KR0156315B1 - Clamping post of ion implant apparatus for semiconductor - Google Patents

Clamping post of ion implant apparatus for semiconductor Download PDF

Info

Publication number
KR0156315B1
KR0156315B1 KR1019950041919A KR19950041919A KR0156315B1 KR 0156315 B1 KR0156315 B1 KR 0156315B1 KR 1019950041919 A KR1019950041919 A KR 1019950041919A KR 19950041919 A KR19950041919 A KR 19950041919A KR 0156315 B1 KR0156315 B1 KR 0156315B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
clamping post
screw
groove
hole
ion implantation
Prior art date
Application number
KR1019950041919A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR970030312A (en
Inventor
송호기
최기철
옥경하
허장무
Original Assignee
김광호
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR1019950041919A priority Critical patent/KR0156315B1/en
Publication of KR970030312A publication Critical patent/KR970030312A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR0156315B1 publication Critical patent/KR0156315B1/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3171Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Clamps And Clips (AREA)

Abstract

반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트가 개시되어 있다.A clamping post of a semiconductor ion implantation apparatus is disclosed.

본 발명은 도전성 재질의 물체에 다른 물건이 끼워지도록 탄성적으로 확대될 수 있는 홈이 형성되어 이루어진 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트에, 상기 홈을 통해 분리된 상기 물체의 부분들을 밀착시킬 수 있는 수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 한다.The present invention is a means for contacting the parts of the object separated through the groove to the clamping post of the semiconductor ion implantation device is formed by forming a groove that can be elastically enlarged to fit another object to the object of the conductive material It is characterized by being provided.

따라서, 클램핑 포스트에 전원을 인가해야 할 다른 물체를 단단히 지지하고 안정된 전기적 접촉을 유지할 수 있는 효과가 있다.Therefore, there is an effect that can firmly support another object to be applied to the clamping post and maintain a stable electrical contact.

Description

반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트Clamping Post of Semiconductor Ion Injection Equipment

제1도는 종래의 클램핑 포스트(clamping post)의 일 예를 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view showing an example of a conventional clamping post (clamping post).

제2도는 종래의 클램핑 포스트의 문제점을 나타낸 부분도이다.2 is a partial view showing a problem of a conventional clamping post.

제3도는 본 발명의 일실시예에 따른 클램핑 포스트를 나타낸 사시도이다.3 is a perspective view showing a clamping post according to an embodiment of the present invention.

제4도는 제3도의 A-A선에 따른 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

11,31 : 클램핑 포스트 12 : 지지대11,31: clamping post 12: support

13 : 지지홀(hole) 14 : 확장홀13: support hole 14: expansion hole

21 : 스크류(screw) 22 : 스크류 홀(screw hole)21: screw 22: screw hole

23 : 스크류 탭(screw tap)23: screw tap

본 발명은 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트에 관한 것이다.The present invention relates to a clamping post of a semiconductor ion implantation equipment.

반도체 제조에 필요한 이온주입공정은 이온주입장비에서 이루어진다. 이온주입장비는 특정 가스의 이온을 발생시키는 부분과 발생된 이온들을 가속시키고 적합한 에너지를 가진 이온들만을 선택하는 부분 및 외부에서 공급된 웨이퍼를 특정 위치에 놓고 일정한 에너지를 가진 이온 빔(ion beam)을 충돌시켜 이온주입이 이루어지는 부분으로 크게 나눌 수 있다.The ion implantation process required for semiconductor manufacturing is performed in ion implantation equipment. The ion implantation equipment is a part generating ions of a specific gas, a part accelerating the generated ions and selecting only those ions having suitable energy, and an ion beam having a constant energy by placing an externally supplied wafer at a specific position. It can be divided into the parts where ion implantation is made by colliding with.

이온주입장비의 이온을 발생시키는 부분에는 공급되는 소오스가스(source gas)와 충돌하여 가스를 이온화시키는 가속된 열전자의 발생원이 되는 필라멘트(filament)와 필라멘트에서 발생된 열전자를 전압을 이용하여 가속시키는 아노드 링(anode ring)에 전압을 인가하는 수단이 필요하다. 이때 전압을 인가하는 수단으로 사용되는 것이 클램핑 포스트다.In the ion generating portion of the ion implantation equipment, a filament that is a source of accelerated hot electrons that collide with a source gas supplied and ionize the gas, and an electron that accelerates the hot electrons generated from the filaments using voltage. There is a need for a means of applying a voltage to the node ring. In this case, the clamping post is used as a means for applying a voltage.

