KR0147037B1 - 가스운반패널 - Google Patents

가스운반패널

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KR0147037B1
KR0147037B1 KR1019920018935A KR920018935A KR0147037B1 KR 0147037 B1 KR0147037 B1 KR 0147037B1 KR 1019920018935 A KR1019920018935 A KR 1019920018935A KR 920018935 A KR920018935 A KR 920018935A KR 0147037 B1 KR0147037 B1 KR 0147037B1
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조셉 그레고아이어 로저
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티모티 엔. 비숍
프랙스에어 테크놀로지, 인코포레이티드
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Abstract

본 발명은 가스운반패널의 안정성 및 운반된가스의 순도를 향상시키도록 개조된 밸브, 압력조절기 및 관련부품의 배열로 이루어진, 공급실린더로부터 공구위치로 가스를 운반하기 위한 마이크로패널에 관한 것이다.

Description

가스운반패널
제1도는 본 발명의 가스운반패널의 대표적 구현의 가스흐름순서를 나타내는 도면이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 퍼어지가스밸브 2 : 압력조절기
3 : 통기밸브 4 : 시험밸브
5 : 공정밸브 6 : 진공모듈
7 : 실린더 7a : 유동밸브
11 : 고압변환 분기덕트 12 : 저압변환 분기덕트
본 발명은 사용점위치에 고순도 공정용 가스를 공급하기 위한 가스패널에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 신뢰성이 향상되고 가스오염이 감소된 개선된 가스패널에 관한 것이다.
반도체 제조공업 및 여러 가지 다른 공업적 작업에서는, 일반적으로 공구위치로서 언급되는 사용점 위치로 고순도 공정용가스를 운반하기 위해 가스캐비넷이 사용된다. 이러한 캐비넷은 가스를 공구위치로 운반하기 위해 가스공급실린더 및 가스패널을 함유한다.
고순도 가스조작에 대해, ppm 단위의 불순물 수준이라도 반도체 및 다른 고순도 생성물의 효율에 악영향을 미칠 수 있으므로, 최소오염으로 공정용가스를 공구위치로 운반하는 것이 중요하다. 그외에, 가스케비넷 조작자의 건강 및 안전에 해를 줄수 있는 가스누설 없이 그리고 안전하게 가스패널이 조작될 수 있는 것을 보장하는 것이 필요하다.
따라서, 기체순도를 유지시키고 안전한 보전성을 유지시키면서, 바람직한 압력에서 가스를 운반하기 위해 가스패널이 필요하다. 패널은 또한, 가스실린더 교체가 안전하고 기체오염 없이 수행될 수 있도록 퍼어지작용에 대비해야 한다. 이러한 목적을 위해, 전형적인 가스패널은 특수화된 밸브, 부품, 중간배관 및 관련 하드웨어로 이루어지며, 가스패널에 대한 유입구에 가스의 고순도의 위험실린더가 부착되어 있고 패널의 유출구가 적합한 배관을 통해 공정반응기에 부착되어 있다.
고순도 공정용 가스 조작에 대한 여러 요건을 충족시키기 위한 다양한 가스패널 구조가 당분야에 제시되어 있다. 대표적인 가스패널에서는, 유동제한밸브, 비상차단밸브, 높고 낮은 사이드게이지를 갖는 가스조절기, 및 4개의 수동밸브가 사용된다. 수동 퍼어지밸브는 그 안에 사용되는 질소공급물에 관계하고, 수동공정밸브는 사용자 시스템에 연결된다. 2개의 통기밸브는 패널의 높고 낮은 사이드를 진공발생기 모듈을 포함하는 통기수단에 연결시킨다. 진공 모듈은 질소 또는 다른 비활성 기체공급에 의해 구동되고 환기통 시스템으로 배출되는 이덕터(eductor)를 함유한다. 환기통과 관련하여 낮은 측면의 안전한 릴리이프 포트가 제공된다.
