 SMD화 및 소형화에 의하여 고밀도 실장이 급속히 진행되어 왔다. SMD화된 전자제품에서 회로의 신호 속도는 MHz 단위 이상이므로 이와 같은 빠른 신호속도에서 바르게 동작되기위해서는 캐패시턴스를 10pF 이하로 낮추어야 하며, 필요에 따라서는 5pF 이하로 낮출 필요성이 있을 때도 있다.In recent years, high-density mounting has been rapidly progressed by SMD and miniaturization of electronic components according to the trend of lighter and shorter and higher functionality of electronic devices. Since the signal speed of circuits in SMD electronics is more than MHz, the capacitance must be lowered below 10pF, and sometimes lowered below 5pF in order to operate properly at such a high signal rate.

이러한 요구조건에 부응하기 위하여 디스크 타입의 바리스터를 칩 형태로 개발하는 것은 급속히 진행되고 있으나, 시트를 적층시켜 제조하는 적층형 칩 바리스터는 바리스터를 구성하는 재질이 높은 유전율을 갖고 있어서 낮은 정전용량의 칩바리스터를 제조하는 데 많은 문제점을 갖고 있다. 즉, 칩 바리스터를 구성하는 재질은 유전율이 크기 때문에 외부전극과 접촉하는 양 단부의 면적이 넓으면 전극의 면적에 관계없이 캐패시턴스의 바리스터의 두께를 감소시켜야 한다. 그러나 바리스터의 캐패스턴스 용량을 10pF 이하, 특히 5pF 이하로 낮추기 위하여 바리스터의 두께를 얇게 형성하면 적층후 소결시 또는 취급중에 변형되거나 파손될 위험성이 있어서 요구되는 낮은 정전용량에 상응하도록 바리스터의 두께를 얇게 만들 수 없었그에 따라 적층형 칩 바리스터는 동작속도와 관련된 캐패시턴스를 1000pF 이하로 낮출 수 없는 것으로 알려졌다. 이러한 문제의 대안으로 유전율이 낮은 SrTiO3계 바리스터가 사용될 수 있으나 이것 또는 고속 동작특성 및 안정성이 만족할 만한 것이되지 못하였다.In order to meet these requirements, the development of chip-type varistors in the form of chips is rapidly progressing. However, the stacked chip varistors manufactured by stacking sheets have a low dielectric constant chip varistor because the materials constituting the varistors have a high dielectric constant. There are many problems in manufacturing. That is, since the material of the chip varistor has a large dielectric constant, if the area of both ends in contact with the external electrode is large, the thickness of the varistor of the capacitance should be reduced regardless of the area of the electrode. However, if the varistor is made thin in order to reduce the capacitance of the varistor to 10 pF or less, in particular 5 pF or less, the varistor may be thinned to correspond to the low capacitance required because of the risk of deformation or breakage during sintering and lamination after lamination. As a result, stacked chip varistors are not known to reduce the capacitance associated with operating speeds below 1000 pF. As an alternative to this problem, a low dielectric constant SrTiO 3 -based varistor may be used, but this or high speed operation characteristics and stability were not satisfactory.

이 발명은 고속 신호 회로에서 사용이 가능한 낮은 캐패시턴스 용량이 나타나게 하기 위하여 외부전극과 접촉하는 바리스터의 면적이 가능한한 감소되도록 바리스터의 두께를 최소한도로 줄이면서 바리스터를 제조하는 중에 또는 취급중에 바리스터가 변형되거나 파손되지 않으며, 우수한 바리스터 특성을 나타내는 칩 바리스터를 제공하기 위한 것이다.In order to reduce the area of the varistor in contact with the external electrode as much as possible, the varistor may be deformed during the manufacture or handling of the varistor while minimizing the thickness of the varistor in order to reduce the area of the varistor in contact with the external electrode in order to exhibit a low capacitance capacity that can be used in a high speed signal circuit. It is to provide a chip varistor that does not break and exhibits excellent varistor characteristics.

