KR100197885B1 - 노광설비의 기준마크 보호장치 - Google Patents

노광설비의 기준마크 보호장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100197885B1
KR100197885B1 KR1019960070675A KR19960070675A KR100197885B1 KR 100197885 B1 KR100197885 B1 KR 100197885B1 KR 1019960070675 A KR1019960070675 A KR 1019960070675A KR 19960070675 A KR19960070675 A KR 19960070675A KR 100197885 B1 KR100197885 B1 KR 100197885B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reference mark
cover
cover assembly
signal
mark
Prior art date
Application number
KR1019960070675A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19980051760A (ko
Inventor
박순종
Original Assignee
윤종용
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1019960070675A priority Critical patent/KR100197885B1/ko
Priority to TW086109474A priority patent/TW418349B/zh
Priority to JP09291138A priority patent/JP3108394B2/ja
Priority to US08/991,245 priority patent/US5978068A/en
Publication of KR19980051760A publication Critical patent/KR19980051760A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100197885B1 publication Critical patent/KR100197885B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Abstract

웨이퍼가 로딩되는 스테이지 상에 설치되는 기준마크의 상부에 셔터식으로 개폐하는 커버 어셈블리를 설치하고, 그의 변부에 보호벽을 입설하여 기준마크의 오염을 방지하도록 개선시킨 노광설비의 기준마크 보호장치에 관한 것이다.
본 발명은, 스테이지 상에 기준마크를 형성하고 이를 광학적으로 인식하여 정렬을 수행하는 노광설비의 기준마크 보호장치에 있어서, 상기 기준마크를 덮도록 커버수단이 상기 스테이지 상에 구성되고, 상기 커버수단은 필요에 따라 개폐되도록 구성되어 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 피듀셜마크와 같은 정렬을 위한 기준마크의 오염 및 손상에 대한 보호가 이루어지므로, 설비의 신뢰성이 극대화되고, 설비의 부품 손상으로 인한 점검 시간을 줄일 수 있어서 설비의 가동률이 극대화되는 효과가 있다.