이러한 패널 구조가 당분야에 공지되어 있음에도 불구하고, 반도체 또는 다른 고급 기술공업에 대한 증진된 공정기술의 계속 증가하는 요건을 충족시키기 위해, 매우 높은 순도의 기체 또는 초고순도 기체에 대한 필요성을 충족시키기 위한 더 이상의 가스패널 개선의 진정한 필요성이 존재한다. 이러한 개선점은, 매우 많은 바람직한 공정용 가스가 유해한 성질, 즉, 독성, 부식성, 가연성등을 가지고 있음을 고려해야 한다. 이와 같은 당분야에서 바람직한 개선점은 가스운반 패널내의 오염을 최소화시키고 유해한 공정용가스의 향상된 조절 및 조작을 달성시키는 것이 필요하다.
따라서, 본 발명의 목적은 개선된 가스운반 패널을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 또다른 하나의 목적은 공구위치로 운반되는 고순도 공정용가스의 오염을 최소화시킬 수 있는 가스패널을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 추가의 목적은 고순도 가스운반 작업의 신뢰성과 안전성을 향상시킬 수 있는 개선된 가스패널을 제공하는 데에 있다.
상기 및 다른 목적을 고려하여, 본 발명은 하기에서, 상세히 설명될 것이며, 본 발명의 신규의 특징은 특히, 첨부한 특허청구의 범위에서 지적된다.
본 발명은 가스공급물 순도 및 안전성을 향상시키기 위해 사용되는, 특수화된 밸브, 압력조절기 및 관련된 연결부의 유용한 구조를 갖는 감소된 크기의 가스 패널로 이루어진다.
본 발명은 하기에서, 본 발명의 가스운반 패널의 대표적 구현의 가스유동순서를 도시한 단일 도면과 관련하여 상세히 설명된다.
본 발명의 목적은 초고순도의 유해한 가스의 조절과 관련된 유일한 문제점을 해결하도록 개조된 감소된 크기의 마이크로패널 구조에 의해 달성된다. 본 발명의 감소된 크기의 간편화된 유동구조는 가스표면적, 가스연결부 및 정체 가스포켓을 감소시켜서, 공정용가스의 미립자 또는 다른 불순물을 감소시킨다. 이것은 또한, 시스템의 신뢰성 및 안정성을 증가시키기 위해 누설 가능성을 감소시키고 저압통기에 대비한다. 반도체 및 다른 향상된 기체 가공에 대해 기체운반패널내에서 불순물을 최소화시키거나 또는 제거하는 것이 중요하다. 본 발명의 개선된 안전성의 일면은 또한, 향상된 미래의 고순도 기체처리 작업의 공업적 요건을 충족시키기 위한 가스패널의 개발의 필요한 부분이다.
종래의 퍼어지패널 시스템과 대조적으로, 본 발명의 마이크로패널의 기체순도 잇점은, (1) 보다 적은수의 부품 및 가동부 및 덜 적셔진 표면의 사용 때문에 입자발생이 감소하고 ; (2) 현저한 데드레그 면적을 야기시키지 않는 구조를 통한 유동, 및 입자유입 면적의 바람직한 감소에 더 기여하는, 보다 적은수의 부품, 기계적 연결부 및 용접부를 갖는 간편화된 디자인과 함께, 입자유입 면적이 감소되고 ; (3) 보다 작은 누설 가능한 면적이 존재하고, 덜 젖은 표면이 사용되고, 보다 적은 공극 및 유입면적이 존재하기 때문에 기체오염이 최소화 되어, 이것에 의해 보다 더 우수하고 더욱 완전한 퍼어징이 수행될 수 있다는 점이다. 종래의 퍼어지 패널시스템과 비뵤하여, 본 발명의 마이크로패널 구조의 안정성 잇점은, (1) 보다 적은 기계적 연결부, 대기에 대한 보다 적은 밀봉부 및 보다 적은 용접부가 사용되기 때문에, 시스템의 누설 가능성이 감소되고, (2) 보다 적은수의 부품이 사용되고 간편화된 가스운반 작업이 실행되기 때문에 가스패널 시스템의 신뢰성이 향상되고, (3) 공정용 가스의 위험한 고압방출을 방지시키는 조절된 저압배출이 사용된다는 점이다.
