KR100211640B1 - Parameter back-up system of ion-implanter - Google Patents

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KR100211640B1 KR1019950052283A KR19950052283A KR100211640B1 KR 100211640 B1 KR100211640 B1 KR 100211640B1 KR 1019950052283 A KR1019950052283 A KR 1019950052283A KR 19950052283 A KR19950052283 A KR 19950052283A KR 100211640 B1 KR100211640 B1 KR 100211640B1
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Abstract

본 발명은 반도체 장치를 제조하기 위한 이온 주입공정이 이루어지는 이온 주입장치에 관한 것으로, 이온 주입설비의 공정을 제어하는 시스템 제어부의 출력포트(output port)에 메모리 수단의 입력포트(input port)를 연결하여서, 이온 주입공정 완료 후 시스템 제어부의 파라미터 데이터(parameter data)를 메모리 수단으로 전송하여 저장할 수 있는 것이다. 이에 따라 파라미터 데이터에 대한 신뢰성을 극대화할 수 있고, 이온 주입설비의 점검 공수를 줄일 수 있으며, 이온 주입설비의 이력사항을 효율적으로 관리할 수 있는 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ion implantation apparatus in which an ion implantation process is performed for manufacturing a semiconductor device, wherein an input port of a memory means is connected to an output port of a system controller for controlling a process of an ion implantation facility. Thus, after completion of the ion implantation process, the parameter data of the system control unit may be transmitted to and stored in the memory unit. Accordingly, it is possible to maximize the reliability of the parameter data, to reduce the number of inspection of the ion implantation facility, and to efficiently manage the history of the ion implantation facility.

Description

이온 주입설비의 파라미터 백업장치Parameter backup device of ion implantation equipment

본 발명은 반도체 장치 제조설비의 이온 주입장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 이온주입 공정을 수행하기 위하여 설비에 저장된 파라미터 데이터를 자동으로 메모리에 저장하여 이온 주입설비의 신뢰성 있는 이력자료로 활용할 수 있도록 하는 이온 주입설비의 파라미터 백업장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ion implantation apparatus of a semiconductor device manufacturing facility, and more particularly, to automatically store the parameter data stored in the facility in a memory in order to perform the ion implantation process to be used as a reliable history data of the ion implantation facility It relates to a parameter backup device of the ion implantation equipment.

통상, 반도체 장치를 제조하기 위한 산화, 확산, 이온 주입, 식각 또는 플라즈마 반응과 같은 공정들을 수행하도록 구성되는 반도체 장치 제조 시스템은 각각의 공정에 해당되는 특정조건에 대한 파라미터를 설정하여 공정을 수행하도록 되어 있으며, 이들 공정을 수행하기 위한 파라미터는 동일 공정에 대해서도 제조하고자 하는 반도체 장치의 특성을 감안하여 상이하게 여러 가지로 설정될 수 있다.In general, a semiconductor device manufacturing system configured to perform processes such as oxidation, diffusion, ion implantation, etching, or plasma reaction to manufacture a semiconductor device is configured to perform a process by setting parameters for specific conditions corresponding to each process. The parameters for performing these processes may be variously set in consideration of the characteristics of the semiconductor device to be manufactured in the same process.

그리고, 공정을 진행하는 과정에서 각 설비별로 파라미터는 작업자에 의하여 수동으로 확인되고 기록되어진다. 이와 같은 파라미터의 기록은 설비상태 등을 판단할 수 있는 이력 데이터로 활용되며, 각종 설비에 이상이 발생한 경우 기록된 이력사항을 참조하여 설비를 점검하거나 혹은 수리할 수 있다.And, in the process of the process parameters for each facility is manually confirmed and recorded by the operator. The recording of such parameters is used as historical data to determine the condition of the facility, and in the event of an abnormality in various facilities, the facility can be inspected or repaired with reference to the recorded history.

