KR0159781B1 - 입체 분석 방법 및 그 장치와, 이 장치를 사용한 분쇄기롤 간극 조절 장치 - Google Patents

입체 분석 방법 및 그 장치와, 이 장치를 사용한 분쇄기롤 간극 조절 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 분입체의 입경, 입도 분석 방법과, 간단하게 구성되는 분입체의 입경, 입도 분석 장치에 관한 것으로서, 코히어런트광 발생부(1)와 이 코히어런트 발생부가 발하는 코히어런트광을 직접 수광하는 수광 소자(33)를 갖는 수광부(3)와의 사이에 피측정물의 입체를 통과시켜, 피측정물의 개개의 입체가 코히어런트광을 차단하여서 통과하는 차단 시간과 그 도수를 측정하여, 상기 차단 시간과 도수 및 임의의 계수의 연산에 의하여 피측정물의 입체를 분석함을 특징으로 하는 입체 분석 방법과, 코히어런트광 발생부(1)와, 상기 코히어런트광 발생부에 대향하여서 코히어런트광을 직접 수광하는 수광 소자(33)를 갖는 수광부(3)와, 상기 코히어런트광 발생부와 수광부의 사이에 피측정물의 입체가 코히어런트광을 차단하여서 통과하는 통로(4)와, 상기 수광부에 접촉하여서 그 출력으로부터 상기 입체가 상기 통로의 코히어런트광을 차단하여서 통과하는 차단 시간을 카운트하는 카운트부(5)와, 상기 카운트부의 출력과 이 출력치 마다의 도수 및 임의의 계수를 기억하는 기억부(7)와, 상기 카운트부의 출력과 이 출력치 마다의 도수 및 상기 기억한 임의의 계수로부터 연산을 행하는 연산부(6), 및 상기 연산부의 결과를 출력하는 출력부(8)로써 됨을 특징으로 하는 입체 분석 장치(10)에 관한 것이다.

Description

입체분석방법 및 그 장치와, 이 장치를 사용한 분쇄기롤 간극조절장치
제1도는 본 발명에 의한 입체 분석 장치의 블록도.
제2도는 제1도에 나타낸 분석 장치의 수광부와 카운트부의 블록도.
제3도는 수광부와 카운터부의 각 포인트에 있어의 신호의 타이밍 챠트.
제4도는 입체 분석 장치를 이용한 분쇄기롤 간극 조절장치의 블록도.
제5도는 목표 입경에 대한 누적 백분율을 나타낸 도면.
제6도는 포토다이오드를 수광부에 사용한 회로 구성예를 나타낸 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 레이저광 발생부(코히어런트광 발생부) 2 : 광섬유
3 : 포토트랜지스터부(수광부) 4 : 측정 채널부
5 : 카운트부 6 : 연산부
7 : 출력부 10 : 입체 분포 장치
20 : 롤 간극 조절 장치 21 : 제어부
22 : 분쇄롤 23 : 샘플링부
24 : 체 31 : 풀업 전원
32 : 보호 저항 33 : 포토트랜지스터
51 : 발신기 52 : AND 회로
53 : 카운터 IC 54 : 플립 플롭
55,56 : 단안정 멀티바이브레이터
본 발명은, 분입체의 입경, 입도 분석 방법과, 간단하게 구성되는 분입체의 입경, 입도 분석 장치에 관한 것이며, 또한 상기 분석 장치를 사용한 분쇄기롤 간극 조절장치에 관한 것이다.
