KR0141883B1 - 비듬방지용 샴프조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 합성계면활성제 약 10% 내지 약 70% ; 아연 피리치온 약 0.3% 내지 약 4% ; 약 7개 내지 약 45개의 아민 그룹을 함유하는 폴리에틸렌 아민, 1차 아민 작용기를 함유하는 n-도데실 아민, 1,3-디아미노 프로판, N-(3-아미노프로필)1,3-프로판 디아민, N-(3-아미노프로필)N-메틸-1,3-프로판 디아민, 비스(2-아미노 에틸)설페이트, 1차 아민작용기에 수산기를 함유하는 모노에탄올 아민, 디글리콜 아민, 3-메톡시-n-프로필 아민, 3-(2-에톡시에톡시)-n-프로필아민, 3-[2-(2-에톡시에톡시)에톡시]-n-프로필 아민 및 이의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택된 용매 약 1% 내지 약 10% ; 약 6개 내지 약 22개의 프로필렌 옥사이드 그룹을 함유하는 폴리프로필렌 글리콜, 글리세린, 1,3 부틸렌 글리콜, 모노라우린산 폴리옥시에틸렌 소르비탄, 및 이의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택된 용매보조제 약 5% 내지 약 20% ; 잔여량의 물을 함유함을 특징으로 하는 비듬방지 샴푸조성물에 관한 것이다. 본 발명의 샴푸 조성물은 비듬 방지활성을 갖는 성분인 아연 피리치온이 상기 특정의 용매에 잘 안정되게 분산되기 때문에 경시변화에 따른 침전 또는 비균질화가 발생하지 않는다.

Description

비듬방지용 샴푸조성물

본 발명은 비듬방지 효과를 갖는 샴푸 조성물에 과한 것이고, 보다 상세하게는 비듬방지 활성성분인 아연-2-피리디네치올-1-옥사이드(일반명 : 아연 피리치온)을 안정하게 함유하는 비듬방지용 샴푸조성물에 관한 것이다.

일반적으로, 비듬이란 인체의 할발한 신진대사에 의해 생긴 두피의 죽거나 벗겨진 세포들이 두피 피지선의 분비물과 말라 붙어서 생긴 각질형태의 덩어리를 말한다. 비듬은 점차 정상 피부와 뚜렷한 경계를 가지며, 붉게 되며 두피에 인설이 증가하여 통상 가려움과 염증을 수반하는 지루피부염으로까지 진행된다. 이처럼 심한 비듬발생의 근본적인 원인은 아직 확실하게 밝혀지지 않은 상태이나 일반적으로 내분비 호르몬의 불균형, 영양대사의 불균형, 스트레스등의 신경적 요인, 두피세포의 지나친 증식에 의한 상피조직의 생화학적 변화, 두피 미생물의 증식 및 활성증대, 대기오염등에 의한 염증등과 같은 여러요인들의 복합적인 영향에 의한 것으로 알려져 있다. 위와 같은 복합적인 여러 요인들 중에서 특히 청결하지 못한 두피에 존재하는 피티로스포룸 오발레(Pityrosporum ovalae)라는 미생물의 증식 및 활성증대는 비듬과 가려움증을 악화시키는 주요요인으로써 오래전부터 인지되어 왔고 근래에는 광범위하게 받아들여지고 있다. (참조 : Bernardidson, Dandruff : Cause and control, Crug and Cosmetic industry, 96, 636-, May 1965; James J.Leyden등, Role of Microorganisms in Dandruff, Arch Dermatol, 112, 333∼338, March 1976; Norman J.Van Abbe 등 Dandruff : infection of not?, International Journal of Cosmetic Science, 8, 37∼44, 1986; Sam Shuster dandruff, Seborrhoeic Dermatitis, and Pityrosporum Ovale, Cosmetics and Toiletries, 103, 87-91, March 1988).