이러한 종래 반도체 장치 제조설비 중 이온 주입장치의 파라미터 기록에 대하여 제1도를 참조하여 설명한다.The parameter recording of the ion implantation apparatus among such conventional semiconductor device manufacturing facilities will be described with reference to FIG.

이온 주입공정을 수행하기 위한 이온 주입설비(10)에는 설비의 동작을 제어하기 위한 시스템 제어부(12)가 구성되어 있고, 이 시스템 제어부(12)는 메인 호스트 컴퓨터(미도시:main host computer)로부터 전송된 명령에 따라 특정 공정 조건하의 이온 주입공정을 수행하도록 제어동작을 하고 현재 공정 진행상황에 대한 데이터(data)를 디스플레이 장치인 모니터(14)로 전송한다.The ion implantation facility 10 for performing the ion implantation process is configured with a system control unit 12 for controlling the operation of the facility, and the system control unit 12 is provided from a main host computer (not shown). The control operation is performed to perform the ion implantation process under a specific process condition according to the transmitted command, and transmits data on the current process progress to the monitor 14 which is a display device.

이 모니터(14)는 설비와 떨어진 위치, 즉 작업자가 설비의 진행상황을 손쉽게 모니터링할 수 있는 위치에 설치되며, 작업자의 필요에 따라 모니터링 되는 데이터를 프린팅(printing)할 수 있도록 모니터(14)에 프린터(16)가 연결되어 있다.The monitor 14 is installed at a location away from the facility, i.e., a location where the operator can easily monitor the progress of the facility, and the monitor 14 can print the monitored data according to the worker's needs. The printer 16 is connected.

전술한 바와 같은 구성에 의하여 종래에는 작업자가 이온 주입설비의 공정을 진행시키고 공정이 진행되는 상황을 모니터(14)를 통하여 체크(check)하고, 파라미터를 수작업으로 기재한다. 그리고, 이온 주입공정이 끝나면 수초간 공정 파라미터가 모니터(14)에 스크롤(scroll)된다.By the above-described configuration, the operator conventionally proceeds with the process of the ion implantation facility, checks the situation in which the process proceeds through the monitor 14, and manually describes the parameters. Then, after the ion implantation process, the process parameters are scrolled to the monitor 14 for several seconds.

그러나 작업자는 약 20여 가지가 넘는 이온 주입설비의 파라미터 데이터를 정확히 확인하여 일일이 기재해야 하지만, 기재상 오류가 발생되는 경우 정확한 이온 주입설비에 대한 이력 데이터로 활용하기에 어려운 문제점이 있다.However, the operator has to accurately check the parameter data of more than about 20 kinds of ion implantation equipment and describe them one by one. However, when an error occurs in the description, it is difficult to utilize the historical data for the accurate ion implantation equipment.

그리고 이온 주입설비의 상태를 분석하기 위해서는 수작업으로 기재된 사항을 검색해야 했지만, 이것은 상당한 시간을 요구하는 문제점과 시간 및 인력을 효율적으로 활용하지 못하는 문제점이 있다.And, in order to analyze the state of the ion implantation equipment had to search the items described by hand, this is a problem that requires a considerable time and there is a problem that does not utilize the time and manpower efficiently.

위의 문제점을 해결하기 위해 연구한 결과에 따른 본 발명의 목적은 이온 주입공정을 수행하기 위하여 설정된 각 파라미터를 공정완료 후 백업 받아서 이를 효율적인 설비관리 데이터로 활용할 수 있는 이온 주입설비의 파라미터 백업장치를 제공함에 있다.An object of the present invention according to the results of the study to solve the above problems is to obtain a parameter backup device of the ion implantation equipment that can receive each parameter set to perform the ion implantation process after completion of the process and utilize it as efficient equipment management data In providing.

제1도는 종래의 이온 주입설비의 개략적인 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of a conventional ion implantation facility.

