KR100219714B1 - 저손실 광능동소자의 제작방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광신호 도파시 비선형효과가 필요한 광도파로 코아부분(비선형코아영역) 및 비선형효과가 필요하지 않는 광도파로 코아부분(선형코아영역)으로 이루어지는 광도파로를 구비한 광능동소자의 제조방법에 관한 것으로서, 자외선을 투과시킬 수 있는 기판표면에 코아 물질보다 굴절율이 낮고 광투명성을 지닌 하부클래드층을 형성하는 단계; 하부클래드층 상부에 하부클래드보다 굴절율이 높은 선형폴리머를 도포하여 선형폴리머층을 형성하는 단계; 광도파로가 위치할 영역 이외의 영역에 제1금속층을 형성하는 단계; 상부에 제1금속층이 형성되어 있지 않은 선형폴리머층을 식각하는 단계; 비선형코아영역을 포함하는 기판상에 비선형폴리머층을 형성하는 단계; 도파로 코아보다 높이 쌓여진 비선형폴리머층을 제거하는 단계; 제1금속층을 제거하는 단계; 도파로 상부에 제2금속층을 형성하는 제2금속층형성단계; 상부에 제2금속층이 형성되어 있지 않은 영역의 선형폴리머를 제거하는 단계; 선형폴리머가 제거된 기판상에 도파로 코아 물질보다 굴절율이 낮고 사용 파장에서 광투명성을 갖는 물질로 상부클래드층을 형성하는 단계를 포함함이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 광변조효과가 일어나는 도파로영역에만 비선형 폴리머를 형성하고 나머지 영역에는 선형 폴리머를 이용하여 도파로의 도파 손실을 줄인다.

Description

저손실 광능동소자의 제작방법
본 발명은 광소자의 제조방법에 관한 것으로, 특히 비선형 효과가 일어나는 도파로 영역에만 비선형 폴리머를 삽입하여 도파로 코아를 형성하여 소자의 도파손실을 줄이는, 저손실 광능동소자의 제조방법에 관한 것이다.
광학 폴리머를 이용하여 광변조 소자 및 광스윗치 등의 광능동소자를 구성할 때, 소자에 형성되는 광도파로는 도파로의 코아(Core) 부분과 코아를 감싸는 상부 및 하부 클래드(Clad)로 구성된다. 이 때 코아로 사용되는 물질의 굴절률은 클래드로 사용되는 물질보다 항상 높은 굴절률을 지니며, 코아를 지나가는 광은 코아와 클래드와의 굴절률 차이에 의해 광이 전반사를 겪으면서 도파로를 따라서 진행하게 된다. 기존의 방법에서 광학 폴리머를 이용하여 광능동소자를 제작할 때, 비선형성의 성질을 가지는 폴리머로 소자의 도파로 코아영역을 형성하게 된다. 이 때 소자에 형성되는 도파로의 모든 코아 영역은 비선형 폴리머로 이루어진다.
기존의 방법에서 능동 소자를 이루는 모든 도파로의 코아를 비선형 폴리머를 이용하여 형성할 경우에 전체적인 소자의 손실특성에서 문제가 된다. 현재 비선형 폴리머로 이루어진 도파로의 도파 손실은 0.5-1.0dB/cm 이상의 특성을 나타내고 있으며, 선형 폴리머로 이루어진 도파로의 도파 손실은 0.1dB-0.2dB/cm 이하의 특성을 나타내고 있다. 따라서 동일한 길이 및 동일한 구조의 도파로 형성에서 비선형 폴리머만를 이용하여 도파로를 형성하는 경우는 선형폴리머로 형성한 경우보다 소자의 삽입 손실면에서 더 불리하다. 도 1a 및 도 1b는 기존의 방법으로 형성된 방향성커플러 형태(Directional Coupler Type)의 광스위치(Optical Switch) 및 마흐-젠더(Mach-Zehnder) 형태의 광변조기(Optical Modulator)를 나타내었다. 도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이 기존의 방법에서는 실제 비선형 효과가 일어나는 전극(130)부분 이외에 모든 영역이, 선형 폴리머에 비하여 상대적으로 광손실이 높은 비선형 폴리머로 도파로가 이루어져 있으므로 소자의 전체 삽입 손실은 커지는 단점이 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 창출된 것으로서, 모든 도파로의 코아를 비선형 폴리머를 이용하여 도파로를 형성할 때보다 도파로의 도파손실을 최소화시키기 위해, 광학 폴리머를 이용하여 능동 광소자를 형성할 때 광변조 효과가 일어나는 부분의 도파로 코아 영역에만 비선형 폴리머로 형성하고, 나머지 코아 영역에는 선형 폴리머를 이용하여 도파로 코아를 형성한, 저손실 광능동소자 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
도 1a는 소자를 이루는 도파로의 코아 전체가 비선형폴리머로 형성된 방향커플러 형태(Directional Coupler Type)의 광스위치를 도시한 것이다.