Description

노광 설비의 기준 마크 보호 장치
본 발명은 노광설비의 기준마크 보호장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼가 로딩되는 스테이지 상에 설치되는 기준마크의 상부에 셔터식으로 개폐되는 커버 어셈블리를 설치하고, 그의 변부에 보호벽을 입설하여 기준마크의 오염을 방지하도록 개선시킨 노광설비의 기준마크 보호장치에 관한 것이다.
통상, 반도체장치를 제조하기 위한 웨이퍼는 세정, 확산, 사진, 식각 및 이온주입 등과 같은 공정을 반복하여 거치게 되면, 그 후 패키징 공정등에 거쳐서 완제품으로 제작된다.
전술한 공정 중 사진공정은 웨이퍼 상에 패턴을 형성하는 공정으로서 감광물질을 이용하여 레티클의 이미지를 웨이퍼에 형성시키는 공정이고, 일반적으로 감광액 도포, 정렬 및 노광, 현상 및 검사 등과 같은 단계로 구분될 수 있으며, 감광액 도포는 스핀 코터와 같은 설비로 수행되며, 정렬 및 노광은 스테퍼(Stepper)를 이용하여 수행되고, 검사는 검사설비에 의해 이루어진다.
이 중 스테퍼는 레티클의 정렬과 웨이퍼의 정렬 상태에 따라서 공정결과가 좌우된다. 레티클의 정렬과 웨이퍼의 정렬을 위하여 레티클과 웨이퍼상에 특정 패턴화된 키가 형성되어 있고, 특히 레티클의 정렬을 위해서는 스테이지에 기준마크로 피듀셜마크(Fiducial Mark)가 구성되어 있다.
종래의 스테퍼의 웨이퍼가 로딩되는 스테이지를 구동하기 위한 장치가 제1도에 나타나 있다.
종래의 스테이지 구동장치는 웨이퍼가 안착되는 스테이지(10)에 대하여 이차원적인 X축 방향으로 X방향 모터(12)가 스크류(14)를 통하여 구동력을 인가하도록 설치되어 있고, 이차원적인 Y축 방향으로 Y방향 모터(16)가 스크류(18)를 통하여 구동력을 인가하도록 설치되어 있다.
따라서, 스테이지(10)는 X방향 모터(12)와 Y방향 모터(16)에 의한 스크류(14, 18)의 회전으로 위치가 X,Y축 방향으로 선택적으로 조정되어 정렬된다.
그리고, 스테이지(10)의 상면 각 모서리에 램프체크센서(20)와 광량센서(22) 및 피듀셜마크 어셈블리(24)가 각각 구성되어 있으며, 램프체크센서(20)는 노광을 위한 램프의 교환 후 스테이지(10)로 인가되는 광의 상태와 조사량의 균일도를 센싱하여 램프의 성능을 체크하고, 광량센서(22) 레티클(도시되지 않음)이 있는 상태에서 축소투영렌즈(도시되지 않음)를 투과한 광량을 센싱한다.
그리고, 피듀셜마크 어셈블리(24)는 레티클의 정렬에 이용되며, 제2도와 같이 피듀셜마크(26)가 베이스(28)의 상면에 부착되어 있고, 베이스(28)는 다수개의 볼트(30)로 스테이지(10)에 고정되어 구성된다.
진술한 바와 같이 종래의 피듀셜마크(26)는, 스테이지(10) 상부에 노출되어 있기 때문에, 웨이퍼 스테이지를 점검 및 청소할 때나 노광공정을 수행하기 위하여 장비가 구동될 때와 같은 경우 파티클이나 이물질에 접촉되어 종종 오염되었다.
피듀셜마크(26)는 제3도와 같이 수 마이크로미터 크기의 직경을 갖는 복수개의 마크 영역(32)의 조합에 의한 소정 패턴을 갖고, 소정 패턴의 피듀셜마크(26)는 광학적으로 판독되어 레티클의 정렬에 이용된다. 이에 레티클의 정렬을 위하여 마크 영역(32)을 광학적으로 검출한 신호는 제4a도와 같으며, 제4a도의 마크영역(32)에서의 신호 레벨은 다른 영역과 뚜렷이 구분된다.
그러나, 제3도와 같이 피듀셜마크(26)가 오염물(34)로 오염되면, 파티클이나 이물질 같은 오염물(34)이 표면에 부착된다. 따라서, 광학적으로 레티클의 정렬을 수행할 때 오염물(34)에 의하여 오염된 영역도 마크영역(32)과 같이 검출된다. 즉 검출신호는 제4b도와 같이 출력되며, 심한 경우에는 마크영역(32)이 다른 오염물(34)로 오염된 영역과 구분하기 어려워서 스테퍼에사 레티클 정렬 에러가 발생된다.