도면과 관련하여, 도면에 도해된 가스운반패널이 예를 들어 실란과 같은 하나의 공정용 가스에 대한 가스판넬임이 인지될 것이다. 본 발명의 전반적인 실시에서는, 하나 이상, 예를 들어 3개의 이러한 가스운발패널이 사용되며, 각각의 패널은, 어떤 특별한 반도체, 또는 하나 이상의 초고순도 공정용가스의 사용을 필요로 하는 다른 조작에 대해 바람직한 바와 같은 공정용 가스의 운반을 위한 분리 공정가스실린더에 연결되어 있다. 본 발명의 도해된 구현의 마이크로패널은 퍼어지 가스밸브, 압력조절기, 통기밸브, 시험밸브, 공정가스밸브 및 진공발생기 모듈을 포함한다. 패널부품들은, 최소 힘 및 정체가스 포켓으로, 가스 유동경로가 바람직하게는 이것을 통한 직통 유동경로일 정도로 배열되고 구멍이 있다. 본 발명의 목적에 대해, 가스 통로를 통한 직통 유동은, 압력조절기의 양 측면에서, 근본적으로 정체가스포켓, 데드플로우레그등이 없이 연속 유동경로로 이루어지는 것으로 이해될 것이다. 마이크로패널 부품은, 그 안의 유체통과 구멍들이 근본적으로 압력 조절기의 두측면 모두에서 똑같은 평면으로 배열되어, 본 발명의 바람직한 구현에서 기체통로를 통한 이러한 직통유동이 제공될 정도로 배열된다. 압력조절기의 하류측면상의 유체통로는 일반적으로, 이것이 또한 여러크기의 유체통로를 사용하기 위한 본 발명의 범위내에 있다하더라도, 상류측면상에서와 똑같은 크기, 예를 들어 1/4 공업표준이다. 상기 제시된 바와 같이, 상기구조는 패널을 통해 유동하는 공정용가스의 바람직하지않은 입자 불순물을 감소시키고, 공정가스실린더로부터 공구위치로 운반되는 공정용가스의 초고순도를 유지시킨다.
도면의 구현에서, 부호(1)은 퍼어지가스밸브를 나타내며, 가스통로를 통한 바람직한 직통흐름을 위해 압력조절기(2), 통기밸브(3) 및 시험밸브(4)가 배열되어 있다. 시험밸브(4)로부터, 공정용가스 또는 질소 또는 다른 비활성 퍼어지가스는 공구위치로의 운반을 위해 공정밸브(5)로 유동한다. 통기밸브(3)으로부터, 퍼어지가스는 진공모듈(6)을 통해 유동하여 가스패널로부터 배기된다.
퍼어지가스밸브(1)은, 이 밸브가 닫힐 경우, 6시 및 9시 위치에서 포트들이 개방되고, 반면에, 이 밸브가 열릴 경우, 6시, 9시 및 12시 위치에서 포트들이 개방될 정도로 배열된 포트들을 갖는다. 따라서, 퍼어지가스밸브(1)가 닫힐 경우에, 패널에 연결된 공정용가스공급실린더로부터 공정용가스는 퍼어지가스밸브(1)를 통과하여, 압력조절기(2), 통기밸브(3) 및 시험밸브(4)로 유동한다. 한편으로는, 퍼어지가스밸브(1)가 열릴경우에, 퍼어지가스 공급라인으로부터 퍼어지가스는 상기 퍼어지가스밸브를 통과하여, 공정용 가스공급실린더로부터의 공급라인을 포함하는 시스템내로 유입된다. 이에 대해, 공정용 가스공급실린더가 시스템으로의 공정용가스의 유입을 조절하도록 작동될 수 있는 밸브를 함유함을 알아야 한다.
압력조절기(2)는 3시 및 9시 위치에서 포트를 통하는 흐름을 가지며, 약 5시 및 7시 위치에서 변환분기덕트를 갖는다. 따라서, 공정용가스 또는 퍼어지가스는 압력조절기(2)를 통해 직통유동하며, 여기에서, 압력은 공구위치 또는 배기구멍으로의 통과를 위해, 보다 높은 공정용가스실린더 압력으로부터 바람직한 보다 낮은 압력까지 조절된다.
