KR0185467B1 - 실리콘단결정의 제조장치및 그 제조방법 - Google Patents
실리콘단결정의 제조장치및 그 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR0185467B1 KR0185467B1 KR1019950044146A KR19950044146A KR0185467B1 KR 0185467 B1 KR0185467 B1 KR 0185467B1 KR 1019950044146 A KR1019950044146 A KR 1019950044146A KR 19950044146 A KR19950044146 A KR 19950044146A KR 0185467 B1 KR0185467 B1 KR 0185467B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- single crystal
- melt
- main body
- inert gas
- orifice
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/14—Heating of the melt or the crystallised materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1024—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
- Y10T117/1076—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state having means for producing a moving solid-liquid-solid zone
- Y10T117/1088—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state having means for producing a moving solid-liquid-solid zone including heating or cooling details
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
이 발명은 성장하는 단결정을 차폐하며, 융용물 위에 있는 전로챔버를 내부와 외부로 분할하는 튜브형상 또는 원뿔형상 본체를 구성하며, 그 본체는 적어도 하나의오리피스를 구비하여 그 오리피스를 통하여 전로챔버의 내부로 안내되는 불활성가스를 그 전로의 외부로 직접 통과하도록 구성하는 초크랄스키방법에 의한 실리콘구성단결정 제조장치에 관한것이다.
이 발명은 불활성가스스트림 일부가 튜브형상 또는 원뿔형상본체내에서 적어도 하나의 오리피스를 통하여 전로챔버의 내부에서 그 외부로 안내되도록 함을 특징으로하는 초크랄스키방법에 의한 실리콘구성 단결정의 제조방법에 관한것이다.
Description
제1a도 내지 제1d도는 각각 초크랄스키방법에 의한 단결정 제조장치의 종 단면도.
제2a도내지 제2h도는 각각 단결정 차폐본체 실시예의 종단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 전로(receiver) 2 : 도가니(crucible)
3 : 용융물 4 : 인출장치(pulling olevice)
5 : 단결정(single crystal) 6 : 본체(body)
7 : 내부(inner portion) 8 : 외부
9 : 하단(lower end) 10 : 표면
11 : 배기포오트(exhaust ports) 12 : 오리피스(orifice)(또는 슬롯(slot)
13 : 부착지주(attachment struts) 14 : 스크린(screen)
l5 : 내부림(inner rim) 16 : 외부림(outer rim)
이 발명은 초크랄스키방법(Czochralski method)에 의한 실리콘구성단결정 제조장치 및 그 제조방법에 관한것이다.
이 방법의 주요한 특징은 주위환경과 시일링(sealing)을 한 전로(receiver)내에서 단결정성 종결정(monocrystalline seed crystal)을 도가니내에 있는 용융재와 접촉시켜일정량의 그 용융재를 인출하여 그 종결정의 내측에서 처리중에 단결정이 성장을 개시하도록 하는데 있다.
대부분의 인출장치는 튜브형상 또는 원뿔형상본체로 장착되어 있으며, 그 본체는 종결정을 차폐한다.
특허문헌 미국특허제 4,330,362호에서는 단결정을 차폐하며, 그 용융재쪽으로 원뿔형상으로 형성되도록 선단이 가늘어서 결과적으로 컵형상을 가진 본체에 대하여 기재되어 있다.
그 본체의 전체길이 또는 그 일부분에 걸쳐 성장하는 단결정을 중심방향으로 하여 형성되는 이와같은 본체가 그 도가니벽에서 방출하는 열복사를 칸막이로 막는다.
이와같은 결과로 그 단결정은 더 많은 양으로 인출해 낼 수 있다.
단결정이 인출될때 실리콘모노옥사이드는 계속해서 생성되어 가스로서 그 용용물위에 있는 전로챔버(receiver chamber)내로 배출된다.
그 전로챔버를 불활성가스로 퍼지시켜(purge)그 실리콘모노옥사이드가 그 인출장치의 도가니영역에서 냉각부분에, 고체로서 용착되고, 그 단결정에서 그 결정전면(crystallization front)에 도달되며, 그 단결정에서 전위(dislocarious)를 발생하는 것을 방지한다.
통상적으로 불활성가스는 그 용융물표면방향으로 안내되어 생성한 실리콘모노옥사이드와 함께 그 전로챔버에서 완전히 배출된다.
그 단결정차폐본체는 그 용융물 위의 전로챔버를 내부와 외부(outer protion)로 분할된다.
