KR100193734B1 - Semiconductor Wafer Cleaning Equipment - Google Patents
Semiconductor Wafer Cleaning Equipment Download PDFInfo
- Publication number
- KR100193734B1 KR100193734B1 KR1019950055694A KR19950055694A KR100193734B1 KR 100193734 B1 KR100193734 B1 KR 100193734B1 KR 1019950055694 A KR1019950055694 A KR 1019950055694A KR 19950055694 A KR19950055694 A KR 19950055694A KR 100193734 B1 KR100193734 B1 KR 100193734B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- particles
- air
- measured
- suction
- particle
- Prior art date
Links
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
본 발명은 반도체소자 제조를 위해 필요로 하는 청정공간을 제공하는 클린룸에서 파티클의 오염정도를 측정하는 장비에 관한 것으로 특히 피측정물의 표면의 파티클의 오염을 측정하는 반도체 제조공간의 표면 입자측정기에 대한 것이다. 종래의 표면입자 측정기는 흡입부가 피측정물의 표면과의 거리에 따라 측정치가 달라지고 이를 조절할 수 없고 정전기의 발생으로 표면의 흡착된 파티클을 제대로 흡입하여 측정할 수 없어 정확한 파티클의 관리가 어려웠다. 본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 피측정물의 측정부위의 표면이 흡입부의 격리수단을 통하여 격리되도록 하고, 그 내부에서 공기를 분출시키고 이를 커운터로 흡입하여 파티클을 숫자를 측정하고, 흡입부의 분출부로 배출되는 공기를 이온화 수단을 통과시키므로서, 파티클의 집진효율을 높이고 측정치의 신뢰성을 높이도록 한것이다.The present invention relates to a device for measuring the contamination of particles in a clean room that provides a clean space required for the manufacture of semiconductor devices, and in particular to a surface particle measuring device of a semiconductor manufacturing space for measuring the contamination of particles on the surface of the object to be measured. It is about. In the conventional surface particle measuring device, the suction part has a different measurement value according to the distance from the surface of the object to be measured, and it is difficult to accurately manage the particle because it cannot properly measure the absorbed particles on the surface due to the generation of static electricity. The present invention is to overcome the above-mentioned problems is to ensure that the surface of the measurement site of the object to be measured is isolated through the isolation means of the suction, the air is ejected from the inside and sucked into the counter to measure the number of particles, suction The air discharged to the negative blower is passed through the ionization means, thereby increasing the dust collection efficiency of the particles and increasing the reliability of the measured value.
Description
제1도는 본 발명의 실시예에 따른 파티클측정기의 전체적인 구성도.1 is an overall configuration diagram of a particle meter according to an embodiment of the present invention.
제2a도는 및 제2b도는 각각 본 발명 흡입부의 저면도 및 단면도.2a and 2b are respectively a bottom view and a cross-sectional view of the suction unit of the present invention.
제3도는 본 발명에서 흡입부의 동작상태도.3 is an operational state diagram of the suction unit in the present invention.
제4도는 종래의 표면 입자측정기의 흡입부의 구조도.4 is a structural diagram of a suction part of a conventional surface particle measuring device.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
100 : 흡입부 110 : 내부공간100: suction unit 110: internal space
120 : 공기 분출공 130 : 오-링120: air blower 130: O-ring
140 : 공기 흡입구 200 : 카운터부140: air inlet 200: counter
300 : 이온화 수단300: ionization means
본 발명은 반도체소자 제조를 위해 필요로 하는 청정공간을 제공하는 클린룸에서 파티클의 오염정도를 측정하는 장비에 관한 것으로 특히 피측정물 표면의 파티클의 오염을 측정하는 반도체소자 제조공간의 표면입자측정기에 대한 것이다.The present invention relates to a device for measuring the degree of contamination of particles in a clean room that provides a clean space required for the manufacture of semiconductor devices. In particular, the surface particle measuring device of the semiconductor device manufacturing space for measuring the contamination of particles on the surface of the object to be measured It is about.