종래 기술에 있어서 분입체의 입도 분석에는, 현미경에서 얻어진 입자상을 직접 또는 사진으로 촬영하여 치수를 측정하는 관찰계수법(현미경법)과, 매체중에 입자를 분산시켜 입자의 침강 속도로부터 입자경을 아는 침강법과, 전해질 용액을 넣은 용기를 1개의 세공을 갖는 격벽으로 구획하고, 그 구획된 쌍방의 액중에 전극을 넣고, 전극 사이에 일정한 전압을 걸어 전류를 격벽의 세공을 통하여 흐르도록 구성하고, 어떤 체적을 갖는 입자가 이 세공을 통과하면 세공의 용적이 감소하여, 입자의 체적에 비례해서 저항치가 증대하는 현상을 이용한 엘렉트로존(zone)법이 있다. 또한, 현탁도의 미소부분에 레이저 광을 조사(照射)하여서 다수의 입자에 의하여 산란한 빛의 강도의 미소 시간 변동을 측정하여, 큰 입자는 작은 입자보다 움직임이 완만하여, 이 변동을 신호로 바꿔, 변동의 자기상관함수를 계산하여 확산식에 적용하여, 입도 분포를 구하는 동적광산란법이 있다. 또한, 매체중에 현탁한 입자 군에 레이저 광을 조사하여 회절한 빛을 렌즈로 집광하여서 얻어지는 회절상 링의 직경과 그 회절광의 강도를 측정하는 회절법, 또, 비교적 큰 입자를 충전한 고정상에 액체의 이동상을 층류 상태에서 유동시켜서, 고정상의 입구에서 이동상에 현탁액을 주입하면, 고정상의 출구로부터는 최초에 큰 입자, 순차적으로 최후에 가장 작은 입자의 순으로 나온다는 현상을 이용한 하이드로디이나믹 클로마토그래피법등을 들 수 있다.
이상의 방법은 시험, 연구에는 사용 가능하지만, 분체를 취급하는 공장등에서는 분석 시간, 샘플링, 자동화, 코스트면으로 볼때 분체의 자동 분석 장치로서 사용할 수는 없었다.
그런데, 보리등의 제분은 블레이킹, 리덕션이라 불리우는 분쇄 공정과, 퓨리파이어, 시브등의 선별 분급 공정과의 복수의 공정을 복잡하게 조합하여서 제품을 제조하고 있는데, 제분은 입자의 입도가 중요시되어, 그의 좋고 나쁨이 결정된다. 따라서, 분쇄 공정에서의 분쇄 상태, 즉 분쇄기의 롤 간극의 조절에 의하여 어떻게든 변화하는 분쇄 입도의 조절이 중요하다. 이 분쇄 입도의 조절은, 분쇄기의 롤 간극 조절에 의하여 행해지는데, 그 기준으로 되어 있는 것은, 분쇄롤을 통한 분쇄입을 몇가지의 체(테스트십)를 통하여서 체의 위에 남은 망상 잔입 분체를 입경에 대한 누적 망상 잔입율(%)로서 구한 것으로서, 이 값이 목표로 하는 누적 망상 진입율(%)로 되도록 분쇄롤의 간극 조절을 행하도록 하였다.
따라서, 제분의 분쇄, 만쇄(挽碎) 공정의 롤 간극 조절은, 그때 그때 테스트십에 의한 분쇄입을 분석해서 행하는 시간을 고려하면, 오퍼레이터의 감(분쇄입의 손짐작, 외관)에 의하는 일이 많다. 한편, 자동화를 향하여, 상기 십의 투입측과 배출측의 2개소에 유량계를 형성하여서, 투입측과 배출측의 유량차에 의하여 망상 잔입율을 구하거나, 레이저 회절에 의하여 분쇄입의 입도 분포를 구하거나 하는 일도 행해지고 있으나, 계측기를 많이 필요로 하고, 계측 장치가 고가이고 해서, 그 실용화가 어렵다.
본 발명은, 피분쇄물의 종류 여하에 불구하고, 원료를 분쇄하는 설비의 계통을 자동화하기 위한, 분쇄 입도의 자동 분석 장치의 개발을 기술적 과제로 하고 또한, 구조도 간단하고 염가인 분체 분석 방법과 그 장치 및 그 장치에 의한 분쇄기 롤 간극 조절 장치의 제공을 기술 과제로 한다.