클램핑 포스트는 도전성 재질의 물체에 홈을 형성시키고 상기 홈을 탄성적으로 확대시켜 상기 홈의 일부에 전압을 걸어줄 다른 물체를 삽입할 수 있도록 형성된다.The clamping post is formed to form a groove in an object of conductive material and to elastically enlarge the groove to insert another object to apply a voltage to a portion of the groove.

이하 도면을 참조하면서 클램핑 포스트의 한 예 및 그 문제점을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, an example of a clamping post and a problem thereof will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제1도는 종래의 클램핑 포스트의 일 예를 나타내는 사시도이다. 본 예에서는 클램핑 포스트(11)는 대략 사각기둥으로 되어 있다. 사각기 등의 상부 한 측면에는 다른 물체를 지지하기 용이하게 사각기둥과 일체로 형성된 물건지지부가 있고 하면에는 전원과 연결되도록 지지대(12)가 형성되어 있다. 물건지지부를 포함하는 사각기둥의 상부는 상면부터 사각기둥의 중간부분까지 깊게 형성된 홈에 의해 균등한 두 부분으로 나누어진다.1 is a perspective view showing an example of a conventional clamping post. In this example, the clamping post 11 has a substantially rectangular pillar. On one side of the upper part of the blind spot, etc., an object supporting part is formed integrally with the square pole so as to easily support another object, and a support 12 is formed at the bottom thereof so as to be connected to a power source. The upper portion of the square pillar including the object support is divided into two equal parts by a groove formed deep from the upper surface to the middle portion of the square pillar.

물건지지부에는 형성되어 있는 홈의 일부에 다른 물체가 끼워졌을 때 물체와 홈이 밀착될 수 있는 형태로, 가령 다른 물체가 원형 막대일 경우 원형 구멍의 형태로, 지지홀(13)이 형성되어 있다. 또한 다른 물건을 끼우거나 뺄 때 용이하도록 전체 홈을 탄성적으로 확대시키는 기구가 삽입되는 확장홀(14)이 사각기둥의 물건지지부가 형성된 면의 반대쪽 면에 형성되어 있다.The object support part is formed in such a way that the object and the groove can be in close contact with another object when a part of the groove is formed, for example, when the other object is a circular rod, a support hole 13 is formed. . In addition, an expansion hole 14 into which a mechanism for elastically expanding the entire groove is inserted is formed on the opposite side of the surface on which the object supporting portion of the square pillar is formed so as to easily insert or remove another object.

제2도는 종래의 클램핑 포스트의 문제점을 나타낸 부분도이다. 종래의 클램핑 포스트는 계속 사용함에 따라 도시된 바와 같이 홈이 비탄성적으로 확대되는 경향이 있어 다른 물체를 끼워서 지지하기 어렵게 된다.2 is a partial view showing a problem of a conventional clamping post. As conventional clamping posts continue to use, the grooves tend to expand inelastically as shown, making it difficult to support other objects.

또한 홈이 확대되면 홈의 일부에 끼워지는 다른 물체와 닿는 부분의 면적이 줄어 거의 점접촉에 가깝게 되고 이 경우, 특히 수십 내지 100A 이상의 대전류가 요구되는 이온주입장비 소오스헤드(source head)부의 필라멘트 등에 대전류를 흘리기 어렵게 된다. 또한 접촉이 불안정해져서 접촉부가 아크(arc)의 발생 등으로 이물질이 끼고 접촉이 더욱 불량해지는 어려움이 발생한다.In addition, when the groove is enlarged, the area of the contact portion with other objects inserted into the groove is reduced, so that the area is almost close to the point contact. It becomes difficult to flow a large current. In addition, the contact is unstable, so that the contact portion is caused by the generation of an arc (arc), etc., foreign matters, and the contact is more difficult to occur.

본 발명은 상기 문제점을 고려하여 제안된 것으로서, 전원을 인가해야 할 다른 물체를 단단히 지지하고 안정된 전기적 접촉을 유지할 수 있는 클램핑 포스트를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been proposed in view of the above problems, and an object thereof is to provide a clamping post capable of firmly supporting other objects to be powered and maintaining stable electrical contact.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 탄성적으로 확대되고 복원되어 다른 물건이 삽입되고 고정될 수 있도록 형성된 홈에 의하여 일 단부가 대향하는 두 부분으로 분리되어 이루어지는 도전성 재질의 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트에 있어서, 상기 홈에 의해 분리된 두 부분사이의 거리를 좁힐 수 있는 밀착수단이 더 구비되어 이루어지는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a clamping post of a semiconductor ion implantation device made of a conductive material, which is separated into two parts facing one end by a groove formed to be elastically enlarged and restored so that another object can be inserted and fixed. In the, characterized in that the contact means is further provided to narrow the distance between the two parts separated by the groove.