이 발명의 다른 목적은 기판에 실장시 점유면적이 적고 고속 신호 라인에 연결시킬 수 있어 전자제품의 소형화를 이룰 수 있는 칩 바리스터를 제공함을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a chip varistor capable of miniaturization of electronic products due to its small footprint and its ability to be connected to high-speed signal lines.

전술한 발명의 목적은 바리스터를 다수의 얇은 시트를 적층하여 형성하고 바리스터를 소결하기전에 바리스터의 양 표면에 유전율이 극히 적은 세라믹 시트로 구성되는 지지층을 적층시키고 소결하여 일체로 되게 형성하므로서, 캐패턴스의 용량에 관계되는 양 측면의 면적을 극소화시킨 본 발명의 칩 바리스터에 의하여 달성된다.The object of the above-described invention is to form a varistor by stacking a plurality of thin sheets, and to form a varistor on the both surfaces of the varistor by laminating and sintering a support layer composed of a ceramic sheet having a very low dielectric constant on both surfaces of the varistor, thereby forming a cap pattern. This is achieved by the chip varistor of the present invention which minimizes the area of both sides related to the capacity of the switch.

이와 같이, 본 발명의 칩 바리스터는 바리스터를 구성하는 층이 두께가 얇게 형성되었고, 그 양면에 유전율이 극히 적은 세라믹 시트로 된 지지층이 형성되어 있어서 바리스터의 성형 및 사용중 변형되거나 파손되지 않게 되고 또한 캐패시턴스의 용량에 관계되는 외부전극과 접촉하는 양 측면의 면적이 적으므로 캐패시턴스의 용량을 낮출 수 있게 된다.As described above, in the chip varistor of the present invention, the layer constituting the varistor has a thin thickness, and on both sides thereof, a support layer made of a ceramic sheet having a very low dielectric constant is formed so that the varistor is not deformed or damaged during the forming and use of the varistor, and the capacitance is also reduced. Since the area of both sides in contact with the external electrode which is related to the capacitance is small, the capacitance of the capacitance can be lowered.

이 발명에 있어서, 바리스터층은 주 원료인 ZnO와 소량의 Bi2O3, Sb2O3등의 반도성 물질을 포함하는 시트를 다수 적층하여 제조하는 바, 전술한 시트들은 2개 내지 5개, 특히 3개를 적층시키는 것이 좋으며, 최소한 2개의 시트에는 내부전극을 형성한다. 전술한 바리스터의 내부전극은 Pt, Ag-Pt 등 전도성 금속의 산화물을 포함하는 슬러리를 실크스크린 인쇄방법으로 인쇄하여 형성하는 것이 편리하다. 또한, 바리스터층을 양측에서 지지하는 지지층은 유전성이 거의 없는 다수의 세라믹시티를 적층시켜 형성하는 바, 이 세라믹 시트들은 바리스터를 소결하기전에 바리스터의 양면에 적층하여 바리스터층과 함께 소결하여야 한다.In the present invention, the varistor layer is manufactured by laminating a plurality of sheets including ZnO as a main raw material and a semiconducting material such as a small amount of Bi 2 O 3 , Sb 2 O 3, and the aforementioned sheets are 2 to 5 In particular, it is preferable to stack three, and form internal electrodes on at least two sheets. The internal electrode of the varistor described above is conveniently formed by printing a slurry containing an oxide of a conductive metal such as Pt and Ag-Pt by a silk screen printing method. In addition, the support layer for supporting the varistor layer on both sides is formed by stacking a plurality of ceramic cities having almost no dielectric. The ceramic sheets should be laminated on both sides of the varistor before being sintered and sintered together with the varistor layer.

이 발명에 있어서, 바리스터에 형성되는 내부전극은 최소한 2개의 내부전극이 외부전극과 직접 연결되도록 외부전극이 부착되는 양 측면으로 노출되어야 하는바, 일부의 내부전극은 외부전극과 직접 연결되지 않을 수도 있다.In the present invention, the inner electrode formed on the varistor should be exposed to both sides of the outer electrode is attached so that at least two inner electrodes are directly connected to the outer electrode, some of the inner electrode may not be directly connected have.