그러므로, 종래의 스테퍼는 전술한 바와 같이 스테이지 상에 형성된 레티클 정렬을 위한 기준마크인 피듀셜마크가 쉽게 오염되므로 종종 레티클 정렬 에러가 발생되었고, 그에 따른 스테퍼의 오동작 또는 노광불량이 초래되었으며, 스테퍼에 대한 신뢰도가 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은, 레티클 정렬을 수행하기 위한 기준마크로 스테이지의 상면에 구성되는 피듀셜마크를 오염으로부터 보호하여 레티클 정렬 에러를 방지하기 위한 노광설비의 기준마트 보호 장치를 제공하는 데 있다.
제1도는 종래의 노광설비이 스테이지 구동장치를 나타내는 도면이다.
제2도는 스테이지 상의 피듀셜 마크 설치상태를 나타내는 단면도이다.
제3도는 피듀셜마크의 평면도이다.
제4a도는 정상상태의 피듀셜마크 검출신호의 파형도이다.
제4b도는 오염상태의 피듀셜마크 검출신호의 파형도이다.
제5도는 본 발명에 따른 노광설비의 기준마크 보호장치의 실시예를 나타내는 도면이다.
제6도는 본 발명에 따른 실시예에 구성되는 커버 어셈블리의 평면적 구동상태를 나타내는 도면이다.
제7도는 본 발명에 따른 실시예에 구성되는 솔레노이드 밸브 구동회로를 나타내는 상세 회로도이다.
제8도는 본 발명에 따른 실시예에 구성되는 센싱 동작 판별 회로를 나타내는 상세 회로도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10, 40 : 스테이지 12 : X방향 모터
14, 18 : 스크류 16 : Y방향 모터
20 : 램프체크센서 22 : 광량센서
24, 42 : 피듀셜마크 어셈블리 26, 46 : 피듀셜마크
28, 48 : 베이스 30, 52, 56 : 볼트
32 : 마크영역 34 : 오염물
44 : 커버 어셈블리 50 : 보호벽
54 : 본체 58 : 커버
59 : 로드 60 : 마그네틱 센서
62, 64 : 배관 66, 68 : 솔레노이드 밸브
70 : 솔레노이드 밸브 구동회로 72 : 스테퍼 제어부
74 : 센싱동작 판별회로 76 : 경보부
78 : 익스클루시브 오아게이트 80 : 낫게이트
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 노광설비의 기준마크 보호장치는, 스테이지 상에 기준마트를 형성하고 이를 광학적으로 인식하여 정렬을 수행하는 노광설비의 기준마크 보호장치에 있어서, 상기 기준마크를 개폐하는 커버 어셈블리, 상기 커버어셈블리로 구동력을 구동력제공수단, 상기 구동력제공수단의 구동력 제공을 절환하는 구동수단, 상기 구동수단으로 구동력 제공의 절환을 위한 제어신호를 인가하고 상기 커버 어셈블리의 오동작이 발생되면 에러신호를 출력하는 제어수단, 상기 커버 어셈블리에 결합되어 상기 개폐 상태를 센싱하는 센싱수단 및 상기 센싱수단의 센싱신호와 상기 제어신호를 참조하여 상기 커버 어셈블리의 오동작 발생여부를 판단하도록 판별신호를 상기 제어수단으로 인가하는 판별수단을 구비함을 특징으로 한다.
상기 구동력제공수단은 상기 커버 어셈블리로 유압을 전달하는 제1 및 제2배관 및 상기 제1 및 제2배관에 각각 설치되어 상기 구동수단에서 개폐가 수행되도록 선택적으로 개폐가 절환되는 제1 및 제2솔레노이드 밸브를 구비하여 이루어질 수 있다.
그리고, 상기 구동수단은 상기 제어신호가 인가되면 제1스위칭신호를 출력하는 제1스위칭수단 및 상기 제어신호가 인가되면 제2스위칭신호를 출력하는 제2스위칭수단으로 구성되고, 상기 제1스위칭신호는 상기 커버 어셈블리를 열고 상기 제2스위칭신호는 상기 커버 어셈블리를 닫도로고 상기 구동력 제공수단으로 인가되도록 구성될 수 있다.
또한, 상기 센싱수단은 마그네틱 센서로 구성됨이 바람직하다.
그리고, 상기 판별수단은 상기 센싱신호와 상기 제어신호를 논리조합하는 익스클루시브 오아 게이트(Exclusive OR Gate) 및 상기 익스클루시브 오아 게이트의 출력을 반전하여 판별신호로 출력하는 낫게이트(NOT Gate)를 구비하여 이루어질 수 있다.