따라서 비듬 및 가려움증을 치료 및 예방하기 위해서는 비듬발생의 주요원인인 미생물 피티로스포름 오발레의 증식 및 활성을 효과적으로 억제하고 두피 세포의 비정상적인 대사활동을 정상화할 수 있는 성분을 함유하는 비듬방지샴푸를 사용하여야 한다. 이러한 성분들 중 아연 피리치온을 비듬조절 활성성분으로써 사용하는 것을 당해 분야에 널리 공지되어 있다. (참조 : Bernstein의 미합중국 특허 제 2,809,971호(1957. 9. 15); Karsten의 미합중국 특허 제 3,236,733호(1966. 2. 22); Parran의 미합중국 특허 제 3,753,196호(1973. 8. 21); Lion Fat Oil의 일본국 특허공개 제 52-60810호(1977. 3. 19); Bolich드의 미합중국 특허 제 4,323,683호(1982. 4. 6); Bolich의 미합중국 특허 제 4,345,080호(1982. 8. 17); Bolich의 미합중국 특허 제 4,379,753호(1983. 4. 12.); Winkler의 미합중국 특허 제 4,470,982호(1984. 9. 11) 및 유럽특허 제 285,388호(1988. 10. 5))

당해분야에 공지된 비듬조절 활성성분인 아연 피리치온은 25℃의 물속에서 15ppm밖에 녹지 않은 용해도가 매우 낮은 한계를 갖는 불수용성 고체입자이다. 따라서, 수용성 매체인 샴푸 또는 헤어린스에 첨가시키기 위해서는 아연 피리치온을 수용성 매체에 안정하고 균일하게 분산될 수 있도록 유지하는 것이 필요하다. 그러나, 아연 피리치온은 비중이 1.8로써 수용성 매체의 일반적인 비중 약 1.0보다 매우 높기 때문에 시간이 경과함에 따라서 아연 피리치온이 용기의 바닥에 침전하게 되는 분리 현상을 가져와 안정하고 균일한 분산상태를 유지하는 것이 매우 어렵다.

따라서, 당해 분양의 종사자들은 이러한 아연 피리치온의 침전으로 인하여 발생되는 분리 현상을 방지하기 위해서 연구노력을 한 결과 다음과 같은 방법들을 제안하였다;

(1) 별도의 분산제 또는 현탁제를 사용하여 매우 높은 점도를 유지하는 방법.

(2) 아연 피리치온의 입자 크기를 미세하게 하여 수용성 매체인 계에서 브라운 운동이 우세하도록 하는 방법.

(1)의 방법의 예로써, 일본국 특허공개 제 소49-49117호는 교차결합으로 이루어진 폴리아크릴레이트와 같은 점도를 증가시키는 분산제를 사용하는 방법을 제시하였고, 일본국 특허공개 제 소54-16951호는 아크릴산과 아크릴레이트의 공중합체로 된 분산제를 사용하여 높은 점도를 유지하는 방법을 제안하였다.

그러나, 이러한 방법들은 아연 피리치온을 안정하게 분산시키기 위해 사용가능한 계면활성제의형태가 한정되어 있다는 단점이 있다.

또한 유럽특허 제 7704호(1980)는 비이온 수용성 고분자인 하이드록시 에틸셀룰로오스를 분산제로 사용하였고, 일본국 특허공개 제 소58-198413호는 카르복시비닐폴리머를 분산제로 사용하였다. 그러나, 이러한 방법들은 분산제를 수용성 매체에 균일하게 분산시키거나 중화제를 사용하여 중화시키는 추가공정이 필요하여 제조공정상 생산성이 떨어지고 또한, 수용성매체에 아연 피리치온을 적절히 분산시키기 위해서 큰 비율로 분산제를 첨가하는 것은 점도 상승을 가져와서 사용하기 불편한 단점이 있다.