본 발명은, 피측정물의 입체를 코히어런트광 발생부와, 코히어런트광을 직접 수광하는 수광 소자를 갖는 수광부와의 사이를 통과시켜 피측정물의 입체가 코히어런트광을 차단하여서 통과하는 차단 시간을 그 도수와 함께 측정하여, 상기 차단 시간과 도수 및 임의의 계수와의 연산에 의항 피측정물의 입체를 분석함으로써 상기 과제를 해결하도록 하였다.
여기서, 입체의 분석이란, 입도 분포, 즉, 입자 마다의 입경을 단위로 하여, 그 단위의 도수(반복 회수)를 기초로 한 입도 분포를 뜻하고 있다. 그러나, 본 발명에 있어서의 단위는 입자에 의하여 빛이 차단되는 시간과, 그 시간으로부터 구해지는 길이, 또한 그 길이로부터 구해지는 입경의 어느것에 대한 도수를 포함하므로, 입경에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 입체 분석법 및 그 장치는, 코히어런트광 발생부와, 이 코히어런트광 발생부에 대향하여 코히어런트광을 직접 수광하는 수광 소자를 갖는 수광부와의 사이에서 코히어런트광을 차단하도록 피측정물을 통과시키면, 피측정물은 코히어런트광을 차단하므로, 그 사이 수광 소자에는 코히어런트광이 수광되지 않는다. 이때의 수광 소자에 접속한 카운트부로부터 얻어지는 빛의 차단 시간은, 피측정물의 크기에 비례하며, 그 시간은 피측정물의 이동속도에 반비례한다.
여기서, 피측정물의 이동 속도가 명확해지면, 차단 시간과 이동 속도에 의하여 코히어런트광을 차단한 피측정물의 길이를 구할 수가 있다. 이 길이는 피측정물을 구형이라 가정하면 피측정물의 직경으로 볼 수 있다.
이와 같이, 수광부에 접속한 카운트부로부터 얻어지는 차단 시간은, 피측정물의 입경과의 상관 관계를 갖는다. 따라서, 이미 알고 있는 입도 분포의 입체를 본 발명의 입체 분석 방법으로 분석하고, 여기서 얻어진 차단 시간과 그 도수와, 상기에서 이미 알고 있는 입도 분포와의 상관 계수를 구하여서, 이를 임의의 계수로 하면, 피측정물이 코히어런트광을 차단하는 시간과 그 도수를 얻음으로써 미지의 피측정물의 입도 분포를 용이하게 구할 수가 있다.
또, 장치로서도, 피측정물이 통과했을때의 코히어런트광의 차단 시간과 도수를 계측하기만 하면 되며, 코히어런트광 발생부, 즉 일반적으로 레이저광과 이 레이저광에 대향해서 레이저광을 직접 수광하는 수광 소자를 갖는 수광부, 즉 일반적으로 포토트랜지스터에 의하여 센서 부분을 간단하게 구성할 수가 있다.
연산부는, 카운트부의 출력과 기억부에 기억하는 임의의 계수에 의하여 피측정물의 입도 분포를 연산함과 동시에, 보리등에 사용되는 제분기(블레이킹 등)의 롤 간극 조절의 목표로 되는 누적 백분율의 목표 입경을 기억부에 설정해 놓고, 목표 입경과 상기 입도 분포로부터 목표 입경에 대한 누적 백분율을 연산하여서, 출력부로부터 피측정물의 입도 분포와 누적 백분율을 출력할 수가 있다.
제어부에 있어는, 출력부로부터 출력하는 목표 입경에 대한 누적 백분율과, 목표의 누적 망상 잔입율과의 차이를 롤 간극 조절부로 출력한다.
롤 간극 조절부에 있어는, 제어부의 출력치에 따라서 롤 간극 조절이 실행된다.
