KR0152409B1 - 피부 미용기기의 제어장치 - Google Patents

피부 미용기기의 제어장치

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Abstract

본 발명의 피부 미용기기의 제어장치는 이온전압을 출력하면서 피부상태를 측정하고, 동시에 저주파 전압을 출력할 수 있도록 하는 것이다.
본 발명은 안면피부의 미용시 이온전압 출력부가 클린싱 단계, 맛사지 단계 및 영양공급 단계에 따라 안면피부로 플러스 이온전압 및 마이너스 이온전압을 선택적으로 출력하고, 안면피부의 미용시 피부 측정부가 이온전압 출력부에서 안면피부로 흐르는 전류를 검출하여 마이크로 프로세서에 입력시키며, 마이크로 프로세서는 안면피부로 흐르는 전류의 레벨로 안면피부의 상태를 판단하여 이를 표시부에 표시하며, 사용자의 선택에 따라 마이크로프로세서가 저주파 전압의 레벨값을 가변 출력하고, 이 출력한 저주파 전압의 레벨값을 저주파 전압 발생부가 저주파 전압으로 변환하며, 저주파 전압 발생부가 발생한 전압을 저주파 출력부가 제어하여 저주파 전압을 출력하며, 사용자의 선택에 따라 마이크로 프로세서가 이온전압 출력부와, 저주파 전압 발생부 및 저주파 출력부를 동시에 제어하여 안면피부를 미용하면서 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 수행한다.

Description

피부 미용기기의 제어장치
제1도는 본 발명의 제어장치의 전체 구성을 보인 블록도.
제2도는 제1도의 저주파 전압 발생부 및 저주파 출력부를 보인 상세 회로도.
제3도는 제1도의 이온전압 출력부 및 피부 측정부를 보인 상세 회로도.
제4도의 (a)~(c)는 본 발명의 제어장치에 의한 마이크로 프로세서의 동작을 보인 신호 흐름도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 마이크로 프로세서 2 : 키입력부
3 : 저주파 전압 발생부 4 : 저주파 출력부
5 : 표시부 6 : 이온전압 출력부
7 : 피부 측정부 31, 61 : 디지탈 / 아날로그 변환부
32, 62 : 증폭부 33, 72 : 발진부
34 : 승압부 35 : 레벨 변환부
36 : 직류전압 변환부 63 : 극성 절환부
71 : 이온전류 검출부 73 : 이온전류 출력부
본 발명은 이온전압을 출력하면서 안면피부를 미용함과 아울러 저주파 전압을 출력하여 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 수행하는 피부 미용기기에 관한 것으로 특히 본 출원인이 선출원한 1993년 특허출원 제28200호(명칭 : 피부 관리기 및 그의 제어방법)를 개량한 피부 미용기기의 제어장치에 관한 것이다.
본 출원이 선출원한 1993년 특허출원 제28200호에서는 이온전압 출력부 및 피부 측정부를 구비하고, 피부미용시 클린싱 단계, 맛사지 단계 및 영양공급 단계에 따라 미리 설정된 시간동안 소정의 이온전압을 출력하면서 안면피부의 클린싱, 맛사지 및 영양공급을 수행하며, 피부 측정시 피부 측정부가 검출한 피부 측정전류로 피부의 상태를 검출하고, 이를 표시하여 사용자가 확인하도록 하였다.
또한 종래에는 저주파 출력부를 구비하고, 패드를 통해 인체로 소정 레벨의 저주파 전압을 출력하여 자극하면서 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 수행하도록 하였다.
그러나 상기한 종래의 기술은 사용자가 일일이 피부미용 선택키 및 피부측정 선택키를 선택적으로 조작하여 피부미용 및 피부측정 기능을 선택해야 되므로 많은 번거로움을 주었고, 이온전압 출력용 플러그 및 피부 측정용 플러그를 각기 구비해야 되었음은 물론 피부의 상태에 따라 이온전압의 출력레벨을 자동으로 설정하여 출력하는 데 많은 지장을 주었다.
또한 종래에는 출력하는 저주파 전압의 레벨이 일정하였다.
그러므로 사용자의 취향에 따른 자극 예를 들면, 강한 자극을 원하는 사용자와 약한 자극을 원하는 사용자에 따라 저주파 전압을 출력할 수 없었고, 이로 인하여 사용자에 따라 효과적으로 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 수행하는 데 한계가 있었다.
그러므로 본 발명의 목적은 이온전압을 출력하여 안면피부를 미용하면서 피부상태를 측정하여 표시하는 피부 미용기기의 제어장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 목적은 사용자의 취향에 따라 저주파 전압의 출력레벨을 가변시켜 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 수행할 수 있도록 하는 피부 미용기기의 제어장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 이온전압 및 저주파 전압을 동시에 출력할 수 있도록 하여 사용자가 안면피부를 미용하면서 동시에 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 할 수 있도록 하는 피부 미용기기의 제어장치를 제공하는 데 있다.