따라서, 유럽국 특허공개 제 136914호에서는 고분자와 점토 형태의 분산제를 사용하지 않고 약 16개에서 22개의 탄소원자를 갖는 지방산의 에틸렌글리콜 에스테르와 약 16개에서 22개의 탄소원자를 갖는 지방산 알칸놀 아미드로 이루어진 현탁제를 4중량%에서 6중량%의 양으로 사용하여 아연 피리치온의 침전을 연기시키고자 하는 시도를 행하였다. 또한 미국 특허 제 874542호에는 약 1내지 3중량%의 현탁된 알칸놀 아미드, 에스테르왁스 및 그 혼합물로 구성된 실온에서 고체인 불수용성 현탁제를 사용하여 아연 피리치온의 침전을 연기시키고자 하는 방법이 개시되었다. 그러나, 불행하게도 이와 같은 필요불가결한 현탁제들은 구성하고 있는 혼합물들의 비율과 탄소원자수의 분포에 따라 샴푸조성물의 점도 및 거품특성에 나쁜 영향을 미치는 단점이 있다.

한편 상기 (2)의 방법의 예로써, 일본국 특허공개 제 소60-16972호는 아연 피리치온의 입자크기를 0.2㎛이하로 하여 샴푸와 같은 수용성 매체에서 브라운 운동이 우세하게 하여 침전 및 분리현상을 최소화하고자 하였다. 그러나, 아연 피리치온을 0.2㎛이하로 제조하기가 기술적으로 매우 어렵고 또한 경제적인 면에서 사용에 한계가 있는 단점이 있다. 그리고 샴푸조성물 속에 포함되어 있는 염의 영향으로 입자들이 응집되는 경향이 있어 아연 피리치온이 샴푸와 같은 수용성 매체에 고르게 분산되지 못하는 단점이 있다.

따라서, (1)과 (2)와 같은 종래 기술들은 분산제, 현탁제 및 미세한 아연 피리치온의 입자크기를 이용하여 분산 및 현탁시킴으로써 아연 피리치온의 침전 및 분리현상을 방지하고자 많은 노력을 하였으나, 단지 침전과 분리되는 기간을 연기시켰을 뿐 그 근본적인 침전현상은 극복하지 못하였다.

그러므로, 본 발명의 목적은 분산제 및 현탁제를 사용하지 않고 강염기성 아민 작은 용기를 갖는 용매를 이용하여 아연 피리치온을 용해시킴으로써 침전 및 분리가 일어나지 않는 비듬방지용 샴푸조성물을 제공하는데 있다.

이러한 상황하에서 본 발명자들은 상기한 종래 기술의 문제점을 갖지 않고, 아연 피리치온의 입자크기에 제한받지 않고 기간이 경과하여도 아연 피리치온이 침전 또는 분리되지 않는 샴푸 조성물을 제공하고자 예의연구한 결과, 강염기성 아민 작용기를 갖는 용매를 이용하여 아연 피리치온을 용해시킴으로써 상기 목적을 달성할 수 있음을 발견하고 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명의 목적은 아연 피리치온을 함유하는 비듬 방지용 샴푸 조성물에 있어서, 상기 아연 피리치온을 용해하기 위한 용매로서 강염기성 아민 작용기를 갖는 용매를 포함함을 특징으로 하는 샴푸 조성물을 제공하는 것이다

본 발명의 또 다른 목적은 분산제 및 현탁제를 사용하지 않고, 또한 아연 피리치온의 입자크기에 제한받지 않음으로써 제조 공정 및 시간의 단축과 경제적인 면에서 경쟁력 있는 비듬방지용 샴푸조성물을 제공하는데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 분산제 및 현탁제를 사용하지 않고 강염기성 아민 작용기를 갖는 용매를 이용하여 아연 피리치온을 용해시킴으로써 점도, 거품 특성 및 세정력이 분산제 및 현탁제에 영향을 받지 않는 비듬방지용 샴푸조성물을 제공하는데 있다. 본 발명의 다른 목적 및 적용은 하기 발명의 상세한 설명으로부터 당업자에게 명백해질 것이다.

달리 언급하지 않는 한, 본 명세서에서의 퍼센트 및 비는 모두 중량을 기준으로 한다.

본 발명은 합성 계면활성제 약 10% 내지 약 70%, 아연 피리치온 약 0.3% 내지 약 4%, 강염기성 아민 작용기를 갖는 용매 약 1% 내지 약 10%, 용매 보조제 약 5% 내지 약 20% 및 나머지 물을 포함하는 비듬방지용 샴푸조성물에 관한 것이다.