제2도는 본 발명에 따른 이온 주입설비의 파라미터 백업장치의 실시예를 나타내는 도면이다.2 is a view showing an embodiment of a parameter backup device of the ion implantation facility according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

10,20 : 이온 주입설비 12,22 : 시스템 제어부10,20: ion implantation equipment 12,22: system control unit

14,24 : 모니터 16,28 : 프린터14,24 Monitor 16,28 Printer

26 : 메모리 장치26: memory device

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 이온 주입설비의 파라미터 백업장치는 이온 주입공정을 진행하도록 설정된 파라미터에 따라 시스템 제어부의 제어로 공정을 진행하면서, 진행중인 이온 주입설비의 파라미터 데이터를 모니터로 출력하여 디스플레이 하도록 된 이온 주입설비에 있어서, 이 시스템 제어부는 이온 주입공정 완료 후 파라미터 데이터를 메모리 수단으로 전송하도록 구성되고, 이 시스템 제어부의 출력포트에 입력포트가 연결되어서 이온 주입공정 완료 후 시스템 제어부에서 전송되는 파라미터 데이터를 입력받아 저장하게 되는 메모리 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the parameter backup device of the ion implantation apparatus of the present invention outputs the parameter data of the ongoing ion implantation apparatus to the monitor while the process is performed under the control of the system control unit according to the parameter set to proceed with the ion implantation process. In the ion implantation facility to be displayed, the system control unit is configured to transmit the parameter data to the memory means after completion of the ion implantation process, and the input port is connected to the output port of the system control unit, and then transmitted from the system control unit after completion of the ion implantation process. And memory means for receiving and storing the parameter data to be input.

이렇게 시스템 제어부에서 전송되는 파라미터 데이터를 입력받아 저장하는 한편, 필요시 프린터(printer)로 이를 다시 전송하여 프린팅 할 수 있도록 하는 메모리 수단으로는 이를 기능을 함께 가지고 있으면서 이온 주입설비에 접속 가능한 퍼스널 컴퓨터(personal computer) 또는 노트북 컴퓨터(notebook computer)를 사용하는 것이 적절하다.As a memory means for receiving and storing the parameter data transmitted from the system control unit and transmitting it to the printer if necessary, the memory means having a function and having access to the personal implantation equipment ( It is appropriate to use a personal computer or a notebook computer.

이하, 본 발명에 따른 이온 주입설비의 파라미터 백업장치의 바람직한 실시예에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of a parameter backup device of an ion implantation apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제2도를 참조하면, 이온 주입설비(20)에 내장된 시스템 제어부(22)에는 다수 개의 입력포트와 다수개의 출력포트가 구성되어 있는데, 하나의 입력포트에는 메인 호스트 컴퓨터가 연결되어 이온 주입설비의 작동을 제어하게 되며, 다른 하나의 입력포트에는 외부의 저장매체나 키 보드(key board) 등이 연결되어 이온 주입설비에서 필요한 각종 파라미터 데이터를 입력할 수 있도록 한다.Referring to FIG. 2, the system control unit 22 embedded in the ion implantation facility 20 includes a plurality of input ports and a plurality of output ports, and one input port is connected to the main host computer to supply the ion implantation facility. The other input port is connected to an external storage medium or a key board to input various parameter data required by the ion implantation facility.

그리고, 하나의 출력포트에는 종래의 기술에서와 같이 모니터(24)가 접속되어 이온 주입설비의 공정진행에 대한 파라미터 데이터를 출력하도록 구성되어 있으며, 다른 하나의 출력포트에는 메모리 장치(26)의 입력포트가 접속되어 이온 주입설비의 공정진행에 따른 파라미터 데이터를 출력하도록 구성되어 있다.The monitor 24 is connected to one output port as in the prior art, and is configured to output parameter data about the process progress of the ion implantation facility, and the other output port is input to the memory device 26. The port is connected and configured to output parameter data according to the progress of the ion implantation facility.