통기수단이 압력조절기의 상류 및 하류 둘 모두에 제공된 특별한 종래의 구조와는 달리, 통기밸브(3)은 단지 압력조절기(2)의 저압 하류 측면에 위치한다. 통기밸브(3)은, 이 밸브가 닫힐 경우, 개방포트를 통한 흐름이 3시 및 9시 위치에서 허용될 정도로 배열된 포트를 갖는다. 통기밸브(3)이 개방위치에 있는 경우, 또한 12시 위치에서 포트가 개방된다. 따라서 통기밸브(3)이 닫히는 경우, 압력조절기(2)로부터 공정용가스는 시험밸브(4)로 직통 유동할 수 있다. 한편으로는, 통기밸브(3)이 열리는 경우, 공정용가스 또는 퍼어지가스는 진공발생기모듈에 의해 결정되는 바와 같은 저압으로 통기밸브(3)으로부터 환기통 시스템까지 따로따로 통과할 수 있다.
도면에 도해된, 본 발명의 임의적이지만 바람직한 특징이고, 본 발명에 유용하게 포함된 시험밸브(4)는, 가스패널중의 가스유동경로를 통한 바람직한 직통유동에서와 같이, 시험밸브가 닫히는 경우, 3시 및 12시 위치에서 포트가 개방될 정도로 배열된 포트를 갖는다. 그러나, 상기밸브가 열리는 경우, 포트는 3시, 6시 및 12시 위치에서 개방된다. 따라서, 시험밸브(4)가 닫히는 경우, 공정용가스는 공정밸브(5)를 통과할 수 있다. 시험밸브(4)가 열리는 경우, 상기 공정용가스의 일부는 시험을 위해 가스유동패널로부터 통과될 수 있다. 시험밸브(4)는 또한 바람직하게는, 시스템조립 동안의 퍼어징 및 시스템의 외부헬륨분무 누설시험 동안의 가압에 관해서, 다른 용도를 위해 사용될 수 있다. 따라서, 상기 시험밸브 수단이 그 개방위치 있는 경우, 가스는 패널로 또는 패널로부터 통과될 수 있다.
공정유동밸브(5)는 공구위치로의 공정용가스의 유동을 조절하기 위해 6시 및 12시 위치에 배열된 포트들을 갖는다. 상기 공정유동밸브가 열리는 경우, 공구위치로의 공정용가스의 바람직한 유동이 달성되며, 공구위치로의 공정용가스의 상기 유동은, 상기 유동밸브(5)가 닫히는 경우에 종결된다.
저압통기 밸브가 개방위치에 있을 때 저압 통기밸브(3)에 연결되는 진공발생기 모듈(6)은, 가스패널로부터의 가스의 배출을 촉진시켜서 패널중의 통기밸브 수단으로부터 환기통시스템으로 배출된 가스 및 진공가스를 배기시키기 위해 본 발명의 특별한 구현에 사용되는 진공, 즉 부압을 발생시키기 위해 질소 또는 다른 비활성 기체 공급물 및 통상적인 이덕터를 사용한다.
본 발명의 가스패널의 조작에 있어서, 바람직하게는 본 발명의 가스패널의 구현을 통한 직통유동에 있어서, 유동밸브(7a)를 함유하는 실린더(7)로부터의 공정용가스는, 라인(9)에서 퍼어지가스 공급원(도시되지 않음)으로부터 퍼어지가스 밸브(1)로의 퍼어지가스의 통과와 함께 또는 통과없이, 라인(8)에서 퍼어지가스밸브(1)를 통과한다. 가스는, 패널에서 공정용가스 및 퍼어지가스 압력의 바람직한 조절을 위해 상기 퍼어지가스밸브(1)로부터 라인(10)을 통해 압력조절기(2)로 통과한다. 정확한 압력사용 및 조절 또는 디스플레이 목적을 위해, 바람직하게는 5시위치에 고압변환분기덕트(11)가 위치하고, 바람직하게는 7시 위치에 저압변환분기덕트(12)가 위치한다.