청정실(Clean Room)주변의 산업발전에 따른 청정실의 청정도는 급기야 종래에 사용되어 오던 0.1 UM AIR BONE 파티클 계수기에 의한 청정실내의 파티클 관리는 그 한계에 이르러 휘발성 액체를 이용한 응축핵 파티클 계수기를 이용하여 가측 파티클의 입경을 낮추어 가고 있다.The cleanliness of the clean room according to the industrial development around the clean room is the air supply. The management of particles in the clean room by the 0.1 UM AIR BONE particle counter, which has been conventionally used, has reached its limit. The particle size of the side particles is being lowered.
그러나 이 또한 청정실용 ULPA(Ultra Low Penetration Air)필터의 효율성이 높아져 정상적인 청정실내에서는 공기중 파티클이 거의 검출되지 않고 있는 실정이다.However, this also increases the efficiency of the Ultra Low Penetration Air (ULPA) filter for the clean room, which means that the particles in the air are rarely detected in the normal clean room.
그럼에도 불구하고 생산 및 계측설비의 각종 용구(Material)와, 청정실의 내장제 등과 같이 목적하는 생산물류(예 반도체소자용 웨이퍼)와 인접한 부분의 표면에는 사람, 로봇, 물류의 이동과 공간적인 온도의 불균형에 따라서 2차적으로 기류의 이동을 초래하게 된다.Nevertheless, the movement of people, robots and logistics and the imbalance of spatial temperature on the surface of the parts adjacent to the desired production logistics (eg wafers for semiconductor devices), such as various materials of production and measurement facilities, interior materials of clean rooms, etc. This causes secondary air flow.
이러한 2차적인 기류로 인하여 상기한 이동물체와 인접한 부분의 표면에 누적된 파티클들이 이동하여 생산물류를 오염시키는 현상으로 지속적인 문제를 유발시키고 있다.Due to the secondary airflow, particles accumulated on the surface of the moving object and adjacent portions move and contaminate the production logistics, causing a continuous problem.
이를 개선하는 것이 청정실 내에서 작업을 요하는 산업에서 생산성을 향상시키는 지름길이란 점은 새삼 강조하지 않아도 충분히 인식되어 있는 상황이며 이후 전개되는 청정실 관리의 중요성은 과거 청정실의 공간 개념에 중점을 두고 있었던 것에 반하여 각종 물체와 인접한 표면의 청정도가 더욱 중요시되고 있는 추세로 변천되어 가고 있다.It is well understood that the improvement is a shortcut to increase productivity in industries that require work in clean rooms. The importance of clean room management in the future has been focused on the concept of clean room space in the past. On the other hand, the cleanliness of various objects and adjacent surfaces is becoming more important.
따라서 청정실을 요구하는 생산현장에서 고체형태의 각종 물류와 재료, 내자재, 기계장치, 건물, 사람, 의복등과 같은 표면의 파티클을 정확히 측정하고 이러한 데이터를 근거로 문제를 해결하므로서 궁극적으로 생산 품질 및 수율 즉 종합적인 생산성을 향상시키기 위한 노력을 하여왔다.Therefore, in production sites requiring clean rooms, it is possible to accurately measure particles in various forms, such as solids, materials, materials, machinery, buildings, people, and clothing, and solve problems based on these data, ultimately producing quality. And efforts to improve yield, ie overall productivity.
이를 위하여 종래 사용되어 오던 표면파티클 측정기의 문제점을 보완 개선하여 측정데이터의 신뢰성을 크게 향상시키는데 주목적을 두고 있다.To this end, the main objective of the present invention is to improve the reliability of the measurement data by supplementing and improving the problem of the surface particle measuring device, which has been conventionally used.
종래의 파티클 측정장비는 피측정물로부터 파티클을 흡입하는 흡입부와 흡입된 파티클을 카운터하는 카운트부로 구성된다.Conventional particle measuring equipment includes a suction unit for sucking particles from an object to be measured and a count unit for countering the sucked particles.
제4도는 상술한 용도로 사용되던 레이저(Laser)광원을 사용하여 파티클을 카운트하는 표면 입자 측정기장비의 파티클 흡입부의 구조를 나타낸 것이다.Figure 4 shows the structure of the particle suction unit of the surface particle measuring device for counting particles using a laser light source used for the above-described applications.
