KR0156160B1

KR0156160B1 - Upstream current thwarting apparatus of water of wafer cleaner

Info

Publication number: KR0156160B1
Application number: KR1019950047414A
Authority: KR
Inventors: 하굉호
Original assignee: 문정환; 엘지반도체주식회사
Priority date: 1995-12-07
Filing date: 1995-12-07
Publication date: 1998-12-01
Also published as: KR970053110A

Abstract

본 발명은 순수에 의해 웨이퍼를 세정하는 웨이퍼 세정장비의 순수 역류방지장치에 관한 것으로써, 좀더 구체적으로는 공정진행중에 전원이 차단되거나, 에어의 공급이 중단되었을 경우에 배쓰(Bath)내의 순수가 역류되는 것을 방지할 수 있도록 한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pure water backflow prevention device of a wafer cleaning apparatus for cleaning a wafer with pure water. More specifically, the pure water in a bath is cut off when power is cut off or the air supply is interrupted. It is to prevent backflow.

이를 위해, 배쓰(3)에 연결된 순수공급관(5)상에 제2핸드밸브(7)와 에어밸브(9) 그리고 유량밸브(10)를 차례로 설치하여 배쓰의 내부에 정상적으로 순수가 공급되도록 하거나, 절수상태가 되도록 한 것에 있어서, 제2핸드밸브(7)와 에어밸브(9)의 사이에 절수변이 부착되지 않은 에어밸브(14)를 설치하여서 된 것이다.To this end, the second hand valve 7, the air valve 9, and the flow valve 10 are sequentially installed on the pure water supply pipe 5 connected to the bath 3 so that pure water is normally supplied into the bath. In the water-saving state, an air valve 14 having no water-saving side is provided between the second hand valve 7 and the air valve 9.

Description

Pure backflow prevention device of wafer cleaning equipment

제1도는 종래 웨이퍼 세정장비를 나타낸 구성도.1 is a block diagram showing a conventional wafer cleaning equipment.

제2도는 본 발명을 나타낸 세정장비의 구성도.2 is a block diagram of the cleaning equipment showing the present invention.

제3도는 본 발명의 요부를 나타낸 구성도.3 is a block diagram showing the main part of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

3 : 배쓰 5 : 순수공급관3: bath 5: pure water supply pipe

7 : 제2핸드밸브 9, 14 : 에어밸브7: second hand valve 9, 14: air valve

10 : 유량계10: flow meter

본 발명은 순수(D.I)에 의해 웨이퍼를 세정하는 웨이퍼 세정장비의 순수 역류방지 장치에 관한 것으로써, 좀더 구체적으로는 공정진행중에 전원이 차단되거나, 에어의 공급이 중단되었을 경우에 배쓰(Bath)내의 순수가 역류되는 현상을 방지할 수 있도록 한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pure water backflow prevention device of a wafer cleaning device for cleaning a wafer with pure water (DI). More specifically, the present invention relates to a case in which a power supply is interrupted or a supply of air is stopped during a process. This is to prevent the backflow of pure water in the interior.

첨부도면 제1도는 종래 웨이퍼 세정장비를 나타낸 구성도로써, 웨이퍼(1)가 끼워져 로딩되는 복수개(약 50개 정도)의 가이드(2)가 형성된 배쓰(3)와, 상기 배쓰의 상측에 설치되어 배쓰내에 웨이퍼가 로딩되었는지를 감지하는 센서(4)와, 상기 배쓰의 내부로 순수를 공급하는 순수공급관(5)과, 상기 순수공급관상에 설치되어 순수의 공급을 조절하는 제1핸드밸브(6)와, 상기 제1핸드밸브의 조절에 의해 공급되는 강한 압력의 순수 유량을 1차적으로 제어하는 제2핸드밸브(7)와, 상기 제2핸드밸브의 일측으로 설치되어 배쓰(3)내에 웨이퍼(1)가 로딩된 상태에서만 밸브가 열려 제2핸드밸브(7)에 의해 조절된 순수가 배쓰의 내부로 공급되도록 하고, 웨이퍼가 로딩되지 않은 상태에서는 밸브가 닫혀 최소한의 순수만이 배쓰로 공급되도록 절수변(8)이 설치된 에어밸브(9)와, 상기 순수공급관(5)상에 설치되어 배쓰(3)의 내부로 얼마만큼의 순수가 공급되는지를 수치로 나타내는 유량계(10)와, 상기 배쓰의 저면에 설치되어 배쓰내의 순수를 배출시키는 드레인 밸브(11)와, 상기 배쓰(3)의 외측으로 설치되어 배쓰의 상부로 오버플로우(Over flow)되는 순수를 다른 배쓰에서 오버플로우되는 순수 또는 캐미컬(Chemical)과 혼입되는 것을 방지하는 씽크대(12)와, 상기 씽크대의 바닥면에 설치되어 씽크대내의 순수를 외부로 드레인시키는 드레인관(13)으로 구성되어 있다.FIG. 1 is a block diagram showing a conventional wafer cleaning apparatus, wherein a bath 3 having a plurality of guides 2 (about 50) into which a wafer 1 is inserted and loaded is formed, and is installed above the bath. A sensor 4 for detecting whether a wafer is loaded in the bath, a pure water supply pipe 5 for supplying pure water into the bath, and a first hand valve 6 installed on the pure water supply pipe to regulate the supply of pure water. ), A second hand valve 7 which primarily controls the pure flow rate of the strong pressure supplied by the adjustment of the first hand valve, and one side of the second hand valve, the wafer in the bath 3. The valve is opened only when (1) is loaded so that the pure water controlled by the second hand valve 7 is supplied into the bath, and the valve is closed when the wafer is not loaded to supply only the minimum pure water to the bath. Air valve with water-saving side (8) installed (9) and a flow meter (10) provided on the pure water supply pipe (5) to indicate how much pure water is supplied into the bath (3), and on the bottom of the bath to provide pure water in the bath. The drain valve 11 for discharging and the pure water flowing out of the bath 3 to overflow the upper part of the bath are prevented from being mixed with the pure water or chemicals overflowing from another bath. The sink stage 12 and the drain pipe 13 is installed on the bottom surface of the sink stage to drain the pure water in the sink to the outside.

따라서 배쓰(3)내에 웨이퍼(1)가 로딩되지 않은 상태에서는 제2핸드밸브(7)의 조절로 40ℓ의 순수가 에어밸브(9)측으로 이송되어 오지만, 콘트롤러(도시는 생략함)에 의해 상기 에어밸브의 밸브는 닫혀 있으므로 공급되는 순수한 절수변(8)을 거쳐 조정된 4∼5ℓ정도만이 유량계(10)를 거쳐 배쓰(3)의 내부로 공급된다.Therefore, in the state in which the wafer 1 is not loaded in the bath 3, 40 liters of pure water is transferred to the air valve 9 side by the control of the second hand valve 7, but the controller (not shown) Since the valve of the air valve is closed, only about 4-5 liters adjusted through the pure water-saving side 8 supplied are supplied to the inside of the bath 3 via the flowmeter 10.

이는 배쓰(3)내에 담겨지는 순수가 유동되지 않고 정체되어 있을 경우 상기 순수가 박테리아 등에 오염될 염려가 있으므로 이를 방지하기 위해 절수변(8)을 통해 소량의 순수만이 배쓰(3)내부로 공급되도록 한 것이다.This is because if the pure water contained in the bath (3) is not flowed and stagnant, the pure water may be contaminated with bacteria, so only a small amount of pure water is supplied into the bath (3) through the water saving toilet (8) to prevent this. It was made possible.

이러한 상태에서 세정하고자 하는 웨이퍼(1)를 배쓰(3)내로 로딩하면 센서(4)가 이를 감지하여 순수공급관(5)상에 설치된 에어밸브(8)로 에어를 공급하여 닫혀져 있는 밸브를 개방하게 되므로 제2핸드밸브(7)에 의해 조절된 순수의 유량(40ℓ)이 배쓰(3)의 내부로 공급된다.In this state, when the wafer 1 to be cleaned is loaded into the bath 3, the sensor 4 detects this and supplies air to the air valve 8 installed on the pure water supply pipe 5 to open the closed valve. Therefore, the flow rate of the pure water 40 L regulated by the second hand valve 7 is supplied into the bath 3.

그러나 이러한 종래의 장비는 전원이나, 에어가 정상적으로 인가될 경우에는 별문제가 되지 않지만, 웨이퍼의 세정작업시 갑자기 전원의 공급이 중단되거나, 에어의 공급이 중단되면, 배쓰내의 순수가 순수공급관(5)을 통해 역류되는 현상이 발생되었으므로 세정중인 웨이퍼에 워터마크(Water mark)가 생기는 불량원인이 되었다.However, such a conventional equipment is not a problem when power or air is normally applied. However, if the power supply is suddenly stopped or the air supply is stopped during the wafer cleaning operation, the pure water in the bath is supplied with pure water. The phenomenon of backflow through the wafer caused a defect of watermark in the wafer being cleaned.

본 발명은 종래의 이와같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로써, 그 구조를 개선하여 웨이퍼의 세정작업중에 전원 또는 에어의 공급이 중단되더라도 배쓰내의 순수가 역류되는 현상을 미연에 방지할 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve such a problem in the prior art, and the structure is improved to prevent the backflow of pure water in the bath even if the supply of power or air is stopped during the wafer cleaning operation. The purpose is.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 형태에 따르면, 배쓰에 연결된 순수공급관 상에 제2핸드밸브와 에어밸브 그리고 유량밸브를 차례로 설치하여 배쓰의 내부에 정상적인 순수가 공급되도록 하거나, 절수상태로 공급되도록 한 것에 있어서, 제2핸드밸브와 에어밸브의 사이에 절수변이 부착되지 않은 에어밸브를 설치함을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장비의 순수 역류방지장치가 제공된다.According to the aspect of the present invention for achieving the above object, by installing the second hand valve, the air valve and the flow valve in order on the pure water supply pipe connected to the bath so that the normal pure water is supplied to the inside of the bath, or in a water-saving state In one aspect, there is provided a pure backflow preventing device for wafer cleaning equipment, characterized in that an air valve is provided between the second hand valve and the air valve without a water valve.

이하, 본 발명을 일 실시예로 도시한 첨부된 도면 제2도 및 제3도를 참고로 하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 2 and 3 of the accompanying drawings.

첨부도면 제2도는 본 발명을 나타낸 세정장비의 구성도이고 제3도는 본 발명의 요부를 나타낸 구성도로써, 본 발명의 구성중 종래의 구성과 동일한 부분은 그 설명을 생략하고 동일부호를 부여하기로 한다.2 is a block diagram of the cleaning equipment according to the present invention, and FIG. 3 is a block diagram showing the main parts of the present invention. Shall be.

본 발명은 제2핸드밸브(7)와 에어밸브(9)의 사이에 절수변이 부착되지 않은 에어밸브(14)를 설치하여서 된 것이다.The present invention is achieved by providing an air valve (14) with no water-saving edge attached between the second hand valve (7) and the air valve (9).

이와 같이 구성된 본 발명은 배쓰(3)내에 웨이퍼(1)가 로딩되거나, 로딩되어 있지 않은 상태에서는 절수변이 부착되지 않은 에어밸브(14)가 항상 개방된 상태를 유지하게 되므로 종래의 웨이퍼 세정장비와 마찬가지로 배쓰(3)내에 웨이퍼(1)를 로딩하여 세정하게 된다.According to the present invention configured as described above, the wafer 1 is loaded or not loaded in the bath 3, and thus the air valve 14 having no water-saving edge is always kept open in the bath 3, and thus the wafer 3 is not equipped with the conventional wafer cleaning equipment. Similarly, the wafer 1 is loaded and cleaned in the bath 3.

상기한 바와 같은 동작으로 웨이퍼를 세정하다가 전원 또는 에어의 공급이 차단되면 제3도에 도시한 바와 같이 에어밸브(9)의 절수변(8)이 개방된 상태를 유지하더라도 에어밸브(9)(14)에 각각 설치된 밸브(9a)(14a)가 닫혀 순수공급관(5)을 폐쇄하게 되므로 배쓰(3)내의 순수가 역류되는 현상을 미연에 방지하게 되는 것이다.If the supply of power or air is interrupted while cleaning the wafer in the above-described operation, as shown in FIG. 3, even if the water-saving valve 8 of the air valve 9 remains open, the air valve 9 ( Since the valves 9a and 14a respectively installed at 14 are closed to close the pure water supply pipe 5, the phenomenon of pure water flowing back in the bath 3 is prevented.

그후, 전원 또는 에어가 제공급되면 상기 에어밸브(9)(14)에 설치된 밸브(9a)(14a)가 다시 개방되므로 순수를 배쓰(3)의 내부로 공급시킬 수 있게 된다.Thereafter, when power or air is supplied, the valves 9a and 14a installed in the air valves 9 and 14 are opened again, so that pure water can be supplied into the bath 3.

이상에서와 같이 본 발명은 순수공급관(5)상에 절수변이 없는 에어밸브(14)를 설치하여 공정시 전원 또는 에어의 공급중단으로 순수가 역류되는 현상을 미연에 방지하게 되므로 양질의 웨이퍼를 생산할 수 있게 된다.As described above, the present invention provides an air valve 14 having no water-saving valve on the pure water supply pipe 5, thereby preventing the flow of pure water back to the supply or air supply interruption during the process, thereby producing a good wafer. It becomes possible.

Claims

The second hand valve, the air valve, and the flow valve are sequentially installed on the pure water supply pipe connected to the bath so that the pure water is normally supplied to the inside of the bath, or in a water-saving state, between the second hand valve and the air valve. Pure backflow prevention device for wafer cleaning equipment, characterized in that the air valve is not attached to the water-saving side.