좀 더 상세하게 설명하면, 본 발명은

(a) 합성 계면활성제 약 10% 내지 약 70%;

(b) 아연 피리치온 약 0.3% 내지 약 4%;

(c) 약 7개 내지 약 45개의 아민 그룹을 함유하는 폴리에틸렌 아민, 1차 아민 작용기를 함유하는 n-도데실 아민, 1,3-디아미노 프로판, N-(3-아미노 프로필)1,3-프로판 디아민, N-(3-아미노 프로필)N-메틸-1,3,-프로판 디아민, 1차 아민 작용기에 수산기를 함유하는 모노에탄올 아민, 디글리콜 아민, 3-메톡시-n-프로필 아민, 3-(2-에톡시에톡시)n-프로필 아민, 3-[2-(2-에톡시에톡시)에톡시]n-프로필 아민 및 이의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택된 용매 약 1%내지 약 10%;

(d) 약 6개 내지 약 22개의 에틸렌 옥사이드 그룹을 함유하는 폴리에틸렌 글리콜, 약 6개 내지 약 22개의 프로필렌 옥사이드 그룹을 함유하는 폴리프로필렌 글리콜, 글리세린, 1,3-부틸렌 글리콜, 모노라우린산 폴리옥시에틸렌 소르비탄, 및 이의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택된 용매 보조제 약 5% 내지 약 20%;

(e) 잔여량의 물을 함유함을 특징으로 하는 샴푸조성물에 관한 것이다.

상기 성분 및 임의 성분을 하기에 더욱 상세히 설명한다.

본 발명의 필수 성분 및 임의 성분은 다음과 같다.

계면활성제

본 조성물의 필수 성분은 합성 계면활성제이다. 본 발명에서 사용되는 합성 계면활성제는 음이온성, 양쪽성, 비이온성 계면활성제 중에서 선택된 어떤 것도 가능하며, 계면활성제는 조성물의 약 10% 내지 약 70%, 바람직하게는 약 10% 내지 약 30%, 가장 바람직하게는 10% 내지 20%농도로 존재한다.

합성 음이온 계면활성제는 알킬 및 알킬 에테르 설페이트로써 일반식(Ⅰ) 및 (Ⅱ)로 표시된다.

ROSO₃M(I)

RO(C₂H₄O)_nSO₃M(II)

상기 식중, R은 탄소수 약 10 내지 약 22의 알킬기이며, n은 1내지 4의 정수이고, M은 암모늄, 나트륨, 칼륨, 트리에탄올아민과 같은 수용성 양이온 중에서 선택된 것이다. 바람직하게는, 알킬 및 알킬에테르 설페이트에서 R의 탄소수는 약 12내지 16이다. 알콜은 지방, 예를 들어 야자유 또는 우지로부터 유도할 수 있거나 합성할 수도 있다. 본 발명에서는 야자유로부터 유도된 라우릴 알콜 및 직쇄 알콜이 바람직하다. 이러한 알콜을 에틸렌 옥사이드 약 1 내지 약 4, 특히 3몰과 반응시키고, 예를 들어 알콜 몰다 에틸렌 옥사이드 평균 3몰을 갖는 분자종의 생성 혼합물을 황산산화시키고 중화시킨다. 이들의 대표적인 것으로는 라우릴 황산나트륨, 라우릴 황산암모늄, 라우릴 황산 트리에탄올아민, 폴리 옥시에틸렌 라우릴 황산나트룸, 폴리옥시에틸렌 라우릴 황산암모늄 등을 들 수 있다.

합성 양쪽성 계면 활성제는 알킬 베타인 및 알킬 아미도프로필 베타인으로써 일반식(Ⅲ) 및 (Ⅳ)로 표시된다.

상기 식중, R₁은 탄소수 약 8 내지 약 18의 알킬기이며, R₂Co는 탄소수 약 8 내지 약 18의 알콕시기이다. 이들의 대표적인 예로는 코코디메틸 카복시메틸 베타인, 라우릴 디메틸 카복시메틸 베타인, 라우릴 디메틸 알파-카복시에틸 베타인, 세틸 디메틸 카복시메틸 베타인, 코카미도 프로필 베타인 등을 들 수 있다.