이러한 목적을 가지는 본 발명은 안면피부의 미용시 이온전압 출력부가 클린싱 단계, 맛사지 단계 및 영양공급 단계에 따라 안면피부로 플러스 이온전압 및 마이너스 이온전압을 선택적으로 출력하고, 안면피부의 미용시 피부 측정부가 이온전압 출력부에 안면피부로 흐르는 전류를 검출하여 마이크로 프로세서에 입력시키며, 마이크로 프로세서는 안면피부로 흐르는 전류의 레벨로 안면피부의 상태를 판단하여 이를 표시부에 표시하게 된다.
그리고 본 발명은 사용자의 선택에 따라 마이크로 프로세서가 저주파 전압의 레벨값을 가변 출력하고, 이 출력한 저주파 전압의 레벨값을 저주파 전압 발생부가 저주파 전압으로 변환하며, 저주파 전압 발생부가 발생한 전압을 저주파 출력부가 제어하여 저주파 전압을 출력하게 된다.
또한 본 발명은 사용자의 선택에 따라 마이크로 프로세서가 이온전압 출력부와, 저주파 전압 발생부 및 저주파 출력부를 동시에 제어하여 안면피부를 미용하면서 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 수행한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제어장치를 상세히 설명한다.
제1도는 본 발명의 제어장치의 전체 구성을 보인 블록도로서 이에 도시된 바와 같이, 이온전압의 출력, 피부상태의 측정 및 저주파 전압 출력의 전체 동작을 제어하는 마이크로 프로세서(1)와, 사용자의 조작에 따라 상기 마이크로 프로세서(1)에 동작명령을 입력시키는 키입력부(2)와, 상기 마이크로 프로세서(1)의 제어에 따른 레벨의 저주파 전압을 발생하는 저주파 전압 발생부(3)와, 상기 저주파 전압 발생부(3)가 발생한 저주파 전압을 상기 마이크로 프로세서(1)의 제어에 따라 교번 출력하여 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 수행하는 저주파 출력부(4)와, 측정한 피부상태 및 기기의 동작상태를 표시하는 표시부(5)와, 상기 마이크로 프로세서(1)의 제어에 따라 안면피부로 이온전압을 출력하여 안면 피부미용을 수행하는 이온전압 출력부(6)와, 상기 이온전압 출력부(6)에서 안면피부로 흐르는 전류를 검출하여 상기 마이크로 프로세서(1)에 입력시키는 피부 측정부(7)로 구성하였다.
이와 같이 구성된 본 발명의 제어장치는 사용자가 키입력부를 조작하여 저주파 전압의 출력을 명령하면, 마이크로 프로세서(1)는 저주파 전압 발생부(3)를 제어하여 저주파 전압을 발생하게 된다.
이때, 사용자가 키입력부(2)를 조작하여 선택한 레벨에 다라 마이크로 프로세서(1)가 저주파 전압 발생부(3)를 제어하여 소정 레벨의 저주파 전압을 발생하게 된다.
이와 같이 저주파 전압 발생부(3)가 발생한 저주파 전압은 저주파 출력부(4)에 입력되는 것으로 마이크로 프로세서(1)는 저주파 출력부(4)를 제어하여 저주파 전압의 출력을 일정한 시간 간격으로 교번하고, 교번하는 저주파 전압이 인체의 비만부위 및 바스트 부위에 인가되어 자극하면서 비만관리 및 바스트 관리를 수행하게 된다.
그리고 사용자가 키입력부(2)를 조작하여 이온전압의 출력을 명령하면, 마이크로 프로세서(1)는 이온전압 출력부(5)를 제어하여 이온전압을 발생하고, 발생한 이온전압의 극성을 안면피부의 클린싱 단계, 맛사지 단계 및 영양공급 단계에 따라 가변시켜 클린싱, 맛사지 및 영양공급을 수행하게 된다.
이와 같은 상태에서 피부 측정부(7)는 안면피부로 흐르는 이온전류를 검출하고, 검출한 이온전류를 마이크로 프로세서(1)에 입력시키게 된다.
그러면, 마이크로 프로세서(1)는 입력된 이온전류의 레벨을 판단하고, 판단한 레벨에 따라 안면피부의 상태를 판단 즉, 건성피부, 중성피부 및 지성 피부를 판단하여 표시부(7)에 표시하게 된다.
또한 마이크로 프로세서(1)는 저주파 전압을 출력하면서 안면피부의 미용을 선택하거나 또는 이온전압을 발생하여 안면피부를 미용하는 상태에서 저주파 전압의 출력을 선택하는 지를 판단하고, 선택할 경우에 저주파 전압의 출력 및 이온전압의 출력을 동시에 수행하게 제어하여 안면피부의 미용과, 비만관리 및 바스트 관리를 동시에 수행할 수 있도록 하며, 표시부(5)를 제어하여 현재의 동작상태를 표시하게 된다.
이러한 본 발명의 제어장치를 상세 회로도로 보인 제2도 및 제3도의 도면과, 마이크로 프로세서의 동작을 보인 제4도의 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.