상기 파티클 흡입부(10)의 구조를 살펴보면 원판모양의 저면에 십자모양의 홈(11)과, 이 홈의 중심에 위치한 공기 분출공(12)과, 상기 원판의 저면에 일정간격으로 형성되어 피측정물의 파티클을 흡입하는 흡입공(13)이 형성되어 있다.Looking at the structure of the particle suction portion 10 is formed with a cross-shaped groove 11 on the bottom of the disk shape, the air blowing hole 12 located in the center of the groove, and formed at regular intervals on the bottom of the disk A suction hole 13 for sucking particles of the measurement object is formed.
상기 공기 분출공(12)과 흡입구(13)는 각각 파티클 측정장비와 연결된 각각의 공기라인에 연결되어 있다.The air blowing hole 12 and the inlet 13 are respectively connected to each air line connected to the particle measuring equipment.
상술한 구조를 갖는 파티클 흡입부의 동작관계는 다음과 같다.The operation relationship of the particle suction unit having the above-described structure is as follows.
먼저 피측정물의 표면에 상기 흡입부(10)를 일정간격 띄워 위치시키고, 상기 공기 분출공(12)으로부터 공기를 분사한다. 이때 분사된 공기는 십자홈(10)을 따라 유도되면서 피측정물의 표면에 흡착된 파티클이 피측정물로부터 분리되도록 하면서 동시에 상기 흡입공(13)으로 파티클과 함께 카운터 장비로 재 흡입된다.First, the suction unit 10 is placed at a predetermined interval on the surface of the object to be measured, and air is injected from the air blowing hole 12. At this time, the injected air is guided along the groove 10 to allow the particles adsorbed on the surface of the object to be separated from the object to be detected and at the same time re-intake into the counter equipment together with the particles into the suction hole (13).
이렇게 흡입된 공기는 카운터부에서 공기중에 포함된 파티클의 숫자를 헤아려 피측정물의 오염정도가 검출된다.The air sucked in this way counts the number of particles contained in the air at the counter and detects the contamination of the object.
상술한 방법으로 파티클을 측정하는 종래의 표면 파티클측정기의 문제점을 열거하면 다음과 같다.The problems of the conventional surface particle measuring device for measuring the particles by the above-described method are as follows.
첫째, 측정기기의 구조상 작업자에 의한 개인오차가 커서 데이터의 신뢰성이 떨어진다. 왜냐햐면 피측정물의 표면에 누적되어 있는 파티클의 측정시 흡입부와 피측정물과의 거리를 일정하게 유지시킬 수 있는 자동 스캔(Scan)과 같은 기능이 없고 단순히 작업자의 목측 결과에만 의존하고 있다. 그러나 상술한 작업방법은 표면 파티클측정시 측정장비와 피측정물의 이격거리가 표면파티클의 농도를 좌우하는 중요한 변수가 되므로 검출된 결과에 대한 신뢰성을 줄 수 없었다.First, the reliability of the data is inferior due to the large personal error caused by the operator due to the structure of the measuring device. Because there is no function such as automatic scan to keep the distance between the suction part and the measured object constant when measuring the particles accumulated on the surface of the object, it only depends on the operator's neck result. However, the above-described working method could not give the reliability of the detected result because the separation distance between the measuring equipment and the object to be measured is an important variable in determining the concentration of surface particles.
둘째, 표면파티클의 특성상 0.5㎛ 크기의 파티클을 경계로 이보다 큰 파티클의 겨우 중력이 정전력에 비하여 크게 작용되지만 그 이하의 파티클에서는 크기에 반비례 관계로 파티클이 가지고 있는 고유 전하량에 따른 정전력으로 표면과 강력한 부착력을 가지고 부착되어 있어 표면재질에 따라 표면파티클의 포집능력이 많은 차이를 가지는 문제점이 있었다.Second, due to the nature of surface particles, the gravity of particles larger than this is bounded by particles with a size of 0.5 μm, and the gravity acts more largely than the electrostatic force. And because it is attached with a strong adhesive force has a problem that the surface particle collecting ability of the surface material has a lot of difference.
본 발명은 상술한 문제점들을 해소하기 위한 것으로, 피측정물과 흡입부의 이격거리와 이동 스피드가 변함에 따른 파티클농도 변동요인을 원천적으로 제거하여 데이터의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 반도체소자 제조공간의 표면 입자 측정기를 제공하는데 목적이 있다.The present invention is to solve the above-described problems, the surface of the semiconductor device manufacturing space that can improve the reliability of the data by removing the particle concentration fluctuation factors in accordance with the separation distance and the moving speed of the object and the suction unit changes The purpose is to provide a particle counter.
