KR100245035B1 - Method for fabricating of mig type magnetic induction head - Google Patents

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Abstract

본 발명은 미그형 자기 헤드에 관한 것으로, 산화물자성기판(20) 위에 다수의 평행홈(22) 및 상기 평행홈(22))과 직교하는 방향으로 권선홈(24)을 형성하고; 상기 기판(20) 전면에 스퍼터링 공정으로 장벽층(26)을 증착하되, 반응실에 장입할 때 산소분자(O2)를 공급하여 표면을 산화시킨 타겟(44)을 예비 스퍼터링하여 기판 전면에 산화막(40)을 증착한 후 스퍼터링하여 산화막(40) 위에 타켓 재료를 증착하여 접착막(42)을 증착하고; 상기 기판(20) 전면에 자성금속박막(28) 및 비자성박막(30)을 증착하여 서로 맞대어 접합하여 제조하는 것이다.The present invention relates to a MIG-type magnetic head, comprising: forming a winding groove (24) on an oxide magnetic substrate (20) in a direction orthogonal to the plurality of parallel grooves (22) and the parallel grooves (22); While depositing the barrier layer 26 on the entire surface of the substrate 20 by sputtering, the target layer 44 oxidized the surface by supplying oxygen molecules (O 2 ) when charged into the reaction chamber and preliminarily sputtering the oxide film on the entire surface of the substrate. Depositing the target material on the oxide film 40 by sputtering after depositing the 40, and depositing the adhesive film 42; The magnetic metal thin film 28 and the nonmagnetic thin film 30 are deposited on the entire surface of the substrate 20 to be bonded to each other.

본 발명에 따르면, 미그형 자기 헤드의 의사 갭 현상을 최소화하기 위해 형성하는 장벽층을 하나의 타겟과 예비 스퍼터링 및 스퍼터링 공정을 통해 간단히 진행할 수 있는 효과를 가져올 수 있다.According to the present invention, the barrier layer formed to minimize the pseudo gap of the Mig-type magnetic head can be easily processed through a single target and a preliminary sputtering and sputtering process.

Description

미그형 자기 유도 헤드 제조방법{METHOD FOR FABRICATING OF MIG TYPE MAGNETIC INDUCTION HEAD}MIG type magnetic induction head manufacturing method {METHOD FOR FABRICATING OF MIG TYPE MAGNETIC INDUCTION HEAD}

본 발명은 자기기록재생장치에 사용되는 자기 헤드에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 산화하기 쉬운 타겟을 이용하여 자기갭층 양면에 장벽층을 형성함으로써 제조공정의 단수화를 가져올 수 있는 미그형 자기 유도 헤드 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a magnetic head used in a magnetic recording and reproducing apparatus, and more particularly, a MIG type magnetic induction head capable of shortening the manufacturing process by forming barrier layers on both sides of a magnetic gap layer using a target which is easy to oxidize. It relates to a manufacturing method.

일반적으로 자기 헤드(Magnetic Head)는 그 형상에 따라 벌크형(Bulk Type)과 박막형(Thin Film Type)으로 구분되며, 벌크형은 다시 그 특성에 따라 자기 저항 헤드(Magnetoresistive Head)와 자기 유도 헤드(Magnetic Induction Head)로 구분되며, 특히 자기 헤드의 포화자속밀도를 향상시킨 미그헤드(MIG Head ; 여기서 MIG는 Metal-In-Gap의 약칭임.)가 개발되어 있다.In general, the magnetic head is divided into a bulk type and a thin film type according to its shape, and the bulk type is again a magnetoresistive head and a magnetic induction head according to its characteristics. MIG Head (MIG Head, where MIG is short for Metal-In-Gap) has been developed, which improves the saturation magnetic flux density of the magnetic head.

자기 기록/재생의 원리는 기록하고자 하는 전기 신호를 전자석으로 흐르게 하여 자계의 모양으로 변하게 함으로써 기록매체에 자화의 모양으로 신호를 기록하거나, 기록시와는 반대로 기록매체에 기록된 자화의 모양에 따라 전자석에 전기를 발생케함으로써 기록된 신호를 재생하는 것이다.The principle of magnetic recording / reproduction is to record the signal in the form of magnetization on the recording medium by flowing the electric signal to be recorded into the magnetic field, or according to the shape of the magnetization recorded on the recording medium as opposed to recording. By generating electricity in the electromagnet, the recorded signal is reproduced.

최근에 각종 정보기록 분야에서는 정보를 기록하는 기록 매체의 장시간 사용을 위해 기록매체의 보자력(HC)이 수천 에르스테드(Oe)로 증가된 고밀도 기록방식이 채택되고 있으며, 기록 매체의 보자력 증가에 대응하기 위해 포화자속밀도를 향상시킨 자기 헤드의 새로운 재질 및 특성 향상이 이루어지고 있다.Recently, in various information recording fields, a high density recording method has been adopted in which the coercive force (H C ) of the recording medium has been increased to several thousand Ersted (O e ) for long time use of the recording medium for recording information. In order to cope with the increase, new materials and characteristics of magnetic heads with improved saturation magnetic flux densities are being made.

그에 따른 자기 헤드의 한 분야로서, 미그형 자기 유도 헤드(MIG Type Magnetic Induction Head; 이하 자기 헤드라 약칭함.)의 일예를 도 1 및 도 2에 도시하고 있다.As an example of the magnetic head, an example of a MIG type magnetic induction head (hereinafter, referred to as a magnetic head) is illustrated in FIGS. 1 and 2.

도시된 바와 같이, 자기 헤드는 코일(36)이 감긴 한쌍의 자기코어블럭(10(12))를 서로 맞대어 부착한 것으로, 그 부착면의 선단부에는 절연재질로 이루어진 미세한 자기갭(G)이 형성되며, 이 자기갭(G)의 양면에는 자성금속박막(28)이 개재되어 있다.As shown, the magnetic head is a pair of magnetic core blocks 10 (12) wound around the coil 36 to be attached to each other, a fine magnetic gap (G) made of an insulating material is formed at the tip of the attachment surface The magnetic metal thin film 28 is interposed on both sides of the magnetic gap G.

일반적으로, 자기코어블럭(10(12)는 페라이트재질로 이루어지며, 자성금속박막(28)은 포화자속밀도가 높은 센더스트(Sendust)로 이루어져 정보의 기록/재생시 신호 전류 증가에 대한 자속량의 변화영역을 확장시킨 것에 미그형 자기 헤드의 특징이 있다.In general, the magnetic core block 10 (12) is made of a ferrite material, and the magnetic metal thin film 28 is made of senddust having a high saturation magnetic flux density. The MIG-type magnetic head is characterized by an extension of the change region of.

이와같은 구성을 갖는 종래의 자기 헤드의 동작은 다음과 같다.The operation of the conventional magnetic head having such a configuration is as follows.

기록 매체가 일정속도로 자기갭의 표면을 주행하게 될 때 패러데이(Faraday)의 유도법칙에 따라 자속의 시간 변화율에 비례하는 기전력이 코일(4)에 유기되어서 자기 헤드에 일정한 크기를 갖는 입력 신호 전류를 발생시키거나, 입력 신호 전류에 따라 자기갭(G)에서는 기록 자장값이 외부로 누설되어 자기갭(G)의 표면을 주행하는 기록매체의 일단에는 일정방향으로 자화방향이 변화된 기록자장이 형성되게 된다.When the recording medium travels on the surface of the magnetic gap at a constant speed, according to Faraday's law of induction, an electromotive force proportional to the rate of change of magnetic flux is induced in the coil 4 so that the input signal current has a constant magnitude in the magnetic head. Or a recording magnetic field in which the magnetization direction is changed in a predetermined direction is formed at one end of the recording medium traveling on the surface of the magnetic gap G due to leakage of the recording magnetic field value in the magnetic gap G according to the input signal current. Will be.

한편, 기록 매체의 일단이 자기 헤드로부터 일정 경계 영역을 통과하게 되면 자기갭(G)에서 누설되는 자장의 크기는 기록 매체의 보자력보다 작아지게 되므로 기록 매체의 일단에서 자화방향의 변화는 그 상황에서 고정되어 개별 트랙(Track)을 형성하게 되고 개별 트랙이 연속적으로 기록/재생되면서 정보의 기록/재생이 이루어진다.On the other hand, when one end of the recording medium passes through a predetermined boundary area from the magnetic head, the magnitude of the magnetic field leaking out of the magnetic gap G becomes smaller than the coercive force of the recording medium. It is fixed to form individual tracks, and recording / reproducing of information is performed while individual tracks are recorded / reproduced continuously.