본 발명의 클램핑 포스트에도 종래의 예에서 보이는 지지홀 같이 클램핑 포스트에 삽입되는 특정 물건을 지지하기에 특히 적합한 형태가 홈 일부에 형성될 수 있고 확장홀 같이 홈의 확대를 편리하게 하는 별도의 수단이 형성될 수도 있다.In the clamping post of the present invention, a shape particularly suitable for supporting a specific object inserted into the clamping post, such as the support hole shown in the conventional example, may be formed in a part of the groove, and a separate means for convenient expansion of the groove, such as an expansion hole, may be provided. It may be formed.

이하 도면을 참조하면서 본 발명의 일실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제3도는 본 발명의 일실시예에 따른 클램핑 포스트의 사시도로서 스크류 홀 및 스크류 탭의 위치를 보여주고 있다. 본 도에서 스크류 홀(22)은 물건지지부가 아닌 사각기둥 상부에 위치하고 있다. 물건지지부의 홈부분의 일부에는 상면에서 아래로 형성된 지지홀(13)이 형성되어 있다.3 is a perspective view of a clamping post according to an embodiment of the present invention showing the position of the screw hole and the screw tab. In this figure, the screw hole 22 is located on the top of the square pillar rather than the object supporting portion. A part of the groove part of the object support part is formed with the support hole 13 formed downward from the upper surface.

제4도는 제3도의 A-A선에 따른 단면도이다. 홈에 의해 서로 분리된 클램핑 포스트(31) 상부의 두 부분에 형성된 스크류 홀(22)과 스크류 탭(23)이 표시되어 있다. 스크류(21)는 전체가 클램핑 포스트(31) 밖에 드러나 있고 스크류(21)가 도입되는 부분의 스크류 홀(22)은 나사산이 형성되어 있지 않으며 반대편 부분의 스크류 탭(23)은 나사로 형성되어 스크류를 돌려 끼우면 홈의 간격을 좁힐 수 있도록 되어 있다. 클램핑 포스트의 상면에서 직하로 형성된 홈의 중간에 둥글게 된 부분이 홈을 확대시키는 기구가 삽입되는 확장홀(14)이다.4 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. Shown are the screw holes 22 and the screw tabs 23 formed in the two parts of the upper part of the clamping post 31 separated from each other by the grooves. The screw 21 is entirely exposed outside the clamping post 31, the screw hole 22 in the part where the screw 21 is introduced is not threaded, and the screw tab 23 in the opposite part is formed by the screw to close the screw. When screwed in, the gap between the grooves can be narrowed. A rounded portion in the middle of the groove formed directly below the upper surface of the clamping post is an expansion hole 14 into which a mechanism for expanding the groove is inserted.

본 발명에 있어서 클램핑 포스트의 분리된 상부를 밀착시키는 수단은 상기 스크류 수단 외에도 클램핑 포스트 상부에 설치되는 바이스 같은 외벽으로부터의 조임수단을 생각할 수 있을 것이다.In the present invention, the means for contacting the separated upper part of the clamping post may be considered to be a tightening means from an outer wall such as a vise installed on the upper part of the clamping post in addition to the screw means.

또한 클램핑 포스트의 홈을 확대시키는 수단으로 종래의 예에서 보이는 확장홀을 설치하지 않고 전술한 스크류수단을 밀착수단으로 채택한 본 발명의 실시예에서의 홈으로 분리된 두 부분중 한 부분에, 가령 밀착수단의 스크류 홀 근방 또는 스크류 탭 근방에, 나사산이 형성된 별도의 홀을 설치하고 홈으로 분리된 다른 부분에는 대응되는 홀을 형성하지 않고 홈을 이루는 벽체를 그대로 두어 나사산이 형성된 별도의 홀에 스크류를 돌려 끼우면 대응 홀이 형성되지 않은 부분의 벽체가 밀려 홈이 벌어지도록 하는 예를 등도 생각할 수 있다.Further, for example, a close contact with one of the two parts separated by the grooves in the embodiment of the present invention in which the screw means described above is used as the contact means without the expansion hole shown in the conventional example as a means for expanding the groove of the clamping post. In the vicinity of the screw hole or near the screw tap of the means, a separate threaded hole is provided, and in the other part separated by the groove, the grooved wall is left as it is without forming a corresponding hole. When screwing in, the wall of the part in which a corresponding hole is not formed may be pushed, and the groove may open.

본 발명에 의하면 클램핑 포스트에 전원을 인가해야 할 다른 물체를 단단히 지지하고 안정된 전기적 접촉을 유지할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, there is an effect of firmly supporting another object to be applied to the clamping post and maintaining stable electrical contact.

본 발명은 상기 실시예에 국한되지 않으며 기술적 사상이 동일한 다양한 변형을 포함하는 것이다. 따라서 동일 기술분야의 당업자에 의한 이러한 변형실시는 아래 특허청구범위에 포함되는 것임은 물론이다.The present invention is not limited to the above embodiments and includes various modifications having the same technical spirit. Therefore, such modifications by those skilled in the art are of course included in the claims below.

Claims (5)

탄성적으로 확대되고 복원되어 다른 물건이 삽입되고 고정될 수 있도록 형성된 홈에 의하여 일 단부가 대향하는 두 부분으로 분리되어 이루어지는 도전성 재질의 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트에 있어서, 상기 홈에 의해 분리된 두 부분사이의 거리를 좁힐 수 있는 밀착수단이 더 구비되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트.In a clamping post of a conductive ion-conducting device of a conductive material formed by separating the two ends facing each other by a groove formed to be elastically enlarged and restored so that another object can be inserted and fixed, separated by the groove The clamping post of the semiconductor ion implantation equipment, characterized in that the contact is further provided to narrow the distance between the two parts. 제1항에 있어서, 상기 밀착수단은 상기 분리된 두 부분중 한 부분에 형성된 스크류 홀 및 다른 한 부분에 형성된 스크류 탭과 상기 스크류 홀을 통하여 상기 스크류 탭에 결합되는 스크류를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트.The method of claim 1, wherein the contact means comprises a screw hole formed in one of the two separated portions and a screw tab formed in the other portion and the screw coupled to the screw tab through the screw hole Clamping post of the semiconductor ion implantation device. 제1항에 있어서, 상기 홈의 일부에 삽입되는 특정 물건을 지지하기에 특히 적합한 형태로 지지홀이 형성된 것을 특징으로 하는 상기 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트.The clamping post of claim 1, wherein the support hole is formed in a shape particularly suitable for supporting a specific object inserted into a portion of the groove. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 홈을 탄성적으로 확대시키기 위한 확대수단이 구비되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트.The clamping post of claim 2 or 3, wherein an enlargement means for elastically expanding the groove is provided. 제4항에 있어서, 상기 확대수단은 상기 분리된 두 부분중 한 부분에만 형성되는 홀 및 스크류를 구비하여 상기 홀을 통해 상기 스크류를 끼워 다른 부분의 벽체를 밀 수 있도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트.The semiconductor device as claimed in claim 4, wherein the enlargement means comprises a hole and a screw formed only in one of the two separated parts so that the screw can be pushed through the hole to push the wall of the other part. Clamping posts for ion implantation equipment.
KR1019950041919A 1995-11-17 1995-11-17 Clamping post of ion implant apparatus for semiconductor KR0156315B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950041919A KR0156315B1 (en) 1995-11-17 1995-11-17 Clamping post of ion implant apparatus for semiconductor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950041919A KR0156315B1 (en) 1995-11-17 1995-11-17 Clamping post of ion implant apparatus for semiconductor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970030312A KR970030312A (en) 1997-06-26
KR0156315B1 true KR0156315B1 (en) 1998-12-01

Family

ID=19434478

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950041919A KR0156315B1 (en) 1995-11-17 1995-11-17 Clamping post of ion implant apparatus for semiconductor

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0156315B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
KR970030312A (en) 1997-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5872426A (en) Glow plasma discharge device having electrode covered with perforated dielectric
CA2344402A1 (en) Ac glow plasma discharge device having an electrode covered with apertured dielectric
KR960019509A (en) Ion Generation Sources Used in the Ion Injection Room
WO1999039368A3 (en) Time-of-flight mass spectrometer
US4608513A (en) Dual filament ion source with improved beam characteristics
KR0152261B1 (en) Electron generating apparatus
KR20030085087A (en) Ion source filament and method
KR0156315B1 (en) Clamping post of ion implant apparatus for semiconductor
US4952843A (en) High current ion source
US4792687A (en) Freeman ion source
KR20080102830A (en) Ion generator
KR20070014374A (en) Separation type feed through of ion injection apparatus
JPS6298542A (en) Ion source
JPS5713175A (en) Ion etching method
KR100610766B1 (en) Ion Formation Chamber
JPH0145068Y2 (en)
KR20020037092A (en) ion implantation equipment with advanced insulator structure in semiconductor device fabrication
JP2605031B2 (en) Electron beam excited ion source
JPS6282635A (en) Focusing ion beam apparatus
KR200371647Y1 (en) Ion Formation Chamber
KR20010037303A (en) Device for Emitting Thermal Electron in Ion Source
KR20030070992A (en) Filament Insulator At Semiconductor Implanter Equipment
SU1118222A1 (en) Source of electrons
KR200227340Y1 (en) Ion beam generator
JPS63216247A (en) Gas phase ion source

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090714

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee