KR100219804B1 - Apparatus of supplying photoresist of semiconductor spinner - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 반도체 스피너장비의 포토레지스트 공급장치는, 외부에서 공급된 포토레지스트의 파티클을 제거하며 공급압력을 제공하는 필터박스, 공압밸브 및 배관을 구비하여 이루어지고, 상기 공압밸브는 밸브 내에서 포토레지스트의 통로를 직접 막아서 닫거나 여는 작용을 하는 다이아프램, 중앙부가 다이아프램의 한 끝에 고정되고 측부는 밸브 측벽에 고정되는 고정축, 공기실의 일부를 이루며 공압을 받으면 상부로 밀려 올라가는 피스톤, 한 끝이 고정축과 연결되며 다른 끝은 피스톤과 연결되는 이동축 등을 구비하는 반도체 스피너장비의 포토레지스트 공급장치에 있어서, 상기 다이아프램 및 고정축이 만나는 각도를 90°이상으로 하는 것을 특징으로 한다.The photoresist supply apparatus of the semiconductor spinner device according to the present invention is provided with a filter box, a pneumatic valve and a pipe for removing a particle of the photoresist supplied from the outside and providing a supply pressure, wherein the pneumatic valve is in the valve Diaphragm that directly closes or opens the passageway of the photoresist, fixed shaft fixed at one end of the diaphragm and side is fixed to the side wall of the valve, piston which is pushed upward when it receives pneumatic and forms part of the air chamber. In the photoresist supply device of the semiconductor spinner equipment having the end is connected to the fixed shaft and the other end is connected to the piston, it characterized in that the angle between the diaphragm and the fixed shaft is set to 90 ° or more .
따라서, 본 발명에 의하면 다이아프램과 고정축 사이에 포토레지스트가 굳어지는 좁은 틈이 없어지므로 포토레지스트성 파티클의 형성이 줄어들고 포토레지스트 도포에 따른 불량의 발생이 줄어드는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, there is no narrow gap in which the photoresist is hardened between the diaphragm and the fixed shaft, thereby reducing the formation of photoresist particles and reducing the occurrence of defects due to the application of the photoresist.
Description
본 발명은 반도체 스피너장비의 포토레지스트 공급장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 스피너장비의 포토레지스트 공급장치 가운데 공급과 중단의 조절을 위한 밸브의 다이아프램(Diaphragm)에 관한 것이다.The present invention relates to a photoresist supply apparatus for semiconductor spinner equipment, and more particularly, to a diaphragm of a valve for controlling supply and interruption among photoresist supply apparatus for semiconductor spinner equipment.
반도체 스피너장비는 반도체장치 제조공정에서 포토리소그래피를 실시하기 위해 포토레지스트를 도포하는 장비이며, 회전척에 웨이퍼를 위치시킨 후, 회전하는 웨이퍼 상면에 포토레지스트액을 떨어뜨려 원심력에 의해 전면에 퍼지도록 하는 기능을 수행한다.Semiconductor spinner equipment is a device that applies photoresist to perform photolithography in the semiconductor device manufacturing process.After placing the wafer on the rotating chuck, the photoresist liquid is dropped on the upper surface of the rotating wafer to be spread by the centrifugal force. It performs the function.
스피너장비에서 웨이퍼에 포토레지스트액을 공급하기 위해서는 스피너 장비에 외부의 포토레지스트를 웨이퍼 위로 공급하는 공급장치가 설치된다. 도1은 종래의 포토레지스트 공급장치의 개략적인 구조를 나타내는 도면이다.In order to supply the photoresist liquid to the wafer in the spinner equipment, a supply device for supplying an external photoresist onto the wafer is installed in the spinner equipment. 1 is a view showing a schematic structure of a conventional photoresist supply apparatus.
도면을 참조하여 공급장치의 구성을 살펴보면, 외부의 포토레지스트가 공급되는 공급구(11)에서 필터박스(12)로 포토레지스트가 투입된다. 투입된 포토레지스트는 필터박스 상부에 연결된 질소라인(13)의 공압에 의해 파이프라인을 지나고, 밸브를 거쳐 웨이퍼(15) 상면에 공급된다. 필터박스(12)를 빠져나갈 때 포토레지스트는 메쉬(Mach)형 필터(16)를 통과하게 되므로 포토레지스트성 파티클들이 일차로 걸러진다. 밸브는 포토레지스트 도포단계에서 웨이퍼에 대한 포토레지스트의 공급을 단속하는 역할을 하며, 공압밸브(20)로 되어 있다.Referring to the configuration of the supply apparatus with reference to the drawings, the photoresist is introduced into the filter box 12 from the supply port 11 is supplied with an external photoresist. The injected photoresist passes through the pipeline by the pneumatic pressure of the nitrogen line 13 connected to the upper part of the filter box, and is supplied to the upper surface of the wafer 15 via a valve. When exiting the filter box 12, the photoresist passes through the mesh type filter 16, so that the photoresist particles are first filtered. The valve serves to interrupt the supply of the photoresist to the wafer in the photoresist coating step, and is a pneumatic valve 20.
도2는 종래의 포토레지스트 공급장치에서 공압밸브의 다이아프램과 고정축 부분을 확대하여 나타낸 단면도이다.2 is an enlarged cross-sectional view of a diaphragm and a fixed shaft portion of a pneumatic valve in a conventional photoresist supply apparatus.
공압밸브(20)는 밸브 내에서 포토레지스트의 통로를 직접 막아서 닫거나 여는 작용을 하는 다이아프램(21), 중앙부가 다이아프램(21)의 한 끝에 고정되고 측부는 밸브 측벽에 고정되는 고정축(22), 공기실(23)의 일부를 이루며 공압을 받으면 상부로 밀려 올라가는 피스톤(24), 한 끝이 고정축(22)과 연결되며 다른 끝은 피스톤(24)과 연결되는 이동축(25) 등을 구비하여 이루어진다.The pneumatic valve 20 is a diaphragm 21 which directly closes or opens the passage of the photoresist in the valve, and a fixed shaft 22 fixed to one end of the diaphragm 21 and having a central part fixed to one side of the diaphragm 21. ), A piston 24 that is pushed upward when forming a part of the air chamber 23, and one end is connected to the fixed shaft 22, the other end is connected to the piston 24, the moving shaft 25, etc. It is provided with.
종래의 포토레지스트 공급장치의 작용을 살펴보면, 우선 설비로부터 일정한 시간동안 포토레지스트를 공급하라는 신호가 입력되면 필터박스와 밸브의 공기실에 질소 등의 공기가 일정시간 공급된다.Referring to the operation of the conventional photoresist supply apparatus, first, when a signal for supplying a photoresist is supplied from a facility for a predetermined time, air such as nitrogen is supplied to the air chambers of the filter box and the valve for a predetermined time.
필터박스의 공압으로 인하여 포토레지스트는 공기밸브로 공급되며, 다이아프램을 밀어올려 통로를 열고 포토레지스트 분사노즐을 통해 웨이퍼 위로 공급된다.Due to the pneumatic pressure of the filter box, the photoresist is supplied to the air valve, and the diaphragm is pushed up to open the passage and supplied to the wafer through the photoresist injection nozzle.
동시에 밸브의 공기실에 공급된 공기는 스프링을 압축시키며, 피스톤이 위로 올라가게 하고, 피스톤에 연결된 이동축과 이동축에 연결된 고정축을 위로 당겨준다. 고정축은 테프론 등의 연질, 탄성재질로 이루어지므로 약간 위로 당겨지고 같이 연결된 다이아프램을 당겨 포토레지스트의 통로를 개방하게 한다.At the same time, the air supplied to the valve's air chamber compresses the spring, causes the piston to move up, and pulls up the moving shaft connected to the piston and the fixed shaft connected to the moving shaft. The fixed shaft is made of soft and elastic material such as Teflon, so it is slightly pulled up and the connected diaphragm is pulled to open the passage of the photoresist.
일정 시간이 지나면 질소 등 공기의 공급이 중단되어 스프링의 작용으로 피스톤이 하강하고, 동시에 다이아프램도 하강하여 밸브의 포토레지스트 통로를 막아 포토레지스트 공급은 중단된다. 이러한 동작이 반복되면서 스피너의 포토레지스트 도포작업이 이루어진다.After a certain time, the supply of air, such as nitrogen, is stopped, and the piston descends by the action of the spring, and at the same time, the diaphragm descends, blocking the photoresist passage of the valve, thereby stopping the photoresist supply. This operation is repeated, the spinner photoresist coating operation is performed.
그러나 종래의 포토레지스트 공급장치에서는 포토레지스트 도포시 0.3μm 정도의 파티클이 50개 내지 100개 수준으로 발생하는 문제점이 있었다. 이는 종래의 공압밸브에서는 다이아프램과 고정축이 예각으로 만나고 있으므로 다이아프램과 고정축이 만나는 부분에서 포토레지스트성 파티클이 누적, 생성되기 때문이다. 즉, 다이아프램과 고정축이 만나는 부분은 유동이 적어 포토레지스트가 서서히 굳어 파티클을 생성하고, 이들이 누적되어 커다란 파티클이 생성되어, 이들 파티클이 경우에 따라 포토레지스트액과 함께 웨이퍼에 공급되므로 파티클 불량이 발생된 것이다.However, in the conventional photoresist supply apparatus, there is a problem that particles of about 0.3 μm are generated at the level of 50 to 100 when the photoresist is applied. This is because in the conventional pneumatic valve, since the diaphragm and the fixed shaft meet at an acute angle, photoresist particles accumulate and generate at a portion where the diaphragm and the fixed shaft meet. That is, the portion where the diaphragm and the fixed shaft meet is low in flow and the photoresist gradually hardens to form particles, and these accumulate to form large particles, and these particles are sometimes supplied to the wafer together with the photoresist liquid, thereby causing particle defects. This has occurred.
본 발명의 목적은, 포토레지스트성 파티클의 발생을 줄일 수 있는 반도체 스피너장비의 포토레지스트 공급장치를 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide a photoresist supply apparatus for semiconductor spinner equipment that can reduce the occurrence of photoresist particles.
도1은 종래의 포토레지스트 공급장치의 개략적인 구조를 나타내는 도면이다.1 is a view showing a schematic structure of a conventional photoresist supply apparatus.
도2는 종래의 포토레지스트 공급장치에서 공압밸브의 다이아프램과 고정축 부분을 확대하여 나타낸 단면도이다.2 is an enlarged cross-sectional view of a diaphragm and a fixed shaft portion of a pneumatic valve in a conventional photoresist supply apparatus.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 스피너장비의 포토레지스트 공급장치에서 다이아프램과 고정축 부분만을 나타낸 단면도이다.Figure 3 is a cross-sectional view showing only the diaphragm and the fixed shaft portion in the photoresist supply apparatus of the semiconductor spinner device according to an embodiment of the present invention.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of symbols for main parts of drawing
11: 공급구 12: 필터박스11: supply port 12: filter box
13: 질소라인 15: 웨이퍼13: nitrogen line 15: wafer
16: 필터 20: 공압밸브16: filter 20: pneumatic valve
21: 다이아프램 22: 고정축21: diaphragm 22: fixed shaft
23: 공기실 24: 피스톤23: air chamber 24: piston
25: 이동축 31: 다이아프램부25: moving shaft 31: diaphragm portion
32: 고정축부32: fixed shaft
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 스피너장비의 포토레지스트 공급장치는, 외부에서 공급된 포토레지스트의 파티클을 제거하며 공급압력을 제공하는 필터박스, 공압밸브 및 배관을 구비하여 이루어지고, 상기 공압밸브는 밸브 내에서 포토레지스트의 통로를 직접 막아서 닫거나 여는 작용을 하는 다이아프램, 중앙부가 상기 다이아프램의 한 끝에 고정되고 측부는 상기 공압밸브 측벽에 고정되는 고정축, 공기실의 일부를 이루며 공압을 받으면 상부로 밀려 올라가는 피스톤, 한 끝이 상기 고정축과 연결되며 다른 끝은 상기 피스톤과 연결되는 이동축 등을 구비하는 반도체 스피너장비의 포토레지스트 공급장치에 있어서, 상기 다이아프램 및 상기 고정축이 만나는 각도를 90°이상으로 하는 것을 특징으로 한다.The photoresist supply apparatus of the semiconductor spinner device according to the present invention for achieving the above object is provided with a filter box, a pneumatic valve and a pipe to remove the particles of the photoresist supplied from the outside to provide a supply pressure, The pneumatic