이 모니터(24)는 입력되는 파라미터 데이터를 작업자가 시각적으로 확인할 수 있도록 디스플레이 동작을 하고, 필요한 경우 작업자의 조작에 의하여 프린터(28)로 데이터를 전송하여 프린팅 하도록 구성되어 있다.The monitor 24 is configured to perform a display operation so that the operator can visually check the input parameter data, and if necessary, transmit the data to the printer 28 by the operator's operation to print.

그리고, 메모리 장치(26)는 파라미터 데이터를 백업(back up) 받아서 저장할 수 있는 장치, 구체적으로는 백업 전용 메모리 또는 퍼스널 컴퓨터(노트북 컴퓨터)등으로 구성될 수 있다. 그리고, 메모리 장치(26)의 출력포트에 프린터(28)가 접속되어 메모리 장치(26)에 연결된 입력장치의 조작으로 저장된 파라미터 데이터를 프린터(28)로 출력하여 프린팅 할 수 있도록 구성되어 있다.The memory device 26 may be configured as a device capable of backing up and storing parameter data, specifically, a backup dedicated memory or a personal computer (laptop computer). In addition, the printer 28 is connected to the output port of the memory device 26 so that the parameter data stored by the operation of the input device connected to the memory device 26 can be output to the printer 28 for printing.

다시 말하면, 퍼스널 컴퓨터나 노트북 컴퓨터의 출력포트(프린터 포트)에 프린터(28)가 접속되어 키 조작시 퍼스널 컴퓨터나 노트북 컴퓨터 내에 저장된 파라미터 데이터를 프린터(28)를 통해 프린팅 할 수 있도록 구성되어 있다.In other words, the printer 28 is connected to an output port (printer port) of a personal computer or a notebook computer, and is configured to print parameter data stored in the personal or notebook computer through the printer 28 during key operation.

전술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예의 작용 및 효과에 대하여 설명한다.The operation and effects of the embodiment of the present invention configured as described above will be described.

이온 주입설비(20)가 이온 주입공정을 진행하기 위해서는 작업자가 파라미터 설정장치(미도시)로써 각 공정 파라미터를 설정하게 되고, 공정 파라미터가 설정되면 시스템 제어부(22)는 이온 주입설비(20)의 각 구성부분을 제어하여 공정을 진행시킨다. 그리고, 현재 설정된 파라미터에 대한 데이터 및 현재 설비의 설정상태에 대한 데이터를 모니터(24)로 전송하여 디스플레이 시킨다.In order for the ion implantation facility 20 to proceed with the ion implantation process, an operator sets each process parameter using a parameter setting device (not shown). When the process parameter is set, the system controller 22 controls the ion implantation facility 20. Each component is controlled to advance the process. Then, the data on the currently set parameter and the data on the setting state of the current equipment is transmitted to the monitor 24 for display.

그리고, 이온 주입공정이 완료되면, 이온 주입설비(20)의 시스템 제어부(22)는 설정된 파라미터에 대한 데이터를 메모리 장치(26)로 전송하고, 이 파라미터 데이터를 입력받은 메모리 장치(26)는 전송된 파라미터 데이터를 저장한다. 즉, 퍼스널 컴퓨터나 노트북 컴퓨터는 이온 주입공정 완료 후 시스템 제어부(22)로부터 전송되는 파라미터 데이터를 입력받아 저장매체에 저장하는 것이다.When the ion implantation process is completed, the system control unit 22 of the ion implantation facility 20 transmits data on the set parameter to the memory device 26, and the memory device 26 receiving the parameter data is transmitted. Saved parameter data. That is, the personal computer or the notebook computer receives the parameter data transmitted from the system control unit 22 after completion of the ion implantation process and stores it in the storage medium.

만약, 공정상 오류가 발생되어서 이온 주입설비(20)의 상태를 확인하고자 한다면 작업자는 메모리 장치(26)에 백업된 이온 주입설비에 대한 파라미터 내용을 손쉽게 검색할 수 있다.If a process error occurs and the user wants to check the state of the ion implantation facility 20, the operator can easily search for the parameter content of the ion implantation facility backed up in the memory device 26.