도 1b는 기존의 방법으로 형성된 마흐-젠더 형태의 광변조기를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른, 저손실 광능동소자의 구성을 도시한 것이다.
도 3은 본 발명 설명의 편의를 위해, 본 발명의 전체 구성도의 단면선(A-A', B-B', C-C') 정의를 도시한 것이다.
도 4 및 도 5는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 비선형 폴리머가 필요한 영역에 식각 방법을 이용하여 선형폴리머를 식각해내기 위한 단면선 C-C'에 의한 단면도를 도시한 것이다.
도 6a 및 도 6b는 하부 클래드층 및 선형폴리머층 상부에 제1금속층을 형성한 도면을 나타낸 것으로서, 도 6a는 도 3의 단면선 C-C`에서 자른 단면을 나타내고 있고, 도 6b는 기판의 윗면에서 본 평면도를 도시하고 있다.
도 7 내지 도 11은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 비선형 효과가 일어나는 부분에 선택적으로 비선형 폴리머로 이루어지는 도파로의 코아와 선형 폴리머로 이루어지는 코아를 동시에 형성하기 위한 공정도를 단면선 C-C'에서 자른 단면으로 도시한 것이다.
도 12a 내지 도 12c는 식각 공정으로 제2금속층이 없는 지역의 폴리머를 식각하고 제2금속층을 식각하여 선형폴리머 및 비선형폴리머로 함께 이루어지는 도파로의 코아를 각각 단면선 A-A', 단면선 B-B' 및 단면선 C-C'에서 자른 단면도로 도시한 것이다.
도 13a 내지 도 13c는 상부 클래드층이 형성된 도파로의 단면을 단면선 A-A', 단면선 B-B' 및 단면선 C-C'에서 자른 단면도로 도시한 것이다.
도 14a 및 도 14b는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 방법에 의해 형성된 방향성커플러형태의 광스위치 및 마흐-젠더 형태의 광변조기를 도시한 것이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
100 : 기판,110: 선형 폴리머로 이루어진 도파로
120 : 비선형 폴리머로 이루어진 도파로,
130 : 전극140 : 선형 폴리머로 이루어진 도파로 코아
150 : 비선형 폴리머로 이루어진 도파로 코아
160 : 스핀코팅된 비선형 폴리머층,
161 : 식각된 비선형 폴리머층165 : 스핀코팅된 선형 폴리머층,
166 : 식각된 선형 폴리머층170 : 하부 클래드층,
180 : 상부 클래드층190 : 제1금속층,
195 : 제2금속층
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한, 광신호 도파시 비선형효과가 필요한 광도파로 코아부분(비선형코아영역) 및 비선형효과가 필요하지 않는 광도파로 코아부분(선형코아영역)으로 이루어지는 광도파로를 구비한 광능동소자의 제조방법은, 자외선(UV광)을 투과시킬 수 있는 기판 표면에 코아 물질보다 굴절율이 낮고 광투명성을 지닌 하부클래드층을 형성하는 하부클래드형성단계; 상기 하부클래드층 상부에 상기 하부클래드 물질보다 굴절율이 높은 선형폴리머를 도포하여 선형폴리머층을 형성하는 단계; 상기 하부클래드층 상부의 상기 광도파로가 위치할 영역 이외의 영역에 제1금속층을 형성하는 제1금속층형성단계; 상부에 상기 제1금속층이 형성되어 있지 않은 선형폴리머층을 식각하는 선형폴리머식각단계; 상기 비선형코아영역을 포함하는 기판상에 비선형폴리머층을 형성하는 단계; 상기 도파로 코아보다 높이 쌓여진 비선형폴리머층을 제거하는 단계; 상기 제1금속층을 제거하는 단계; 상기 제1금속층이 제거된 상태의 도파로 상부에 제2금속층을 형성하는 제2금속층형성단계; 상부에 상기 제2금속층이 형성되어 있지 않은 영역의 선형폴리머를 제거하는 단계; 상기 선형폴리머가 제거된 기판상에 도파로 코아 물질보다 굴절율이 낮고 사용 파장에서 광투명성을 갖는 물질로 상부클래드층을 형성하는 단계를 포함함이 바람직하다.
상기 선형폴리머는 사용하는 광의 사용 파장에 대한 광투명성을 가지고 있는 선형물질이며, 상기 비선형폴리머보다 광도파손실이 낮은 물질임을 특징으로 한다.
또한 비선형 폴리머로 이루어진 영역에 비선형 효과를 주기 위해서 상부 및 하부, 또는 상하부 모두에 전극을 형성하는 단계를 더 구비함을 특징으로 한다.
이하에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다. 도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른, 저손실 광능동소자의 구성을 도시한 것으로서, 선형 폴리머와 비선형 폴리머가 함께 도파로 코아를 구성하고 광능동소자에서 비선형 효과가 일어나는 부분에 전극과 그 부분에 비선형 폴리머로 도파로 코아가 이루어진 모습을 나타낸다. 상기 광능동소자는 기판(100)과, 상기 기판(100) 상부에 위치하는 하부클래드층(170)과, 상기 하부클래드층(170) 상부에 위치하며 상기 비선형효과가 필요하지 않는 비선형코아영역(150)과 비선형효과과 필요한 선형코아영역(140)으로 이루어지고 광신호를 도파하는 광도파로(140, 150)와, 상기 광도파로(140, 150) 및 하부클래드(170) 상부에 위치하는 상부클래드층(180)과, 상기 비선형코아영역(150) 상부에 위치한 전극을 포함하여 이루어진다. 상기 광도파로의 비선형코아영역(150)은 상기 선형코아영역(140) 사이에 위치하며 비선형폴리머로 이루어진다. 상기 광도파로의 선형코아영역(140)은 일단은 상기 비선형코아영역(150)과 연결되고 타단은 광신호가 입력되는 입력단 또는 광신호가 출력되는 출력단과 연결되며 상기 비선형폴리머보다 광도파 손실이 낮은 선형폴리머로 이루어진다. 또한 상기 하부클래드 및 상부클래드는 상기 도파로 코아로 형성되는 선형폴리머 및 비선형폴리머보다 굴절율이 낮다.
본 발명에 의한 비선형 폴리머를 이용하여 광스윗치나 광모듈레이터등의 광능동 소자를 제작할 때 저손실의 광능동 소자를 제작하는 방법에서 사용하는 물질은 비선형 광학 색소(Nonlinear Optic Chromophores)를 기능성 요소로 가진 것을 특징으로 하는 비선형 폴리머 물질이며, 선형 폴리머는 사용하는 광의 사용 파장에 대한 광투명성(Optical Transparency)을 갖고 있는 선형 물질로서 구성된 폴리머로서, 상기의 사용하는 비선형 폴리머보다 광도파 손실이 낮은 선형 폴리머이다.
본 발명에 있어서 비선형 폴리머를 이용하여 비선형 효과가 일어나는 지역에만 비선형 폴리머를 삽입하여 광능동 소자를 구성하는 제작 방법은 다음과 같다. 도 3은 본 발명 설명의 편의를 위해, 본 발명의 전체 구성도의 단면선(A-A', B-B', C-C')을 정의하고 있다.
먼저 기판은 실리콘 웨이퍼(Si Wafer)나 유리(Glass)등의 표면의 평탄성이 좋은 기판(100)을 이용한다. 다음으로 기판(100)의 표면에 하부클래드(Lower Clad)층(170)을 형성한다. 하부 클래드 물질은 코아(core)로 사용하는 물질보다 굴절률이 낮으며, 사용 파장에서 광투명성을 지닌 물질이다. 도 4는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 기판에 하부 클래드층(170)을 형성한 도면을 나타낸다.
다음 공정은 도 5와 같이 하부 클래드 물질보다 굴절률이 높은 선형 폴리머를 기판(100)에 스핀코팅(Spin Coating)하여 도포한다. 도포후, 건조(Baking) 공정을 통해 막질을 좋게 한다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 기판(100)에 형성된 하부 클래드층(170)위와 선형폴리머로 스핀코팅된 선형폴리머층(165)위에 금속층(Metal Layer, 190)를 형성한 도면을 나타내고 있다. 상기 도 6a는 도 3의 단면선 C-C`에서 자른 단면을 나타내고 있고, 도 6b는 기판의 윗면에서 본 평면도를 도시하고 있다. 도 6b에서와 같이 제1금속층(190)을 형성하기 위해서 먼저 이미 형성된 선형폴리머층(165) 위에 포토레지스트(Photoresist:이하 PR이라 함)을 스핀코팅방법으로 도포한다. 이후에 패턴(Pattern)이 그려진 포토마스크(Photomask)를 기판에 정렬하고 PR에 선택적으로 자외선(UV 광)이 조사되도록 한다. 이 공정이 끝나면 PR을 현상(Developer)용액에 담가 현상(Develop)을 하고, 건조(Baking)를 한다. 이렇게 PR 패턴이 형성된 기판에 스퍼터링(Sputtering), 전자빔(E-beam), 또는 열증발(Thermal Evaporation) 등의 진공 증착 방법으로 제1금속층(190)을 선형 폴리머층(165) 위에 증착시킨다. 증착후, PR을 리프트 오프(Lift Off)하여 제1금속층(190)을 형성하게 된다.
도 6a의 공정이 끝난후 기판은 식각 공정을 거친다. 일례로 진공 상태에서 기판의 상부에서 O2플라즈마(Plasma)를 가하면 제1금속층(190)이 있는 곳은 플라즈마에 식각되지 않고, 제1금속층(190)이 되어 있지 않은 곳은 프라즈마에 의해서 식각이 된다. 도 7은 비선형 폴리머가 필요한 지역에 나중에 비선형 폴리머를 채우기 위해서 식각 방법을 이용하여 선형 폴리머의 일부를 식각해낸 모습을 나타내고 있다.
도 8 내지 도 13c는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 비선형 효과가 일어나는 부분에 선택적으로 비선형 폴리머(Nonlinear Optical Polymer)로 이루어지는 도파로의 코아(150)와 선형폴리머로 이루어지는 코아(140)를 동시에 형성하기 위한 공정 과정도를 나타낸다.
먼저 소자내에서 비선형효과가 이루어지는 영역에 비선형 폴리머를 채우기 위해서, 비선형 광학색소(Nonlinear Optic Chromophores)를 기능성 요소로 가진 것을 특징으로 하는 비선형 폴리머 물질을 스핀코팅방법으로 기판(100)에 비선형폴리머층(160)을 형성한다. 도 8에는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 스핀코팅 방법으로 비선형폴리머층(160)을 형성한 모습을 나타낸다.
이후에 식각 방법으로 도 9와 같이 도파로 코아보다 높이 쌓여진 비선형 폴리머층(160)을 식각한다. 식각시에 식각률을 조절하면 설계된 도파로 코아 높이보다 높게 쌓여진 비선형 폴리머의 높이를, 먼저 스핀코팅 방법으로 형성한 선형 폴리머 층의 높이와 동일하게 형성할 수 있다. 이 때 먼저 형성된 선형 폴리머 층은 제1금속층(190)에 의해서 식각시 피해를 받지 않고 보호된다. 도 9에서의 식각시에 플라즈마에 대한 마스킹(Masking)의 역할을 한 제1금속층을 도 10과 같이 식각해 낸 후, 도 11a 및 도 11b에서와 같이 다시 제2금속층(195)을 진공증착과 사진식각공정(photolithography)을 통해 형성한다. 도 11a는 도 3의 단면선 C-C`에서 자른 단면을 나타내고 도 11b는 기판의 위에서 바라본 평면도를 도시하고 있다. 이 때 도 11b에서와 같이 형성되는 제2금속층(195)의 패턴은 도파로의 폭에 따라 그 제2금속층(195)의 폭이 결정된다. 이후에 다시 식각 공정으로 제2금속층(195)이 없는 지역의 폴리머를 식각하고, 제2금속층을 식각하면 도 12a 및 도 12b와 같이 선형폴리머 및 비선형폴리머로 함께 이루어지는 도파로의 코아가 완성된다. 이와 같이 하면 선형폴리머 및 비선형 폴리머로 이루어지는 도파로의 코아를 형성할 때 두 물질로 이루어지는 코아의 정렬을 위해서 정밀한 정렬과정이 필요하지 않게 된다. 상기의 공정 후에 도 13a 내지 도 13c와 같이 상부 클래드로 사용하는 물질로 상부 클래드층(180)을 형성하여 도파로를 형성하게 된다. 상부 클래드 물질은 코아로 사용하는 물질보다 굴절률이 낮으며, 사용 파장에서 광투명성을 지닌 물질이다.
다음은 본 발명의 동작을 설명하도록 한다. 도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 선형 폴리머와 비선형 폴리머가 함께 도파로 코아(140,150)를 구성하고, 광능동소자에서 비선형 효과가 일어나는 부분에 전극(130)과 그 부분에 비선형 폴리머로 도파로 코아(150)가 이루어진 모습을 나타낸 본 발명의 구성도를 나타낸다. 한쪽단에서 입력된 광신호는 광능동 소자내에서 직접 전극(130)을 통한 전압이나, 전기장(Electric Field)에 의해서 비선형 효과가 필요하지 않은 부분은 저손실의 광진행 손실을 가지는 선형 폴리머로 이루어진 도파로 코아(140) 지역을 지난다. 이렇게 지난 광신호는 전극(130)이 있는 부분의 비선형 폴리머로 구성된 도파로 코아(150)부분을 지나면서 직접 전극(130)을 통한 전압이나, 전기장(Electric Field)에 의해서 광의 특성이 변화되고, 이 변화된 광신호는 다시 선형 폴리머로 이루어진 도파로 코아 지역(140)을 거쳐서 출력단으로 광신호가 출력이 된다.
기존의 방법에서는 이러한 단순히 광신호의 진행만이 필요한 도파로 지역도 선형 폴리머에 비해서 도파 손실이 높은 비선형 폴리머로 도파로 코아(150)가 구성됨으로써 전체적인 소자의 도파 손실이 높아지게 되어 소자의 삽입손실이 커지게 된다. 기존의 방법과는 달리 본 발명은 비선형 효과가 일어나는 지역에만 비선형 폴리머로 이루어진 도파로 코아(150)를 구성하고, 나머지의 부분은 선형폴리머로 도파로 코아(140)를 구성함으로써 소자내에서의 도파 손실 및 전체적인 소자의 삽입손실을 낮출 수 있다.
도 14a 및 도 14b는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 방법에 의해 형성된 방향커플러형태(Directional Coupler Type)의 광스위치(Optical Switch) 및 마크-젠더(Mach-Zehnder) 형태의 광변조기(Optical Modulator)를 나타내고 있다. 도 14a는 광능동 소자의 한 종류인 방향커플러형태의 광스위치를 나타낸다. 입력단 1에서 입력된 광신호는 광능동 소자내에서 저손실의 광진행 손실을 가지는 선형 폴리머로 이루어진 도파로(110) 지역을 지난다. 이렇게 지난 광신호는 전극(130)이 있는 부분의 비선형 폴리머로 구성된 도파로(120) 부분을 지나면서 직접 전극(130)을 통한 전압이나, 전기장(Electric Field)에 의해서 광의 특성이 변화되고, 이 변화된 광신호는 다시 선형 폴리머로 이루어진 도파로(110) 지역을 거쳐서 출력단 3 또는 4로 광신호가 출력되어 광스윗치의 역할을 한다. 도 14b는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 방법에 의해 형성된 마크-젠더 형태의 광변조기를 나타내고 있다. 입력단 1에서 입력된 광신호는 광능동 소자내에서 저손실의 광진행 손실을 가지는 선형 폴리머로 이루어진 도파로(110) 지역을 지난다. 이렇게 지난 광신호는 전극(130)이 있는 부분의 비선형 폴리머로 구성된 도파로(120) 부분을 지나면서 직접 전극(130)을 통한 전압이나, 전기장(Electric Field)에 의해서 광의 특성이 변화되고, 이 변화된 광신호는 다시 선형 폴리머로 이루어진 도파로(110) 지역을 거쳐서 출력단 2로 광신호가 출력되며, 이렇게 출력되는 광신호는 초기 광신호의 세기를 변조할 수 있게 된다.
광학 폴리머를 이용하여 광능동 소자를 구성할 때, 전극이 위치한 부분에서만이 광 비선형 효과가 발생하므로, 전극이 위치한 부분에만 비선형 폴리머를 이용하여 도파로의 코아를 형성하고, 나머지 비선형 효과가 필요하지 않은 도파로의 영역에는 비선형 폴리머에 비해 상대적으로 광진행 손실이 적은 선형 폴리머를 이용하여 도파로의 코아를 형성함으로써 광능동소자의 전체적인 소자 삽입손실을 줄인다.