그런데 이와같은 종래의 MIG헤드는 자기코어블럭(10)(12)과 자성금속박막(28) 사이의 접촉영역에서 원하지 않는 의사 갭(pseudo-gap)이 형성됨으로 인해 자속이 누설되어 원하지 않는 정보를 읽어들이거나 재생하게 되어 리플(Ripple)을 발생시키는 문제가 있다.However, such a conventional MIG head has an unwanted pseudo-gap in the contact region between the magnetic core blocks 10 and 12 and the magnetic metal thin film 28, so that magnetic flux leaks, thereby causing unwanted information. There is a problem that causes ripple due to reading or playing.

즉, 한쌍의 자기코어블럭(10)(12)을 접합하기 위한 열처리 과정에서 자기코어블럭(10)(12)의 재질인 페라이트중의 산소분자(O2)가 확산되어 자성금속박막(28)의 재질인 센더스트(Fe-Al-Si)중의 규소(Si), 알루미늄(Al) 원자와 결합하게 되어 약 400∼500Å 정도의 Al2O3, SiO2층을 형성하며, 이와같이 확산된 영역에 과잉의 Fe가 존재하게 되어 자기갭(G)과 유사한 의사 갭을 형성하는 결과를 가져와 의사 갭 현상이 발생되는 것이다.That is, in the heat treatment process for joining a pair of magnetic core blocks 10 and 12, oxygen molecules O 2 in ferrite, which is a material of the magnetic core blocks 10 and 12, are diffused to form the magnetic metal thin film 28. It is combined with silicon (Si) and aluminum (Al) atoms in the Sendust (Fe-Al-Si) material of to form an Al 2 O 3 , SiO 2 layer of about 400 ~ 500Å, in this diffused region Excess Fe is present to form a pseudo gap similar to the magnetic gap G, and a pseudo gap phenomenon occurs.

따라서, 종래에도 이와같이 의사 갭이 발생되는 문제를 해소하기 위해 도 3에 도시된 바와 같이, 산화물자성기판(20)과 자성금속박막(28) 사이에 약 50Å 정도의 SiO2/Cr 재질의 장벽층(26)을 개재시키는 구조가 제안되어 있다.Accordingly, in order to solve the problem of generating a pseudo gap in the related art, a barrier layer made of SiO 2 / Cr material having a thickness of about 50 GPa between the oxide magnetic substrate 20 and the magnetic metal thin film 28 is shown in FIG. 3. A structure for interposing (26) has been proposed.

이와같은 종래의 MIG헤드 제조방법의 일예를 제조공정순에 따라 도면을 참조해서 설명하면 다음과 같다.An example of such a conventional MIG head manufacturing method will be described with reference to the drawings according to the manufacturing process order as follows.

도 2에 도시된 바와 같이, 페라이트로 이루어진 산화물자성기판(20) 위에 다수의 평행홈(22)을 기판의 전체폭에 걸쳐 형성하며, 상기 평행홈(22)을 직각으로 가로지르는 방향으로 권선홈(24)을 절삭가공한다.As shown in FIG. 2, a plurality of parallel grooves 22 are formed on the oxide magnetic substrate 20 made of ferrite over the entire width of the substrate, and the winding grooves are formed to cross the parallel grooves 22 at right angles. Cut (24).

이어서, 상기 기판(20) 위에 SiO2/등과 같은 산화막 위에 Cr 등과 같은 접착막으로 이루어진 장벽층(26)을 형성한다.Subsequently, a barrier layer 26 made of an adhesive film such as Cr is formed on the oxide film such as SiO 2 / etc. On the substrate 20.

상기 장벽층(26)의 SiO2는 산화물자성기판()중의 산소분자(O2)가 확산되어 자성금속박막(4)의 재질인 센더스트(Fe-Al-Si)중의 규소(Si), 알루미늄(Al) 원자와 결합하는 것을 억제하게 되며, Cr은 장벽층(26)을 SiO2로만 형성하게 되면 접착력이 떨어지므로 이후공정으로 증착되는 자성금속박막(28)과 SiO2의 접착력을 향상시키는 역할을 한다.SiO 2 of the barrier layer 26 diffuses oxygen molecules (O 2 ) in the oxide magnetic substrate (Si) and silicon (Si) in sendust (Fe-Al-Si), which is a material of the magnetic metal thin film 4. It is inhibited from bonding with (Al) atoms, and Cr forms a barrier layer 26 made of SiO 2 only, so that adhesive strength is reduced, thereby improving adhesion between the magnetic metal thin film 28 and SiO 2 deposited in a subsequent process. Do it.

이와같은 SiO2/Cr 재질의 장벽층(26)을 형성하기 위해서는 통상적으로 스퍼터링 증착공정을 이용하는데 반응실 안에 SiO2재질의 타켓과 Cr 재질의 타켓 및 센더스트를 장착하는 동안 SiO2타켓 및 Cr 타켓의 표면에 얇은 센더스트가 피착되므로 이를 제거하기 위한 예비 스퍼터(Pre Sputter)를 진행한 후 스퍼터링 증착공정을 한다.In order to form such a SiO 2 / Cr barrier layer 26, a sputtering deposition process is typically used, while a SiO 2 target and Cr are mounted in the reaction chamber while a target of SiO 2 and a target and sender of Cr are mounted. Since thin sender is deposited on the surface of the target, a sputter deposition process is performed after a pre sputtering process is performed to remove it.

이어서, 상기 장벽층 위에 자성금속박막(28), 예를 들면 센더스트(Fe-Al-Si)합금을 스퍼터링 공정을 이용해서 증착한다.Subsequently, a magnetic metal thin film 28, for example, a sendust (Fe-Al-Si) alloy, is deposited on the barrier layer using a sputtering process.

이어서, 상기 자성금속박막(28) 위에 자기갭(G)을 형성하기 위해 산화실리콘(SiO2) 등의 비자성재료(30)를 증착시킨 후, 기판(20)의 전면을 평면으로 연삭하여 우수한 평활도를 나타내는 표면을 형성한다.Subsequently, in order to form a magnetic gap G on the magnetic metal thin film 28, a nonmagnetic material 30 such as silicon oxide (SiO 2 ) is deposited, and then the entire surface of the substrate 20 is ground to an excellent surface. To form a surface exhibiting smoothness.

계속해서, 상기 기판(20) 전면에 갭 스페이서를 형성하기 위해 글래스(32)를 몰딩시킨 후 상기 평행홈(22)을 제외한 나머지 부분의 글래스를 제거한다.Subsequently, the glass 32 is molded to form a gap spacer on the entire surface of the substrate 20, and then the glass other than the parallel grooves 22 is removed.

이와같이 제조된 1 쌍의 자기코어블럭(10)(12)을 맞대어 평행홈(22) 및 권선홈(24)이 서로 일치하도록 정렬시킨 후 그 양측면에 소정의 압력을 부여하면서 열처리하여 상기 글래스(32)가 용착되어 1 쌍의 자기코어블럭(10)(12)이 상호 접합되도록 한다.The pair of magnetic core blocks 10 and 12 manufactured as described above are aligned with each other so that the parallel grooves 22 and the winding grooves 24 are aligned with each other, and then heat treated while applying a predetermined pressure to both sides thereof. ) Is welded so that a pair of magnetic core blocks 10 and 12 are bonded to each other.

이어서, 상기 자기기록매체가 접촉하는 표면을 원통형상으로 정밀하게 연마하여 트랙면(34)을 형성한 후, 경사진 방향으로 절단한다.Subsequently, the surface contacted with the magnetic recording medium is precisely polished into a cylindrical shape to form the track surface 34, and then cut in an inclined direction.

최종공정으로, 상기 권선홈(24)에 도전성을 갖는 코일(36)을 권취시켜 다수의 자기헤드 제조공정을 완료한다.As a final step, a plurality of magnetic head manufacturing processes are completed by winding a conductive coil 36 in the winding groove 24.

그런데 이와같은 종래의 자기헤드 제공방법에 있어서, 장벽층(26)을 형성하기 위한 종래의 스퍼터링 증착공정은 SiO2타켓 및 Cr 타켓을 예비 스퍼터한 후 스퍼터링 증착공정을 해야하므로 공정이 복잡해지는 단점이 있었다.However, in the conventional method of providing a magnetic head, the conventional sputtering deposition process for forming the barrier layer 26 requires a sputter deposition process after preliminary sputtering of the SiO 2 target and the Cr target. there was.

따라서, 본 발명은 이와같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 의사갭 현상을 최소화하기 위한 장벽층 형성공정시 반응실 내에 산소를 공급하여 타켓 물질의 표면에 산화막을 형성하도록하여 예비 스퍼터 공정을 통해 산화막을 증착하고 연속적으로 타겟 물질을 증착하도록 함으로써 장벽층 형성공정을 단순화할 수 있는 미그형 자기 유도 헤드 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention is to solve this problem, to supply the oxygen in the reaction chamber to form an oxide film on the surface of the target material during the barrier layer forming process to minimize the pseudo gap phenomenon to form an oxide film through a preliminary sputtering process It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a MIG type magnetic induction head which can simplify the barrier layer forming process by depositing and continuously depositing a target material.

이와같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 산화물자성기판 위에 다수의 평행홈 및 상기 평행홈과 직교하는 방향으로 권선홈을 형성하고, 반응실에 산화하기 쉬운 접착막 재질의 타겟을 장착하고 산소를 공급하여 타겟 표면에 산화막이 형성되도록 한 후 상기 산화막을 예비 스퍼터링하여 상기 자성기판 위에 산화막을 증착하며, 상기 산화막이 제거된 접착막 재질의 타겟을 스퍼터링하여 상기 산화막 위에 접착막을 증착한 다음 자성금속박막 및 비자성박막을 증착한 후 상기 평행홈 부분에 글래스를 충전하여 상기 공정을 통해 제조된 결과물 1 쌍을 맞대어 소정의 압력을 부여하면서 열처리하여 접합한 다음 트랙면 형성 및 평행홈을 중심으로 절단하여 도전성 코일을 감는 단계를 포함하는 미그형 자기 유도 헤드 제조방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention forms a plurality of parallel grooves and winding grooves in a direction orthogonal to the parallel grooves on an oxide magnetic substrate, mounts a target of an adhesive film material that is easy to oxidize, and supplies oxygen to the reaction chamber. After the oxide film is formed on the target surface by preliminary sputtering the oxide film to deposit an oxide film on the magnetic substrate, by sputtering the target of the adhesive film material from which the oxide film has been removed to deposit an adhesive film on the oxide film and then a magnetic metal thin film and After depositing the non-magnetic thin film, the glass is filled in the parallel groove portion, and the resultant is manufactured by the above process. Provided is a MIG-type magnetic induction head manufacturing method comprising winding a coil.

이와같은 제조방법에 의하여 형성되는 본 발명은 장벽층 타겟 재료의 표면에 산화막이 형성되어 자성금속박막 재료가 피착되는 것을 방지할 수 있으며, 타겟 표면의 산화막을 예비 스퍼터링 공정을 통해 산화물자성기판 전면에 증착한 다음 바로 타겟 물질을 산화막 위에 증착하게 되므로 제조공정의 단순화를 가져올 수 있다.The present invention formed by such a manufacturing method can prevent the oxide film is formed on the surface of the barrier layer target material to prevent the deposition of the magnetic metal thin film material, and the oxide film on the front surface of the oxide magnetic substrate through a preliminary sputtering process. Immediately after deposition, the target material is deposited on the oxide film, which may simplify the manufacturing process.

도 1은 종래의 자기헤드를 도시한 정면도,1 is a front view showing a conventional magnetic head,

도 2a 내지 2e는 종래의 자기헤드 제조방법을 도시한 공정도,2a to 2e is a process chart showing a conventional magnetic head manufacturing method,

도 3은 본 발명에 따른 자기헤드의 요부를 확대 도시한 단면도,3 is an enlarged cross-sectional view showing main parts of a magnetic head according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 장벽층의 스퍼터링 공정을 개략적으로 도시한 모식도.4 is a schematic diagram schematically showing a sputtering process of a barrier layer according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10, 12 ; 자기코어블럭 20 ; 산화물자성기판10, 12; Magnetic core block 20; Oxide Magnetic Substrate

22 ; 평행홈 24 ; 권선홈22; Parallel grooves 24; Winding groove

26 ; 장벽층 28 ; 자성금속박막26; Barrier layer 28; Magnetic metal thin film

30 ; 비자성박막 32 ; 글래스30; Nonmagnetic thin film 32; Glass

34 ; 트랙면 36 ; 코일34; Track surface 36; coil

40 ; 산화막 42 ; 접착막40; Oxide film 42; Adhesive film

44 ; 타겟 46 ; 반응실44; Target 46; Reaction chamber

48 ; 웨이퍼 홀더48; Wafer holder

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 미그형 자기 유도 헤드의 제조방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a method of manufacturing a MIG-type magnetic induction head according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 도 2에 도시된 구조와 동일한 구조 및 제조공정으로 이루어지므로 도 2를 참조하여 설명한다.The present invention is made with the same structure and manufacturing process as the structure shown in Figure 2 will be described with reference to FIG.

한편, 도 3은 본 발명에 따른 요부를 확대 도시한 단면도이며, 도 4는 본 발명에 따른 장벽층의 스퍼터링 공정을 개략적으로 도시한 모식도이다.On the other hand, Figure 3 is an enlarged cross-sectional view showing the main portion according to the present invention, Figure 4 is a schematic diagram schematically showing the sputtering process of the barrier layer according to the present invention.

본 발명은 코일이 감긴 한쌍의 자기코어블럭(10)(12)이 서로 맞대어 부착되며, 부착면의 선단부에 형성되는 자기갭(G)을 중심으로 그 양면에 자성금속박막(28) 및 장벽층(26)이 대칭적으로 형성되어 이루어진다.In the present invention, a pair of magnetic core blocks 10 and 12 wound around a coil are attached to each other, and the magnetic metal thin film 28 and the barrier layer are formed on both sides of the magnetic gap G formed at the front end of the attachment surface. (26) is formed symmetrically.

상기 자기코어블럭(10)(12)은 Mn-Zn 페라이트 또는 Ni-Zn 페라이트 등의 강자성 금속산화물로 이루어지며, 상기 자기갭(G)은 SiO2등과 같은 절연재료로 이루어진다.The magnetic core blocks 10 and 12 are made of a ferromagnetic metal oxide such as Mn-Zn ferrite or Ni-Zn ferrite, and the magnetic gap G is made of an insulating material such as SiO 2 .

그리고 미그형(MIG Type) 자기 헤드의 특징인, 상기 자성금속박막(28)은 포화자속밀도가 높은 센더스트(sendust; Fe-Al-Si 계) 재료로 이루어진다.In addition, the magnetic metal thin film 28, which is a characteristic of a MIG type magnetic head, is made of a sendust (Fe-Al-Si-based) material having a high saturation magnetic flux density.

또한 본 발명의 특징인 상기 장벽층(26)은 산화하기 쉬운 Al, Si, Ti 등으로 이루어지며, 타겟 물질이 산화되어 형성된 산화막(40)과 타겟 물질이 형성된 접착막(42)으로 구분된다.In addition, the barrier layer 26, which is a feature of the present invention, is made of Al, Si, Ti, etc., which are easy to oxidize, and is divided into an oxide film 40 formed by oxidizing a target material and an adhesive film 42 on which the target material is formed.

예를 들어 타겟 물질이 Ti 인 경우, 장벽층(26)은 TiO2의 산화막(40)과 Ti의 접착막(42)으로 구성되며, 타겟 물질이 Si 인 경우, 장벽층(26)은 SiO2의 산화막(40)과 Si의 접착막(42)이 된다.For example, when the target material is Ti, the barrier layer 26 is composed of an oxide film 40 of TiO 2 and an adhesive film 42 of Ti. When the target material is Si, the barrier layer 26 is SiO 2. An oxide film 40 of Si and an adhesive film 42 of Si.

한편, 본 발명에 따른 미그형 자기 유도 헤드의 제조방법 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명하면 다음과 같다.On the other hand, the method of manufacturing a Mig-type magnetic induction head according to the present invention will be described with reference to FIGS.

먼저 Mn-Zn 페라이트 또는 Ni-Zn 페라이트 등의 강자성산화물로 이루어지는 산화물자성기판(20)을 준비하여, 상기 기판(20) 위에 다수의 평행홈(22)을 기판(20)의 전체폭에 걸쳐 소정간격으로 배열하여 형성하고, 상기 평행홈(22)과 직교하는 방향으로는 권선홈(24)을 절삭가공하여 형성한다.First, an oxide magnetic substrate 20 made of ferromagnetic oxide such as Mn-Zn ferrite or Ni-Zn ferrite is prepared, and a plurality of parallel grooves 22 are formed on the substrate 20 over the entire width of the substrate 20. The winding grooves 24 are formed by cutting the winding grooves 24 in a direction perpendicular to the parallel grooves 22.

이어서, 상기 기판(20)을 스퍼터링 장치의 반응실(46) 기판 홀더(48)에 장착하여 밀폐시키고 산화하기 쉬운 재료 예를 들면, Al, Si, Ti 등과 같은 재료의 타겟(44)을 산소 공급과 함께 장착한다. 따라서, 타겟(44) 재료는 산화되어 표면에 Al2O3, SiO2, TiO2등과 같은 산화막(50)이 형성된다.Subsequently, the substrate 20 is attached to the reaction chamber 46 of the sputtering apparatus and the substrate holder 48 to seal and oxidize a target 44 of a material such as Al, Si, Ti, or the like that is easy to oxidize. Fit together. Thus, the target 44 material is oxidized to form an oxide film 50 such as Al 2 O 3 , SiO 2 , TiO 2, or the like on the surface.

이후, 타겟(44) 재료의 산화막(50)을 예비 스퍼터링하여 산화막을 제거하며, 제거된 산화막은 기판(20)의 전면에 약 30∼50 Å 정도의 두께를 유지할 수 있도록 증착된다.Thereafter, the oxide film 50 of the target 44 material is preliminarily sputtered to remove the oxide film, and the removed oxide film is deposited on the entire surface of the substrate 20 so as to maintain a thickness of about 30 to about 50 mm 3.

또한, 후속공정에서 증착되는 자성금속박막(28)과의 접착력을 향상시키기 위하여 타겟(44) 재료를 스퍼터링하여 산화막(40) 전면에 약 50 Å 정도의 두께로 증착하여 접착막(42)을 형성한다.In addition, in order to improve adhesion to the magnetic metal thin film 28 deposited in a subsequent process, the target 44 material is sputtered and deposited to a thickness of about 50 kPa on the entire surface of the oxide film 40 to form an adhesive film 42. do.

이어서, 상기 기판(20) 전면에 센더스트(Fe-Al-Si)합금 등의 자성금속박막(28)을 증착한 다음 산화실리콘(SiO2) 등의 비자성박막(30)을 증착한다.Subsequently, a magnetic metal thin film 28 such as a sender (Fe-Al-Si) alloy is deposited on the entire surface of the substrate 20, and a nonmagnetic thin film 30 such as silicon oxide (SiO 2 ) is deposited.

계속해서, 상기 기판(20) 전면에 글래스(32)를 몰딩시켜서 상기 평행홈(22)을 제외한 나머지 부분의 글래스(32)를 제거한 후, 이와같이 제조된 1 쌍의 자기코어블럭(10)을 맞대어 정렬시킨 후 그 양측면에 소정의 압력을 부여하면서 열처리하여 상기 글래스(32)가 용착된다.Subsequently, the glass 32 is molded on the entire surface of the substrate 20 to remove the glass 32 except for the parallel groove 22, and then the pair of magnetic core blocks 10 manufactured as described above are faced to each other. After the alignment, the glass 32 is welded by heat treatment while applying predetermined pressure to both sides thereof.

한편, 계속되는 공정으로서, 상기 자기기록매체가 접촉하는 표면, 즉 1 쌍의 자기코어블럭(10)의 상단면을 원통형상으로 정밀하게 연마하여 트랙면(34)을 형성한 후, 경사진 방향으로 절단하여 다수개로 형성한 다음, 각각의 권선홈(24)에 도전성을 갖는 코일(36)을 권취시켜 미그형 자기 유도 헤드의 제조공정을 완료한다.On the other hand, as a subsequent process, the surface on which the magnetic recording medium is in contact, that is, the top surface of the pair of magnetic core blocks 10 is precisely polished into a cylindrical shape to form the track surface 34, and then in the inclined direction. After cutting and forming a plurality, the conductive coil 36 is wound around each winding groove 24 to complete the manufacturing process of the MIG magnetic induction head.

이하 본 발명에 따른 미그형 자기 유도 헤드의 작용효과를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the operational effects of the MIG-type magnetic induction head according to the present invention will be described.

본 발명에 따른 장벽층(26)은 약 30∼50 Å 정도의 두께로 형성되는 산화막(40)과 약 50Å 정도의 두께로 형성되는 접착막(42)으로 형성되어 한쌍의 자기코어블럭을 접합하기 위한 열처리 공정시 페라이트에 존재하는 산소분자(O2)가 확산되는 것을 차단하게 되어 종래의 장벽층 제조공정에 있어서, 산소분자(O2)의 확산에 의해 페라이트와 센더스트 사이에 약 400∼500Å 까지 형성되는 산화막을 축소할 수 있게 된다.The barrier layer 26 according to the present invention is formed of an oxide film 40 formed to a thickness of about 30 to 50 mm 3 and an adhesive film 42 formed to a thickness of about 50 mm 3 to bond a pair of magnetic core blocks. To prevent the diffusion of oxygen molecules (O 2 ) present in the ferrite during the heat treatment process for a conventional barrier layer, in the conventional barrier layer manufacturing process, the diffusion of oxygen molecules (O 2 ) is about 400 ~ 500 라이트 between ferrite and sender The oxide film formed up to can be reduced.

또한, 본 발명의 장벽층 제조공정에 따르면 예비 스퍼터링에 의해 스퍼터된 산화막(50)을 장벽층(26)의 산화막(40) 증착에 이용하고 연속적으로 타겟(44) 재료를 산화막(40) 위에 증착하여 접착막(42)을 형성하게 되므로 종래공정에서 2개층을 형성하기 위해 두 개의 타켓을 사용하는 공정에 비해 하나의 타겟으로 2개의 층을 형성할 수 있어 공정이 단순해진다.In addition, according to the barrier layer fabrication process of the present invention, the sputtered oxide film 50 by preliminary sputtering is used to deposit the oxide film 40 of the barrier layer 26, and the target 44 material is subsequently deposited on the oxide film 40. Since the adhesive film 42 is formed, two layers can be formed with one target compared to a process using two targets to form two layers in the conventional process, thereby simplifying the process.

이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 일실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명이 속하는 분야의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있다.The foregoing is merely illustrative of a preferred embodiment of the present invention and those skilled in the art to which the present invention pertains may make modifications and changes to the present invention without changing the subject matter of the present invention.

따라서 본 발명에 따르면, 미그형 자기 헤드의 의사 갭 현상을 최소화하기 위해 형성하는 장벽층을 하나의 타겟과 예비 스퍼터링 및 스퍼터링 공정을 통해 간단히 진행할 수 있는 효과를 가져올 수 있다.Therefore, according to the present invention, the barrier layer formed to minimize the pseudo gap phenomenon of the MIG-type magnetic head may have an effect of simply proceeding with one target through a preliminary sputtering and sputtering process.

Claims (3)

산화물 자성기판 위에 다수의 평행홈 및 상기 평행홈과 직교하는 방향으로 권선홈을 형성하는 단계와;Forming a plurality of parallel grooves and a winding groove in a direction orthogonal to the parallel grooves on the oxide magnetic substrate; 반응실에 산화하기 쉬운 접착막 재질의 타겟을 장착하고 산소를 공급하여 타겟 표면에 산화막이 형성되도록 한 후 상기 산화막을 예비 스퍼터링하여 상기 자성기판 위에 산화막을 증착하는 단계와;Depositing an oxide film on the magnetic substrate by preliminarily sputtering the oxide film after mounting a target of an adhesive film material that is easy to oxidize in a reaction chamber and supplying oxygen to form an oxide film on the target surface; 상기 산화막이 제거된 접착막 재질의 타겟을 스퍼터링하여 상기 산화막 위에 접착막을 증착하는 단계와;Sputtering a target of an adhesive film material from which the oxide film is removed, and depositing an adhesive film on the oxide film; 상기 자성기판 전면에 자성금속박막 및 비자성박막을 증착하는 단계와;Depositing a magnetic metal thin film and a nonmagnetic thin film on the entire surface of the magnetic substrate; 상기 평행홈 부분에 글래스를 충전하는 단계와;Filling glass into the parallel groove portion; 상기 단계를 통해 제조된 자기코어블럭 1 쌍을 맞대어 소정의 압력을 부여하면서 열처리하여 접합하는 단계와;Bonding the magnetic core blocks manufactured by the above step with each other by heat treatment while applying a predetermined pressure to each other; 자기기록매체가 접촉하는 표면을 원통형상으로 연마하여 트랙면을 형성하는 단계와;Grinding the surface, which the magnetic recording medium contacts, into a cylindrical shape to form a track surface; 상기 평행홈을 중심으로 절단하고 권선홈에 도전성 코일을 감는 단계;Cutting around the parallel groove and winding a conductive coil in a winding groove; 를 포함하는 미그형 자기 유도 헤드 제조방법.Mig-type magnetic induction head manufacturing method comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 장벽층은 30∼50 Å 정도의 두께로 형성되는 산화막과 50Å 정도의 두께로 형성되는 타겟으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미그형 자기 유도 헤드 제조방법.The method of claim 1, wherein the barrier layer is formed of an oxide film formed to a thickness of about 30 to 50 GPa and a target formed to a thickness of about 50 GPa. 제 1 항에 있어서, 상기 장벽층은 Al, Si, Ti 중 어느 하나의 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미그형 자기 유도 헤드 제조방법.The method of claim 1, wherein the barrier layer is made of a material of any one of Al, Si, Ti.
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KR970007812A (en) * 1995-07-27 1997-02-21 이형도 Stacked Magnetic Heads with Nonmagnetic Metal Films

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