압력조절기(2)로부터, 가스는 라인(13)에서 통기밸브(3)로 통과하여, 여기에서, 공정용가스는 라인(15)에서 시험밸브(4)로의 통과를 위해 직통유동으로 통과한다. 배출되는 가스는 라인(15)에서 진공발생기모듈(6)을 통과하며, 이로부터, 배출되는 가스는 라인(16)을 통해 적합한 환기통 시스템을 통과한다. 퍼어지가스는 퍼어지가스 공급원(도시되지 않음)으로부터 라인(17)을 통해 상기 진공발생기모듈(6)을 통과한다. 시험 목적으로 가스패널로부터 배출시키려는 가스는 시험밸브(4)로부터 라인(18)을 통해 통과되며, 반면에, 공구위치로 통과되는 가스는 상기 시험밸브(4)로부터 라인(19)에서 공정밸브(5)로 통과된다.
본 발명의 저압측면배기 구조는 가스패널로부터 안전하고 효과적인 가스방출을 제공한다. 고압측면퍼어지 가스는 전체 가스패널시스템에 대해 필요한 퍼어지가스를 제공한다. 패널은 공구위치에서 공정가스실린더를 공정에 연관시키고, 간편하고, 편리하고 유용한 방법으로 공정용가스공급을 조작하기가 어렵고 깨끗한 울트라를 제공하기 위해 필요한 부품을 제공한다. 본 발명의 마이크로패널 구조는 공정용가스실린더로부터 공구위치까지 공정용가스의 통로를 통한 바람직한 직통유동을 제공한다. 시험밸브(4)배열은 시스템 완전성의 손상없이 시스템체크아웃(check out)을 제공한다. 공정용가스실린더가 소모되면, 가스판넬은 배기되고 정화될 수 있고, 실린더는 교체될 수 있고, 패널은 공구위치에 바람직한 공정용가스를 편리하게 공급하기 위한 용도로 정화되고, 시험되고 다시 배치될 수 있다.
당업자들은, 첨부된 특허청구범위에 재인용된 바와 같이, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서 본 원에 기재된 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서 여러변화 및 변형이 이루어질 수 있음을 인지할 것이다. 본 발명의 실시에 있어서 여러 시판용 밀봉수단이 사용될 수 있으며, 예를 들어, 케이존 브이시알R(CajonVCRR)또는 파커 바쿠시일R(Parker VacusealR) 표면 밀봉부품이 일반적으로 본 발명의 마이크로패널의 여러부품에 대한 밀봉수단으로서 사용된다. 또한 누프로(Nupro)밸브와 같은 시판용밸브가 본 발명의 실시에 사용될 수 있다. 유사하게, 본 발명의 가스패널에 시판용 압력조절기 또는 진공발생기모듈, 예를 들어 테스콤(Tescom)압력조절기 또는 스팬(Span)진공발생기모듈이 사용될 수 있다. 당업자들은, 퍼어지가스밸브, 압력조절기, 통기밸브 및 시험밸브와 같은, 가스패널의 여러부품에 유체통과 구멍이 배열되어, 본 발명의 바람직한 구현의 가스유동조작을 통한 직통유동이 용이하게됨을 인지할 것이다.
도면에 도시된 예시적 구현에는 진공발생기모듈이 사용되지만, 본 발명의 범위내에서 진공발생기 대신에 고압퍼어지가스가 사용되어 통기밸브 수단을 통해 배기되는 가스의 배출을 용이하게 한다. 따라서, 퍼어지가스는 대표적으로 약 300 내지 500psig 이상의 범위의 압력에서 공급될 수 있는 반면에, 일반적으로, 진공발생기는 대표적으로 22-27의 수은의 진공을 발생시키기 위해 사용된다.
진공발생기 또는 상기 고압퍼어지가스를 사용하는, 본 발명의 가스운반패널의 조작에 있어서, 퍼어지 작업은 근본적으로, 한 공정용 가스공급실린더로부터 다른 한 실린더로의 교체시에, 공정용가스퍼어지 뿐만 아니라, 전- 및 후- 실린더 교환퍼어지로 이루어진다.
본 발명에 사용되는 구조의 재료가 사용되는 공정용가스와 양립할 수 있는 정도의 재료이며, 스테인레스 강, 예를 들어 316L이 공업표준임이 이해될 것이다. 사용되는 퍼어지가스는 질소, 아르곤, 또는 가스패널시스템에서 비독성이고 비반응성인 다른 비활성가스일 것이다.
본 발명의 범위내에서, 유동경로표면적, 가스연통, 정체가스포켓, 데드플로우 레그등을 더 최소화시키기에 적합한 또다른 하나의 구현으로 본 발명이 실시된다. 본 발명의 저압통기가스 흐름배열을 수행하기 위해 필요한 밸브 및 압력조절기부품의 상호연통을 위한 유체통과 구멍을 제공하기 위해, 금속, 예를 들어 스테인레스의 단일블록, 또는 처리되는 가스와 양립할 수 있는 다른 적합한재료의 단일블록이 가공될 수 있다. 단일금속블록은, 특히 본 발명의 가스통과 구현을 통한 바람직한 직통유동에서, 상기 기술된 바와 같은 조작을 위해, 퍼어지가스밸브수단, 압력조절수단, 통기밸브수단 및 공정밸브수단의 삽입을 위해 개조된다. 바람직하다면, 단일금속블록 및, 시험밸브수단을 포함하는, 상기 기재된 바와 같은 관련부품의 소형화에 의해, 상기 기술된 바와 같은 본 발명의 마이크로패널의 구현에서 달성된 것 이상으로 가스운반패널의 전체크기가 매우 현저하게 감소될 수 있으며, 시스템의 가스유동경로가 더 작아지고, 또한 시스템의 누설가능성이 감소됨을 인지할 것이다. 따라서, 본 발명의 마이크로블록화는 가스운반패널 분야에서 더욱 고도로 유용한 진전으로 보일 것이다.
상기 제시된바와 같이, 실제 상업적 조작을 위한 가스캐비넷은 하나 이상의 가스실린더, 예를 들어, 공구위치로의 특별한 가스의 운반을 위해 가스패널에 각각 연결된 3개의 실린더로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 하나의 실린더는 아르곤, 산소, 헬륨 또는 질소등을 함유할 수 있고, 또다른 하나의 실린더는 프레온, 아산화질소, 헥사플루오르화황등을 함유할 수 있으며, 3번째 실린더는 암모니아, 염소, 디클로로실란, 수소, 염화수소, 실란, 사염화 실리콘등을 함유할 수 있다.
마이크로블록화를 포함하는, 본 발명의 마이크로패널 구현은 당분야의 상당한 진전을 나타내며, 가스공급순도, 및 공정가스 공급실린더로부터 공구위치로의 가스운반의 안전성을 향상시킨다. 본 발명의 간편화된 가스패널은 누설가능성을 감소시키고 저압배기를 가능하게 하여, 가스패널의 신뢰성 및 안전성을 증가시킨다. 가스표면적 및 가스연통을 감소시키고, 정체가스포켓을 소형화시킴으로써, 가스실린더로부터 공급되는 가스의 고순도는, 반도체, 및 고순도 가스공급에 대한 다른 공엄의 계속 증가하는 요건을 충족시키기 위해 필요한 고순도 수준에서 유용하게 보호된다.

Claims (26)

  1. (a) 퍼어지가스밸브 수단을 통해 공정용 가스공급실린더로부터 고순도 공정용가스의 통과를 위해 유체통과 구멍이 개방되는 밀폐위치와, 고순도 공정용가스의 통과를 위해 또는 퍼어지가스 공급라인으로부터 퍼어지가스의 통과를 위해 유체통과 구멍이 개방되는 개방위치사이의 조작을 위해 개조된퍼어지가스 밸브수단;
    (b) 상기 퍼어지가스밸브 수단으로부터 가스의 통과를 위한 흐름통과 구멍을 갖고, 가스통과 압력을 조절하도록 개조된 압력조절수단;
    (c) 단지 상기 압력조절수단의 저압측면에만 위치하고, 상기 압력조절수단 으로부터 고순도 공정용가스 또는 퍼어지가스의 통과를 위해 유체통과 구멍이 개방되는 밀폐위치와, 공정용가스 또는 퍼어지가스의 통과를 위해 유체통과 구멍이 개방되는 개방위치사이의 조작을 위해 그리고 배출을 위한 상기가스의 분리통과를 위해 개조된 통기밸브수단; 및
    (d) 공구위치로의 운반을 위한 고순도 공정용가스 또는 퍼어지가스의 통과를 위해 유체통과 구멍이 개방되는 개방위치와, 상기 가스통과가 종결되는 밀폐위치 사이의 조작을 위해 개조된 공정흐름밸브 수단으로 이루어지고, 가스표면적, 가스연결부 및 정체가스포켓을 최소화시키는 흐름경로에 대비하여, 가스오염을 최소화시키고 공정용가스 순도를 향상시키며, 동시에, 가스흐름경로를 간편화시키서 누설가능성을 감소시키고 시스템 신뢰성 및 안전성을 향상시키는 저압배기에 대비하는, 공급실린더로부터 공구위치로 고순도 공정용가스를 운반시키기 위한 가스운반패널.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 압력조절수단의 두 측면 모두에서의 상기 밸브 수단의 유체통과 구멍이 근본적으로 똑같은 평면에 배열되어 그 안에서 가스통로를 통한 직통유동이 제공됨을 특징으로 하는 가스운반패널.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 퍼어지가스밸브 수단이, 밀폐위치에서 공정용 가스의 통과를 위해 6시 및 9시 위치에서 개방유체통과 구멍을 갖고, 그 개방위치에서 퍼어지가스의 통과를 위해 6시, 9시 및 12시 위치에서 개방유체 통과 구멍을 가짐을 특징으로 하는 가스운반패널.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 압력조절수단에 그 위에 위치한 고압변환수단 및 저압변환수단을 가짐을 특징으로 하는 가스운반패널.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 고압변환수단이 5시 위치에 위치하고, 상기 저압변환 수단이 7시 위치에 위치함을 특징으로 하는 가스운반패널.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 통기밸브수단이, 그 밀폐위치에서 상기 시험밸브수단으로의 공정용가스 또는 퍼어지가스의 통과를 위해 3시 및 9시 위치에서 개방유체통과 구멍을 갖고, 그 개방위치에서 또한 통기를 위한 공정용가스 또는 퍼어지가스의 통과를 위해 3시, 9시 및 12시 위치에서 개방유체통과 구멍을 가짐을 특징으로 하는 가스운반패널.
  7. 제 1항에 있어서, 상기 공정유동밸브 수단이, 그 개방 위치에서 공구위치로의 공정용가스 또는 퍼어지가스의 통과를 위해 개방유체통과 구멍을 갖고, 그 밀폐위치에서 공구위치로의 가스의 이러한 통과를 방해하도록 개조됨을 특징으로 하는 가스운반패널.
  8. 제 1항에 있어서, 상기 통기밸브수단이 통기를 위해 개방위치에 있을 때, 상기 통기밸브 수단으로부터 통과하는 가스의 배출을 용이하게 하기위한 진공의 발생을 위해 개조된 진공발생 수단을 포함함을 특징으로 하는 가스운반패널.
  9. 제 8항에 있어서, 상기 진공발생수단이 이덕터, 및 부압의 발생을 위한 비활성가스공급 수단으로 이루어지며, 상기 통기밸브 수단으로부터 배출된 가스 및 진공가스의 저압배기를 위한 환기통시스템을 포함함을 특징으로 하는 가스운반패널.
  10. 제 1항에 있어서, 상기 퍼어지밸브 수단과 공정가스실린더 사이의 유체연통을 달성하기 위한 도관수단을 포함함을 특징으로 하는 가스운반패널.
  11. 제 10항에 있어서, 상기 공정유체밸브 수단과 상기 공구위치사이의 유체연통을 달성하기 위한 도관수단을 포함함을 특징으로 하는 가스운반패널.
  12. 제 1항에 있어서, 상기 공정유동밸브 수단으로 공정용가스 또는 퍼어지가스를 통과시키기 위해 유체통과 구멍이 개방되는 밀폐위치와, 상기 패널외측의 가스공급 또는 수용수단으로 또는 이들로부터 기체가 통과될 수 있는 개방위치 사이의 조작을 위해 개조된 시험밸브 수단을 포함함을 특징으로 하는 가스운반패널.