합성 비이온 계면활성제는 알카놀 아미드 및 알킬 아민 옥사이드로써 일반식(Ⅴ) 및 (Ⅵ)으로 표시된다.

상기 식중, R₁은 탄소수 약 8내지 약 18의 알킬기이고, R₂ 및 R₃는 탄소수 약 1내지 약 3의 알킬기이며, R₄CO는 탄소수 약 8내지 약 16의 알콕시기이고, n은 0 또는 1이다. 이들의 대표적인 예로는 라우릴 디에틸 아민옥사이드, 야자유 알킬디메틸 아민옥사이드, 라우린산 디에탄올아미드, 야자유 지방산 디에탄을 아미드, 야자유 지방산 모노에탄올아미드 등을 들 수 있다.

상기 언급된 계면활성제들은 본 발명의 샴푸조성물에서 단독으로 또는 혼합하여 선택 사용할 수 있다.

아연 피리치온

본 발명에서 사용되는 비듬조절 활성성분인 아연 피리치온은 일반식(Ⅶ)로 표시된다.

상기 식중 아연(Zn)은 2개의 원자가결합과 4개의 배위결합을 할 수 있는 금속이온이다. 따라서, 황(S)원자와 2개의 원자가결합을 하고, 산소(O)원자와 2개의 배위결합을 하면서 여분의 배위결합을 2개 가지고 있다. 또한, 본 발명에서 사용되는 아연 피리치온은 분자량 317.7, 25℃에서 비중 1,782, 5% 수용액에서 pH7.3 녹는점 240℃인 특성을 갖는 흰색 고체 입자이다. 본 발명에서 사용되는 아연 피리치온은 비듬조절 활성성분으로서 약 0.3% 내지 약 4%, 바람직하게는 약 1%내지 약 2%의 양으로 사용한다.

용매

하기에 정의된 강염기성 아민작용기를 갖는 용매들은 아연 피리치온과 안정한 아민 복합체를 이루게 되어 아연 피리치온을 용해시킨다. 이러한 용매는 샴푸조성물의 약 1% 내지 약 10%, 바람직하게는 약 2%내지 약 8%, 가장 바람직하게는 약 7%의 농도에서 사용하고, 특정 폴리에틸렌이민(PEI), 1차 아민 작용기를 함유하는 n-도데실아민, 1,3-디아미노 프로판, N-(3-아미노 프로필)1,3-프로판 디아민, N-(3-아미노 프로필)N-메틸-1,3-프로판 디아민, 1차 아민 작용기에 수산기를 함유하는 모노에탄올 아민, 디글리콜아민, 3-메톡시-n-프로필 아민, 3-(2-에톡시에톡시)n-프로필 아민, 3-[2-(2-에톡시에톡시)에톡시]-n-프로필아민 및 이의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택한다. 본 발명에서 바람직한 용매는 에틸렌아민 그룹 수 약 7개 내지 약 45개의 폴리에틸렌아민, 특히 분자량이 300내지 1935인 화합물이다.

본 발명에서 사용되는 폴리에틸렌아민(PEI)은 일반식(Ⅷ)로 표시된다.

상기 식중, n은 약 7내지 약 45, 바람직하게는 약 15내지 30이다.

본 발명에서 사용되는 1차 아민 작용기를 갖는 용매 중 가장 바람직한 용매는 n-도데실 아민이다. n-도데실 아민의 알킬 그룹은 전자(電子: electron)를 질소(N)쪽으로 이동하게 하는 경향을 가져서 상대적으로 질소(N)의 전자밀도(電子密度 ; electron density)가 증가하여 질소(N)의 염기성(鹽基性, basicity)은 증가하게 된다. 따라서, 질소(N)의 강염기성은 아연(Zn)과 안정한 아민복합체를 형성하여 아연 피리치온을 용해시킨다.

본 발명에서 사용되는 n-도데실아민은 일반식(Ⅸ)로 표시된다.