실리콘모노옥사이드를 제거하는 불활성가스스트림은 일반적으로 그 용융물 표면쪽 전로챔버내부를 통하여 안내된다.
그다음, 불활성가스는 그 차펴본체의 하단과 용융물표면사이에서 그 전로챔버의 외부로 통과하며, 최종적으로 그 전로에 구성된 배기포오트를 통과한다.
안티몬(Sb)또는 비소(AS)로 도핑(dopong)을 한 결정을 제조할 때 그 단결정에서 높은 도판트(dopant)함량을 필요로 하는 제품규격을 사실상 달성할 수 있거나 극히 낮은 수율만을 달성할 수 있다.
고농도의 도판트(dopant)결합은 그 성장 단결정의 직경이 더 커질수록 더 어려워진다.
액상 실리콘에서 도판트의 증기압은 높아, 그 용융물은 도판트를 신속하게 감손시킨다(deplete).
따라서, 도판트의 부족을 제거하기 위하여 그 용융뮬을 도판트와 함께 과포화시키려는 시도가 있었따.
이와같은 시도에 의해 단결정의 전위형성을 촉진시켰으며, 인출을 계속하기전에 그 단결정은 시간소비형공정에서 용융시킬 필요가 있다.
일반적으로 상당량의 도판트가 그 도가니내에 남아 있게되어 그 결정격자에 도판트가 결합되어야 하는 소요량을 더이상 얻을수가 없다.
따라서, 이 발명의 목적은 고함량의 비소(As)또는 안티몬(Sb)을 가진 단결정을 기술적으로 어려움없이 수율좋게 제조할 수 있도록 하는 초크랄스키방법(zochralski method)에 의해 실리콘으로 구성된 단결정의 제조를 개량시키는 데 있다.
이 발명은 주로 불활성가스로 퍼지(purge)시킬 수 있는 전로(receiver)와, 용융물 수용도가니(crucible)과, 그 단결정을 그 용융물에서 인출하는 장치 및 그 성장하는 단결정을 차폐시키며 그 용융물 위에 있는 전로챔버를 내부와 외부로 분할하는 트뷰형성 또는 원뿔형상본체를 구성시켜, 그 용융물쪽 전로챔버의 내부로 안내되는 불활성가스를 그 본체의 하단과 용융물 사이에서 그 전로챔버의 외부로 통과하도록 하는 초코랄스키방법에 의한 실리콘구성 단결정의 제조장치에 있어서, 그 본체가 적오도 하나의 오리피스(oripice)를 구성시켜, 불활성가스가 그 오리피스를 통하여 그 전로챔버의 내부에서 외부로 직접통과할 수 있도록 구성함을 특징으로 하는 실리콘구성 단결정의 제조장치에 관한 것이다.
또, 이 발명은 단결정을 전로(receiver)내에서 도가니에 있는 용융물로부터 인출시켜, 그 단결정을 차폐하며 그 용융물위에 있는 전로챔버를 내부와 외부로 분할시키는 튜브형성 또는 원뿔형상 본체에 의해 포위시키며, 불활성가스스트림을 그 용융물 표면쪽 전로챔버의 내부를 통하여 그 본체의 하단과 그 표면사이에서 전로챔버의 외부로 안내하는 초크랄스키바업에 의한 실리콘구성 단결정의 제조방법에 있어서, 그 불활성가스스트림의 일부가 그 본체의 적어도 하나의 오리피스를 통하여 전로챔버의 그 내부에서 외부로 직접 안내함을 특징으로 하는 단결정 제조방법에 관한 것이다.
위 방법과 장치에서 제안한 변형은 실리콘으로 구성되고 안티몬과 비소로 도핑(doping)을 한 단결정제조에 있어서 종래의 기술적인 어려움을 극복하는데 충분함을 기대이상을 얻었다.
이 발명은 특히 직경 100mm이상의 단결정을 제조하는데 효과적이다.
그 이유는 종래의 경우와 같이 단결정을 인출시키는 용융물을 포화레벨이상의 도판트로 농축시킬 필요가 없기 때문이다.
더욱이, 이 방법은 단 결정에 산소를 결합시켜 실리콘구성 단결정을 제조하는데 기술적으로 중요한 의미가 있다.
이와같은 추가적인 효과는 그 타입과 강제적으로 도입한 도판트의 양과 관련이 없으며, 예로서 보론 또는 인과 도핑하는 경우 동일하여 발생한다.