  13. 제 12항에 있어서, 상기 시험밸브수단이, 그 밀폐위치에서, 상기 공정밸브수단으로의 공정용가스 또는 퍼어지가스의 통과를 위해 3시 및 12시 위치에서 개방유체통과 구멍을 갖고, 그 개방위치에서, 또한 상기 패널로의 또는 패널로부터의 가스의 분리통과를 위해 6시 위치에서 개방유체통과 구멍을 가짐을 특징으로 하는 가스운반패널.
  14. 제 12항에 있어서, 상기 시험밸브수단에 유체통과 구멍이 위치하고, 상기 압력조절수단의 두측면 모두상의 나머지 밸브 수단의 유체통과 구멍이 근본적으로 똑같은 평면으로 배열되어 그 안에서 가스통로를 통한 직통유동이 제공됨을 특징으로 하는 가스운반패널.
  15. 제 1항에 있어서, 상기 퍼어지가스밸브수단, 압력조절수단, 통기밸브수단 및 압력조절수단의 삽입을 위해 개조된 재료의 단일블록을 포함하며, 상기 블록은 상기밸브들과 압력조절수단의 상호연결을 위한 유체통과 구멍을 제공하도록 개조됨을 특징으로 하는 가스운반패널.
  16. 제 15항에 있어서, 상기 단일블록 및 밸브 및 압력조절수단이 가스유동경로를 더 간편화시키고, 누설가능성을 감소시키고 상기 저압배기에 대비하도록 소형화되어, 이것에 의해 가스패널시스템의 신뢰성 및 안정성이 향상됨을 특징으로 하는 가스운반패널.
  17. 제 15항에 있어서, 상기 공정유동밸브 수단으로의 공정용가스 또는 퍼어지가스의 통과를 위해 유체통과 구멍이 개방되는 밀폐위치와, 또한 상기 패널 외측의 가스공급 또는 수용수단으로 또는 이들로부터 가스가 통과될 수 있는 개방위치사이의 조작을 위해 개조된 시험밸브수단을 포함함을 특징으로 하는 가스운반패널.
  18. 제 15항에 있어서, 상기 압력조절수단의 두 측면 모두상의 상기 밸브수단들의 유체통과 구멍들이 근본적으로 똑같은 평면으로 배열되어 그 안에서 가스통로를 통한 직통유동이 제공됨을 특징으로 하는 가스운반패널.
  19. 제 16항에 있어서, 상기 압력조절수단의 두 측면 모두상의 상기 밸브 수단들의 유체통과 구멍들이 근본적으로 똑같은 평면으로 배열되어 그 안에서 가스통로를 통한 직통유동이 제공됨을 특징으로 하는 가스운반패널.
  20. 제 17항에 있어서, 상기 공정유동밸브 수단으로의 공정용가스 또는 퍼어지가스의 통과를 위해 유체통과 구멍이 개방되는 밀폐위치와, 또한 상기 패널 외측의 가스공급 또는 수용수단으로 또는 이들로부터 가스가 통과될 수 있는 개방 위치사이의 조작을 위해 개조된 시험밸브수단을 포함함을 특징으로 하는 가스운반패널.
  21. 제 20항에 있어서, 상기 단일블록 및 밸브 및 압력조절수단이 가스유동경로를 더 간편화시키고, 누설가능성을 감소시키고 상기 저압배기에 대비하도록 소형화되어, 이것에 의해 가스패널시스템의 신뢰성 및 안정성이 향상됨을 특징으로 하는 가스운반패널.
  22. 제 15항에 있어서, 재료의 단일블록이 금속블록으로 이루어짐을 특징으로 하는 가스운반패널.
  23. 제 16항에 있어서, 재료의 단일블록이 금속블록으로 이루어짐을 특징으로 하는 가스운반패널.
  24. 제 20항에 있어서, 재료의 단일블록이 금속블록으로 이루어짐을 특징으로 하는 가스운반패널.
  25. 제 22항에 있어서, 상기 단일블록이 스테인레스 강 블록으로 이루어짐을 특징으로 하는 가스운반패널.
  26. 제 23항에 있어서, 상기 단일블록이 스테인레스 강 블록으로 이루어짐을 특징으로 하는 가스운반패널.
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