본 발명에 따른 노광설비의 기준마크 보호장치는, 스테이지 상에 기준마크를 형성하고 이를 광학적으로 인식하여 정렬을 수행하는 노광설비의 기준마크 보호장치에 있어서, 상기 스테이지 상에 기준마크로부터 소정거리 이격되어 기준마크를 덮을 수 있도록 커버수단이 구성되고, 이 커버수단은 설비상태를 인식한 제어수단의 제어로 구동되는 구동수단에 연결되어 선택적으로 개폐되도록 구성됨을 특징으로 한다.
그리고, 상기 커버수단은 기준마크로 레티클 정렬 및 설비점검을 위한 피듀셜마크(Fiducial Ma가)에 설치됨이 바람직하고, 상기 커버수단은 전자식셔터로 구성되어 전기력으로 셔터가 구동되어 상기 기준마크를 개폐하도록 구성될 수 있다.
그리고, 상기 커버수단은 상기 기준마크의 상부를 커버의 위치이동으로 노출 및 은폐하도록 구동되는 커버 어셈블리, 상기 커버 어셈블리를 구동시키기 위한 구동력을 상기 커버 어셈블리로 제공하는 구동수단 및 설비의 구동상태에 따라 상기 구동수단의 구동력 제공을 제어하는 제어수단으로 구성될 수 있다.
그리고, 상기 커버 어셈블리는 상기 스테이지에 본체가 고정되고 본체에 유압식으로 구동되는 로드가 상기 커버에 연결됨으로써 유압의 인가에 따라 상기 커버를 구동시키도록 구성될 수 있다.
그리고, 상기 커버 어셈블리의 커버는 전후 또는 좌우구동되도록 구성될 수 있다.
그리고, 상기 기준마크의 변부를 감싸면서 소정 높이만큼 돌출되도록 보호벽이 스테이지 위에 입설되어 기타물이 상기 기준마크에 근접됨을 방지하도록 구성됨을 또 다른 특징으로 하고, 상기 보호벽은 환형돌출형상으로서 상기 스테이지에 고정됨이 바람직하다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
제5도를 참조하면, 본 발명에 따른 실시예는 스테이지(40)상에 피듀셜마크 어셈블리(42)와 커버 어셈블리(44)가 설치되어 있다.
피듀셜마크 어셈블리(42)는 피듀셜마크(46)가 상면에 부착된 베이스(48)가 보호벽(50)과 같이 다수개의 볼트(52)로 스테이지(40)상에 고정되어 있다.
이 보호벽(50)은 피듀셜마크(52)보다 높게 돌출된 분리편으로 구성될 수 있다. 다시 말하면, 피듀셜마크(52)로부터 소정거리 이격된 변부를 감싸면서 스테이지(40) 위에 피듀셜마크(52)보다 높게 보호벽(50)이 입설되어서, 스테이지(40)와 커버(58) 사이의 공간을 통해 유입되는 이물질을 커버할 수 있도록 구성되어 있다.
그리고, 커버 어셈블리(44)에는 본체(54)가 스테이지(40)에 볼트(56)로 고정되어 있고, 본체(54)에는 단부에 커버(58)가 달린 로드(59)가 유압식으로 왕복운동하도록 구성되어 있으며, 로드(59)의 이동상태를 센싱하기 위한 마그네틱 센서(60)가 본체(54)의 측면에 구성되어 있다.
한편, 전술한 피듀셜마크 어셈블리(42)에 대한 커버 어셈블리(44)의 평면적 구동상태가 제6도에 나타나 있고, 커버 어셈블리(44)의 본체(54)에 장치되는 로드(59)는 제5도 및 제6도와 같이 배관(62, 64)을 통하여 공급되는 공기에 의하여 구동력을 인가받아서 왕복 직진운동하도록 구성되어 있다. 따라서 커버(58)는 로드(59)의 왕복 직진운동에 따라 구동된다.
그리고, 배관(62,64)에는 공기의 유입 및 유출을 절환하기 위한 솔레노이드 밸브(66, 68)가 설치되어 있으며, 솔레노이드 밸브(66, 68)는 솔레노이드 밸브 구동회로(70)로부터 각각 인가되는 스위칭 신호 A 및 B의 인가상태에 따라서 작동되도록 구성되어 있다.