그런데, 전술한 임의의 계수와 카운트부의 출력으로부터 연산부에서 입도 분포로 산출하였는지를 기재하였는데, 구한 입도 분포로부터 또한 목표 입경에 대한 누적 백분율을 중량으로 구하기 위한 다른 임의의 계수를 형성하는 일, 또는 카운트부의 출력으로부터 연산부에서 직접 중량으로 환산하는 다른 계수를 형성하는 일등, 임의의 계수는 입도 분포를 구하는 것에 한정되지 않는다.
또, 입도 분포를 구할때의 임의의 계수는, 그 예로서, CCD 카메라 등을 이용한 등가원 직경법에 의항 구해지는 등가원 직경(면적) 및 그 도수와, 앞서의 카운트부의 출력 및 그 도수와의 상관에 의하여 구할 수도 있다.
다음에, 첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 구체적 실시예를 설명한다.
먼저, 제1도에 의하여, 본 발명의 입체 분석 방법의 구체적인 실시예를 입체 분석 장치(10)로 나타낸다.
부호 1은 He-Ne Gas Laser(이하, 가스레이저(1)라 한다)를 주구성 요소로 하는 코히어런트광 발생부로서, 이 가스레이저(1)의 레이저광을 직접 수광하도록, 이 가스레이저(1)에 대향하여서 그 수광면을 향하게 한 광섬유(2)로 형성되어 있다. 이 광섬유(2)는, 포토트랜지스터를 수광 소자에 형성한 수광부(이하, 포토트랜지스터부라 한다)(3)에, 가스레이저광을 보낸다. 이 가스레이저(1)와 광섬유(2)는, 분체를 발생하는 기기의 내부에 형성할 수도 있으나, 다른 방법으로서, 상기 기기로부터 분체의 바이패스로(路)를 형성하고, 이 바이패스로의 일부에 레이저광을 투과하는 측정 채널부(4)를 형성함과 동시에, 이 측정 채널부(4)를 끼워 가스레이저(1)와 광섬유(2)를 대향하여서 형성할 수도 있다.
한편, 포토트랜지스터부(3)의 상기 출력은 그대로 카운트부(5)로 입력된다. 카운트부(5)는, 내부에 발진 부분을 갖고 이 발진 주파수와, 입체의 통과에 의한 레이저광의 차단으로 발생하는 포토트랜지스터부(3)의 상기 출력(구형파)의 변화에 의하여, 입체의 통과에 의해 레이저광이 차단된 시간을 계산하여 출력한다.
제2도에 의하여 포토트랜지스터부(3)와 카운트부(5)를 더 설명한다.
광섬유(2)에 접속하는 포토트랜지스터(33)는, 콜렉터를 풀업 전원(31)에 보호 저항(32)을 통하여 접속하며, 에미터를 그라운드에 접지하였다. 이상으로써, 포토트랜지스터부(3)를 형성한다. 포토트랜지스터는 그 베이스 영역에 입사하는 빛에 따라서 ON/OFF 동작을 행한다. 그리고, 포토트랜지스터(33) 대신에 포토다이오드(33')를 사용할 수도 있으며, 광전 검출 소자이어도 무방하다. 포토다이오드(33')를 포토트랜지스터(33) 대신에 광전 검출 소자로서 사용했을 때의 수광부(3')의 회로 구성예를 제6도에 나타낸다. 동도면에 나타내는 수광부(3')는, 포토다이오드(33')를 흐르는 전류치를 전압치로 변환하는 전류·전압 변환 회로(35)와, 일방의 입력에 정전압원(39)으로부터의 기준 전압을 받아 전류·전압 변환 회로로부터의 출력 전압과 비교하는 비교 회로(36), 및 슈밋인버터 회로(37)를 구비한다. 또, AND 회로(52)와, AND 회로(52)에 기준펄스를 입력하는 발진기(51)와 AND 회로(52)의 출력 신호를 접속한 카운터 IC(53)와, 카운터 IC(53)와 데이터 버스 F를 통하여 접속한 플립플롭(54)과, 포토트랜지스터부(3)의 신호에 의하여 플립플롭(54)과 카운터 IC(53)에 각각 원숏 신호를 출력하는 단안정 멀티 바이브레이터 회로(55,56)에 의하여 카운트부(5)가 형성된다.