본 발명의 또다른 목적으로는 파티클의 크기별 포집능력의 차이를 줄이고 보다 낮은 사이즈(Size)까지 측정이 가능한 반도체소자 제조공간의 입자 측정기를 제공한다.It is still another object of the present invention to provide a particle size measuring device in a semiconductor device manufacturing space capable of measuring a particle size reduction capability and reducing the size of particles.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제1특징으로는 반도체소자 제조를 위한 클린룸내의 있는 피측정물의 표면에 있는 파티클을 흡입하는 흡입부와, 상기 흡입부로부터 흡입된 공기내에 포함된 파티클의 수를 헤아리는 카운터부를 구비한 표면 파티클측정기에 있어서, 상기 카운터부로 흡입된 공기의 파티클 측정이후 배기되는 공기라인에 이온화수단을 설치한 것을 특징으로 한다.A first aspect of the present invention for achieving the above object is a suction unit for sucking particles on the surface of the object to be measured in the clean room for manufacturing a semiconductor device, and the number of particles contained in the air sucked from the suction unit In the surface particle measuring device provided with a counter unit, characterized in that the ionization means is installed in the air line to be exhausted after the particle measurement of the air sucked into the counter unit.
본 발명의 제2특징으로는 반도체소자 제조공간내에 위치하고 있는 피측정물의 표면에 있는 파티클을 흡입하는 흡입부와 이 흡입부로부터 흡입된 공기내에 파티클 숫자를 헤아리는 카운터부를 구비한 표면 파티클측정기에 있어서, 상기 흡입부는 피측정물에 접하는 측정부위가 오목한 형상을 갖도록 형하고, 상기 흡입부에 의한 피측정물의 측정부위가 외부로부터 차단되게 하는 차단수단과, 상기 차단수단의 내측에서 공기를 분출하는 공기 분출수단을 구비한 것을 특징으로 한다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a surface particle measuring device including a suction part for sucking particles on a surface of a measurement object located in a semiconductor device manufacturing space, and a counter part for counting particle numbers in the air sucked from the suction part. The suction part is formed such that the measuring part in contact with the object to be measured has a concave shape, a blocking means for blocking the measuring part of the measured object by the suction part from the outside, and an air jet for blowing air inside the blocking means. It is characterized by having a means.
이를 위해서 상기 차단수단은 상기 흡입부와 피측정물이 접하는 흡입부의 주위에 소정 높이를 갖는 오-링을 설치한다.To this end, the blocking means is provided with an o-ring having a predetermined height around the suction part in contact with the suction part and the object to be measured.
이를 위해서 상기 공기 분출수단은 상기 차단수단의 내측에 라인형태로 공기 분출공을 형성한다.To this end, the air blowing means forms an air blowing hole in a line shape inside the blocking means.
본 발명의 제3특징으로는 반도체소자 제조를 위한 클린룸내의 있는 피측정물의 표면에 있는 파티클을 흡입하는 흡입부와, 상기 흡입부로부터 흡입된 공기내에 포함된 파티클의 수를 헤아리는 카운터부를 구비한 표면 파티클측정기에 있어서, 상기 카운터부로 흡입된 공기의 파티클 측정이후 배기되는 공기라인에 설치된 이온화 수단과, 상기 흡입부는 피측정물에 접하는 측정부위가 오목한 형상을 갖도록 형하고 상기 흡입부에 의한 피측정물의 측정부위가 외부로부터 차단되게 하는 차단수단과 상기 차단수단의 내측에서 공기를 분출하는 공기분출수단을 구비한 것을 특징으로 한다.According to a third aspect of the present invention, there is provided a suction unit for sucking particles on a surface of a measurement object in a clean room for manufacturing a semiconductor device, and a counter unit for counting the number of particles contained in the air sucked from the suction unit. In the surface particle measuring device, ionization means provided in the air line to be exhausted after the particle measurement of the air sucked into the counter portion, and the suction portion is formed so that the measuring portion in contact with the object to be measured has a concave shape and is measured by the suction portion It characterized in that it comprises a blocking means for blocking the measurement portion of the water from the outside and an air blowing means for blowing air from the inside of the blocking means.