valve is a diaphragm which directly closes or opens the passage of the photoresist in the valve, and a fixed shaft and a part of the air chamber having a central part fixed to one end of the diaphragm and a side part fixed to the side wall of the pneumatic valve. In the photoresist supply apparatus of the semiconductor spinner equipment having a piston that is pushed upward when one receives, one end is connected to the fixed shaft and the other end is connected to the piston, the diaphragm and the fixed shaft is Meeting angle It is characterized in that it is 90 ° or more.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 스피너장비의 포토레지스트 공급장치에서 다이아프램과 고정축 부분만을 나타낸 단면도이다.Figure 3 is a cross-sectional view showing only the diaphragm and the fixed shaft portion in the photoresist supply apparatus of the semiconductor spinner device according to an embodiment of the present invention.
본 실시예에서는 다이아프램부(31)는 고정축부(32)와 110° 정도의 둔각으로 만나고 있다. 그러므로 다이아프램과 고정축 사이에 포토레지스트가 굳어지는 좁은 틈이 없어지므로 파티클의 형성이 줄어들고 불량의 발생이 줄어든다. 본 발명에서 다이아프램과 고정축 사이의 각도는 제작의 편의를 위해 직각으로 하는 것이 바람직하다.In the present embodiment, the diaphragm 31 meets the fixed shaft portion 32 at an obtuse angle of about 110 °. Therefore, there is no narrow gap between the diaphragm and the fixed shaft where the photoresist is hardened, thereby reducing the formation of particles and reducing the occurrence of defects. In the present invention, the angle between the diaphragm and the fixed shaft is preferably at right angles for ease of manufacture.
다이아프램 및 고정축은 모두 테프론과 같은 연하고 탄성있는 재질로 형성될 수 있으므로 일체로 성형할 수 있고, 밸브의 공기실의 압력에 따라 피스톤 및 이동축이 움직임에 따라서 상하로 변형, 이동하는 데 문제는 없다. 밸브 내에서 포토레지스트의 통로를 막도록 다이아프램의 한 끝은 쐐기형으로 되어있다.Since both diaphragm and fixed shaft can be made of soft and elastic material such as Teflon, it can be molded integrally, and the piston and moving shaft are deformed and moved up and down according to the movement of the valve air chamber pressure. There is no. One end of the diaphragm is wedge shaped to block the passage of the photoresist within the valve.
따라서, 본 발명에 의하면 다이아프램과 고정축 사이에 포토레지스트가 굳어지는 좁은 틈이 없어지므로 포토레지스트성 파티클의 형성이 줄어들고 포토레지스트 도포에 따른 불량의 발생이 줄어드는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, there is no narrow gap in which the photoresist is hardened between the diaphragm and the fixed shaft, thereby reducing the formation of photoresist particles and reducing the occurrence of defects due to the application of the photoresist.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1019960070901A KR100219804B1 (en) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | Apparatus of supplying photoresist of semiconductor spinner |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960070901A KR100219804B1 (en) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | Apparatus of supplying photoresist of semiconductor spinner |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19980051974A KR19980051974A (en) | 1998-09-25 |
| KR100219804B1 true KR100219804B1 (en) | 1999-09-01 |
Family
ID=19490526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960070901A KR100219804B1 (en) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | Apparatus of supplying photoresist of semiconductor spinner |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100219804B1 (en) |
-
1996
- 1996-12-24 KR KR1019960070901A patent/KR100219804B1/en not_active IP Right Cessation
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| KR19980051974A (en) | 1998-09-25 |
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