그리고, 솔레노이드 밸브 구동회로(70)는 스테퍼 제어부(72)로부터 인가되는 제어신호에 따라 스위칭신호 A 및 B를 각 솔레노이드 밸브(66, 68)로 인가하도록 구성되어 있으며, 이러한 솔레노이드 밸브 구동회로(70)의 상세회로도가 제7도에 도시되어 있다. 즉, 솔레노이드 밸브 구동회로(70)는 제어신호가 저항(R1) 및 저항(R2)을 각각 통하여 트랜지스터(Q1) 및 트랜지스터(Q2)의 베이스에 인가되도록 구성되고, 트랜지스터(Q1, Q2)는 동일 레벨의 전압 인가상태에서 스위칭상태가 반대가 되도록 각각 NPN형 트랜지스터와 PNP형 트랜지스터로 구분되어 설치되고, 그에 따라 저항(R3) 및 저항(R4)에 인가되는 정전안 Vcc가 각 트랜지스터(Q1, Q2)의 스위칭상태에 따라 서로 다른 레벨의 전압을 갖는 제어신호 A 및 제어신호 B로 출력된다.
한편, 제5도의 스테퍼 제어부(72)는 센싱동작 판별회로(74)의 판별신호를 인가받아서 경보부(76)의 경보동작을 제어하도록 구성되어 있고, 센싱동작 판별회로(74)는 스테퍼 제어부(72)의 출력과 마그네틱센서(60)의 센싱신호를 판별하여 판별신호를 출력하도록 구성되어 있다. 이를 위하여 센싱동작 판별회로(74)는 제8도와 같이 제어신호와 센싱신호가 익스클루시브 오아게이트(78)에 인가되면 조합된 신호가 낫게이트(80)를 통하여 경보신호로 출력되도록 구성되어 있다.
따라서, 본 발명에 따른 실시예는 노광공정을 위하여 레티클을 정열할 때 피듀셜마크(46)가 오픈되어 광학적으로 인식될 수 있어야 하며, 그 외의 노광공정, 청소 또는 장비점검 때에는 피듀셜마크(46)가 보호벽(50)과 커버(58)에 의해 커버되어 오염으로부터 보호되어야 한다.
그러므로 스테퍼 제어부(72)는 레티클의 정렬을 위한 레티클 구동 및 제어 상태에서는 솔레노이드 밸브 구동회로(70) 및 센싱동작 판별회로(74)로 제어신호를 하이 레벨로 출력하고, 그외의 경우에는 솔레노이드 밸브 구동회로(70) 및 센싱동작 판별회로(74)로 제어신호로 로우 레벨로 출력한다.
먼저, 스테퍼 제어부(72)의 제어신호 출력에 따른 커버 어셈블리(44)의 구동에 대하여 설명한다.
스테퍼 제어부(72)로부터 솔레노이드 밸브 구동회로(70)로 하이 레벨의 제어신호가 출력되면, 솔레노이드 밸브 구동회로 내의 트랜지스터(Q1, Q2)의 베이스로 전압이 하이 레벨로 인가되어, 트랜지스터(Q1)는 턴온되고, 트랜지스터(Q2)는 턴오프된다.
트랜지스터(Q1)가 탄온되므로 솔레노이드 밸브 구동회로(70)는 솔레노이드 밸브(66)로 하이 레벨의 소위칭신호 A를 출력하고 솔레노이드 밸브(68)로 로우 레벨의 스위칭신호 B를 출력한다. 그에 따라서 솔레노이드 밸브(66)는 오픈되고 솔레노이드 밸브(68)는 오프되므로, 공기가 커버 어셈블리(44)의 본체(54)롭터 배관(62)을 통하여 배기되어 커버(58)는 본체(54) 쪽으로 이동된다. 그에 따라서 피듀셜마크(46)는 개방된다.
반대로, 스페터 제어부(72)로부터 솔레노이드 밸브 구동회로(70)는 로우 레벨의 제어신호가 출력되면, 솔레노이드 밸브 구동회로(70) 내의 트랜지스터(Q1, Q2)의 베이스로 전압이 로우 레벨로 인가되어, 트랜지스터(Q1)는 턴오프되고, 트랜지스터(Q2) 턴온된다.
트랜지스터(Q2)가 턴온되므로 솔레노이드 밸브 구동회로(70)는 솔레노이드 밸브(68)로 하이 레벨의 스위칭신호 B를 출력하고 솔레노이드 밸브(66)로 로우 레벨의 스위칭신호 A를 출력한다. 그에 따라서 솔레노이드 밸브(68)는 오픈되고 솔레노이드 밸브(66)는 오프되므로, 공기가 배관(64)을 통하여 커버 어셈블리(44)의 본체(54)로 공급되어 커버(58)는 피듀셜마크 어셈블리(42) 상부로 이동된다. 그에 피듀셜마크(46)는 커버된다.
전술한 바와 같이 스테퍼 제어부(72)가 레티클 구동 및 제어 상태에 따라서 제어신호의 출력 레벨을 가변함으로써 커버 어셈블리(44)가 구동된다.
그러므로, 피듀셜마크의 광학적 인식이 불필요한 노광공정 중이나 장비점검 중에는 커버(58)에 의하여 피듀셜마크(46)가 보호되므로 오염물에 의한 피듀셜마크(46)의 오염이 발생되지 않는다.
한편, 커버 어셈블리(44)의 정상적인 구동상태를 체크하기 위하여 마크네틱 센서(60)의 센싱신호가 이용된다.
커버 어셈블리(44)의 본체에 구성된 마그네틱 센서(60)는 커버(58)로 구동력을 전달하는 로드(59)의 위치를 센싱하여 그에 따른 센싱신호를 출력한다. 즉, 커버(58)가 피듀셜마크(46)를 개방하도록 구동된 상태에서는 로우 레벨의 센싱신호가 센싱동작 판별회로(74)로 인가되고, 커버(58)가 피듀셜마크(46)를 커버하도록 구동된 상태에서는 하이 레벨의 센싱신호가 센싱동작 판별회로(74)로 인가된다.
커버 어셈블리(44)가 정상적으로 구동되는 상태라면, 커버 어셈블리(44)가 커버(58)의 개방동작 상태일 때 마그네틱 센서(60)는 로우 레벨의 센싱신호를 출력하여야 하고, 커버 어셈블리(44)가 피듀셜마크(46)의 커버 상태일 때 마그네틱 센서(60)는 하이 레벨의 센싱신호를 출력하여야 한다.
즉, 스테퍼 제어부(72)로부터 하이 레벨의 제어신호가 출력되면 센싱신호는 로우 레벨로 출력되어야 하고, 스테퍼 제어부(72)로부터 로울 레벨의 제어 신호가 출력되면 센싱신호는 하이 레벨로 출력되어야 한다.
전술한 바와 같이 정상적인 경우에는 제어신호와 센싱신호가 서로 다른 레벨의 전압으로 익스클루시브 오아게이트(78)의 입력단으로 각각 인가되므로, 익스클루시브 오아게이트(78)의 출력은 하이 레벨로 결정되고, 이 하이 레벨의 출력신호가 낫게이트(80)에 의하여 로우 레벨로 반전되어 판별 신호로서 스테퍼 제어부(72)로 인가된다.
그러나, 커버 어셈블리(44)가 비정상적으로 구동되는 경우, 즉 스테퍼 제어부(72)가 하이 레벨로 출력되었음에도 커버 어셈블리(44)가 구동되지 않아서 마그네틱 센서(60)가 로드(59)를 센싱하지 못하여 하이 레벨의 센싱 신호를 출력하거나, 이와 반대의 경우에는 제어신호와 센싱신호가 동일 레벨의 전압으로 익스클루시브 오아게이트(78)의 입력단으로 인가된다. 그러면, 익스클루시브 오아게이트(78)의 출력은 로우 레벨로 결정되고, 이 로우 레벨의 출력신호가 낫게이트(80)에 의하여 하이 레벨로 반전되어 판별 신호로서 스테퍼 제어부(72)로 인가된다.
스테퍼 제어부(72)는 전술한 센싱동작 판별회로(74)로부터 판별신호가 하이 레벨로 인가되면 커버 어셈블리(44)의 구동상태에 오류가 발생한 것으로 판단하고, 즉시 경보부(76)로 제어신호를 출력하여 경보동작을 수행시킨다.
그러므로, 피듀셜마크 어셈블리(42)에는 보호벽(50)이 입설되어 있어서 스테이지(40)와 커버(58) 사이에 형성된 공간을 통하여 이물질이 유입되는 것을 차단할 뿐만 아니라, 외력으로 인하여 커버(58)가 하부로 쳐지는 것에 의한 피듀셜마크(46)의 손상 및 오염이 방지되는데, 이러한 보호벽(50) 환형돌출구조체가 이용됨이 바람직하다.
결국, 레티클의 정렬을 위한 기준마크인 피듀셜마크가 오염되는 것이 방지되므로, 오염으로 인하여 레티클 정렬에 오류가 발생되는 것이 방지될 수 있다. 또한, 피듀셜마크의 구동상태가 체크되어 정상적인 구동이 이루어지지 않으면 즉시 수행되는 경보동작으로 이를 인지할 수 있다.
실시예로 도시되지 않았으나 제작자의 의도에 따라 커버 어셈블리의 커버가 좌우로 구동됨에 따라서 피듀셜마크를 개폐하도록 구성될 수 있으며, 한편으로 커버 어셈블리가 전기 구동력을 이용한 전자식 셔터로 구성될 수 있다.
따라서, 피듀셜마크와 같은 정렬을 위한 기준마크의 오염 및 손상에 대한 보호가 이루어지므로, 정상적인 정렬이 수행될 수 있다.
그러므로, 설비의 신뢰성이 극대화되고, 설비의 부품손상으로 인한 점검시간을 줄일 수 있어서 설비의 가동률이 극대화되는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상시헤 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (13)

  1. 스테이지 상에 기준마크를 형성하고 이를 광학적으로 인식하여 정렬을 수행하는 노광설비의 기준마크 보호장치에 있어서, 상기 기준마크를 개폐하는 커버 어셈블리, 상기 커버 어셈블리로 구동력을 제공하는 구동력제공수단; 상기 구동력제공수단의 구동력 제공을 절환하는 구동수단; 상기 구동수단으로 구동력 제공의 절환을 위한 제어신호를 인가하고 상기 커버 어셈블리의 오동작이 발생되면 에러신호를 출력하는 제어수단; 상기 커버 어셈블리에 결합되어 상기 개폐 상태를 센싱하는 센싱수단; 및 상기 센싱수단의 센싱신호와 상기 제어신호를 참조하여 상기 커버 어셈블리의 오동작 발생여부를 판단하도록 판별신호를 상기 제어수단으로 인가하는 판별수단; 을 구비함을 특징으로 하는 노광설비의 기준마크 보호장치.
  2. 제1항에 있어서 상기 구동력제공수단은; 상기 커버 어셈블리로 유압을 전달하는 제1 및 제2배관; 및 상기 제1 및 제2배관에 각각 설치되어 상기 구동수단에서 개폐가 수행되도록 선택적으로 개폐가 절환되는 제1 및 제2솔레노이드 밸브; 를 구비함을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보호장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 구동수단은 상기 제어신호가 인가되면 제1스위칭신호를 출력하는 제1 스위칭수단 및 상기 제어신호가 인가되면 제2스위칭신호를 출력하는 제2스위칭수단으로 구성되고, 상기 제1스위칭신호는 상기 커버 어셈블리를 열고 상기 제2스위칭신호는 상기 커버 어셈블리를 닫도록 상기 구동력제공수단으로 인가됨을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보호장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 센싱수단은, 마그네틱 센서로 구성됨을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보호장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 판별수단은 상기 센싱신호와 상기 제어신호를 논리조합하는 익스클루시브 오아 게이트(Exclusive OR Gate) 및 상기 익스클루시브 오아 게이트의 출력을 반전하여 판별신호로 출력하는 낫게이트(NOT Gate)를 구비함을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보호장치.
  6. 스테이지 상에 기준마크를 형성하고 이를 광학적으로 인식하여 정렬을 수행하는 노광설비의 기준마크 보호장치에 있어서, 상기 기준마크의 상부를 커버의 위치이동으로 노출 및 은폐하도록 구동되는 커버 어셈블리와, 설비의 구동상태를 감지한 제어수단의 제어로 커버 어셈블리를 구동시키기 위한 구동력을 상기 커버 어셈블리로 제공하는 구동수단을 구비한 커버수단을 설치하여 기준마크를 보호할 수 있도록 하는 노광설비의 기준마크 보호장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 커버수단은, 기준마크로 레티클 정렬 및 설비점검을 위한 피듀셜마크(Fiducial Mark)에 설치됨을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보호장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 커버수단은, 전자식셔터로 구성되어 전기력으로 셔터가 구동되어 상기 기준마크를 개폐함을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보호장치.
  9. 제6항에 있어서, 상기 커버 어셈블리는, 상기 스테이지에 본체가 고정되고 본체에 유압식으로 구동되는 로드가 상기 커버에 연결됨으로써 유압의 인가에 따라 상기커버를 구동시키도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보호장치.
  10. 제6항에 있어서 상기 커버 어셈블리의 커버는 전후구동되도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보호장치.
  11. 제6항에 있어서, 상기 커버 어셈블리의 커버는 좌우구동되도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보하장치.
  12. 제6항에 있어서, 상기 기준마크의 변부를 감싸면서 소정 높이만큼 돌출되도록 보호벽이 스테이지 위에 입설되어 기타물이 상기 기준마크에 근접됨을 방지하도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보호장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 보호벽은 환형돌출형상으로서 상기 스테이지에 고정됨을 특징으로 하는 상기 노광설비의 기준마크 보호장치.
KR1019960070675A 1996-12-23 1996-12-23 노광설비의 기준마크 보호장치 KR100197885B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960070675A KR100197885B1 (ko) 1996-12-23 1996-12-23 노광설비의 기준마크 보호장치
TW086109474A TW418349B (en) 1996-12-23 1997-07-03 Apparatus of protecting standard mark of exposure equipments
JP09291138A JP3108394B2 (ja) 1996-12-23 1997-10-23 露光設備の基準マーク保護装置
US08/991,245 US5978068A (en) 1996-12-23 1997-12-16 Apparatus for protecting a reference mark used in exposure equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960070675A KR100197885B1 (ko) 1996-12-23 1996-12-23 노광설비의 기준마크 보호장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19980051760A KR19980051760A (ko) 1998-09-25
KR100197885B1 true KR100197885B1 (ko) 1999-06-15

