KR100223960B1 - 반도체 제조 공장 관리 시스템 - Google Patents
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Abstract
클라이언트 시스템(Client System), 가스 또는 케미컬 공급 시스템, 환경관리 시스템 및 관리제어 시스템 등을 랜(LAN : Local Area Network)으로 통합하여 그래픽 유저 인터페이스(Graphic User Interface)를 이용한 통합적인 공장관리가 가능하도록 한 반도체 제조공장 관리 시스템에 관한 것이다.
본 발명은, 각 제조 및 감시 시스템과 각 관리시스템에 연결되어 각 제조 및 감시 시스템을 통합 관리할 수 있도록 한 랜(LAN), 상기 랜을 통한 각 제조 및 감시 시스템의 상태신호를 입력받아 데이터 베이스를 구축하는 관리제어 시스템 및 상기 관리제어 시스템과 랜으로 연결되어서 상기 관리제어 시스템에 데이터 베이스로 구축된 각 제조 및 감시 시스템의 상태를 불특정 공간에서 모니터링하는 복수개의 클라이언트 시스템을 더 구비하여 이루어진다.
따라서, 반도체 제조공장의 내부환경, 공정시스템, 관리시스템 등을 복합적으로 실시간으로 분석하고 모니터링할 수 있으므로, 공장을 신속, 정확, 안전하게 관리할 수 있을 뿐만 아니라 효율성에 있어서도 극대화할 수 있는 효과가 있다.
Description
제1도는 종래의 반도체 제조공장 관리 시스템의 구성도이다.
제2도는 본 발명에 따른 반도체 제조공장 관리 시스템의 실시예를 나타내는 구성도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10, 36 : 가스공급 시스템 12, 38 : 케미컬공급 시스템
14, 40 : 가스누설감지 시스템 16, 42 : 환경감시 시스템
20, 44 : 가스관리 시스템 22, 46 : 케미컬관리 시스템
24, 48 : 가스누설관리 시스템 26, 46 : 환경관리 시스템
30 : 랜 32 : 관리제어 시스템
34 : 데이터 저장기 52 : 클라이언트 시스템
본 발명은 반도체 제조공장 관리 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 클라이언트 시스템(Client System), 가스 또는 케미컬 공급 시스템, 환경관리 시스템 및 관리제어 시스템 등을 랜(LAN : Local Area Network)으로 통합하여 그래픽 유저 인터페이스(Graphic User Interface)를 이용한 통합적인 공장관리가 가능하도록 한 반도체 제조공장 관리 시스템에 관한 것이다.
통상적으로, 반도체 소재를 가공하여 반도체 장치를 제조하는 반도체 제조공장에는 공정을 수행하기 위한 시스템, 공정에 보조적으로 이용되는 시스템 및 공정을 관리하기 위한 시스템 등 여러 종류의 시스템이 구비되어 있다.
구체적으로 가스공급 시스템(Gas Supply System), 케미컬공급 시스템(Chemical Supply System), 가스누설감지 시스템(Gas Leak Detect System), 환경감시 시스템 및 각종 제조 시스템 등이 개별적인 관리 시스템 환경에서 독자적인 운영체계로 구성되어 있다.
즉, 종래의 반도체 제조공장은 제1도와 같은 시스템들의 구성을 갖는다.
반도체 장치를 제조하기 위한 증착, 식각 및 이온주입 등의 용도로 여러 종류의 가스 또는 케미컬(Chemical)을 공급하기 위한 가스공급 시스템(10)과 케미컬공급 시스템(12), 각 배관에서 반도체 장치 제조공정이 직접 이루어지는 공정챔버(도시되지 않음)로 공급되는 가스가 누설되는지 감지하는 가스누설감지 시스템(14) 및 온도, 습도, 초순수저항, 파티클 및 차압(差壓)의 상황을 측정하는 환경감시 시스템(16)이 각각 구성되어 있다.
그리고, 가스공급 시스템(10)은 가스관리 시스템(Gas Management System)(20)의 제어에 의하여 각 공정챔버로 가스를 공급하도록 구성되어 있고, 케미컬공급 시스템(12)은 케미컬관리 시스템(Chemical Management System)(22)의 제어에 의하여 각 공정챔버로 케미컬을 공급하도록 구성되어 있으며, 가스누설감지 시스템(14)은 누설의 감지상황을 가스누설관리 시스템(24)으로 전송하도록 구성되어 있고, 환경감시 시스템(16)은 온도, 습도, 초순수저항, 파티클 및 차압(差壓)등의 감지상황을 환경관리 시스템(26)으로 전송하도록 구성되어 있다.
전술한 바와 같이 종래의 반도체 제조공장에서의 시스템 구성은 개별 관리대상요소별로 독자적인 방법에 의한 모니터링을 위하여 구성되었다. 그러므로, 특정 관리시스템은 해당 관리대상에 대해서만 모니터링될 수 있었으므로 그 효용성이 극히 제한되었고, 다른 시스템에서의 접근이 사실상 불가능하였다. 그러므로 시스템 간의 확장성 및 호환성이 뒤떨어져서 전체 반도체 제조공장의 공정관리 및 설비관리 등에 있어서 효율성이 떨어지는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은, 반도체 장치의 제조, 관리 및 감시 시스템을 하나의 통합된 환경으로 시스템화시킴으로써 서로 다른 시스템간의 인터페이스에 의한 모니터링이 가능한 반도체 제조공장 관리 시스템을 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 제조공장 관리시스템은, 가스공급 시스템, 케미컬공급 시스템, 가스누설감지 시스템, 환경감시 시스템 등이 이를 관리하는 각 관리 시스템과 독립적으로 연결되어 반도체 제조공정을 각 시스템별로 독립적으로 관리하도록된 반도체 제조공장 관리 시스템에 있어서, 각 제조 및 감시 시스템과 각 관리 시스템에 연결되어 각 제조 및 감시 시스템을 통합 관리할 수 있도록 한 랜(LAN), 상기 랜을 통한 각 제조 및 감시 시스템의 상태신호를 입력받아 데이터 베이스를 구축하는 관리제어 시스템 및 상기 관리제어 시스템과 랜으로 연결되어서 상기 관리제어 시스템에 데이터 베이스로 구축된 각 제조 및 감시 시스템의 상태를 불특정 공간에서 모니터링하는 복수개의 클라이언트 시스템을 더 구비한 것으로 이루어진다.
상기 각 제조 및 감시 시스템은 데이터를 실시간으로 상기 관리제어 시스템으로 전송하도록 구성되어 각 클라이언트 시스템에서 각 제조 및 감시 시스템의 동작을 실시간으로 모니터링할 수 있도록 이루어짐이 바람직하다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
제2도를 참조하면, 실시예에 구성되는 모든 시스템은 랜(30)으로 연결되어 있으며, 각 시스템에서 발생되는 데이터는 랜(30)을 통하여 관리제어 시스템(32)에 연결된 데이터 저장기(34)로 저장되도록 구성되어 있다.
그리고 랜(30)에는 제조공장에 설치되는 각종 시스템 즉 여러 종류의 가스 또는 케미컬을 공급하기 위한 가스공급 시스템(36)과 케미컬공급 시스템(38), 공정챔버(미도시)로 공급되는 가스가 누설되는지 감지하는 가스누설감지 시스템(40), 온도, 습도, 초순수저항, 파티클 및 차압(差壓)의 상황을 측정하는 환경감시 시스템(42), 가스공급 제어를 위한 가스관리 시스템(44), 케미컬공급 제어를 위한 케미컬관리 시스템(46), 가스누설 상황을 관리하기 위한 가스누설관리 시스템(48), 온도, 습도, 초순수저항, 파티클 및 차압(差壓)등의 상황을 관리하기 위한 환경관리 시스템(50)이 구성되어 있다. 그리고, 여러 작업실 또는 사무실에 설치된 복수 개의 클라이언트 시스템(52)이 랜(30)에 연결되어 있다.
전술한 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 실시예에서 가스공급 시스템(26) 또는 케미컬공급 시스템(28)은 반도체 장치를 제조하기 위한 증착, 식각 및 이온주입 등에 이용될 여러 종류의 가스 또는 케미컬(Chemical)을 공정챔버로 공급하고, 가스누설감지 시스템(40)은 각 공정챔버로 공급되는 가스가 누설되는지 감지하며, 환경감시 시스템(16)은 공장 내부의 환경 또는 공정챔버 내부의 환경을 온도, 습도, 초순수저항, 파티클 및 차압(差壓)의 각 요소를 구분하여 측정한다.
전술한 가스공급 시스템(36), 케미컬공급 시스템(38), 가스누설감지 시스템(40) 및 환경감시 시스템(42)은 랜(30)을 통하여 연결된 해당 관리시스템 즉 가스관리 시스템(44), 케미컬관리 시스템(46), 가스누설관리 시스템(48) 및 환경관리 시스템(50)에 의하여 제어된다.
그리고, 가스공급 시스템(36), 케미컬공급 시스템(38), 가스누설감지 시스템(40) 및 환경감시 시스템(42)은 가스 또는 케미컬 공급 상황이나 가스누설 및 기타 감시요소에 대하여 발생된 데이터를 랜(30)을 통하여 제어관리 시스템(32)으로 전송하여 데이터 저장기(34)에 저장한다.
이와 같이 데이터 저장기(34)로의 데이터 저장은 각 시스템에서 데이터가 발생되는 즉시 실시간으로 전송되어 수행되고, 그에 따라서 클라이언트 시스템(52)을 포함한 각 시스템에서 랜(30)으로 연결된 관리제어 시스템(32)의 데이터 저장기(34)에 저장된 데이터를 실시간으로 모니터링할 수 있다.
그리고, 관리제어 시스템(32)은 랜(30)을 통하여 전송되는 여러 데이터를 데이터 저장기(34)에 저장함에 있어서 상호 연관되거나 유사한 데이터는 인터로크(Interlock) 시키고, 데이터가 데이터 저장기(34)에 저장됨에 있어서 관리제어 시스템(32)은 통계적 관리 방식을 적용하여 데이터가 히스토리(History)를 갖도록 저장한다. 그러면 데이터를 모니터링 함에 있어서 그 효용도가 향상될 수 있다.
그리고, 각 시스템 또는 생산 시스템과의 데이터 전송방식을 규격화함으로써 시스템간의 인터레이스가 용이하도록 구성할 수 있다.
따라서, 클라이언트 시스템(52) 뿐만 아니라 공장 내부의 각 관리시스템의 단말기를 통하여 각 관리시스템의 데이터를 모니터링할 수 있고, 데이터가 서로 연관성 있게 저장되어 데이터로서의 효용성이 극대화될 수 있다.
그러므로, 공장 내부의 공정에 이용되는 가스의 압력 및 무게, 세정을 위하여 공급되는 초순수의 상태, 작업장 및 공정챔버 내부의 청정도, 누설상태, 케미컬 및 가스의 현재 재고, 온도 및 습도 등의 데이터가 복합적으로 분석되어 실시간으로 모니터링될 수 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 반도체 제조공장의 내부환경, 공정시스템, 관리시스템 등을 복합적으로 실시간으로 분석하고 모니터링할 수 있으므로, 공장을 신속, 정확, 안전하게 관리할 수 있을 뿐만 아니라 효율성에 있어서도 극대화할 수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
Claims (2)
- 가스공급 시스템, 케미컬공급 시스템, 가스누설감지 시스템, 환경감시 시스템 등이 이를 관리하는 각 관리 시스템과 독립적으로 연결되어 반도체 제조공정을 각 시스템별로 독립적으로 관리하도록 된 반도체 제조공장 관리 시스템에 있어서, 각 제조 및 감시 시스템과 각 관리시스템에 연결되어 각 제조 및 감시시스템을 통합 관리할 수 있도록 한 랜(LAN); 상기 랜을 통한 각 제조 및 감시 시스템의 상태신호를 입력받아 데이터 베이스를 구축하는 관리제어 시스템; 및 상기 관리제어 시스템과 랜으로 연결되어서 상기 관리제어 시스템에 데이터 베이스로 구축된 각 제조 및 감시 시스템의 상태를 불특정 공간에서 모니터링하는 복수개의 클라이언트 시스템; 을 더 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 제조공장 관리 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 각 제조 및 감시 시스템은 데이터를 실시간으로 상기 관리제어 시스템으로 전송하도록 구성되어 각 클라이언트 시스템에서 각 제조 및 감시 시스템의 동작을 실시간으로 모니터링할 수 있도록 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제조공장 관리 시스템.
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Cited By (1)
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| KR102278761B1 (ko) | 2021-03-12 | 2021-07-16 | 정봉구 | 수율 향상을 위한 실시간 스마트 빅데이터 수집 및 분석장치 |
-
1996
- 1996-04-17 KR KR1019960011677A patent/KR100223960B1/ko not_active IP Right Cessation
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| KR102278761B1 (ko) | 2021-03-12 | 2021-07-16 | 정봉구 | 수율 향상을 위한 실시간 스마트 빅데이터 수집 및 분석장치 |
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| KR970071215A (ko) | 1997-11-07 |
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