본 발명에서 사용되는 1차 아민 작용기에 수산기를 함유하는 용매 중 가장 바람직한 용매는 모노에탄올 아민과 디글리콜 아민이다. 모노에탄올 아민의 질소(N)과 산소(O)가 아연(Zn)과 여분의 2배위 결합을 하여 3차원적인 고리구조를 형성함으로써 안정한 아민복합체를 형성하여 아연 피리치온을 용해시킨다. 또한, 디글리콜 아민은 이러한 3차원적인 고리구조를 2개 형성함으로써 더욱 안정한 아민복합체를 형성하여 아연 피리치온을 용해시킨다.

본 발명에서 사용되는 모노에탄올 아민과 디글리콜 아민은 일반식(Ⅹ)와 (XI)로 표시된다.

용매보조제

하기에 정의된 용매보조제들은 샴푸중에서 용매와 혼합될 때, 아연(Zn)과 형성된 아민복합체를 더욱 안정화시킨다. 이러한 용매보조제들은 샴푸조성물의 약 5% 내지 20%, 바람직하게는 약 10% 내지 약 15%의 농도에서 사용하고, 특정 폴리에틸렌 글리콜(PEG), 특정 폴리프로필렌 글리콜(PPG), 글리세린, 1,3-부틸렌 글리콜, 모노라우린산 폴리옥시에틸렌 소르비탄 및 이의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택한다. 본 발명에서 바람직한 용매보조제는 에톡시 그룹수가 약 6개 내지 약 22개인 폴리에틸렌 글리콜, 특히 분자량이 약 280내지 약 1000인 화합물이다.

본 발명에서 사용되는 폴리에틸렌 글리콜(PEG)은 일반식(XII)으로 표시된다.

상기 식중, n은 약 6 내지 22, 바람직하게는 약 6 내지 약 18이다.

본 발명에서 사용되는 폴리프로필렌 글리콜(PPG)은 일반식(XIII)로 표시된다.

상기 식중, n은 약 6 내지 약 22, 바람직하게는 약 6내지 약 18의 정수이다.

또한, 본 발명에서는 글리세린, 1,3부틸렌 글리콜 및 모노라우린산 폴리옥시에틸렌 소르비탄 등을 용매보조제로서 유용하게 사용할 수 있으며, 이들은 각각 일반식 (XIV), (XV) 및 (XVI)로 표시된다.

상기 식중, w, x, y와 z의 총합은 약 20이다.

물

물은 본 발명의 마지막 필수 성분이며, 샴푸조성물의 마지막 부분을 형성한다. 이는 통상 약 20% 내지 약 80%, 바람직하게는 약 40% 내지 약 60%의 양으로 존재한다.

임의성분

본 발명에서 사용되는 임의 성분으로서는 샴푸로서의 기본적 물성 및 품질을 유지하기 위한 통상적인 임의 성분으로서 당해 분야의 전문가에게 널리 공지 되어 있다. 이러한 임의 성분에는 진주박 보조제, 방부제, 점증제 및 점도 조절제, pH 조절제, 향료, 염료, 모발 컨디셔닝제가 사용된다.

예를 들면, 에틸렌글리콜 모노스테아레이트, 에틸렌글리콜 디스테아레이트와 같은 진주박 보조제 ; 파라옥시안식향산메틸, 메틸클로로이소치아졸리논과 메틸 이소치아졸리논의 화합물과 같은 방부제 ; 염화나트륨, 염화암모늄, 프로필렌 글리콜과 같은 점증제 및 점도 조절제 ; 구연산, 인산, 수산화나트륨, 수산화칼륨과 같은 pH 조절제 ; 폴리쿼터늄-10, 폴리쿼터늄-7, 메틸폴리실록산, 디메티콘코폴리올, 가수분해 동물단백질과 같은 모발 컨디셔닝제 ; 수용성 타르와 같은 염료가 사용되며, 또한 향료가 사용될 수 있다.

이하 각종 실시예를 통하여 본 발명의 샴푸조성물을 보다 상세히 설명하지만 본 발명이 이들 예에만 국한되는 것은 아니다.