처리를 완료한 단결정에서 측정한 산소함량은 그 단결정을 차폐하는 본체내에서 오리피스(orifice)의 수와 크기에 따라 변동된다.
그 단결정에 의해 흡수한 산소의 절대량과 단결정에서 산소농도의 축방향 프로필(axial profile)에 영향을 줄 수 있다.
이와같이, 예로서 그 단결정의 팁(tip)에서 단부까지 다소 감소되는 산소농도를 얻을 수 있다.
위의 구체적인 설명에서, 이 발명은 실리콘으로 구성되고 안티몬과 비소로 도핑을 한 단결정의 제조를 무엇보다도 단순화시켜, 그 용융물의 표면상의 가스공간내에서 그 흐름상태에 대한 효과를 바람직하게 한다.
이 발명을 도면에 따라 구체적으로 아래에 설명한다.
서로 다른 도면에 나타낸 부호는 동일한 장치의 특징에서 동일하다.
우선, 제1a도내지 제1d도에 대하여 설명한다.
이 발명에 의한 장치는 용융실리콘으로 충전되고 경우에 따라 도판트를 첨가한 도가니(2)를 수용하는 전로(recliver)(1)를 구성한다.
그 용융물(3)에서 인출장치(4)에 의해 단결정(5)을 인출한다.
그 단결정은 회전대칭본체(6)에 의해 구성되며, 그 회전대칭본체(6)는 그 단결정을 차폐하며, 그 용융물 위에 있는 전로챔버를 내부(7)와 외부(8)로 분할한다.
그 회전대칭본체의 하단(lower end)(9)과 그 용융물의 표면(10)사이의 거리는 5∼50mm가 바람직하며, 제1a 도내지 제1d도의 화살표로 나타낸바와 같이 그 전로챔버의 내부(7)로 안내되는 불활성가스가 그 회전대칭본체의 하단(9)과 그 용융물의 표면(10)사이의 갭을 통하여 그 전로챔버의 외부(8)로 통과할 수 있다.
그 전로의 벽내에 하나이상의 배기포오트(exhaust ports)(11)에서와 같이 그 전로챔버의 외부(8)에서 불활성가스스트림의 또 다른 경로를 동일하게 화살표로 나타낸다.
단결정을 차폐하는 본체(6)는 튜브형상 또는 원뿔형상을 가진다.
원뿔형상본체의 경우, 그 단결정과 그 본체의 내벽사이의 거리는 그 본체의 하단으로 갈수록 계속하여 감소된다.
튜브형상본체의 경우 그 거리는 그 본체의 전체높이에 걸려 일정하다.
일정한 최소높이를 초과하고, 그 본체에 의해 성장하는 단결정의 열영역과 칸막이를 하여 예방조치를 항상 취할때, 그 본체의 높이는 이 발명에 대하여 별로 중요하지 않다.
예로서, 제1b도에 나타낸 본체(6)는 그 전로(1)의 상부경계(upper demarcation)에서 도가니(2)내에 바로 구성되어 있다.
이 발명에 의해, 그 단결정을 포위하는 본체의 벽은 완전 밀폐되어 있지 않고, 적어도 하나의 오리피스(orifice)(12)를 구비하며, 그 오리피스를 통하여 그 전로챔버의 내부에서 그 용융물의 표면(10)으로 안내되는 불활성가스스트림이 그 전로챔버의 외부(8)로 부분적으로 직접 통과한다.
그 오리피스의 전체영역에 의해 소정의 분할비를 설정할 수 있고, 이 분할비에 의해 그 불활성가스스트림을 섭스트림(substreams)으로 분리하며, 그 섭스트림은 그 전로챔버의 내부를 서로 다른 경로를 통하여 떠난다.
그 본체(6)내의 오리피스(12)를 통하여 유입되는 섭스트림은 전로챔버의 외부로 분포가 균일하게 방사상으로 통과하는것이 바람직하다.
이와같이, 다수의 오리피스 예로서, 천공구멍은 그 본체의 주변에서 동거리로 구성시킬 수 있다.
제1a도의 실시예에 의해, 그 본체(6)의 오리피스는 그 본체의 주위에서 일정한 간격으로 배치한 다수의 슬롯(slot)으로 구성한다.
특히, 그 단결정을 차폐하는 본체의 바람직한 실시예를 제2a도 내지 제 2h도에서 나타낸다.