다시 말하면, 이온 주입공정상에서 발생된 오류나 이온 주입설비(20)의 상태를 확인하기 위하여 퍼스널 컴퓨터나 노트북 컴퓨터 등에 의해 구성된 메모리 장치(26)를 프린팅 모드로 절환하게 되면, 이 메모리 장치(26)에 저장되었던 파라미터 데이터가 프린터(28)로 전송되어 프린팅 되게 된다. 이에 따라 작업자는 프린터(28)를 통해 프린팅 되는 파라미터 데이터를 보고, 이온 주입설비에 의해 이온 주입공정을 진행하는 중에 발생된 오류나 이온 주입설비(20)의 상태를 보다 정확하게 확인할 수 있는 것이다.In other words, when the memory device 26 configured by the personal computer or the notebook computer or the like is switched to the printing mode in order to check the error generated in the ion implantation process or the state of the ion implantation facility 20, the memory device 26 is transferred to the printing mode. The stored parameter data is sent to the printer 28 for printing. Accordingly, the operator can view the parameter data printed through the printer 28 and more accurately identify the error or the state of the ion implantation facility 20 generated during the ion implantation process by the ion implantation facility.

상기한 바와 같은 본 발명에 의하면, 이온 주입설비의 파라미터 데이터에 대한 신뢰성이 극대화될 수 있고, 이를 이용한 이온 주입설비의 점검에서 작업자의 작업공수가 절감될 수 있다. 그리고, 정확하게 설비의 이력사항이 데이터로 저장되므로 효율적이고 정확한 설비의 분석이 가능하다는 효과가 있다.According to the present invention as described above, the reliability of the parameter data of the ion implantation facility can be maximized, and the labor of the operator can be reduced in the inspection of the ion implantation facility using the same. In addition, since the history of the equipment is accurately stored as data, it is possible to efficiently and accurately analyze the equipment.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술적 사상 범위내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical spirit of the present invention, and such modifications and modifications belong to the appended claims.

Claims (3)

이온 주입공정을 진행하도록 설정된 파라미터에 따른 시스템 제어부의 제어로 이온 주입공정을 진행하면서, 진행중인 이온 주입설비의 파라미터 데이터를 모니터로 출력하여 디스플레이 하도록 된 이온 주입설비에 있어서; 상기 시스템 제어부는 이온 주입공정 완료 후 파라미터 데이터를 메모리 수단으로 전송하도록 구성되고; 상기 시스템 제어부의 출력포트에 입력포트가 연결되어서 이온 주입공정 완료 후 시스템 제어부에서 전송되는 파라미터 데이터를 백업 받아 저장하게 되는 메모리 수단;을 구비하는 것을 특징으로 하는 이온 주입설비의 파라미터 백업장치.An ion implantation facility configured to output and display parameter data of an ongoing ion implantation facility on a monitor while performing an ion implantation process under control of a system control unit according to a parameter set to perform an ion implantation process; The system control unit is configured to transmit the parameter data to the memory means after completion of the ion implantation process; And a memory means connected to an output port of the system control unit and configured to back up and store parameter data transmitted from the system control unit after completion of the ion implantation process. 제1항에 있어서, 상기 메모리 수단이 이온 주입설비에 접속 가능한 퍼스널 컴퓨터임을 특징으로 하는 상기 이온 주입설비의 파라미터 백업장치.2. The parameter backup apparatus of claim 1, wherein the memory means is a personal computer connectable to the ion implantation facility. 제1항에 있어서, 상기 메모리 수단이 이온 주입설비에 접속 가능한 노트북 컴퓨터임을 특징으로 하는 상기 이온 주입설비의 파라미터 백업장치.2. The parameter backup device of claim 1, wherein the memory means is a notebook computer connectable to the ion implantation facility.
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