실시예 1∼4 및 비교예 1

하기 표에 나타낸 실시예 1-4는 본 발명의 조성물을 예시하는 대표적인 예이고, 비교예 1의 조성물은 실시예 1-4의 조성과 동일하되, 강염기성 아민 작용기를 갖는 용매를 포함하지 않는 제제이다.

[표]

상기 실시예 1-4의 조성물들은 실온에서 12개월까지, 그리고 50℃에서 2개월 이상 보관하였을 때도 아연 피리치온이 침전되지 않고 안정하고 균일한 제제를 유지하였다. 반면, 비교예 1의 조성물은 실온에서 약 6개월이상, 45℃에 서 약 2개월간 보존하였을 때 아연 피리치온이 침전되는 현상이 관찰되었다.

상기 실시예의 조성물에서 얻어지는 결과는 표에 열거된 용매 대신에 전기 용매란에 기술된 다른 용매를 사용하는 경우에는 유사한 결과가 얻어졌다.

따라서, 본 발명의 조성물을 이용하면, 종래 아연 피리치온의 분산을 위하여 분산제나 현탁제를 이용하는 경우 발생하는 샴푸조성물 특성의 저하, 또는 아연 피리치온의 미세 입자를 사용하는 경우의 과도한 비용과 같은 문제점을 해결할 수 있다.

Claims (7)

1. 비듬 방지 활성을 갖는 물질로서 아연 피리치온을 함유하는 샴푸 조성물에 있어서,

   (1) 합성 계면활성제 10∼70중량%;

   (2) 아연 피리치온 0.3∼4중량%;

   (3) 하기 구조식의 강염기성 1차 아민 작용기를 갖는 화합물들 중에서 선택된 적어도 1종의 용매1∼10중량%;

   프로판디아민, 또는의 N-(3-아미노프로필)-1,3-프로판디아민,

   실레이티드 프로필아민;

   (4) 용해보조제 5∼20중량%; 및

   (5) 잔량의 물

   을 포함하는 것을 특징으로 하는 비듬방지 샴푸조성물.
2. 제 1항에 있어서, 용매보조제는 일반식H(OCH₂CH₂)_nOH(여기서, n-은 약 6 내지 약 22 이다)의 폴리에틸렌 글리콜 ; 일반식(여기서, n은 약 6내지 약 22이다)의 폴리프로필렌 글리콜; 일반식의 글리세린; 일반식부틸렌 글리콜 ; 및

   일반식

   (여기서, w,x,y와 z의 총합은 약 20이다)의 모노라우린산 폴리옥시에틸렌 소르비탄으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물임을 특징으로 하는 비듬방지 샴푸조성물.
3. 제 1항에 있어서, 합성 계면활성제는 음이온 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 비이온 계면활성제 또는 이의 혼합물로 이루어진 것을 특징으로 하는 비듬방지 샴푸조성물.
4. 제 4항에 있어서, 음이온 계면활성제는 약 10개 내지 약 22개의 탄소원자를 함유하는 암모늄 알킬 설페이트, 소디움 알킬 설페이트, 트리에탄올아민 알킬 설페이트 및 3몰의 에틸렌 옥사이드기를 함유하는 암모늄 알킬에테르 설페이트 및 소디움 알킬에테르 설페이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물임을 특징으로 하는 비듬방지 샴푸조성물.
5. 제 4항 또는 제 5항에 있어서, 음이온 계면활성제는 암모늄 라우릴 설페이트 또는 암모늄 라우랄에테르 설페이트 단독, 또는 이들의 혼합물임을 특징으로 하는 비듬방지 샴푸조성물.
6. 제 4항에 있어서, 양조성 계면활성제는 탄소수 8 내지 18의 알킬 베타인계 또는 알킬 아미도 베타인계 화합물, 또는 이들의 혼합물임을 특징으로 하는 비듬방지 샴푸조성물.
7. 제 4항에 있어서, 비이온 계면활성제는 라우릴 디에틸 아민옥사이드, 라우린산 디에탄올 아미드 및 야자유 지방산 디에탄올 아미드로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물임을 특징으로 하는 비듬방지 샴푸조성물.