Family

ID=19490446

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960070675A KR100197885B1 (ko) 1996-12-23 1996-12-23 노광설비의 기준마크 보호장치

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5978068A (ko)
JP (1) JP3108394B2 (ko)
KR (1) KR100197885B1 (ko)
TW (1) TW418349B (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6366619B1 (en) 1998-08-28 2002-04-02 Sicom, Inc. Constrained-envelope transmitter and method therefor
JP4579376B2 (ja) * 2000-06-19 2010-11-10 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
TWI553701B (zh) * 2003-10-09 2016-10-11 尼康股份有限公司 Exposure apparatus and exposure method, component manufacturing method
US7248334B2 (en) * 2004-12-07 2007-07-24 Asml Netherlands B.V. Sensor shield

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3245794A (en) * 1962-10-29 1966-04-12 Ihilco Corp Sequential registration scheme
US3844655A (en) * 1973-07-27 1974-10-29 Kasper Instruments Method and means for forming an aligned mask that does not include alignment marks employed in aligning the mask
EP0358521B1 (en) * 1988-09-09 1995-06-07 Canon Kabushiki Kaisha An exposure apparatus
US5521036A (en) * 1992-07-27 1996-05-28 Nikon Corporation Positioning method and apparatus
JPH08115872A (ja) * 1994-10-13 1996-05-07 Nikon Corp 露光装置
KR0145147B1 (ko) * 1994-10-21 1998-08-17 김주용 노광기의 광 차단수단

Also Published As

Publication number Publication date
KR19980051760A (ko) 1998-09-25
JP3108394B2 (ja) 2000-11-13
JPH10189437A (ja) 1998-07-21
TW418349B (en) 2001-01-11
US5978068A (en) 1999-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4899195A (en) Method of exposing a peripheral part of wafer
EP1258834B1 (en) Method for performing an alignment measurement of two patterns in different layers on a semiconductor wafer
KR20010067454A (ko) 전사 투영 장치에 사용되는 위치 결정 장치에서의 충돌 방지
KR100197885B1 (ko) 노광설비의 기준마크 보호장치
US6528836B2 (en) Photomask ESD protection and an anti-ESD pod with such protection
US6066419A (en) Method for monitoring dosage/focus/leveling
US6198535B1 (en) Wafer alignment system
JPH11257487A (ja) シフト位置検出装置
US6700647B2 (en) Exposure system of semiconductor wafer and method for operating the same
KR19980043750A (ko) 반도체제조설비의 도어열림 방지장치
KR100280108B1 (ko) 오리엔터 플랫존 유니트의 웨이퍼 파손 방지 시스템
KR20060066978A (ko) 반도체 소자 제조 설비 및 그의 이용 방법
KR100217338B1 (ko) 노광설비의 웨이퍼 정렬 장치
US20230176487A1 (en) Substrate support system, lithographic apparatus and method of exposing a substrate
KR19990075536A (ko) 웨이퍼 로더챔버의 도어개폐장치
TWI692004B (zh) 用於處理圓盤形基板的裝置及支撐配接器
KR20010035950A (ko) 부분적 초점 불량을 방지할 수 있는 노광 시스템
KR20010048755A (ko) 오토 포커스 시스템을 갖는 노광 장치의 포커싱 방법
CN201436605U (zh) 防止镜片碰撞的装置
KR200165869Y1 (ko) 비임가속기의 자동오프장치
KR20050102376A (ko) 반도체 제조용 스테퍼설비의 셔터오동작 방지장치
KR100284907B1 (ko) 반도체 노광설비의 미스 얼라인 방지장치
KR20060039989A (ko) 반도체 제조설비의 웨이퍼 롯 아이디 마킹장치
KR20000039842A (ko) 정렬 노광 장치의 초점 흔들림 감지 회로
KR19980066727A (ko) 반도체 장치의 오버레이 키

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130131

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140129

Year of fee payment: 16

LAPS Lapse due to unpaid annual fee