여기서 나타낸 본체의 오리피스는 슬롯(12)형상을 취하며, 그 슬롯은 본체의 주변에 따라 형성되고, 본체의 하부를 지지하는 부착지주(attachment struts)(13)에 의해서만 구성되어 있다.
또, 서로 설치한 2개 이상의 슬롯을 구성할 수 있다.
바람직한 슬롯의 폭은 5∼50mm이다.
그 단결정을 차폐하는 본체는 스크린(screen)(14)에 의해 본체하단에서 경계를 이루며, 그 스크린은 하나의 링(ring)으로 구성되는 것이 바람직하고 그 용융물의 표면과 수평하게 간격을 둔다.
제 2a도, 제 2d 도, 제 2e 도, 제 2h 도에 의한 실시예는 그 스크린(14)의 표면에 대해겨 슬롯(12)의 위치를 나타낸 다른 실시예와 다르다.
이에 대하여, 위 실시예의 경우 부착지주에 의해 지지된 그 본체의 하부가 스크린에 의해 형성되며, 그 나머지 실시예의 경우 그 하부는 스크린과, 그 스크린상에 설정된 그 본체의 원통형벽 또는 원뿔형벽의 일부로 구성되어 있다.
이 스크린의 구조에 의해 그 용용물 위에 있는 전로챔버내에서 그 흐름상태에 추가로 영향을 줄수 있다.
그 스크린의 내부림(inner rim)(15)이 그 전로챔버의 내부로 돌출되어 그 단 결정쪽으로 10-80mm 정도 형성된다.
그 스크린의 외경은 그 스크린이 외측 전로챔버내로 외부림(outerrim)(16)으로 돌출시켜, 그 도가니의 내벽쪽으로 예로서 l0∼80mm 정도 구성되도록 선택할 수 있다. 그러나 그스크린의 외경은 스크린(제2C도 및 제2g도에 의한 실시예)의 표면상에 설정하거나 또는 그 표면(제 2d 도 및 제 2h 도에 의한 실시예)쪽으로 향한 본체의 원통형부분 또는 원뿔형부분의 외경보다 더 작게 선택할 필요는 없다.
Claims (4)
- 불활성가스로 퍼지(purge)시킬수 있는 전로(receiver)와, 용융물 수용도가니(crucible)와, 그 용용물에서 단결정을 인출하는 장치 및 그 성장하는 단결정을 차폐하며 그용융물 위에 있는 전로챔버(receiver chamber)를 내부(inner portion)와 외부로 분할하는 튜브형상 또는 원뿔형상 본체를 주로 구성하여, 그 용용물쪽 전로챔버의 내부로 안내되는 불활성가스가 그 본체의 하단과 용용물표면사이에서 그 전로챔버의 외부로 통과하도록 구성하는 초크랄스키방법에 의한 실리콘구성단결정의 제조장치에 있어서, 그 본체가 적어도 하나의 오리피스(orifice)를 구성하여 그 오리피스를 통하여 불활성가스가 전로챔버의 내부에서 외부로 직접 통과하도록 구성함을 특징으로 하는 단결정 제조장치.
- 제1항에 있어서, 그 본체내의 오리피스는 그 본체의 주변(perimeter)에 따라 형성되는 슬롯(slot)으로 구성됨을 특징으로 하는 단결정 제조장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 그 본체는 환상스크린(anular screen)에 의해 그 본체의 하단에서 경계를 이루도록 구성함을 특징으로 하는 단결정 제조장치.