제2도는 제1도의 저주파 전압 발생부(3) 및 저주파 출력부(4)를 보인 상세 회로도이다. 이에 도시된 바와 같이, 저주파 전압 발생부(3)는, 마이크로 프로세서(1)의 저주파 전압 출력단자(LV1)(LV3)(LV4)를 저항(R1)(R3)(R4)의 일측단자에 접속하고, 저항(R4)의 타측단자는 접지저항(R6) 및 저항(R5)를 통해 저항(R3)의 타측단자에 접속함과 아울러 그 접속점을 저항(R2)을 통해 저항(R1)의 타측단자에 접속하여 디지탈/아날로그 변환부(31)를 구성하였다.
디지탈/아날로그 변환부(31)의 출력단자인 저항(R1)(R2)의 접속점은 저항(R7)을 통해 연산 증폭기(OP1)의 반전 입력단자(-)에 접속하고, 전원(B+)에 저항(R8) 및 가변저항(VR1)이 직렬로 접속하여 가변저항(VR1)의 가변단자를 연산 증폭기(OP1)의 비반전 입력단자(+)에 접속하며, 연산 증폭기(OP1)의 출력단자는 저항(R9)을 통해 연산 증폭기(OP1)의 반전 입력단자(-)에 궤환 접속함과 아울러 저항(R10)을 통해 접지 콘덴서(C1) 및 저항(R11)의 일측단자에 접속하여 증폭부(32)를 구성하였다.
증폭부(32)의 출력단자인 저항(R11)의 타측단자는 연산 증폭기(OP2)의 비반전 입력단자(+)에 접속하고, 연산 증폭기(OP2)의 출력단자는 저항(R12)을 통해 트랜지스터(Q1)의 베이스에 접속하여 트랜지스터(Q1)의 콜렉터에는 전원(B+)이 인가되게 접속하고, 트랜지스터(Q1)의 에미터는 접지저항(R13), 저항(R14) 및 접지저장(R15)을 통해 연산 증폭기(OP2)의 반전 입력단자(-)에 접속하여 발진부(33)를 구성하였다.
발진부(33)의 출력단자인 트랜지스터(Q1)의 에미터, 접지저항(R13) 및 저항(R14)의 접속점은 다이오드(D1)를 통해 코일(L)의 일측단자에 접속하여 승압부(34)를 구성하였다.
마이크로 프로세서(1)의 저주파 전압 출력단자(LV4)를 저항(R16)를 통해 트랜지스터(Q2)의 베이스에 접속하고, 트랜지스터(Q2)의 콜렉터를 승압부(34)의 출력단자인 코일(L)의 타측단자에 접속하여 레벨 변환부(35)를 구성하였다.
승압부(34) 및 레벨 변환부(35)의 출력단자는 다이오드(D2)를 통해 정전압 다이오드(ZD1)의 캐소드 및 접지 콘덴서(C2)에 접속하여 직류전압 변환부(36)를 구성하였다.
그리고 저주파 출력부(4)는 마이크로 프로세서(1)의 저주파 출력 제어단자(LCS1)(LCS2)를 저항(R17)(R18)을 통해 트랜지스터(Q2)(Q3)의 베이스에 접속함과 아울러 저항(R22)(R21)을 통해 트랜지스터(Q6)(Q5)의 베이스에 접속하여 트랜지스터(Q2)(Q5)의 콜렉터를 저항(R19)(R23)을 통해 저항(R20)(R24)의 일측단지 및 트랜지스터(Q4)(Q7)의 베이스에 접속하고, 트랜지스터(Q4)(Q7)의 에미터 및 저항(R20)(R24)의 타측단자를 저주파 전압 발생부(3)의 출력단자에 접속하며, 트랜지스터(Q3)(Q6)의 콜렉터는 트랜지스터(Q4)(Q7)의 콜렉터에 접속하여 그 접속점을 플러그(PLG1)에 접속하였다.
이와 같이 구성된 본 발명의 저주파 전압 발생부(3) 및 저주파 출력부(4)는 전원(B+)이 인가된 상태에서 비만관리 및 바스트 관리시 마이크로 프로세서(1)는 사용자가 선택한 저주파 전압의 레벨에 따라 저주파 전압 출력단자(LV1~LV3)로 선택적으로 고전위를 출력하고, 출력한 고전위는 저주파 전압 발생부(3)의 아날로그/디지탈 변환부(31)의 저항(R1~R6)을 통해 디지탈 신호로 변환되어 출력된다.
아날로그/디지탈 변환부(31)의 출력신호는 증폭부(32)의 저항(R7)을 통해 연산증폭기(OP1)의 반전 입력단자(-)에 인가되어 가변저항(VR1)의 가변에 따라 설정된 기준전압과 비교 증폭되고, 저항(R10), 접지 콘덴서(C1) 및 저항(R11)을 순차적으로 통해 출력된다.
증폭부(32)의 출력신호는 발진부(33)의 연산 증폭기(OP2)의 비반전 입력단자(+)에 인가되고, 연산증폭기(OP2)의 출력신호는 저항(R12), 트랜지스터(Q1), 접지 저항(R13), 저항(R14) 및 접지 저항(R15)을 통해 그의 반전 입력단자(-)로 궤환 입력되므로 연산 증폭기(OP2)는 발진하여 펄스신호를 출력하게 된다.