상술한 구성을 갖는 본 발명은 피측정물의 측정방법의 측정치의 차이를 줄이고 포집능력을 높여 파티클의 관리에 신뢰성을 높일 수 있다.According to the present invention having the above-described configuration, it is possible to reduce the difference in the measured value of the measurement method of the object to be measured and to increase the collection capacity, thereby increasing the reliability in managing the particles.
이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 작용·효과를 첨부된 도면에 따라서 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention, actions and effects will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 실시예에 다른 표면파티클 측정기는 피측정물의 측정표면을 다른 부위와 격리시키고 내부에서 공기를 분출시켜 파티클과 함께 재 흡입하고 파티클을 측정하고, 측정기 내부에 이온중화수단을 설치한 것이다.According to another embodiment of the present invention, the surface particle measuring device isolates the measurement surface of the object to be measured from other parts, blows air from the inside, re-inhales with the particles, measures the particles, and installs ion neutralization means inside the measuring device.
이를 위한 본 발명의 구체적인 실시예 및 동작관계를 설명한다.It will be described a specific embodiment and operation relationship of the present invention for this purpose.
제1도는 본 발명에 따른 표면 파티클측정기의 전체적인 구성도를 나타낸 것이고, 제2a 및 제2b도는 제1도 흡입부의 세부 구조를 나타낸 것이다.Figure 1 shows the overall configuration of the surface particle meter according to the present invention, Figures 2a and 2b shows a detailed structure of the suction of the first degree.
본 발명은 피측정물의 파티클을 포집하는 흡입부(100)와 흡입된 파티클을 측정하는 카운터부(200)로 크게 구성된다.The present invention is largely composed of a suction unit 100 for collecting the particles to be measured and a counter unit 200 for measuring the sucked particles.
상기 카운터(200)에는 흡입된 공기중의 파티클을 헤아리고 필터를 통하여 배출되는 공기에 이온화수단(300)를 설치한 구조를 갖는다.The counter 200 has a structure in which particles in the sucked air are counted and ionization means 300 is installed in the air discharged through the filter.
제2a도 및 제2b도는 본 발명 흡입부의 저면도 및 단면도이다.2A and 2B are bottom and sectional views of the suction part of the present invention.
상기 흡입부(100)는 피측정물에 접촉되는 면의 내부가 오목한 공간(110)을 갖고, 그 주위에 측정부위의 표면에 흡착된 파티클을 분리시켜 주는 라인 형태의 공기 분출공(120)과, 상기 분출공 외부에 상기 측정부위와 다른 부위를 차단하여 주는 차단수단을 포함하는 구조로 형성된다.The suction part 100 has a concave space 110 inside the surface in contact with the object to be measured, and a line-shaped air blowing hole 120 separating the particles adsorbed on the surface of the measurement part around the suction part 100. It is formed in a structure including a blocking means for blocking the measuring portion and the other portion outside the ejection hole.
상기 차단수단은 분출공(120)의 주위에 소정 높이로 돌출되도록 고정된 오-링(130)을 사용한다.The blocking means uses an o-ring 130 fixed to protrude to a predetermined height around the spout hole 120.
상기 분출공(120)은 카운터부(200)의 공기배출라인(220)에 연결되어 흡입부(100)의 오목한 공간(110)주위에 설치되며, 흡입공(150)은 오목한 공간(110)의 일측에 형성되어 카운터부의 공기흡입라인(210)에 연결된다.The blowing hole 120 is connected to the air discharge line 220 of the counter unit 200 is installed around the concave space 110 of the suction unit 100, the suction hole 150 of the concave space 110 Is formed on one side is connected to the air suction line 210 of the counter.
상술한 구조를 갖는 본 발명의 동작관계를 살펴보면 다음과 같다.Looking at the operation relationship of the present invention having the above-described structure as follows.
제3도를 참고로 흡입부의 동작관계를 설명하면, 먼저 상기 흡입부(100)를 측정하고자하는 피측정물의 표면에 접촉시킨다.Referring to FIG. 3, the operation of the suction unit will be described. First, the suction unit 100 is brought into contact with the surface of the object to be measured.
이때 피측정물의 측정부위는 상기 오-링(130)에 의해 외부와 차단되며 이 상태에서 카운터부(200)에 연결된 공기배출라인(220)으로부터 공기가 상기 분출공(120)을 통하여 분출되면서 곡선형태의 공간(110)내로 불어 피측정물에 표면에 누적되어 있던 파티클(410)을 활성화시켜 떼어낸다.At this time, the measuring portion of the object to be measured is cut off from the outside by the O-ring 130, and in this state, the air is blown out through the blowing hole 120 from the air discharge line 220 connected to the counter 200. Blown into the space 110 of the shape to activate and remove the particles 410 accumulated on the surface to be measured.
이와 동시에 피측정물에서 분리된 파티클과 분출공기를 함께 흡입공(140)으로 흡입하여 카운터부(200)에 연결된 공기흡입라인(210)을 통하여 카운터부로 흡입한다.At the same time, the particles and the jet air separated from the object to be measured are sucked together into the suction hole 140 and sucked into the counter unit through the air suction line 210 connected to the counter unit 200.
카운터부(200)에서는 흡입된 공기중 파티클 숫자를 체크하고, 필터를 거쳐 공기배출라인(220)으로 배출되기전에 이온화수단(300)을 거치도록 한다. 상기 이온화수단(300)은 공기배출라인(200)에 설치된다. 상기 이온화수단(300)은 상기 공기 분출공을 통해 분출되는 공기를 이온화시키기 위한 것이다. 예컨대, 상기 이온화수단(300)은 고압의 아크방전 원리를 이용하여 공기중 대전된 입자의 정전기를 전기적으로 중화시킨다.The counter 200 checks the number of particles of air sucked in, and passes the ionization means 300 before being discharged to the air discharge line 220 through the filter. The ionization means 300 is installed in the air discharge line 200. The ionization means 300 is for ionizing the air ejected through the air blowing hole. For example, the ionization means 300 electrically neutralizes static electricity of charged particles in the air by using a high pressure arc discharge principle.
이 이온화 수단(300)에 의해 이온화된 공기는 상기 공기 분출공(120)을 통해상기 표면으로 분출되어 상기 파티클을 중화시킨다. 그리고 이렇게 중화된 파티클은 상기 피측정물의 표면으로부터 쉽게 분리되어 상기 흡입공(150)으로 흡입될 수 있는 것이다.The air ionized by the ionization means 300 is blown to the surface through the air blowing hole 120 to neutralize the particles. The neutralized particles are easily separated from the surface of the object to be sucked into the suction hole 150.
상술한 동작으로 본 발명 피측정물과 흡입부의 이격 거리별로 실험한 데이터를 근거로 최적의 종래의 결점(Detector)과는 달리 이격거리를 격리시키고 고정된 상태로 표면의 파티클을 측정할 수 있다.With the above-described operation, unlike the optimal conventional Defect, the particle of the surface can be measured and fixed at a fixed state based on the data tested for the distance between the object to be measured and the suction unit of the present invention.
또한 흡입부의 가장자리 면을 피측정 표면의 외부와 격리수단을 통하여 격리해 주고, 내부의 공간은 부상된 공기중에 함유된 파티클을 100% 카운터부로 흡입되도록 배려한 에어 가이드(Guide) 역할을 수행하여, 종래에 수직방향으로 설계된 흡입부의 종래의 측정부위에서 표면의 파티클이 밖으로 튕겨져나가 분리된 파티클의 포집효율이 낮아지는 것을 보완하였다.In addition, the edge of the suction part is isolated from the outside of the surface to be measured through the isolation means, and the inner space serves as an air guide (Guide) in which particles contained in the injured air are sucked into the counter part by 100%. In the conventional measuring portion of the suction unit designed in the vertical direction, the particle of the surface is bounced out to compensate for the collection efficiency of the separated particles is lowered.
그리고 파티클 포집용 흡입부의 안쪽 내면의 공간이 곡면을 갖는 오목형태로 제작한 것 또한 포집효율을 향상시키기 위한 방안중 하나로 개선한 것이다.In addition, the space inside the inner surface of the particle collecting suction part is manufactured in a concave shape having a curved surface, which is also improved as one of the methods for improving the collecting efficiency.
또한 본 발명은 상술한 동작으로 파티클계수기로부터 배출되는 배출공기의 배출구에 대전된 파티클의 정전기를 재전시키기 위하여 파티클 재전용 옵션(Ionization System)을 채용하므로서, 종래의 0.3㎛ 사이즈에서도 약 2∼3배의 집진효율이 높아지게 되며, 검증되지 못한 0.1㎛ 이상의 낮은 사이즈 대역에서도 보다 높은 집진효율을 기대할 수 있게 된다.In addition, the present invention employs an particle ionization system (Ionization System) to recharge the static electricity of the charged particles to the outlet of the discharged air discharged from the particle counter in the above-described operation, about 2-3 times even in the conventional 0.3㎛ size The dust collection efficiency of is increased, and higher dust collection efficiency can be expected even in the low size band of 0.1 ㎛ or more.
즉, 본 발명은 작업방법에 따른 측정치의 오차를 방지하고 피 측정물의 표면에 파티클의 포집효율을 높여주어 정확한 파티클의 관리가 가능한 이점이 있다.That is, the present invention has the advantage that it is possible to prevent the error of the measurement value according to the working method and to increase the collection efficiency of the particles on the surface of the workpiece to be managed precise particles.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950055694A KR100193734B1 (en) | 1995-12-23 | 1995-12-23 | Semiconductor Wafer Cleaning Equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950055694A KR100193734B1 (en) | 1995-12-23 | 1995-12-23 | Semiconductor Wafer Cleaning Equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970053242A KR970053242A (en) | 1997-07-31 |
| KR100193734B1 true KR100193734B1 (en) | 1999-06-15 |
Family
ID=66617864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950055694A KR100193734B1 (en) | 1995-12-23 | 1995-12-23 | Semiconductor Wafer Cleaning Equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100193734B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100966850B1 (en) | 2008-03-24 | 2010-06-29 | (주)수도프리미엄엔지니어링 | Air sampling apparatus for particles measurement |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100475460B1 (en) * | 1998-02-05 | 2005-05-27 | 삼성전자주식회사 | Clean Room Pollution Assessment Method |
-
1995
- 1995-12-23 KR KR1019950055694A patent/KR100193734B1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100966850B1 (en) | 2008-03-24 | 2010-06-29 | (주)수도프리미엄엔지니어링 | Air sampling apparatus for particles measurement |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970053242A (en) | 1997-07-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101722161B (en) | Dust remover | |
| KR100248564B1 (en) | Spindrier | |
| US7246532B2 (en) | Flow indicator and apparatus for monitoring particles in air | |
| US4725294A (en) | Apparatus for collection of particulate matter from an ambient gas | |
| KR101333635B1 (en) | Air shower apparatus | |
| US7047984B2 (en) | Device and method for cleaning articles used in the production of semiconductor components | |
| KR101159762B1 (en) | Paticle Measurement Apparatus | |
| KR20110010735A (en) | Station and method for measuring the contamination of an enclosure used for transporting semiconductor substrates | |
| KR100193734B1 (en) | Semiconductor Wafer Cleaning Equipment | |
| JP2929390B2 (en) | Air filter leak test method and apparatus | |
| US20010001338A1 (en) | Dust-collecting barrow | |
| KR100963814B1 (en) | Method of removing particles on an object, apparatus for performing the removing method, method of measuring particles on an object and apparatus for performing the measuring method | |
| US6093228A (en) | Method and device for collecting by-products individually | |
| JP3757414B2 (en) | Dust collector / counter | |
| KR100429216B1 (en) | cyclone collector for vacuum cleaner | |
| JP6097159B2 (en) | Static eliminator for parts feeder | |
| KR20020072007A (en) | cyclone collector for vacuum cleaner | |
| CN210573186U (en) | Photomask detection device | |
| KR20070013485A (en) | Method of removing particles on an object, apparatus for performing the removing method, method of measuring particles on an object and apparatus for performing the measuring method | |
| CN112433446A (en) | Photomask inspection apparatus and photomask cleaning method | |
| JP2020071142A (en) | Foreign matter inspection device | |
| KR101931341B1 (en) | Electronic dust collector and method using suction of vacuum | |
| CN219577339U (en) | Static eliminating device and camera equipment production line | |
| JPH0737692Y2 (en) | Dust remover with ionizer and clean air | |
| KR102575747B1 (en) | Dry cleaning apparatus |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20070125 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |