KR100223969B1 - 반도체장치검사장비의크레센트(crecent) - Google Patents

Abstract

본 발명에 따른 반도체장치 검사장비용 크레센트는, 웨이퍼 일부를 수용할 수 있도록 원주의 일부를 형성하는 벽체구조의 반도체장치 검사장비용 크레센트에 있어서, 내측으로 반경이 작은 소구경 웨이퍼에 대응되는 하부 층이 외측으로는 반경이 큰 대구경 웨이퍼에 대응되는 상부 층이 형성되는 다층 구조를 가지며, 웨이퍼를 수용하는 입구쪽의 끝모서리에는 하층과 상층을 이어주는 모따기면을 형성하여 하층의 반경보다 큰 반경을 가진 웨이퍼가 투입될 때 크기가 맞는 상층으로 단계적으로 미끄러져 올라갈 수 있도록 이루어진 것을 특징으로 한다.

따라서, 본 발명의 크레센트에 의하면 검사를 위해 크기가 다른 웨이퍼가 투입될 때에도 교체하지 않고 사용할 수 있으므로 크레센트를 웨이퍼에 따라 교체하고 세팅을 새롭게 해야하는 불편을 줄이고 각 종의 품질사고를 예방할 수 있다는 이점이 있다.

Description

반도체장치 검사장비의 크레센트(Crecent)

본 발명은 반도체장치 검사용 크레센트(Crecent)에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체장치 제조공정의 마지막 단계에서 웨이퍼 검사를 위해 웨이퍼를 정렬시키는 크레센트에 관한 것이다.

반도체장치의 제조과정에서 웨이퍼의 가공이 끝나면 패키지공정을 수행하기 전에 웨이퍼 가공공정상의 불량이 없는가를 검사하고 불량이 있는 칩에는 표시를 하여 배제하는 EDS(Electrical Die Sorting)공정을 수행하게 된다. 이 공정에서는 본 검사에 들어가기 전에 웨이퍼가 검사를 위해 지정된 위치, 즉, 프루버 스테이션(Prober Station) 상의 검사위치에 정확히 놓여야 한다. 정확한 로딩을 위해서는 프리어라인(Prealign)이 정확히 이루어져야 하며 이런 프리어라인 작업이 이루어지는 곳이 크레센트이다.

도1은 프루버 스테이션에서 크레센트 주변의 개략적인 구조를 나타내는 평면도이다.

도2는 프루버 스테이션의 이송트랙에 기존의 크레센트를 설치하는 방법을 나타내기 위한 참고도이다.

도1을 참고하면, 프루버 스테이션의 이송트랙(10)에서는 크레센트(11)는 로딩부(12)를 통해 이송된 웨이퍼와 닿아 웨이퍼를 정지시키고, 크레센트의 주변에 위치한 플랫존 감지센서(13)는 웨이퍼의 플랫존을 감지하여, 플랫존이 일정 방향을 향하도록 회전판(14)이 웨이퍼를 정렬시키게 된다.

그런데 종래에는 웨이퍼 크기에 따라 크기가 다른 크레센트를 사용하여 작업이 이루어졌다. 따라서 검사장비에 투입되는 웨이퍼의 종류가 바뀜에 따라 검사장비에 장착된 크레센트도 교체해서 운영을 하게 된다.

도2는 이러한 교체를 위한 각종 크레센트를 고정시키기 위한 스테이션 고정홀(21)이 프루버 스테이션의 이송트랙(22)의 로딩부(23) 한 쪽에 형성된 상태를 보여준다. 본 도에서 크레센트(24)는 4인치 웨이퍼용 크레센트(24)를 나타내며, 웨이퍼 종류에 따라 홀 간격이 보다 큰 5인치나 6인치 웨이퍼용 크레센트로 교체가 이루어진다. 교체작업은 수작업으로 이루어지며 크레센트를 스테이션에 미리 형성된 스테이션 고정홀(21)에 스크류(25)로 고정시킨다.

그러나, 크레센트 교체시마다 정확한 세팅(Setting)이 어려워 웨이퍼의 로딩이 불안해지고 웨이퍼 검사공정에서 각종 품질사고의 위험이 있었다.

본 발명의 목적은, 반도체장치 검사장치를 구성하는 프루버 스테이션에서 프리어라인에 사용되는 것으로 크기가 다른 웨이퍼가 투입될 때에도 교체하지 않고 사용할 수 있는 반도체장치 검사장비용 크레센트를 제공하는 데 있다.

도1은 프루버 스테이션에서 크레센트 주변의 개략적인 구조를 나타내는 평면도이다.

도2는 프루버 스테이션의 이송트랙에 기존의 크레센트를 설치하는 방법을 나타내기 위한 참고도이다.

도3은 본 발명에 따른 반도체장치 검사장비의 크레센트의 일 실시예를 나타내는 평도면이다.

※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10, 22: 이송트랙 11, 24, 30: 크레센트

12, 23: 로딩부 13, 32: 플랫존 감지센서

14, 33: 회전판 21: 고정홀

25: 스크류 31, 38: 모따기면

34: 크레센트 홀 35: 제 1 층

36: 제 2 층 37: 프루버 스테이션 평면

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체장치 검사장비용 크레센트는, 웨이퍼 일부를 수용할 수 있도록 원주의 일부를 형성하는 벽체구조의 반도체장치 검사장비용 크레센트에 있어서, 내측으로 반경이 작은 소구경 웨이퍼에 대응되는 하부 층이 외측으로는 반경이 큰 대구경 웨이퍼에 대응되는 상부 층이 형성되는 다층 구조를 가지며, 웨이퍼를 수용하는 입구쪽의 끝모서리에는 하층과 상층을 이어주는 모따기면을 형성하여 하층의 반경보다 큰 반경을 가진 웨이퍼가 투입될 때 크기가 맞는 상층으로 단계적으로 미끄러져 올라갈 수 있도록 이루어진 것을 특징으로 한다.

본 발명에서 벽체구조는 반원형을 이루게 되는 것이 일반적일 것이며, 크레센트에 형성되는 층의 수는 웨이퍼의 크기별로 몇 개로도 할 수 있다.

본 발명의 크레센트에서 웨이퍼가 투입되는 입구쪽의 끝모서리에 형성되는 모따기면은 웨이퍼가 상층으로 미끄러져 올라가는 동작이 부드럽게 이루어지기 위해서는 웨이퍼 진행방향의 좌우 모두에 경사가 급하지 않도록 형성되는 것이 바람직하다.

또한 웨이퍼가 모따기면에 닿을 때의 주변단부의 균열이나 부스러짐을 방지하고 크레센트의 마모, 변색을 방지하기 위해 하드 아노다이징(Hard Anodizing)으로 코팅처리하는 것이 바람직하다.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도3은 본 발명에 따른 반도체장치 검사장비의 크레센트의 일 실시예를 나타내는 평도면이다.

본 실시예는 4인치, 5인치 및 6인치 웨이퍼를 교체없이 처리할 수 있는 크레센트(30)를 나타낸다. 빗금친 부분은 경사면을 이루는 각 층과 층 사이의 모따기면(31, 38)이다. 도면에서 웨이퍼가 투입되는 입구쪽의 왼편에 설치된 직사각형의 박스는 플랫존 감지센서(32)를 나타낸다. 가운데의 원형은 회전판(33)을 나타낸다. 반원형 크레센트(30)의 제 2 층(36)에 대칭되게 형성된 두 개의 홀은 크레센트를 프루버 스테이션에 스크류로 고정시키기 위한 크레센트 홀(34)이다.

크레센트는 전체적으로는 반원형에 가까운 벽체구조이며 높이 4.3mm로 세 개의 층으로 형성되어 있다. 제 1 층(35), 웨이퍼가 거치되는 층으로서는 실질적으로 2 층을 이루는 벽체에는 이송트랙의 로딩부에서 이송된 4인치 웨이퍼가 닿아 정지된다. 이 벽체의 높이는 3.14mm이다.

만약 5인치 웨이퍼가 투입된다면 아래쪽 프루버 스테이션 평면(37)과 크레센트의 제 1 층(35)을 연결하는, 하층 벽체 단부 양측의 모따기 경사면을 통해 이송트랙이 미는 힘으로 웨이퍼가 상승되고 제 2 층(36)을 이루는 벽체에 닿아 크레센트 제 1 층(35)에 거치된다. 같은 방법으로 6인치 웨이퍼가 투입된다면 웨이퍼 선단이 크레센트의 함입된 입구로 들어오면서 웨이퍼 주변단부가 반경이 작은 하층 벽체로 이루어진 입구에 닿고 입구에 형성된 모따기면(31)을 미끌어져 올라가서 처음에는 제 1 층(35)으로 그리고 연이어서 제 1 층과 제 2 층을 이어주는 모따기면(38)을 통해 3.74mm의 높이로 형성된 제 2 층(36)으로 올라가게 된다.

각각의 층에 올라간 웨이퍼는 적합한 크기의 층에 수용되면서 상부층을 형성하는 벽체에 닿아 정지하고, 정지된 상태에서 플랫존의 위치를 감지하는 센서의 작용과 회전판의 작용으로 일정 방향으로 정렬된다. 이는 종래의 크레센트와 거의 동일하게 진행된다.

한편 크레센트 각 층의 높이와 웨이퍼의 크기를 고려한 모따기면의 경사도는 1°내외의 완만한 경사를 이루므로 웨이퍼가 상층으로 이동할 때 별 무리가 없게 이루어진다.

따라서, 본 발명의 크레센트에 의하면 반도체장치 검사장치를 구성하는 프루버 스테이션에 크기가 다른 웨이퍼가 투입될 때에도 교체하지 않고 사용할 수 있으므로 웨이퍼 크기에 따라 크레센트를 교체하고 세팅을 새롭게 해야하는 불편을 줄이고 각 종의 품질사고를 예방할 수 있다는 이점이 있다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (4)

1. 웨이퍼 일부를 수용할 수 있도록 원주의 일부를 형성하는 벽체구조의 반도체장치 검사장비용 크레센트에 있어서,

   내측으로 반경이 작은 소구경 웨이퍼에 대응되는 하부 층이 외측으로는 반경이 큰 대구경 웨이퍼에 대응되는 상부 층이 형성되는 다층 구조를 가지며, 웨이퍼를 수용하는 입구쪽의 끝모서리에는 하층과 상층을 이어주는 모따기면을 형성하여 하층의 반경보다 큰 반경을 가진 웨이퍼가 투입될 때 크기가 맞는 상층으로 단계적으로 미끄러져 올라갈 수 있도록 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체장치 검사장비용 크레센트.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 모따기면은 웨이퍼가 상층으로 미끄러져 올라가는 동작이 부드럽게 이루어지기 위해서는 웨이퍼 진행방향의 좌우 모두에 형성되는 것을 특징으로 하는 상기 반도체장치 검사장비용 크레센트.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 벽체구조는 반원형을 이루는 것을 특징으로 하는 상기 반도체장치 검사장치용 크레센트.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 모따기면은 하드 아노다이징(Hard Anodizing)으로 코팅처리된 것을 특징으로 하는 상기 반도체장치 검사장치용 크레센트.