즉, 연산 증폭기(OP1)가 고전위를 출력할 경우에 트랜지스터(Q1)가 온되고, 전원(B+)이 트랜지스터(Q1), 접지 저항(R13), 저항(R14) 및 접지 저항(R15)을 순차적으로 통해 연산 증폭기(OP2)의 반전 입력단자(-)로 궤환 입력되어 연산 증폭기(OP2)가 저전위를 출력하게 되고, 연산 증폭기(OP2)가 저전위를 출력함에 따라 트랜지스터(Q1)가 다시 오프되면서 연산 증폭기(OP2)의 반전 입력단자(-)에 저전위가 인가되어 연산 증폭기(OP2)가 고전위를 출력하는 것을 반복하는 것으로서 증폭부(32)의 출력신호 레벨에 따른 주파수의 펄스신호를 발생하게 된다.
이와 같이 발진부(33)에서 발생된 펄스신호는 승압부(34)의 다이오드(D1)를 통해 코일(L)에 축적되어 승압된다.
이때, 마이크로 프로세서(1)가 저주파 전압 출력단자(LV4)로 고전위를 출력하면, 레벨 변환부(35)의 트랜지스터(Q2)가 온되고, 승압부(34)의 출력전압이 트랜지스터(Q2)를 통해 접지되며, 저주파 전압 출력단자(LV4)로 저전위를 출력할 경우에는 트랜지스터(Q2)가 오프되므로 승압부(34)의 출력전압이 직류전압 변환부(36)의 다이오드(D2)를 통해 정류되고, 정전압 다이오드(ZD)에 의해 안정화되며, 콘덴서(C2)에 의해 평활되어 직류 전압을 발생하게 된다.
여기서, 본 발명은 사용자가 설정한 저주파 전압의 레벨에 따라 마이크로 프로세서(1)는 저주파 전압 출력단자(LV1~LV4)로 출력하는 전위를 가변시켜 저주파 전압 발생부(3)의 출력전압을 가변시키게 된다.
이와 같이 저주파 전압 발생부(3)가 설정 레벨의 전압을 출력하는 상태에서 마이크로 프로세서(1)는 저주파 출력 제어단자(LCS1)(LCS2)로 서로 상반되는 전위를 교호로 출력하는 것으로서 예를 들면, 저주파 출력 제어단자(LCS1)로 고전위를 출력하고, 저주파 출력 제어단자(LCS2)로 저전위를 출력할 경우에 트랜지스터(Q2)(Q6)가 온되고, 트랜지스터(Q2)가 온됨에 따라 트랜지스터(Q4)가 온된다.
그러면, 저주파 전압 발생부(3)의 출력전압이 트랜지스터(Q2) 및 플러그(PLG1)를 통하고, 플러그(PLG1)에 잭(도면에 도시되지 않았음)을 끼운 패드(도면에 도시되지 않았음)를 다시 통해 인체에 인가되며, 인체에 인가된 저주파 전압은 패드, 잭, 플러그(PLG1) 및 트랜지스터(Q6)를 통해 접지로 흐르게 된다.
그리고 마이크로 프로세서(1)가 저주파 출력 제어단자(LCS1)로 저전위를 출력하고, 저주파 출력 제어단자(LCS2)로 고전위를 출력할 경우에는 상기와는 반대로 트랜지스터(Q3)(Q5)가 온되고, 트랜지스터(Q5)가 온됨에 따라 트랜지스터(Q7)가 온된다.
그러면, 저주파 전압 발생부(3)의 출력전압이 트랜지스터(Q7), 프럴그(PLG1), 잭 및 패드 통해 인체에 인가되며, 인체에 인가된 저주파 전압은 패드, 잭, 플러그(PLG1) 및 트랜지스터(Q3)를 통해 접지로 흐리게 된다.
그리고 여기서, 마이크로 프로세서(1)는 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리에 따라 저주파 출력 제어단자(LCS1)(LCS2)로 출력하는 전위를 교호로 가변시켜 출력되는 저주파 전압의 주파수를 가변시키게 된다.
예를 들면, 비만관리시 2~250Hz의 주기로 저주파 출력 제어단자(LCS1)(LCS2)의 출력전위를 가변시키면서 저주파 전압을 출력하고, 리프팅시 5~50Hz의 주기로 저주파 출력 제어단자(LCS1)(LCS2)의 출력전위를 가변시키면서 저주파 전압을 출력하며, 바스트 관리시 20~150Hz의 주기로 저주파 출력 제어단자(LCS1)(LCS2)의 출력전위를 가변시키면서 저주파 전압을 출력하게 된다.
제3도는 제1도의 이온전압 출력부(6) 및 피부 측정부(7)를 보인 상세 회로도이다. 이에 도시된 바와 같이 이온전압 출력부(6)는 마이크로 프로세서(1)의 이온전압 출력단자(ION1)(ION2)(ION3)에 저항(R31)(R32)(R33)의 일측단자를 접속하고, 저항(R31)(R32)(R33)의 타측단자 사이에는 저항(R34)(R35)(R36)을 직렬로 연결하여 아날로그/디지탈 변환부(61)를 구성하였다.
아날로그/디지탈 변환부(61)의 출력단자인 저항(R31)(R34)의 접속점은 저항(R37)을 통해 연산 증폭기(OP31)의 반전 입력단자(-)에 접속하여 연산 증폭기(OP31)의 출력단자를 저항(R38)을 통해 그의 반전 입력단자(-)에 궤환 접속하고, 전원(B+)에 저항(R39) 및 가변저항(VR31)을 직렬로 접속하며, 가변저항(VR31)의 가변단자를 연산 증폭기(OP31)의 비반전 입력단자(+)에 접속하여 증폭부(62)를 구성하였다.
증폭부(63)의 출력단자는 저항(R40)(R41)을 각기 통해 플러그(PLG31)에 접속하고, 마이크로 프로세서(1)의 이온전압 출력 제어단자(ICS1)(ICS2)를 저항(R42)(R43)을 통해 트랜지스터(Q31)(Q32)의 베이스에 각기 접속하며, 트랜지스터(Q31)(Q32)의 콜렉터는 상기 저항(R40)(R41) 및 플러그(PLG31)의 접속점에 접속하여 극성 절환부(63)를 구성하였다.
그리고 피부 측정부(7)는, 상기 증폭부(63)의 저항(R41)과 플러그(PLG31)의 사이에 포토 카플러(PC)의 발광부를 접속하고, 포토 카플러(PC)의 수광부는 접지 저항(R44), 접지 콘덴서(C31) 및 저항(R45)에 접속함과 아울러 그 접속점을 저항(R46)을 통해 연산 증폭기(OP32)의 비반전 입력단자(+)에 접속하고, 연산 증폭기(OP32)의 출력단자는 그의 반전 입력단자(-)에 궤환 접속하여 이온전류 검출부(71)를 구성하였다.
이온전류 검출부(71)의 출력단자는 저항(R47)을 통해 접지 저항(R48) 및 연산 증폭기(OP33)의 비반전 입력단자(+)에 접속하고, 저항(R49)을 통해 연산 증폭기(OP33)의 반전 입력단자(-)에 접속하여 연산 증폭기(OP33)의 출력단자를 연산 증폭기(OP34)의 반전 입력단자(-)에 접속함과 아울러 콘덴서(C32)를 통해 그의 반전 입력단자(-)에 궤환 접속하며, 전원(B+)에 가변저항(VR32) 및 저항(R50)을 직렬로 접속하여 가변저항(VR32)의 가변단자를 저항(R51)을 통해 연산 증폭기(OP34)의 비반전 입력단자(+)에 접속하며, 연산 증폭기(OP34)의 출력단자는 저항(R52)을 통해 그의 비반전 입력단자(+)에 궤환 접속함과 아울러 저항(R53)을 통해 트랜지스터(Q33)의 베이스에 접속하며, 트랜지스터(Q33)의 콜렉터는 저항(R54)을 통해 상기 저항(R49), 콘덴서(C32) 및 연산 증폭기(OP33)의 반전 입력단자(-)의 접속점에 접속하여 발진부(72)를 구성하였다.
발진부(72)의 출력단자는 저항(R55)을 통해 트랜지스터(Q34)의 베이스에 접속하고, 트랜지스터(Q34)의 콜렉터는 저항(R56) 및 마이크로 프로세서(1)의 입력단자(SIN)에 접속하여 이온전류 출력부(73)를 구성하였다.
이와 같이 구성된 이온전압 출력부(6) 및 피부 측정부(7)는 전원(B+)이 인가된 상태에서 사용자가 안면피부를 미용하기 위하여 이온출력을 선택하면, 마이크로 프로세서(1)는 이온전압 출력단자(ION1)(ION2)(ION3)로 선택적으로 고전위를 출력한다. 즉, 사용자가 설정하는 이온전압의 출력레벨에 따라 마이크로 프로세서(1)는 이온전압 출력단자(ION1)(ION2)(ION3)로 선택적으로 고전위를 출력한다.
출력한 고전위는 아날로그/디지탈 변환부(61)의 저항(R31)(R32)(R33)을 각기 통한 후 저항(R34~R36)에서 합쳐서 디지탈 신호로 변환되고, 증폭부(62)의 저항(R37)을 통해 연산 증폭기(OP31)의 반전 입력단자(-)에 인가되어 증폭 출력된다.
증폭부(62)에서 출력되는 이온전압은 출력부(63)의 저항(R40, R41)을 통해 2로 분할되고, 플러그(PLG31)를 통해 피부관리용 패드의 안면 접촉부 및 접지부로 각기 출력된다.
이때, 마이크로 프로세서(1)는 현재 피부관리 단계를 판단 즉, 현재 클린싱단계, 맛사지 단계 또는 영양공급 단계인지를 판단하고, 판단한 피부관리 단계에 따라 이온전압 출력 제어단자(ICS1)(ICS2)로 선택적으로 고전위를 출력하고, 출력한 고전위의 제어신호에 따라 이온전압 출력부(63)의 트랜지스터(Q31)(Q32)가 선택적으로 온되어 저항(R40)(R41) 및 플러그(PLG31)의 접속점을 선택적으로 접지시키게 된다.
여기서, 저항(R40)은 플러그(PLG31)를 통해 피부관리용 패드의 안면 접촉부에 연결되고, 저항(R41)은 플러그(RLG31)를 통해 피부관리용 패드의 접지부에 연결되어 있다고 가정하고, 클린싱 단계는 안면피부로 플러스 이온전압을 공급하는 것으로서 마이크로 프로세서(1)는 이온전압 출력 제어단자(ICS2)로 고전위의 제어신호를 출력하여 트랜지스터(Q32)를 온시키게 된다.
그러면, 증폭부(62)에서 출력되는 플러스 이온전압은 이온전압 출력부(63)의 저항(R40), 플러그(PLG31), 사용자가 안면에 접촉시키는 피부관리용 패드의 안면 접촉부, 인체, 사용자가 손으로 접촉시키는 피부관리용 패드의 접지부, 플러그(PLG31), 및 트랜지스터(Q32)를 통해 접지로 흐르게 되어 안면피부로 플러스 이온전압이 인가 및 클린싱 단계를 수행하게 된다.
그리고 맛사지 단계는 안면피부로 플러스 이온전압 및 마이너스 이온전압을 일정한 시간 간격으로 교호로 공급하는 것으로서 마이크로 프로세서(1)는 먼저 이온전압 출력 제어단자(ICS2)로 고전위의 제어신호를 출력하여 상기와 같이 트랜지스터(Q32)를 온시키고, 증폭부(62)에서 출력되는 플러스 이온전압이 저항(R40), 플러그(PLG31), 피부관리용 패드의 안면 접촉부, 인체, 피부관리용 패드의 접지부, 플러그(PLG31) 및 트랜지스터(Q32)를 통해 접지로 흐르면서 안면피부로 플러스 이온전압이 인가되며, 다음에는 이온전압 출력 제어단자(ICS1)로 고전위의 제어신호를 출력하여 트랜지스터(Q31)를 온시키고, 증폭부(62)에서 출력되는 플러스 이온전압이 저항(R41), 플러그(PLG31), 피부관리용 패드의 접지부, 인체, 피부관리용 패드의 안면 접촉부, 플러그(PLG31) 및 트랜지스터(Q31)를 통해 접지로 흐르면서 안면피부로 마이너스 이온전압이 인가되게 하는 것을 일정한 시간간격으로 반복 수행하여 안면피부에 플러스 이온전압 및 마이너스 이온전압을 교호로 인가하는 맛사지 단계를 수행한다.
또한 영양공급 단계는 안면피부로 마이너스 이온전압을 공급하는 것으로서 마이크로 프로세서(1)는 이온전압 출력 제어단자(ICS1)로 고전위의 제어신호를 출력하여 상기와 같이 트랜지스터(Q31)를 온시키고, 증폭부(62)에서 출력되는 플러스 이온전압이 저항(R41), 플러그(PLG31), 피부관리용 패드의 접지부, 인체, 피부관리용 패드의 안면 접촉부, 플러그(PLG31) 및 트랜지스터(Q31)를 통해 접지로 흐르면서 안면피부로 마이너스 이온전압이 인가되게 하여 영양공급단계를 수행한다.
이와 같이 이온전압 출력부(63)가 이온전압을 출력하면서 피부관리를 하는 상태에서 출력하는 이온전압에 따라 피부 측정부(7)의 이온전류 검출부(71)의 포토 카플러(PC)의 발광부가 점등되고, 발광부의 광을 수광부가 수광하여 출력하며, 포토카플러(PC)의 수광부의 출력신호는 저항(R46)을 통하고, 버퍼로 동작되는 연산 증폭기(OP32)를 통해 증폭되어 출력된다.
연산 증폭기(OP32)의 출력신호는 발진부(72)의 연산 증폭기(OP33)에 인가되어 증폭되고, 연산 증폭기(OP33)의 출력신호는 연산 증폭기(OP34)에서 다시 증폭되며, 연산 증폭기(OP34)의 출력신호에 따라 트랜지스터(Q33)가 온 및 오프되면서 연산 증폭기(OP33)의 반전 입력단자(-)에 인가되는 전이를 가변시키게 되므로 연산 증폭기(OP33, OP34) 및 트랜지스터(Q33)가 발진하면서 펄스신호를 발생하며, 발생하는 펄스신호의 주파수는 이온전류 검출부(71)의 출력 레벨에 비례하여 가변된다.
발진부(72)에서 출력되는 펄스신호는 이온전류 출력부(73)의 트랜지스터(Q34)의 베이스에 인가되어 그가 온 및 오프되고, 마이크로 프로세서(1)의 입력단자(SIN)로 펄스신호가 입력된다.
그러면, 마이크로 프로세서(1)는 입력단자(SIN)로 입력되는 펄스신호의 주파수를 판별하고, 판별한 주파수로 사용자의 안면피부 상태가 건성피부, 중성피부 또는 지성 피부인지를 판단하여 표시부(5)에 표시한다.
한편, 제4도의 (a)는 본 발명의 제어장치에 의한 마이크로 프로세서의 동작을 보인 신호 흐름도로서 이에 도시된 바와 같이, 마이크로 프로세서(1)는 키입력부(2)로 부터 이온키가 입력되는 지를 판별하여 이온 키의 입력시 이온 출력모드를 설정하고, 저주파 키의 입력시 저주파 출력모드를 설정한 후 이온 출력모드일 경우에 이온 출력루틴을 수행하고, 저주파 출력모드시 저주파 출력루틴을 수행한다.
이온 출력루틴은 제4도의 (b)에 도시된 바와 같이, 이온전압 출력단자(ION1~ION3)로 선택적으로 고전위를 출력하여 상기한 바와 같이 안면피부로 이온전압이 출력되게 하고, 이온 레벨키의 입력시 이온전압 출력단자(ION1~ION3)의 출력신호를 가변시켜 사용자가 원하는 레벨의 이온전압이 출력되게 한다.
이와 같은 상태에서 마이크로 프로세서(1)는 피부 측정부(7)가 측정한 이온 전류의 레벨을 입력하고, 입력한 이온 전류의 레벨로 사용자의 안면피부 상태가 건성피부, 중성피부 또는 지성 피부인지를 판단하여 표시부(5)에 표시한다.
저주파 출력루틴은 제4도의 (c)에 도시된 바와 같이, 저주파 전압 출력단자(LV1~LV4)로 선택적으로 고전위를 출력하여 상기한 바와 같이 저주파 전압이 인체로 출력되면서 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 하도록 하고, 저주파 전압 레켈키가 입력되는 지를 판단하여 저주파 전압 레벨키의 입력에 따라 저주파 전압 출력단자(LV1~LV4)로 출력하는 전위를 가변시켜 사용자가 원하는 레벨의 저주파 전압이 출력하게 된다.
한편, 상기에서는 저주파 전원 발생부(3), 저주파 출력부(4), 이온전압 출력부(6) 및 피부 측정부(7)를 모두 구비하여 이온전압을 출력하면서 동시에 피부상태를 측정하고, 저주파 전압을 출력하는 것을 예로 들어 설명하였으나, 본 발명을 실시함에 있어서는 저주파 전압 발생부(3) 및 저주파 출력부(4)를 구비하여 저주파 전압만을 출력하게 하거나 또는 이온전압 출력부(6) 및 피부 측정부(7)를 구비하여 이온전압을 출력하면서 동시에 피부상태를 측정하는 동작만을 수행하게 구성할 수 있다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 고안은 사용자의 안면피부로 이온전압을 출력하면서 사용자의 안면피부의 상태에 따른 전류의 흐름으로 안면피부의 상태를 검출하여 표시하므로 회로의 구성이 간단하고, 사용자가 별도로 안면피부의 상태를 확인할 필요가 없고, 또한 하나의 잭만을 구비하여 피부관리 및 안면피부의 상태를 확인 할 수 있음은 물론 판단한 사용자의 피부상태를 이용하여 피부관리의 시간설정 및 이온전압의 출력레벨을 자동으로 제어하게 할 수도 있으며, 또한 이온전압을 출력하면서 동시에 저주파 전압을 출력하므로 사용자가 안면피부를 미용하면서 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 동시에 수행할 수 있다.

Claims (8)

  1. 이온전압의 출력, 피부상태의 측정 및 저주파 전압 출력의 전체 동작을 제어하는 마이크로 프로세서(1)와, 사용자의 조작에 따라 상기 마이크로 프로세서(1)에 동작명령을 입력시키는 키입력부(2)와, 상기 마이크로 프로세서(1)의 제어에 따른 레벨의 저주파 전압을 발생하는 저주파 전압 발생부(3)와, 상기 저주파 전압 발생부(3)가 발생한 저주파 전압을 상기 마이크로 프로세서(1)의 제어에 따라 교번 출력하여 비만관리, 리프팅 및 바스트 관리를 수행하는 저주파 출력부(4)와, 측정한 피부상태 및 기기의 동작상태를 표시하는 표시부(5)와, 상기 마이크로 프로세서(1)의 제어에 따라 안면피부로 이온전압을 출력하여 안면 피부미용을 수행하는 이온전압 출력부(6)와, 상기 이온전압 출력부(6)에서 안면피부로 흐르는 전류를 검출하여 상기 마이크로 프로세서(1)에 입력시키는 피부 측정부(7)를 구비하고, 상기 마이크로 프로세서(1)는 이온전압의 출력시 피부 측정부(7)의 출력신호로 피부상태를 판단하여 표시부(5)에 표시하고, 이온 키의 입력시 이온 출력모드를 설정하고, 저주파 키의 입력시 저주파 출력모드를 설정하여 이온전압 및 저주파 전압이 동시에 출력되게 제어하는 것을 특징으로 하는 피부 미용기기의 제어장치.
  2. 제1항에 있어서, 저주파 전압 발생부(3)는, 마이크로 프로세서(1)의 출력신호를 디지탈 신호로 변환하는 디지탈/아날로그 변환부(31)와, 상기 디지탈/아날로그 변환부(31)의 출력신호를 증폭하는 증폭부(32)와, 상기 증폭부(32)의 출력신호에 따라 발진하여 출력신호 레벨에 비례하는 펄스신호를 발생하는 발진부(33)와, 상기 발진부(33)의 출력신호를 승압하는 승압부(34)와, 상기 승압부(34)의 출력신호 레벨을 상기 마이크로 프로세서(1)의 출력신호에 따라 가변시키는 레벨 변환부(35)와, 상기 승압부(35)에서 출력되어 레벨 변환부(35)를 통과한 출력신호를 직류전압으로 변환하여 출력하는 직류전압 변환부(36)로 구성됨을 특징으로 하는 피부 미용기기의 제어장치.
  3. 제1항에 있어서, 이온전압 출력부(6)는, 마이크로 프로세서(1)의 출력신호를 디지탈 신호로 변환하는 아날로그/디지탈 변환부(61)와, 상기 아날로그/디지탈 변환부(61)의 출력신호를 증폭하는 증폭부(62)와, 상기 마이크로 프로세서(1)의 제어에 따라 상기 증폭부(63)의 출력신호의 극성을 가변시켜 안면피부로 출력하는 극성 절환부(63)로 구성됨을 특징으로 하는 피부 미용기기의 제어장치.
  4. 제1항에 있어서, 피부 측정부(7)는, 이온전압 출력부(6)에서 안면피부로 흐르는 전류를 검출하는 이온전류 검출부(71)와, 상기 이온전류 검출부(71)의 출력신호에 따라 발진하여 출력신호 레벨에 따른 주파수의 펄스신호를 발생하는 발진부(72)와, 상기 발진부(72)의 출력신호를 마이크로 프로세서(1)에 입력시키는 이온전류 출력부(73)로 구성됨을 특징으로 하는 피부 미용기기의 제어장치.
  5. 제4항에 있어서, 이온전류 검출부(71)는 이온전압 출력부(6)에서 안면피부로 흐르는 전류를 포토 카플러(PC)로 검출하는 것을 특징으로 하는 피부 미용기기의 제어장치.
  6. 이온전압의 출력, 피부상태의 측정 및 저주파 전압 출력의 전체 동작을 제어하는 마이크로 프로세서(1)와, 사용자의 조작에 따라 상기 마이크로 프로세서(1)에 동작명령을 입력시키는 키입력부(2)와, 상기 마이크로 프로세서(1)의 출력신호를 디지탈 신호로 변환하는 디지탈/아날로그 변환부(31)와, 상기 디지탈/아날로그 변환부(31)의 출력신호를 증폭하는 증폭부(32)와, 상기 증폭부(32)의 출력신호에 따라 발진하여 출력신호 레벨에 비례하는 펄스신호를 발생하는 발진부(33)와, 상기 발진부(33)의 출력신호를 승압하는 승압부(34)와, 상기 승압부(34)의 출력신호 레벨을 상기 마이크로 프로세서(1)의 출력신호에 따라 가변시키는 레벨 변환부(35)와, 상기 승압부(35)에서 출력되어 레벨 변환부(35)를 통과한 출력신호를 직류전압으로 변환하여 출력하는 직류전압 변환부(36)와, 기기의 동작상태를 표시하는 표시부(5)로 구성됨을 특징으로하는 피부 미용기기의 제어장치.
  7. 이온전압의 출력, 피부상태의 측정 및 저주파 전압 출력의 전체 동작을 제어하는 마이크로 프로세서(1)와, 사용자의 조작에 따라 상기 마이크로 프로세서(1)에 동작명령을 입력시키는 키입력부(2)와, 상기 마이크로 프로세서(1)의 출력신호를 디지탈 신호로 변환하는 아날로그/디지탈 변환부(61)와, 사기 아날로그/디지탈 변환부(61)의 출력신호를 증폭하는 증폭부(62)와, 상기 마이크로 프로세서(1)의 제어에 따라 상기 증폭부(63)의 출력신호의 극성을 가변시켜 안면피부로 출력하는 극성 절환부(63)와, 상기 극성 절환부(63)에서 안면피부로 흐르는 전류를 검출하는 이온전류 검출부(71)와, 상기 이온전류 검출부(71)의 출력신호에 따라 발진하여 출력신호 레벨에 따른 주파수의 펄스신호를 발생하는 발진부(72)와, 상기 발진부(72)의 출력신호를 마이크로 프로세서(1)에 입력시키는 이온전류 출력부(73)와, 상기 이온전류 출력부(73)의 출력신호로 측정한 피부상태 및 기기의 동작상태를 표시하는 표시부(5)로 구성됨을 특징으로 하는 피부 미용기기의 제어장치.
  8. 제7항에 있어서, 이온전류 검출부(71)는 이온전압 출력부(6)에서 안면피부로 흐르는 전류를 포토 카플러(PC)로 검출하는 것을 특징으로하는 피부 미용기기의 제어장치.
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