- 단결정을 차폐하며 그 용융물 위에 있는 전로챔버를 내부와 외부로 분할하는 튜 브형상 또는 원뿔형상 본체에 의해 포위되어 있는 단결정을 도가니내에 있는 용융물에서 인출하며, 그 용융물 표면쪽 전로챔버의 내부를 통하여 그 본체의 하단과 그 표면사이에 불활성가스를 전로챔버의 외부로 안내하는 초크랄스키방법에 의한 실리콘구성단결정 제조방법에 있어서, 그 불활성가스스트림 일부가 그 본체내에서 적어도 하나의 오리피스를 통하여 그 전로의 내부에서 그 외부로 직접 안내함을 특징으로 하는 단결정 제조방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4442829A DE4442829A1 (de) | 1994-12-01 | 1994-12-01 | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls |
DE94-P44,42,829,4 | 1994-12-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960023271A KR960023271A (ko) | 1996-07-18 |
KR0185467B1 true KR0185467B1 (ko) | 1999-04-15 |
Family
ID=6534669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950044146A KR0185467B1 (ko) | 1994-12-01 | 1995-11-28 | 실리콘단결정의 제조장치및 그 제조방법 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5578123A (ko) |
EP (1) | EP0715005B1 (ko) |
JP (1) | JP2855098B2 (ko) |
KR (1) | KR0185467B1 (ko) |
CN (1) | CN1044921C (ko) |
DE (2) | DE4442829A1 (ko) |
MY (1) | MY112189A (ko) |
RU (1) | RU2102539C1 (ko) |
TW (1) | TW302497B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210072073A (ko) * | 2018-10-12 | 2021-06-16 | 실트로닉 아게 | 용융물로부터 cz 법에 의해 반도체 재료의 단결정을 인상하기 위한 장치 및 장치를 사용하는 방법 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0859386A (ja) * | 1994-08-22 | 1996-03-05 | Mitsubishi Materials Corp | 半導体単結晶育成装置 |
DE19546987A1 (de) * | 1995-12-15 | 1997-06-19 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Einkristalls |
JP3653647B2 (ja) * | 1996-05-31 | 2005-06-02 | イビデン株式会社 | シリコン単結晶引き上げ装置用の保温筒 |
DE19628851A1 (de) * | 1996-07-17 | 1998-01-22 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristalls |
JPH10101482A (ja) * | 1996-10-01 | 1998-04-21 | Komatsu Electron Metals Co Ltd | 単結晶シリコンの製造装置および製造方法 |
US5904768A (en) * | 1996-10-15 | 1999-05-18 | Memc Electronic Materials, Inc. | Process for controlling the oxygen content in silicon wafers heavily doped with antimony or arsenic |
US6485807B1 (en) | 1997-02-13 | 2002-11-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Silicon wafers having controlled distribution of defects, and methods of preparing the same |
US6503594B2 (en) | 1997-02-13 | 2003-01-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Silicon wafers having controlled distribution of defects and slip |
SG64470A1 (en) | 1997-02-13 | 1999-04-27 | Samsung Electronics Co Ltd | Methods of manufacturing monocrystalline silicon ingots and wafers by controlling pull rate profiles in a hot zone furnace and ingots and wafers manufactured thereby |
US5911825A (en) * | 1997-09-30 | 1999-06-15 | Seh America, Inc. | Low oxygen heater |
JP3267225B2 (ja) * | 1997-12-26 | 2002-03-18 | 住友金属工業株式会社 | 単結晶引き上げ方法、及び単結晶引き上げ装置 |
US8152921B2 (en) * | 2006-09-01 | 2012-04-10 | Okmetic Oyj | Crystal manufacturing |
ATE539182T1 (de) | 2009-05-13 | 2012-01-15 | Siltronic Ag | Verfahren und vorrichtung zur züchtung eines siliciumeinzelkristalls durch schmelzung |
CN101914808A (zh) * | 2010-07-19 | 2010-12-15 | 常州天合光能有限公司 | 可消除挥发份在热屏外侧沉积的单晶炉热场 |
US10060046B2 (en) | 2014-09-19 | 2018-08-28 | Corner Star Limited | Crystal puller for inhibiting melt contamination |
RU2663130C1 (ru) * | 2018-02-12 | 2018-08-01 | Акционерное общество "Управляющая компания "АКЦЕНТ" | Способ выращивания монокристалла кремния из расплава |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2821481C2 (de) * | 1978-05-17 | 1985-12-05 | Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen | Vorrichtung zum Ziehen von hochreinen Halbleiterstäben aus der Schmelze |
DE3005492C2 (de) * | 1980-02-14 | 1983-10-27 | Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen | Verfahren zur Herstellung reinster Einkristalle durch Tiegelziehen nach Czochralski |
JPH0639352B2 (ja) * | 1987-09-11 | 1994-05-25 | 信越半導体株式会社 | 単結晶の製造装置 |
EP0340941A1 (en) * | 1988-04-28 | 1989-11-08 | Nkk Corporation | Method and apparatus for manufacturing silicon single crystals |
JP2686460B2 (ja) * | 1990-03-12 | 1997-12-08 | 住友シチックス株式会社 | 単結晶製造方法 |
DE4204777A1 (de) * | 1991-02-20 | 1992-10-08 | Sumitomo Metal Ind | Vorrichtung und verfahren zum zuechten von einkristallen |
JP2795036B2 (ja) * | 1992-02-04 | 1998-09-10 | 信越半導体株式会社 | 単結晶引上装置 |
JP2952733B2 (ja) * | 1992-10-09 | 1999-09-27 | コマツ電子金属株式会社 | シリコン単結晶製造方法 |
JP2807609B2 (ja) * | 1993-01-28 | 1998-10-08 | 三菱マテリアルシリコン株式会社 | 単結晶の引上装置 |
-
1994
- 1994-12-01 DE DE4442829A patent/DE4442829A1/de not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-09-26 TW TW084110074A patent/TW302497B/zh not_active IP Right Cessation
- 1995-10-10 US US08/541,341 patent/US5578123A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-25 MY MYPI95003202A patent/MY112189A/en unknown
- 1995-11-20 CN CN95117532A patent/CN1044921C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-28 KR KR1019950044146A patent/KR0185467B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-11-30 EP EP95118840A patent/EP0715005B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-30 DE DE59505372T patent/DE59505372D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-30 RU RU95121442A patent/RU2102539C1/ru active
- 1995-12-01 JP JP7335638A patent/JP2855098B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210072073A (ko) * | 2018-10-12 | 2021-06-16 | 실트로닉 아게 | 용융물로부터 cz 법에 의해 반도체 재료의 단결정을 인상하기 위한 장치 및 장치를 사용하는 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1129747A (zh) | 1996-08-28 |
EP0715005B1 (de) | 1999-03-17 |
TW302497B (ko) | 1997-04-11 |
KR960023271A (ko) | 1996-07-18 |
CN1044921C (zh) | 1999-09-01 |
US5578123A (en) | 1996-11-26 |
JP2855098B2 (ja) | 1999-02-10 |
DE4442829A1 (de) | 1996-06-05 |
JPH08225397A (ja) | 1996-09-03 |
RU2102539C1 (ru) | 1998-01-20 |
EP0715005A1 (de) | 1996-06-05 |
DE59505372D1 (de) | 1999-04-22 |
MY112189A (en) | 2001-04-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR0185467B1 (ko) | 실리콘단결정의 제조장치및 그 제조방법 | |
US4203951A (en) | Apparatus for growing single crystals from melt with additional feeding of comminuted charge | |
KR100563425B1 (ko) | 안티몬또는비소로고농도도핑된실리콘웨이퍼들에서산소함유량을제어하기위한방법및장치 | |
US8142565B2 (en) | Vitreous silica crucible for pulling single-crystal silicon | |
US4317667A (en) | Method and apparatus for fabricating lightguide preforms | |
JPS6379790A (ja) | 結晶引上げ装置 | |
KR970006204A (ko) | 석영유리 블랭크 제조방법 및 이에 사용되는 장치 | |
JPH0676274B2 (ja) | シリコン単結晶の製造装置 | |
US20070271964A1 (en) | Method and Device for Producing a Hollow Quartz-Glass Cylinder | |
KR102256991B1 (ko) | 실리콘 단결정의 제조 방법, 정류 부재 및, 단결정 인상 장치 | |
US3084381A (en) | Production of fibers from thermoplastic material, particularly glass fibers | |
JPH06247789A (ja) | 単結晶引上げ装置用不活性ガス整流・吹付け装置 | |
US4707173A (en) | Method of fabricating porous glass rod and apparatus for fabricating the same | |
US7300517B2 (en) | Manufacturing method of hydrogen-doped silicon single crystal | |
EP0417948A2 (en) | Method and apparatus for pulling up silicon single crystal | |
US5059401A (en) | Monocrystal growing apparatus | |
KR101467075B1 (ko) | 잉곳 성장 장치 및 잉곳 성장 방법 | |
KR100462137B1 (ko) | 단결정인상장치 | |
JPS62162637A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
JPH03199192A (ja) | シリコン単結晶引上げ用ルツボ | |
KR830001253B1 (ko) | 섬유화용 글래스 섬유 조성물 | |
US5394830A (en) | Apparatus and method for growing long single crystals in a liquid encapsulated Czochralski process | |
KR850000289B1 (ko) | 단일모우드 광 파이버모재(光 Fiber 母材)의 제조방법 | |
GB2155806A (en) | Apparatus for replenishing a melt | |
KR20180057999A (ko) | 단결정 잉곳 성장 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121213 Year of fee payment: 15 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131212 Year of fee payment: 16 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141211 Year of fee payment: 17 |
|
EXPY | Expiration of term |