이 발명에 의한 바리스터는 고속 동작특성을 나타내는 우수한 바리스터 특성을 갖고 있어서, 전자부품을 내부 또는 외부 써지로부터 효과적으로 보호할 수 있게 된다.The varistor according to the present invention has excellent varistor characteristics showing high-speed operating characteristics, and can effectively protect electronic components from internal or external surges.

제1도는 이 발명에 의한 칩 바리스터의 사시도.1 is a perspective view of a chip varistor according to the present invention.

제2도는 이 발명에 의한 칩 바리스터의 종단면 예시도.2 is a longitudinal cross-sectional view of the chip varistor according to the present invention.

제3(a),(b),(c),(d)도는 이 발명에 의한 칩 바리스터의 전극배치를 보인 분해사시도.3 (a), (b), (c) and (d) are exploded perspective views showing the electrode arrangement of the chip varistor according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 바리스터 2 : 세라믹 지지층1: varistor 2: ceramic support layer

3,4 : 외부전극 9,10,11,12 : 바리스터 시트3,4 external electrodes 9,10,11,12 varistor sheets

8,13 : 세라믹 시트8,13: Ceramic Sheet

5,6,7,14,15,16,17,18,19,20,21,22,23,24,25 : 내부전극5,6,7,14,15,16,17,18,19,20,21,22,23,24,25 Internal electrodes

이하, 이 발명을 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제1도는 이 발명에 의한 바리스터의 사시도이고, 제2도는 제1도에 도시된 바리스터의 종단면도이다. 칩 바리스터는 얇은 적층 바리스터(1)의 양면에 바리스터(1)를 지지하고 보호하는 세라믹 지지층(2,2)이 부착된 칩 형태로 되었으며, 바리스터(1)내에는 캐패시턴스 용량을 결정하는 내부전극(5,6,7)이 교호로 외부로 노출되도록 형성되어, 바리스터의 양단에 형성된 외부전극(3,4)과 직접 연결되게 되었다.FIG. 1 is a perspective view of the varistor according to the present invention, and FIG. 2 is a longitudinal sectional view of the varistor shown in FIG. The chip varistor is in the form of a chip having ceramic support layers 2 and 2 supporting and protecting the varistor 1 on both sides of the thin laminated varistor 1, and the internal electrode for determining the capacitance capacity in the varistor 1 5, 6, and 7 are alternately exposed to the outside, and are directly connected to the external electrodes 3 and 4 formed at both ends of the varistor.

본 발명의 칩 바리스터는 주 재료인 ZnO 분말에 소량의 반도체 산화물인 Bi2O3, Sb2O3등의 바리스터 재료분말을 첨가하고 유기물 바인더를 혼합한 후 테입 캐스팅(Tape Casting)방법으로 시트 상태로 형성하여 내부전극(5,6,7)을 도포한 후 이러한 시트(9,10,11,12)를 적층시켜 두께가 얇은 바리스터(1)를 형성하고 바리스터(1)의 양면에는 유전율이 적은 세라믹 시트(8,13)로 된 지지층(2)을 적층하고 소결하여 바리스터(1)와 그 양면의 지지층(2)이 일체로 되게 제조한다.In the chip varistor of the present invention, a varistor material powder such as Bi 2 O 3 , Sb 2 O 3 , which is a small amount of semiconductor oxide, is mixed with ZnO powder as a main material, and an organic binder is mixed. After the internal electrodes 5, 6, and 7 are applied to the sheets, the sheets 9, 10, 11, and 12 are laminated to form a thin varistor 1, and the dielectric constant is low on both sides of the varistor 1. The support layers 2 made of ceramic sheets 8 and 13 are laminated and sintered to produce the varistor 1 and the support layers 2 on both sides thereof integrally.

바리스터(1)의 내부전극(5,6,7)은 Pt, Ag-Pt 등의 전도성 금속 산화물을 반죽상태로 만들어 적층 소결전의 얇은 바리스터 시트(10,11,12)에 실크스크린 인쇄와 같은 통상적인 방법으로 도포하여 형성한다.The internal electrodes 5, 6, and 7 of the varistor 1 are made of a conductive metal oxide such as Pt, Ag-Pt, and kneaded to form a thin varistor sheet 10, 11, 12 prior to lamination and sintering. It is formed by coating in a phosphorous method.

세라믹 지지층(2)은 유전율이 극히 적은 세라믹 시트(8,13)를 전술한 소결전의 바리스터(1) 양면에 적층하여 형성한다.The ceramic support layer 2 is formed by laminating ceramic sheets 8 and 13 with extremely low dielectric constant on both sides of the varistor 1 before sintering.

외부전극(3,4)은 Ag, Ag-Pt 등 금속분말을 반죽상태로 하여 소자 양 측면에 피막 형태로 도포하고 소성하여 형성한다.The external electrodes 3 and 4 are formed by coating metal powders such as Ag and Ag-Pt in a kneading state and coating them on both sides of the device in the form of a film and firing them.

이와 같은 본 발명에 의하면 바리스터의 두께가 예를 들면 0.9mm 정도로 얇게 형성되므로 캐피시턴스 용량이 낮게 되며 얇은 바리스터(1)의 양면에 유전율이 극히 적은 세라믹 보호층이 형성되어 있어서 바리스터를 소결할 때 바리스터가 변형되거나 파손되지 않으며, 전자기기에 설치할 때에도 바리스터가 파손될 위험이 나타나지 않게 된다.According to the present invention, since the thickness of the varistor is thin, for example, about 0.9 mm, the capacitance capacity is low, and a ceramic protective layer having a very low dielectric constant is formed on both sides of the thin varistor 1 to sinter the varistor. The varistors are not deformed or broken and there is no risk of breaking the varistors even when installed in the electronic device.

[실시예 1]Example 1

ZnO 분말 95부와 Sb2O3와 Bi2O3와 1:1 혼합물 5부를 폴리비닐알콜 용액과 혼합하여 반죽상태로 만들고 볼밀을 사용하여 균질이 되게 밀링한 다음 필림상에 도포하여 균일한 두께의 시트(9,10,11,12)를 형성하고 일정한 크기로 절단한다.95 parts of ZnO powder and 5 parts of 1: 1 mixture with Sb 2 O 3 and Bi 2 O 3 are mixed with a polyvinyl alcohol solution to make a dough, milled homogeneously using a ball mill and applied on film for uniform thickness Sheets 9, 10, 11, 12 are formed and cut to a constant size.

시트(10,11,12)의 표면에 PtO 슬러리를 실크스크린 인쇄방법으로 내부전극(14,15,16)을 일측단부가 외부로 노출되도록 도포하고 바리스터 시트(9,10,11,12)를 제3(a)도에 도시된 바와같이 전극의 노출단부가 교호로 배치되도록 적층시킨 다음 외측 바리스터 시트(9,12)의 표면에 유전율이 극히 적은 세라믹 시트(8,13)를 적층하고 소결하여 바리스터(1)와 지지층(2)이 일체로 되도록 형성한다. 이어서 내부전극들의 단부가 노출된 단부 표면에 공지의 백금전극 재료를 피막형태로 도포하여 외부전극(3,4)을 형성하고 소성하여 칩 바리스터를 형성한다.PtO slurry was applied to the surfaces of the sheets 10, 11, and 12 using a silk screen printing method so that one end of the internal electrodes 14, 15, and 16 were exposed to the outside, and the varistor sheets 9, 10, 11, and 12 were applied. As shown in FIG. 3 (a), the exposed ends of the electrodes are laminated alternately, and then the ceramic sheets 8 and 13 having a very low dielectric constant are laminated and sintered on the surfaces of the outer varistor sheets 9 and 12. The varistor 1 and the support layer 2 are formed to be integrated. Subsequently, a known platinum electrode material is coated on the end surface of which the ends of the inner electrodes are exposed to form a film to form the outer electrodes 3 and 4 and then baked to form a chip varistor.