본 발명은 비선형 폴리머를 이용하여 광도파로 소자를 제작할 때, 소자의 도파 손실을 줄이기 위해서, 광도파로의 형성시에, 비선형 효과를 발생시키는 소자의 일부 영역에만 선택적으로 비선형 폴리머 도파로를 형성하여 소자의 성능을 향상시킨다.
비선형 폴리머를 이용하여 능동 광소자를 형성할 때, 본 발명과 같이 광변조 및 광스윗칭 등의 비선형 효과가 일어나는 도파로의 영역에만 비선형 폴리머를 형성하고 나머지 영역에는 선형 폴리머를 이용하여 도파로를 형성한다면 모든 도파로를 비선형 폴리머로 이용하여 도파로를 형성할 때보다 도파로의 도파 손실을 최소화시킬 수 있다.
또한 비선형 폴리머와 선형 폴리머를 함께 이용하여 도파로의 코아를 형성할 때 발생하는 두 코아간의 정렬을 위해서 정교한 정렬과정이 필요하지 않는다.

Claims (8)

  1. 광신호 도파시 비선형효과가 필요한 광도파로 코아부분(비선형코아영역) 및 비선형효과가 필요하지 않는 광도파로 코아부분(선형코아영역)으로 이루어지는 광도파로를 구비한 광능동소자의 제조방법에 있어서,
    자외선(UV광)을 투과시킬 수 있는 기판 표면에 코아 물질보다 굴절율이 낮고 광투명성을 지닌 하부클래드층(170)을 형성하는 하부클래드형성단계;
    상기 하부클래드층 상부에 상기 하부클래드 물질보다 굴절율이 높은 선형폴리머를 도포하여 선형폴리머층(165)를 형성하는 단계;
    상기 하부클래드층 상부의 상기 광도파로가 위치할 영역 이외의 영역에 제1금속층(190)을 형성하는 제1금속층형성단계;
    상부에 상기 제1금속층(190)이 형성되어 있지 않은 선형폴리머층(165)을 식각하는 선형폴리머식각단계;
    상기 비선형코아영역을 포함하는 기판상에 비선형폴리머층(160)을 형성하는 단계;
    상기 도파로 코아보다 높이 쌓여진 비선형폴리머층(160)을 제거하는 단계;
    상기 제1금속층(190)을 제거하는 단계;
    상기 제1금속층이 제거된 상태의 도파로 상부에 제2금속층(195)을 형성하는 제2금속층형성단계;
    상부에 상기 제2금속층이 형성되어 있지 않은 영역의 선형폴리머를 제거하는 단계; 및
    상기 선형폴리머가 제거된 기판상에 도파로 코아 물질보다 굴절율이 낮고 사용 파장에서 광투명성을 갖는 물질로 상부클래드층을 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 저손실 광능동소자의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 하부클래드형성단계의 하부클래드 형성은
    스핀 코팅(spin coating) 방법으로 형성함을 특징으로 하는 저손실 광능동소자의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1금속층형성단계의 제1금속층 형성은
    상기 하부클래드층 상부에 포토레지스트를 도포하는 단계;
    소정의 패턴이 그려진 포토마스크를 상기 기판에 정렬하여 상기 포토레지스트에 선택적으로 자외선이 노광되도록 하는 단계;
    상기 포토레지스트를 현상(develop)용액에 담가 현상하고 건조하는 단계;
    상기 포토레지스트 패턴이 형성된 기판에 진공증착방법으로 제1금속층을 증착시키는 단계; 및
    상기 포토레지스터를 리프트 오프(Lift Off)하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 저손실 광능동소자의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 선형폴리머식각단계의 선형폴리머 식각은
    진공상태에서 기판의 상부에서 O2플라즈마를 가하여 이루어짐을 특징으로 하는 광능동소자의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 비선형폴리머물질은
    광학색소를 기능성 요소로 가진 것을 특징으로 하는 광능동소자의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제2금속층형성단계의 금속층형성은
    진공증착과 사진식각공정(photolithography)을 통해 이루어짐을 특징으로 하는 광능동소자의 제조방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 선형폴리머는
    사용하는 광의 사용 파장에 대한 광투명성을 가지고 있는 선형물질이며, 상기 비선형폴리머보다 광도파손실이 낮은 물질임을 특징으로 하는 광능동소자의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    비선형 폴리머로 이루어진 영역에 비선형 효과를 주기 위해서 상부 및 하부, 또는 상하부 모두에 전극을 형성하는 단계를 더 구비함을 특징으로 하는 광능동소자의 제조방법.
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