KR0169584B1 - 납이 함유되지 않은 땜질용 주석-비스므스 합금 - Google Patents
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Abstract
전기 및 전자용 동 및 동합금 부품을 담금땜질하는 경우에는 납(Pb)이 40~70wt%(중량 퍼센트) 함유한 땜납(solder)이 아직도 널리 사용되고 있으며, 근래에 들어 납(Pb) 성분으로 인한 공해문제가 심각히 지적되고 있다.
이러한 관점에서 본 발명은 납(Pb)을 함유하지 않은 새로운 땜질 합금을 개발함으로써, 중금속인 납(Pb) 성분의 배출을 근원적으로 차단하여 공해를 방지하고, 납(Pb) 성분을 방출시키지 못하게 하는 집진설비를 특별히 고려하지 않아도 될 수 있도록 하는 데 기여코자 하였다.
그리고, 본 발명인 새로운 땜질 합금은 우선 용융점이 232℃인 주석(Sn)과 용융점이 271℃인 비스므스(Bi)를 합금한 2원합금이다. 이들의 2원합금 상태도를 보면 주석(Sn)과 비스므스(Bi)의 중량비율을 각각 43%와 57%으로 합금할 때, 용융점이 139℃로 낮아진 공정합금이 형성된다. 그러나 이 공정합금은 응고한 후의 금속특성에 있어서 강도는 높지만 아주 취약하여 충격을 주면 잘 깨어진다. 따라서 응고 후에 적당한 강도와 연성을 갖으며, 용융상태에서는 땜질 재로로서 구비해야 할 점도, 피접물에 대한 젖음성, 땜질재의 도포성, 응고 후 광택 및 땜질재 강도 등의 땜질특성을 고려하여 비스므스(Bi)를 0.5~30.0wt%(중량 퍼센트)의 범위로 합금하여 종래의 납(Pb) 땜질재와 비교하여 손색이 없도록 하였다.
Description
본 발명은 납(Pb)이 함유되지 않은 땜질(solder)용 주석(Sn)-비스므스(Bi) 합금에 관한 것이다.
일반적으로 전기 및 전자부품 재료가 동 및 동합금인 경우에, 이를 땜질할 때에는 납(Pb)이 40~70wt%(중량 퍼센트) 함유한 땜납(solder)이 아직도 널리 사용되고 있으며, 근래에 들어서는 납(Pb) 성분으로 인한 공해문제가 심각히 지적되고 있다.
납(Pb) 성분은 중금속으로서, 일단 몸속에 들어오면 축적되어 인체에 불치의 해를 미치므로, 가능한 한 그 사용분야나 외부로의 성분배출을 규제해야 하는 물질로 분류됨은 주지의 사실이다.
실제로 납땜질을 수행하는 작업장의 예에서는 납땜을 400~420℃ 정도의 고온으로 용융하여 땜질작업을 하므로 대기중에 납성분이 비산되고 있다.
따라서, 이를 제거하기 위해 집진장치 등으로써 오염을 막고는 있으나, 경우에 따라서는 완벽할 수 없으며 장치의 설비, 가동 및 보수를 위한 지속적인 경제적 부담도 크다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 납(Pb)을 전혀 첨가하지 않은 새로운 땜질용 합금을 개발함으로써, 중금속인 납(Pb) 성분의 배출을 근원적으로 배제하여 공해를 방지하고자 땜질온도, 땜질재의 도포성, 용융상태에서 땜질재의 점도, 피땜질재와의 젖음성 및 땜질 후 표면광택 등의 효과가 종래의 납(Pb) 땜질재와 비교하여 손색이 없는 합금재를 제공하는데 있다.
상기와 같은 본 발명의 목적은 동 및 동합금을 땜질하는 담금땜질재(dipping solder)에 있어서,
0.5~30.0wt%(중량 백분율) 비스므스(Bi), 나머지는 주석(Sn)으로 조성되는 것을 특징으로 하는 납(Pb)이 함유되지 않은 땜질(solder)용 주석(Sn)-비스므스(Bi) 합금을 제공함으로써 달성된다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하고 종래의 결점을 제거하기 위한 과제를 수행하는 본 발명의 실시예인 구성과 그 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 땜질합금은 우선 용융점이 232℃인 주석(Sn)과 용융점이 271℃인 비스므스(Bi)를 합금한 2원합금으로서, 이들의 상태도를 보면 주석(Sn)과 비스므스(Bi)를 각각 43%와 57%의 비율로 합금한 경우에 용융점은 139℃로 낮아진 공정공정합금이 된다.
그러나 이 공정합금은 응고한 후의 금속특성에 있어서 강도는 높지만 취성이 커 충격을 주면 잘 깨어진다.
따라서 응고 후에도 적당한 강도와 연성을 가지며, 용융상태에서는 땜질재로서 구비해야할 조건인 점도, 피접물에 대한 젖음성, 도포성, 응고 후 광택 및 땜질재의 강도 등과 같은 특성을 고려하여 비스므스를 0.5~30.0wt%(중량퍼센트)의 범위로 합금하였다.
여기서 주석(Sn)과 비스므스(Bi)의 함량을 조절하면, 땜질재의 땜질 특성을 제어할 수 있는 방안이 된다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예이다.
[실시예]
먼저 주석(Sn)과 비스므스(Bi)를 평량하여 함께 장입하고 석조중의 용탕온도를 300~450℃의 범위로 유지하고 가열하면 주석(Sn)과 비스므스(Bi)는 함께 용해되면서 합금된다.
보다 균질한 합금을 얻을 수 있도록 가끔 조용한 방법으로 용탕을 저어준다.
다음의 표 1은 본 발명의 땜질합금 중에서 몇 가지 대표적인 화학성분의 예이며, 표 2는 침적땜질법(dipping)에 의한 각 합금의 적정 땜질온도 및 땜질결과를 나타낸 것으로, 실용 조건에 충분히 만족하고 있다.
상기와 같은 본 발명의 함금은 땜질온도, 땜질속도, 용융상태에서의 땜질재의 점도, 피 땜질재와의 젖음성 및 땜질 후 광택 등의 효과를 종래의 다량 납(Pb)을 함유한 땜질재와 비교하여 손색이 없으며, 또한 중금속인 납(Pb)의 함량이 없어 중금속 오염의 문제가 없으면서도, 기존의 납(Pb)-주석(Sn) 합금계 땜질재료에 비하여 강도와 도전율을 향상시킴으로써 전자부품 땜질부의 접착강도를 증가시키고 전기비저항을 줄여 노이즈를 감소시키는 등의 효과가 있다.
Claims (1)
- 동 및 동합금을 땜질하는 담금땜질재(dipping solder)에 있어서, 0.5~30.0wt%(중량 백분율) 비스므스(Bi), 나머지는 주석(Sn)으로 조성되는 것을 특징으로 하는 납(Pb)이 함유되지 않은 땜질(solder)용 주석(Sn)-비스므스(Bi) 합금.
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KR1019950020949A KR0169584B1 (ko) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 납이 함유되지 않은 땜질용 주석-비스므스 합금 |
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KR1019950020949A KR0169584B1 (ko) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 납이 함유되지 않은 땜질용 주석-비스므스 합금 |
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KR970005493A KR970005493A (ko) | 1997-02-19 |
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KR1019950020949A KR0169584B1 (ko) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 납이 함유되지 않은 땜질용 주석-비스므스 합금 |
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US9796165B2 (en) | 2013-12-18 | 2017-10-24 | Delphi Technologies, Inc. | Ignition coil and method of assembly |
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1995
- 1995-07-13 KR KR1019950020949A patent/KR0169584B1/ko not_active IP Right Cessation
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