[실시예 2]Example 2

실시예 1에서와 같은 방법으로 칩 바리스터를 형성하되, 바리스터(1)를 구성하는 내부전극(17,18,19)을 제3(b)도와 같이 형성한다. 이 경우, 시트(10,12)의 내부전극(17,17′),(19,19′)은 각개 시트의 양측에서 외부로 노출되도록 하고 시트(11)의 내부전극(18)은 외부전극(2,3)과 연결되지 않게 되었다.The chip varistor is formed in the same manner as in the first embodiment, and the internal electrodes 17, 18, and 19 constituting the varistor 1 are formed as shown in FIG. 3 (b). In this case, the internal electrodes 17, 17 ', 19, 19' of the sheets 10, 12 are exposed to the outside from both sides of the sheets, and the internal electrodes 18 of the sheet 11 are external electrodes ( 2,3) is not connected.

[실시예 3]Example 3

실시예 1에서와 같은 방법으로 칩 바리스터를 형성하되, 바리스터(1)를 구성하는 내부전극(17,18,19)을 제3(c)도와 같이 형성한다. 이 경우, 시트(10,11,12)의 내부전극은 외부전극과연결되는 전극(20,21,22)과 외부전극에 연결되지 아니하는 전극(20′,21′,22′)으로 구성되었다.The chip varistor is formed in the same manner as in the first embodiment, and the internal electrodes 17, 18, and 19 constituting the varistor 1 are formed as shown in FIG. 3 (c). In this case, the inner electrodes of the sheets 10, 11 and 12 are composed of electrodes 20, 21 and 22 connected to the external electrodes and electrodes 20 ', 21' and 22 'not connected to the external electrodes. .

[실시예 4]Example 4

실시예 1에서와 같은 방법으로 칩 바리스터를 형성하되, 바리스터(1)를 구성하는 내부전극(17,18,19)을 제3(d)도와 같이 형성한다. 이 경우, 내부전극(23,24,25)들은 실시예 1의 내부전극과 같은 형태로 배치되지만 표면적이 작게 형성되었다.A chip varistor is formed in the same manner as in the first embodiment, and the internal electrodes 17, 18, and 19 constituting the varistor 1 are formed as shown in FIG. In this case, the internal electrodes 23, 24, and 25 are arranged in the same shape as the internal electrode of Embodiment 1, but have a small surface area.

실시예 1,2,3,4의 바리스터 시트에 도포된 내부전극들은 바리스터 시트의 동시 소결후 외부단자(3,4)와 연결된다. 이와 같은, 내부전극들은 사용위치와 용량 및 제품의 특성에 따라 다양하게 변화시킬 수 있다. 따라서, 제품의 특성에 맞추어 알맞는 내부전극이 형성된 칩 바리스터를 선택적으로 사용할 수 있게 된다.The internal electrodes applied to the varistor sheets of Examples 1, 2, 3 and 4 are connected to the external terminals 3 and 4 after simultaneous sintering of the varistor sheets. As such, the internal electrodes can be variously changed according to the location of use, capacity, and characteristics of the product. Therefore, it is possible to selectively use a chip varistor having a suitable internal electrode in accordance with the characteristics of the product.

이와 같은, 이 발명의 칩 바리스터는 바리스터(1)가 세라믹 지지층(2,2)에 지지되므로 바리스터가 안정화 될 뿐만 아니라, 바리스터(1)의 두께가 얇아서 외부전극과 접촉하는 바리스터(1)의 양 측면의 표면적이 적으므로 캐패시턴스를 10pF이하로 낮출 수 있으며, 외부전극(3,4)이 캡 단자와 같은 형태로 형성되므로 기판에 실장이 점유면적이 적고 고속 신호 라인에 연결시킬 수 있어 전자제품의 소형화를 이룰 수 있게 된다.As described above, in the chip varistor of the present invention, since the varistor 1 is supported by the ceramic support layers 2 and 2, not only the varistor is stabilized, but also the amount of the varistor 1 in contact with the external electrode due to the thin thickness of the varistor 1. Since the surface area of the side is small, the capacitance can be lowered to 10pF or less, and since the external electrodes 3 and 4 are formed in the same shape as the cap terminals, the mounting area on the board is small and the high-speed signal lines can be connected to each other. Miniaturization can be achieved.

Claims (2)

칩 바리스터에 있어서, ZnO 분말에 반도성 산화물인 Bi2O3, Sb2O3분말을 포함하고 내부에 내부전극이 배치된 다수의 바리스터 시트(9,10,11,12)를 적층하여 형성된 바리스터(1)를 소결하기 전에 상기 바리스터(1)의 양면에 전기적특성을 나타내는 상기 바리스터층 내부의 시트와는 달리 유전율이 극히 적은 세라믹 시트(8,13)를 적층시켜 형성된 세라믹 지지층(2)을 포함한 칩 바리스터 성형체를 구성하되, 상기 바리스터 시트(9,10,11,12)의 내부전극(17,17′),(19,19′)은 외부전극(3,4)과 양측에서 직접 연결되도록 외부로 노출되었고, 시트(11)의 내부전극(18)은 외부전극과 직접 노출되지 않도록 구성된 것을 특징으로 하는 낮은 정전용량 칩 바리스터.In the chip varistor, a varistor formed by stacking a plurality of varistor sheets ( 9 , 10 , 11 , 12) containing a semiconducting oxide Bi 2 O 3 , Sb 2 O 3 powder in the ZnO powder and an internal electrode disposed therein Before sintering (1), the ceramic support layer (2) formed by laminating ceramic sheets (8, 13) with extremely low dielectric constant, unlike the sheet inside the varistor layer, which exhibits electrical characteristics on both sides of the varistor (1). Comprising a chip varistor molded body, the internal electrodes 17, 17 ', (19, 19') of the varistor sheet (9, 10, 11, 12) is connected to the external electrode (3, 4) directly from both sides And the inner electrode 18 of the sheet 11 is configured not to be directly exposed to the outer electrode. 칩 바리스터에 있어서, ZnO 분말에 반도성 산화물인 Bi2O3, Sb2O3분말을 포함하고 내부에 내부전극이 배치된 다수의 바리스터 시트(9,10,11,12)를 적층하여 형성된 바리스터(1)를 소결하기 전에 상기 바리스터(1)의 양면에 전기적특성을 나타내는 상기 바리스터층 내부의 시트와는 달리 유전율이 극히 적은 세라믹 시트(8,13)를 적층시켜 형성된 세라믹 지지층(2)을 포함한 칩 바리스터 성형체를 구성하되, 상기 바리스터 시트(9,10,11,12)의 각각 외부전극과 연결되는 내부전극(20,21′,22)과 외부전극에 직접 연결되지 아니하는 내부전극(20′,21,22′)을 갖고 있고, 상기 바리스터 시트의 내부전극(20,21′,22)들이 교호로 양측의 외부전극과 연결되도록 배치되었음을 특징으로 하는 낮은 정전용량 칩 바리스터.In the chip varistor, a varistor formed by stacking a plurality of varistor sheets ( 9 , 10 , 11 , 12) containing a semiconducting oxide Bi 2 O 3 , Sb 2 O 3 powder in the ZnO powder and an internal electrode disposed therein Before sintering (1), the ceramic support layer (2) formed by laminating ceramic sheets (8, 13) with extremely low dielectric constant, unlike the sheet inside the varistor layer, which exhibits electrical characteristics on both sides of the varistor (1). An internal electrode 20, 21 ', 22 which is configured to form a chip varistor molded body, which is connected to an external electrode of the varistor sheets 9, 10, 11, and 12, and which is not directly connected to an external electrode, respectively. And 21,22 ', wherein the internal electrodes 20, 21', 22 of the varistor sheet are alternately arranged to be connected to external electrodes on both sides of the varistor sheet.
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