포토트랜지스터(33)는, 광섬유(2)를 통하여 수광하는 레이저광에 의하여 ON 상태이며, AND 회로(52)에 대하여 포인트 A에서 로우(low) 상태를 나타내는데, 입체가 레이저광을 차단하면, 포토트랜지스터(33)는 OFF로 되며, 포인트 A에서 하이(high) 상태로 된다. 이에 따라서, AND 회로(52)는, 카운터 IC(53)에 발진기(51)의 신호를 출력한다. 이 포인트 C의 신호는, 발진기(51)의 펄스와 포인트 A의 신호와의 AND 논리에 의하여 출력되는 펄스 신호이다. 또, 카운터 IC(53)는, AND 회로(52)의 포인트 C의 신호를 디지탈 변환하여서 포인트 F의 신호를 플립플롭(54)에 출력한다.
분체가 레이저광을 통과 완료하면 포토트랜지스터(33)는 다시 ON 상태로 되어 포인트 A는 로우 상태로 되며, 따라서 AND 회로(52)는 신호 출력을 정지한다. 한편, 포인트 A가 로우로 변화하면, 단안정 멀티 바이브레이터(55)는 포인트 A의 신호의 강하를 보고, 플립플롭(54)과 연산부(6)에 원숏 신호를 출력한다. 이 신호에 의하여 플립플롭(54)은 연산부(6)에 디지탈 신호를 출력한다. 또한, 단안정 멀티 바이브레이터(56)는 단안정 멀티 바이브레이터(55)의 강하를 보아서, 카운터 IC(53)에 원숏 신호를 출력하여 카운터 IC(53)를 리셋한다. 플립플롭(54)은, 다음의 원숏 신호가 입력될때까지 같은 디지탈 신호를 출력하고 있다.
제3도는, 각 포인트 A-C에 있어서의 신호를 기초로 한 타이밍챠트를 나타낸다.
다시 제1도에 되돌아가서 설명한다. 카운트부(5)로부터의 출력은, 연산부(6)에 입력하여 기억부(7)에 기억된다. 이 연산부(6)는 논리 회로로 구성하든지, 또는 실용상, CPU 보드로 상기 기억부(7)를 포함한 입력 보드를 가지며, 그 제어는, ROM 상에 기입된 프로그램에 의하여 행하는 등, 앞서의 카운트부(5)의 출력의 취입, 제어 및 그 연산이 가능한 구성으로 된다.
카운터 회로(5)의 출력을 무한대로 받아들여서 기억할 수는 없으므로, 샘플링 갯수를 설정하여, 예를 들면, 2000개의 샘플을 카운터 회로(5)로부터 입력하면, 연산부(6)는 2000개의 샘플과 상기 기억부(7)에 미리 설정한 임의의 계수에 의하여, 2000개의 샘플에 의한 입도 분포를 연산해서 구한다. 즉, 연산에 있어, 예를 들면 입체가 레이저광을 차단한 시간, 또는 상기 차단 시간에 이동 속도를 가미한 길이, 또는 상기 길이에 임의의 계수를 가미한 입경의 어떠한 스케일에 있어, 미소 단위에 스케일을 분해하여 미소 단위 마다에 상기 2000개의 샘플을 도수로서 분리하여, 미소 단위 마다에 무게를 지니게 한다. 이로써, 분체의 길이, 또는 입경에 대한 입도 분포, 또는 누적에 의한 누적 갯수 백분율, 누적 중량 백분율등을 연산에 의하여 구할 수가 있다. 여기서, 전술한 바와 같이 샘플의 이동 속도가 명확하면, 이동 속도와, 상기 샘플에 의한 레이저광의 차단 시간에 의하여 샘플 개개의 길이가 산출 가능하여, 분체의 길이와 이미 알고 있는 입도 분포의 상관에 의하여 얻어지는 임의의 계수에 의하여 2000개의 샘플의 입도 분포를 구할 수 있다.
또 이 계수는, 입경의 대소로 나누어서 적당한 폭의 수개의 레인지로 하여 각 레인지에 각각 계수를 형성할 수도 있다.
연산부(6)에서 얻어지는 입도 분포는, 필요에 따라서 디스플레이 표시, 프린터 출력등으로, 데이터 출력 보드(8)를 통하여서 출력된다.
샘플의 이동 속도, 특히 낙하 운동의 경우는 입체의 크기등의 영향에 따라서 오차가 있게 변화하는데, 이 변화는 레이저광을 차단한 시간에 이동 속도를 가미하여서 길이를 연산할때 오차의 원인으로 된다. 그러나, 초속이 영으로 낙하하는 자유낙하 물체의 속도는 낙하직후에 그 차이가 없으며 레이저광과 포토트랜지스터의 사이를 통과시키는 입체는 예를 들면 샘플 공급 장치등으로부터 송출된 직후, 즉 샘플 공급 장치의 직후에 레이저광과 포토트랜지스터를 형성함으로써 이동 속도의 변화의 영향을 무시할 수가 있다.
다음에, 상기 입체 분석 장치(10)를, 보리 등의 분쇄에 사용되는 분쇄기의 롤 간극 조절부(20)에, 제어부(21)를 통하여 접속한 실시예를 제4도에 의하여 나타낸다.
제4도에 나타낸 것은, 분쇄기의 분쇄 롤(22A)과 롤(22B)에 의하여 분쇄된 입체를, 체(시프터)(24)로 보내는 도중에, 샘플링부(23)를 형성하여서 분쇄된 입체의 일부를 입체 분석 장치(10)에 샘플링해서, 측정한 후는 다시 체(24)에 반환하도록 바이패스로를 형성하고 있다. 한편, 분체 분석 장치(10)는, 제어부(21)를 통하여 롤 간극 조절 장치(20)에 연통해 있다. 제어부(21)는 분체 분석 장치(10)로부터 보내오는 신호를 받아서, 롤 간극 조절 장치(20)를 작동시키는 신호로 변환해서 출력하여 롤 간극 조절 장치(20)에 의하여 롤(22B)을 롤(22A)에 대하여 원근으로 간극 조절하는 것이다.
이 롤 간극 조절은, 체(24)의 망상에 잔류하는 입자의 누적 망상 잔류율을 기준으로 행함이 일반적이다. 이는, 각 공정에서 결정된 체의 위에, 공급된 분입체중 목표 입경 이상의 것이 몇 % 잔류하는가에 따라서 롤 간극을 조절하는 것으로서, 각 공정에 따라서 상기 목표 입경이 다름은 분쇄할 때마다 입도 분포가 변화하기 때문이다.
입체 분석 장치(10)를, 제분 공정의 롤 간극 조절 장치(20)에 사용할때, 입체 분석 장치(10)의 연산부(6)는, 기억부(7)에 상기 목표 입경과 목표 입경에 대한 목표 누계 중량 백분율 또는 목표 누계 갯수 백분율을 기억하여서, 실측한 입체의 목표 입경에 대한 누적 중량 백분율 또는 누적 갯수 백분율을 연산해서 이 연산 결과를 상기 목표 누적 중량 백분율 또는 목표 누적 갯수 백분율과 비교해서, 그 차를 출력부(8)로부터 제어부(21)에 입력함으로써 분체 분석 장치(10)의 목적이 달성된다.
제5도에 의하여 보다 구체적으로 설명한다. 이는 종축에 누적 갯수 백분율을, 횡축에는 입경을 취하고, 샘플링한 분입체를 입체 분석 장치(10)를 통해서 얻어진 데이터(차단 시간)로부터 임의의 계수에 의하여 입도 분포를 구함과 동시에, 이 입도 분포로부터 입경에 대한 누적 갯수 백분율을 나타낸 것이다.
도면에 있어, 목표 입경 S에 대한 목표 누적 갯수 백분율을 YA=50%로 설정했다. 또, 그때의 이상적인 곡선을 A로 하고 있다.
여기서 샘플링부(23)에 의하여, 샘플링한 분입체를 입체 분석 장치(10)를 통해서 얻어진 데이터를 프롯(plot)한 곡선을 B로 하면, 목표 입경 S에 대한 누적 갯수 백분율은 YB=55%로 되어 있다. 이는 곡선 A의 분입체 보다도, 목표 입경 S 이상의 것이 더 많이 포함되어 있음을 뜻한다. 따라서, 분체 분석 장치로부터는,
-5%의 값이 출력된다. 이 -5%의 값을 받아서 제어부(21)는, -5%에 맞는 신호를 롤 간극 조절 장치(20)에 대하여 출력한다.
이 경우 목표 입경 S 이상의 입경의 입체가 많이 포함되어 있으므로, 롤 간극 조절 장치(20)에 의하여 롤 간극을 좁히는 방향으로 조절한다. 이와 반대로, 샘플링한 분입체로부터 프롯한 곡선이 C와 같이 되어, 목표 입경 S에 대한 누적 갯수 잔류율이 YC=-45%로 되어 있는 경우, YA-YC=+5%로 되며, 목표 입도 S 이하의 것이 많이 포함되어 있음을 뜻한다. 이 경우, 상기의 경우와는 반대로 롤 간극 조절 장치(20)에 의하여 롤 간극을 넓게 하는 방향으로 조절한다.
이상과 같이 본 발명의 입체 분석 방법 및 그 장치는, 코히어런트광과 이를 수광하는 수광부에 의하여 분입체가 차단하는 시간을 카운트하는 구성에 의하여, 센서부로 되는 코히어런트광과 그 수광부를 대향시킨 부분을, 측정 분석한 분입체의 통로에 형성하거나 그 통로로부터 바이패스를 형성한 경우라도 코히어런트광과 그 수광부가 대향한 장소에 분입체를 통과시키면 되며, 카운트부의 데이터를 필요한때, 필요한 만큼 받아들여, 필요한 형태로 연산처리한 값을 출력함은, 현 기술수단에 의하여 용이하게 실현할 수 있으므로 특별한 장치를 필요로 하지 않는다.
연산부의 처리 속도와 카운터의 분해 능력에도 따르지만, 입체 분석 장치의 연속 분석이 가능하게 되었다.
따라서, 피분쇄물의 종류에 무관하게 원료를 분쇄하는 설비의 계통을 자동화하기 위한, 분쇄 입도의 자동 분석 장치가, 대단히 간단한 구성으로써 염가로 제조가능하게 되었다.

Claims (7)

  1. 코히어런트광 발생부(1)와 이 코히어런트 발생부가 발하는 코히어런트광을 직접 수광하는 수광 소자(33)를 갖는 수광부(3)와의 사이에 피측정물의 입체를 통과시켜, 피측정물의 개개의 입체가 코히어런트광을 차단하여서 통과하는 차단 시간과 그 도수를 측정하여, 상기 차단 시간과 도수 및 임의의 계수의 연산에 의하여 피측정물의 입체를 분석하는 것을 특징으로 하는 입체 분석 방법.
  2. 코히어런트광 발생부(1)와, 상기 코히어런트광 발생부에 대향하여서 코히어런트광을 직접 수광하는 수광 소자(33)를 갖는 수광부(3)와, 상기 코히어런트광 발생부와 수광부의 사이에 피측정물의 입체가 코히어런트광을 차단하여서 통과하는 통로(4)와, 상기 수광부에 접속하여서 그 출력으로부터 상기 입체가 상기 통로의 코히어런트광을 차단하여서 통과하는 차단 시간을 카운트하는 카운트부(5)와, 상기 카운트부의 출력과 이 출력치 마다의 도수 및 임의의 계수를 기억하는 기억부(7)와, 상기 카운트부의 출력과 이 출력치 마다의 도수 및 상기 기억한 임의의 계수로부터 연산을 행하는 연산부(6), 및 상기 연산부의 결과를 출력하는 출력부(8)로 구성되는 것을 특징으로 하는 입체 분석 장치(10).
  3. 제2항에 있어서, 상기 코히어런트광 발생부(1)는, 헬륨 네온 가스레이저 장치(He-Ne Gas Laser)인 것을 특징으로 하는 입체 분석 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 수광부(3)는, 에미터가 접지되고, 콜렉터가 보호 저항(32)을 통하여 풀업 전원(31)에 접속된 포토트랜지스터(33)로 되는 것을 특징으로 하는 입체 분석 장치.
  5. 제2항에 있어서, 카운트부(5)는, 일방의 입력에 상기 수광부로부터의 신호를 받고, 타방의 입력에 펄스 발진기(51)로부터의 신호를 받아, 상기 수광부로부터의 신호가 하이 레벨의 사이에서만 상기 펄스 발진기로부터의 신호를 출력하는 AND 회로(52)와, 상기 AND 회로로부터의 신호를 받고, 이 신호를 디지탈 변환하여서 출력하는 카운터 회로(53)와, 상기 카운터 회로로부터 보내오는 디지탈 신호를 소정 기간 유지하고, 상기 연산부에 출력하는 플립프 회로(54)와, 상기 수광부로부터의 신호의 하이 레벨로부터 로우 레벨로 신호의 강하에 따라서 상기 플립플롭 회로에 대한 리셋 펄스를 발생하는 제1리셋 펄스 발생회로(55), 및 상기 제1리셋 펄스 발생회로가 발생하는 리셋 펄스에 의하여, 상기 카운터 회로에 대한 리셋 펄스를 발생하는 제2리셋 펄스 발생회로(56)로 구성되는 것을 특징으로 하는 입체 분석 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제1 및 제2리셋 펄스 발생회로는, 단안정 멀티 바이브레이터로 구성되는 것을 특징으로 하는 입체 분석 장치.
  7. 롤 간극 조절부(20)에 의하여 일방의 롤(22B)을 타방의 롤(22A)에 대하여 원근 가능하게 형성하여서 된 제분롤기에 있어서, 코히어런트광 발생부(1)와, 상기 코히어런트광 발생부에 대향하여서 코히어런트광을 직접 수광하는 수광 소자(33)를 갖는 수광부(3)와, 상기 코히어런트광 발생부와 수광부의 사이에 상기 롤기에 의하여 분쇄된 입체가 코히어런트광을 차단하여서 통과하는 통로(4)와, 상기 수광부에 접속하여서 그 출력으로부터 상기 입체가 상기 통로의 코히어런트광을 차단하여서 통과하는 차단 시간을 카운트하는 카운트부(5)와, 상기 카운트부의 출력과 이 출력치 마다의 도수와 임의의 계수 및 목표 입경을 기억하는 기억부(7)와, 상기 카운트부의 출력과 이 출력치 마다의 도수와 기억한 임의의 계수 및 목표 입경으로부터 연산을 행하는 연산부(6), 및 상기 연산부의 결과를 출력하는 출력부(8)로 이루어진 입체 분석 장치를 형성하고, 상기 입체 분석 장치로부터 출려고디는 값과 미리 설정한 기준치(S)를 비교하여서, 상기 출력부로부터 출력되는 값과 기준치를 일치시키도록 입체 분석 장치와 상기 롤 간극 조절부를 제어부(21)를 통하여서 접속한 것을 특징으로 하는 입체 분석 장치에 의한 분쇄기 롤 간극 조절 장치.
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